JP2011210312A - Master manufacturing method, concave-convex pattern carrier manufacturing method, and magnetic disk medium manufacturing method - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce an address error rate in a magnetic disk medium.SOLUTION: A resist is applied to a substrate prior to exposure and development to form a resist pattern. The substrate is etched using the resist pattern as a mask. When a master for forming a concave-convex pattern carrier having on a surface thereof a concave-convex pattern corresponding to a magnetic disk pattern is manufactured, if the burst mode in a servo pattern is a phase mode, a burst pattern in the servo pattern is provided by exposure at a position displaced radially inward from a reference position defined in relation to an address pattern in the servo pattern, by an amount xwhich satisfies |α|>6 and (0.009×α-0.065)×L<x<(0.009×α+0.065)xL, wherein αis a skew angle of a track T, and Lis a length in the radial direction of the track T.

Description

本発明は、ディスクリートトラックメディアやビットパターンメディアなどの高密度磁気記録媒体用のインプリントモールドや磁気転写用マスター担体などの凹凸パターン担持体を成形するための原盤を製造する方法に関するものである。   The present invention relates to a method of manufacturing a master for forming an uneven pattern carrier such as an imprint mold for a high-density magnetic recording medium such as a discrete track medium or a bit pattern medium, or a master carrier for magnetic transfer.

また、該原盤を用いて凹凸パターン担持体を製造する方法、さらには該凹凸パターン担持体であるインプリントモールドを用いて凹凸パターンが転写されてなる磁気ディスク媒体の製造方法および磁気転写用マスター担体を用いて磁化パターンが転写されてなる磁気ディスク媒体の製造方法に関するものである。   Further, a method for producing a concavo-convex pattern carrier using the master, a method for producing a magnetic disk medium having a concavo-convex pattern transferred using an imprint mold which is the concavo-convex pattern carrier, and a master carrier for magnetic transfer The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic disk medium having a magnetic pattern transferred using

超高記録密度の磁気ディスク媒体として、複数の記録トラックを磁気的に分離したディスクリートトラックメディア（ＤＴＭ：Discrete Track Media）や微小な単磁区のアレイを形成し、単磁区１個に１ビットを記録するビットパターンメディア（ＢＰＭ：bit pattern media）などが注目されている。   As an ultra-high recording density magnetic disk medium, a discrete track media (DTM: Discrete Track Media) in which a plurality of recording tracks are magnetically separated and an array of small single magnetic domains are formed, and 1 bit is recorded in each single magnetic domain. Bit pattern media (BPM) and the like that attract attention.

磁気ディスク媒体は、たとえば磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体（磁気ディスク媒体の中間体）とを密着させ、磁界を印加することにより、マスター担体の表面に設けられた凹凸パターンに応じた磁化パターンをスレーブ媒体に磁気転写して製造される。また、インプリントモールドの表面に設けられた凹凸パターンを，基板上に塗布した樹脂材料（磁気ディスク媒体の中間体）に押し付けて形状を転写して製造できる。   For example, a magnetic disk medium has a magnetic pattern corresponding to the concavo-convex pattern provided on the surface of the master carrier by closely contacting a magnetic transfer master carrier and a slave medium (intermediate of the magnetic disk medium) and applying a magnetic field. Manufactured by magnetic transfer to a slave medium. Further, it can be manufactured by pressing a concavo-convex pattern provided on the surface of the imprint mold against a resin material (intermediate body of a magnetic disk medium) applied on a substrate to transfer the shape.

インプリントモールドや磁気転写用マスター担体などの凹凸パターン担持体は、その凹凸パターン担持体とは反転パターンを有する原盤を用いて効率よく製造できる。たとえば原盤を型とした電鋳法により凹凸パターン担持体の基板部を成形し、該基板部に磁性層を成膜して凹凸パターン担持体を製造できる。   An uneven pattern carrier such as an imprint mold or a magnetic transfer master carrier can be efficiently manufactured using a master having a reverse pattern with respect to the uneven pattern carrier. For example, a substrate portion of a concavo-convex pattern carrier can be formed by electroforming using a master as a mold, and a magnetic layer is formed on the substrate portion to produce a concavo-convex pattern carrier.

原盤は、平坦基板の表面にレジストの塗布・露光・現像を実施してレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとして基板をエッチングし、さらに残存レジストを除去することにより製造される。   The master is manufactured by applying a resist on the surface of a flat substrate, exposing and developing the resist pattern to form a resist pattern, etching the substrate using the resist pattern as a mask, and further removing the remaining resist.

磁気ディスク媒体においては、狭いトラック幅において正確に磁気ヘッドを走査させて高いＳ／Ｎ比で信号を再生するために、磁気ディスク媒体上に配列されたサーボ領域に、位置誤差を検出するためのバーストパターンを含むサーボパターンを形成しておき、磁気ヘッドが、このサーボ領域を走査してサーボパターンを読み取り自らの位置を確認しつつ修正する技術が用いられている   In a magnetic disk medium, in order to reproduce a signal with a high S / N ratio by accurately scanning a magnetic head in a narrow track width, a position error is detected in a servo area arranged on the magnetic disk medium. A technique is used in which a servo pattern including a burst pattern is formed and the magnetic head scans this servo area, reads the servo pattern, and corrects it while checking its own position.

サーボパターンは、バーストパターンのパターン方式によって、振幅サーボパターン（４Burst、Null）および位相サーボパターン（Chevron）の２種類に分類できる（図１参照）。振幅方式を用いたサーボパターンである振幅サーボパターンでは、バーストパターンの振幅から位置誤差信号（ＰＥＳ：Position Error Signal）を算出してオフトラック位置を割り出し、位相方式を用いたサーボパターンである位相サーボパターンでは、バーストパターンの波形の位相情報からＰＥＳを算出してオフトラック位置を割り出す。   Servo patterns can be classified into two types, amplitude servo patterns (4Burst, Null) and phase servo patterns (Chevron), according to the pattern method of the burst pattern (see FIG. 1). In the amplitude servo pattern, which is a servo pattern using the amplitude method, a position error signal (PES: Position Error Signal) is calculated from the amplitude of the burst pattern to determine the off-track position, and the phase servo is a servo pattern using the phase method. In the pattern, the PES is calculated from the phase information of the waveform of the burst pattern, and the off-track position is determined.

しかし、サーボパターンのアドレスパターンに対するバーストパターンの位置が仕様からずれてしまうと、誤ったオフトラック量がフィードバックされ、その結果アドレスエラーレート（ＡＥＲ：Address Error Rate）が大きくなってしまう。   However, if the position of the burst pattern with respect to the address pattern of the servo pattern deviates from the specification, an incorrect off-track amount is fed back, and as a result, an address error rate (AER) increases.

特許文献１では、磁気ディスク媒体に形成された振幅サーボパターンの位置や形状が、磁気ヘッドがトラッキングをとるために充分なものであるか否かを検査する方法が提案されている。   Patent Document 1 proposes a method for inspecting whether the position and shape of an amplitude servo pattern formed on a magnetic disk medium are sufficient for the magnetic head to perform tracking.

サーボパターンは、このサーボパターンに対応する凹凸パターンが形成された原盤を型として該原盤とは反対の凹凸パターンを表面に有する凹凸パターン担持体を製造し、さらに該凹凸パターン担持体の凹凸パターンを磁気ディスク媒体の中間体である非転写体に転写することにより、磁気ディスク媒体に凹凸パターンまたは磁化パターンなどとして形成される。   The servo pattern is produced by using a master on which a concave / convex pattern corresponding to the servo pattern is formed as a mold to produce a concave / convex pattern carrier having a concave / convex pattern opposite to the master, and further forming the concave / convex pattern on the concave / convex pattern carrier. By transferring to a non-transfer body, which is an intermediate of the magnetic disk medium, a concavo-convex pattern or a magnetization pattern is formed on the magnetic disk medium.

原盤の製造過程において、電子ビーム描画装置などによってパターンを描画（露光）する段階では、サーボパターンのアドレスパターンに対するバーストパターンの位置ズレは発生しておらず、正規のパターン配置が形成されていることが、現像後のＳＥＭ、ＴＥＭの測長結果より確認されている。   In the master production process, at the stage of drawing (exposure) with an electron beam lithography system, there is no positional deviation of the burst pattern with respect to the address pattern of the servo pattern, and a regular pattern arrangement is formed. However, it is confirmed from the length measurement results of SEM and TEM after development.

ところで、描画されたサーボパターンは、Skew角αに応じてその線幅が変化する。たとえば図２に示すように、位相バーストにおいてSkew角αがそれぞれ＋ｋdeg、０deg、−ｋdeg（ｋ＞０）である場合を考えると、位相角度θに対しSkew角αの影響が加わることでパターンが太くなったり細くなったりする（位相角度θ：θ_ｋ＜θ_０＜θ_-ｋ、線幅Ｗ：Ｗ_ｋ＜Ｗ_０＜Ｗ_-ｋ）。しかし、位相情報を算出する際の基準となるサーボタイミングマークもSkew角αだけ傾いているため、オフトラック量はSkew角α＝０degの時と全く同じであり、描画段階でパターンが太る/細るのはアドレスとバーストの位置ズレの要因とはなりえない。 Incidentally, the line width of the drawn servo pattern changes according to the Skew angle α. For example, as shown in FIG. 2, in the case where the skew angle α is + kdeg, 0 deg, and −kdeg (k> 0) in the phase burst, the pattern is obtained by adding the influence of the skew angle α to the phase angle θ. It becomes thicker or thinner (phase angle θ: θ _k <θ ₀ <θ _−k , line width W: W _k <W ₀ <W _−k ). However, since the servo timing mark serving as a reference for calculating the phase information is also inclined by the skew angle α, the off-track amount is exactly the same as when the skew angle α = 0 deg, and the pattern becomes thicker / thinner at the drawing stage. This cannot be the cause of the positional deviation between the address and the burst.

しかし、次の工程である反応性イオンエッチング（ＲＩＥ：Reactive Ion Etching）においては、描画段階で問題とならなかったパターンの太/細がオフトラック量のオフセット（誤ったオフトラック量）の要因となると考えられる。それは物理的な線幅によりエッチング幅にオフセットがかかるためであり、下記表１に示すように、実系においても線幅が太くなるほど、ＲＩＥで太くなる量（Δ）が大きくなることを確認している。表１は、線幅が異なるパターンそれぞれについて、原盤の製造過程におけるＥＢ描画後に測定した線幅（nm）と、その原盤を用いて製造されたＮｉマスター担体においてに測定した線幅（nm）と、それらの線幅の差Δ（nm）を示す。

However, in reactive ion etching (RIE), which is the next process, the thickness / thinness of the pattern, which was not a problem at the drawing stage, is the cause of the off-track amount offset (incorrect off-track amount). It is considered to be. This is because the etching width is offset by the physical line width, and as shown in Table 1 below, it was confirmed that the larger the line width in the actual system, the larger the amount (Δ) that becomes thicker by RIE. ing. Table 1 shows the line width (nm) measured after EB drawing in the manufacturing process of the master and the line width (nm) measured in the Ni master carrier manufactured using the master for each pattern having different line widths. The difference Δ (nm) between the line widths is shown.

ただし、パターン仕様、ＲＩＥの条件が同じでも実験毎にΔの値は変化することも確認されているため、一概にオフセット量を規定することは難しい。更に、ＲＩＥにおいては、サーボ領域全面にプラズマを照射する必要性から途中複数回基板を回転させる必要があるため、パターン太さに面内ムラが出来やすく周内で数nm程度の幅で変動することがわかっており（元の線幅で異なる幅を持つ）、このこともオフトラック量オフセットの一因となっていると考えられる。このように、アドレスパターンに対するバーストパターンの位置ズレは複数の要因によって複雑に変化することが判明し、そのズレ量によっては記録媒体に記録したサーボが正常に動作せずＡＥＲが増加することも確認されている。特に最近は高記録密度化の要望に応じてビット長やトラックの半径方向の長さが短くなり、相対的にこのズレ量が無視できなくなっている。そのため、何らかの方法でこのズレ量をサーボが正常に機能する範囲に抑える技術が望まれている。   However, since it has been confirmed that the value of Δ changes for each experiment even if the pattern specifications and the RIE conditions are the same, it is difficult to define the offset amount in general. Furthermore, in RIE, it is necessary to rotate the substrate several times in the middle due to the necessity to irradiate the entire servo area with plasma, so that in-plane unevenness is likely to occur in the pattern thickness and fluctuates with a width of several nanometers within the circumference. It is known that this has a different width from the original line width, and this is also considered to contribute to the off-track amount offset. As described above, it was found that the positional deviation of the burst pattern with respect to the address pattern changes in a complicated manner due to a plurality of factors, and depending on the deviation amount, it is confirmed that the servo recorded on the recording medium does not operate normally and the AER increases. Has been. In recent years, the bit length and the track length in the radial direction have become shorter recently in response to demands for higher recording density, and the amount of deviation can be relatively ignored. Therefore, there is a demand for a technique that suppresses the amount of deviation within a range in which the servo functions normally by some method.

特開２００７−２９９４６１号公報JP 2007-299461 A

しかしながら、従来の方法により製造された磁気ディスク媒体では、その製造過程における各種要因によってサーボパターンのアドレスパターンに対するバーストパターンの位置にズレが生じ、その結果アドレスエラーが発生するという問題がある。特に、サーボパターンにおけるバースト方式が位相方式である場合はスキュー角が６degより大きい部分において、振幅方式である場合はスキュー角が１０degより大きい部分において、ＡＥＲが許容範囲以上に大きくなってしまう傾向がある。ここで、スキュー角は、トラックの接線方向に対する磁気ヘッドの軸線方向の角度をいう。   However, the magnetic disk medium manufactured by the conventional method has a problem that the position of the burst pattern with respect to the address pattern of the servo pattern is shifted due to various factors in the manufacturing process, resulting in an address error. In particular, when the burst method in the servo pattern is the phase method, the AER tends to be larger than the allowable range at the portion where the skew angle is larger than 6 deg, and when the amplitude method is used at the portion where the skew angle is larger than 10 deg. is there. Here, the skew angle is an angle in the axial direction of the magnetic head with respect to the tangential direction of the track.

本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、磁気ディスク媒体におけるＡＥＲを許容範囲に抑えることができる原盤製造方法を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a master production method that can suppress the AER in a magnetic disk medium within an allowable range.

また、本発明は、上記原盤製造方法により製造された原盤を用いた凹凸パターン担持体製造方法を提供すること、および、その凹凸パターン担持体を用いて凹凸パターンもしくは磁気パターンが転写されてなる磁気ディスク媒体の製造方法を提供することを目的とするものである。   The present invention also provides a method for producing a concavo-convex pattern carrier using a master produced by the above-described master production method, and a magnet having a concavo-convex pattern or a magnetic pattern transferred using the concavo-convex pattern carrier. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a disk medium.

本発明の原盤製造方法は、基板に、レジストの塗布、複数のトラックに沿って円周方向に配置されたサーボパターンを含む所望の磁気ディスクパターンに対応するパターンの露光および現像を実施して、レジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクとして基板をエッチングすることにより、磁気ディスクパターンに対応した凹凸パターンを表面に有する凹凸パターン担持体を成形するための原盤を製造する方法であって、前記露光において、各トラックをトラックＴ（Ｔ＝０、１、２、…、Ｎ）としたとき、トラックＴに対する位相方式を用いたサーボパターン中のバーストパターンを、サーボパターン中のアドレスパターンとの関係で規定される基準位置から半径方向内側に向けて下記式（１）の条件を満たすズレ量ｘ_Ｔだけずらした位置に露光することを特徴とするものである（第１の原盤製造方法）。

ここで、α_Ｔは、トラックＴのスキュー角であり、Ｌ_Ｔは、トラックＴの半径方向の長さである。また、ｘ_Ｔ＜０のときに半径方向内側に向けてズレ量ｘ_Ｔだけずらすというのは、半径方向外側に向けて|ｘ_Ｔ|だけずらすことを意味する。 In the master production method of the present invention, a resist is applied to a substrate, and a pattern corresponding to a desired magnetic disk pattern including a servo pattern arranged in a circumferential direction along a plurality of tracks is exposed and developed. A method of manufacturing a master for forming a concavo-convex pattern carrier having a concavo-convex pattern corresponding to a magnetic disk pattern by forming a resist pattern and etching the substrate using the resist pattern as a mask, In the exposure, when each track is a track T (T = 0, 1, 2,..., N), the burst pattern in the servo pattern using the phase method for the track T is related to the address pattern in the servo pattern. The amount of deviation x _T that satisfies the condition of the following formula (1) from the reference position defined by The exposure is performed at a shifted position (first master production method).

Here, α _T is the skew angle of the track T, and L _T is the length of the track T in the radial direction. Further, when x _T <0, shifting by the shift amount x _T toward the inside in the radial direction means shifting by | x _T | toward the outside in the radial direction.

本発明の原盤製造方法は、基板に、レジストの塗布、複数のトラックに沿って円周方向に配置されたサーボパターンを含む所望の磁気ディスクパターンに対応するパターンの露光および現像を実施して、レジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクとして基板をエッチングすることにより、磁気ディスクパターンに対応した凹凸パターンを表面に有する凹凸パターン担持体を成形するための原盤を製造する方法であって、前記露光において、各トラックをトラックＴ（Ｔ＝０、１、２、…、Ｎ）としたとき、トラックＴに対する振幅方式を用いたサーボパターン中のバーストパターンを、サーボパターン中のアドレスパターンとの関係で規定される基準位置から半径方向内側に向けて下記式（２）の条件を満たすズレ量ｘ_Ｔだけずらした位置に露光することを特徴とするものである（第２の原盤製造方法）。

ここで、α_Ｔは、トラックＴのスキュー角であり、Ｌ_Ｔは、トラックＴの半径方向の長さである。また、ｘ_Ｔ＜０のときに半径方向内側に向けてズレ量ｘ_Ｔだけずらすというのは、半径方向外側に向けて|ｘ_Ｔ|だけずらすことを意味する。 In the master production method of the present invention, a resist is applied to a substrate, and a pattern corresponding to a desired magnetic disk pattern including a servo pattern arranged in a circumferential direction along a plurality of tracks is exposed and developed. A method of manufacturing a master for forming a concavo-convex pattern carrier having a concavo-convex pattern corresponding to a magnetic disk pattern by forming a resist pattern and etching the substrate using the resist pattern as a mask, In the exposure, when each track is a track T (T = 0, 1, 2,..., N), the burst pattern in the servo pattern using the amplitude method for the track T is related to the address pattern in the servo pattern. The amount of deviation x _T that satisfies the condition of the following formula (2) from the reference position defined by The exposure is performed at a shifted position (second master production method).

Here, α _T is the skew angle of the track T, and L _T is the length of the track T in the radial direction. Further, when x _T <0, shifting by the shift amount x _T toward the inside in the radial direction means shifting by | x _T | toward the outside in the radial direction.

本発明の第１および第２の原盤製造方法のそれぞれにおいて、露光は電子線描画によるものであり、エッチングは反応性イオンエッチングによるものであってもよい。   In each of the first and second master manufacturing methods of the present invention, the exposure may be performed by electron beam drawing, and the etching may be performed by reactive ion etching.

本発明の凹凸パターン担持体製造方法は、本発明の第１または第２の原盤製造方法により製造された原盤を用いて、凹凸パターン担持体を製造することを特徴とするものである。   The concavo-convex pattern carrier manufacturing method of the present invention is characterized in that the concavo-convex pattern carrier is manufactured using the master disc manufactured by the first or second master disc manufacturing method of the present invention.

本発明の磁気ディスク媒体製造方法は、本発明の凹凸パターン担持体製造方法により製造された凹凸パターン担持体であるインプリントモールドを用い、該モールドの表面に設けられた凹凸パターンを被転写媒体に転写して磁気ディスク媒体を製造することを特徴とするものである（第２の磁気ディスク媒体製造方法）。   The magnetic disk medium manufacturing method of the present invention uses an imprint mold which is a concavo-convex pattern carrier manufactured by the concavo-convex pattern carrier manufacturing method of the present invention, and uses the concavo-convex pattern provided on the surface of the mold as a transfer medium. The magnetic disk medium is manufactured by transfer (second magnetic disk medium manufacturing method).

本発明の磁気ディスク媒体製造方法は、本発明の凹凸パターン担持体製造方法により製造された凹凸パターン担持体である磁気転写用マスター担体を用い、該マスター担体の表面に設けられた凹凸パターンに応じた磁化パターンを被転写媒体に磁気転写して磁気ディスク媒体を製造することを特徴とするものである（第２の磁気ディスク媒体製造方法）。   The method for producing a magnetic disk medium of the present invention uses a magnetic transfer master carrier that is a concavo-convex pattern carrier produced by the concavo-convex pattern carrier production method of the present invention, and according to the concavo-convex pattern provided on the surface of the master carrier. The magnetic pattern is magnetically transferred to a transfer medium to manufacture a magnetic disk medium (second magnetic disk medium manufacturing method).

本発明の第１および第２の原盤製造方法によれば、原盤を製造する際に、サーボパターン中のバーストパターンを、サーボパターン中のアドレスパターンとの関係で規定される基準位置から半径方向内側に向けて、それぞれ上記式（１）および上記式（２）の条件を満たすズレ量ｘ_Ｔだけずらした位置に露光するようにしたので、磁気ディスク媒体の製造過程における各種要因によって生じるアドレスパターンに対するバーストパターンの位置ズレを相殺でき、この原盤を用いて最終的に製造される磁気ディスク媒体の全体においてＡＥＲを許容範囲に抑えることができる。 According to the first and second master manufacturing methods of the present invention, when manufacturing a master, the burst pattern in the servo pattern is radially inward from the reference position defined by the relationship with the address pattern in the servo pattern. towards, since each was to expose the position shifted by satisfying the deviation amount x _T in the formula (1) and the formula (2), for the address pattern caused by various factors in the manufacturing process of the magnetic disk medium The positional deviation of the burst pattern can be offset, and the AER can be kept within an allowable range in the entire magnetic disk medium finally manufactured using this master.

特に、磁気ディスク媒体の、サーボパターンにおけるバースト方式が位相方式である場合はスキュー角が６degより大きい部分において、振幅方式である場合はスキュー角が１０degより大きい部分において、ＡＥＲを許容範囲に抑えることができる。   In particular, when the burst method in the servo pattern of the magnetic disk medium is a phase method, the AER is suppressed to an allowable range in a portion where the skew angle is larger than 6 deg. Can do.

本発明の凹凸パターン担持体製造方法によれば、上記第１または第２の原盤製造方法により製造された原盤を用いて、凹凸パターン担持体を製造するようにしたので、その凹凸パターン担持体を用いて製造される磁気ディスク媒体の全体においてＡＥＲを許容範囲に抑えることができる   According to the concavo-convex pattern carrier manufacturing method of the present invention, the concavo-convex pattern carrier is manufactured using the master disc manufactured by the first or second master disc manufacturing method. AER can be kept within an allowable range in the entire magnetic disk medium manufactured using

本発明の第１および第２の磁気ディスク媒体製造方法によれば、それぞれ上記凹凸パターン担持体製造方法により製造された凹凸パターン担持体である、インプリントモールドおよび磁気転写用マスター担体を用いて磁気ディスク媒体を製造するようにしたので、全体においてＡＥＲが許容範囲に抑えられた磁気ディスク媒体を製造することができる。   According to the first and second magnetic disk medium manufacturing methods of the present invention, the imprint mold and the magnetic transfer master carrier, each of which is a concave / convex pattern carrier manufactured by the concave / convex pattern carrier manufacturing method, are used. Since the disk medium is manufactured, it is possible to manufacture a magnetic disk medium whose AER is kept within an allowable range as a whole.

バーストパターンの種類を示す図Figure showing burst pattern types Skew角と位相バーストパターンの形状の関係を示す図Diagram showing the relationship between Skew angle and phase burst pattern shape 電子ビーム描画装置の構成概略図Schematic configuration of electron beam lithography system 原盤の製造方法および凹凸パターン担持体の製造方法を示す工程図Process drawing which shows the manufacturing method of an original disc, and the manufacturing method of a concavo-convex pattern carrier 磁気ディスク媒体の製造方法を示す工程図Process diagram showing a method of manufacturing a magnetic disk medium 原盤に形成したテストパターンの状態を示す図Diagram showing the state of the test pattern formed on the master 原盤に形成したテストパターンの状態を示す図Diagram showing the state of the test pattern formed on the master 位相方式におけるスキュー角とズレ量の関係を示すグラフGraph showing the relationship between skew angle and deviation in the phase method 振幅方式におけるスキュー角とズレ量の関係を示すグラフGraph showing the relationship between skew angle and deviation in the amplitude method トラックの半径方向の長さとズレ量の関係を示すグラフGraph showing the relationship between the track length in the radial direction and the amount of misalignment

以下、本発明の実施の形態について説明する。本発明の原盤製造方法においては、各製造工程の中でも特に露光工程が特徴的であるので、はじめに、その露光工程の実施に用いられる露光装置の一例として電子ビーム描画装置について説明する。図３は電子ビーム描画装置の構成概略図である。   Embodiments of the present invention will be described below. In the master disk manufacturing method of the present invention, the exposure process is particularly characteristic among the manufacturing processes. First, an electron beam drawing apparatus will be described as an example of an exposure apparatus used for performing the exposure process. FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the electron beam drawing apparatus.

＜電子ビーム描画装置＞
電子ビーム描画装置１００は、原盤に対して電子ビームを照射する電子ビーム照射部２０と、原盤を回転および直線移動させる駆動部３０と、駆動部３０における機械的な駆動制御を行う駆動制御部４０と、描画クロックの生成を行うと共に、電子ビーム照射部２０および駆動部３０の動作タイミング信号を出力するフォーマッタ５０と、描画すべきパターンに関する設計データを出力するデータ信号送出装置５とを備えている。また、本電子ビーム描画装置１００は、描画すべきパターンのうち特定描画パターンについてその描画タイミングが変更されるように、データ信号送出装置５から出力される設計データに対し変更を加える描画位置変更手段６０を備えている。 <Electron beam drawing device>
The electron beam drawing apparatus 100 includes an electron beam irradiation unit 20 that irradiates the master with an electron beam, a drive unit 30 that rotates and linearly moves the master, and a drive control unit 40 that performs mechanical drive control in the drive unit 30. And a formatter 50 for generating a drawing clock and outputting operation timing signals of the electron beam irradiation unit 20 and the drive unit 30, and a data signal sending device 5 for outputting design data relating to a pattern to be drawn. . Further, the present electron beam drawing apparatus 100 is a drawing position changing means for changing the design data output from the data signal sending device 5 so that the drawing timing of a specific drawing pattern among the patterns to be drawn is changed. 60.

電子ビーム照射部２０は、鏡筒１８内に電子ビームＥＢを出射する電子銃２１、電子ビームＥＢを半径方向Ｙおよび円周方向Ｘへ偏向させるとともに円周方向Ｘに一定の振幅で微小往復振動させる偏向手段２２，２３、電子ビームＥＢの照射をオン・オフするためのブランキング手段２４としてアパーチャ２５およびブランキング２６（偏向器）を備えており、電子銃２１から出射された電子ビームＥＢは偏向手段２２、２３および図示しない電磁レンズ等を経て、原盤（ここでは、レジスト１１が塗布された基板１０）上に照射される。   The electron beam irradiation unit 20 emits an electron beam EB into the lens barrel 18, deflects the electron beam EB in the radial direction Y and the circumferential direction X, and performs micro reciprocating vibration with a constant amplitude in the circumferential direction X. Aperture 25 and blanking 26 (deflector) are provided as deflection means 22 and 23 for turning on and off and blanking means 24 for turning on / off irradiation of the electron beam EB, and the electron beam EB emitted from the electron gun 21 is The light is irradiated on the master (here, the substrate 10 coated with the resist 11) through the deflecting means 22 and 23 and an electromagnetic lens (not shown).

ブランキング手段２４における上記アパーチャ２５は、中心部に電子ビームＥＢが通過する透孔を備え、ブランキング２６はオン・オフ信号の入力に伴って、オフ信号時には電子ビームＥＢを偏向させることなくアパーチャ２５の透孔を通過させて照射させ、一方、オン信号時には電子ビームＥＢを偏向させてアパーチャ２５の透孔を通過させることなくアパーチャ２５で遮断して、電子ビームＥＢの照射を行わないように作動する。   The aperture 25 in the blanking means 24 has a through-hole through which the electron beam EB passes at the center, and the blanking 26 has an aperture without deflecting the electron beam EB when the on / off signal is input when the off signal is input. On the other hand, the electron beam EB is deflected and blocked by the aperture 25 without passing through the aperture 25 so that the electron beam EB is not irradiated. Operate.

駆動部３０は、鏡筒１８が上面に配置された筐体１９内に原盤を支持する回転ステージ３１および該ステージ３１の中心軸と一致するように設けられたモータ軸を有するスピンドルモータ３２と備えた回転ステージユニット３３と、回転ステージユニット３３を回転ステージ３１の一半径方向に直線移動させるための直線移動手段３４とを備えている。直線移動手段３４は、回転ステージユニット３３の一部に螺合された精密なネジきりが施されたロッド３５と、このロッド３５を正逆回転駆動させるパルスモータ３６とを備えている。また、ステージユニット３３には、回転ステージ３１の回転角に応じたエンコーダ信号を出力するエンコーダ３７が設置されている。エンコーダ３７は、スピンドルモータ３２のモータ軸に取り付けられる、多数の放射状のスリットが形成された回転板３８と、そのスリットを光学的に読み取り、エンコーダ信号を出力する光学素子３９とを備えている。   The drive unit 30 includes a rotary stage 31 that supports the master in a housing 19 with the lens barrel 18 disposed on the upper surface, and a spindle motor 32 that has a motor shaft provided so as to coincide with the central axis of the stage 31. The rotary stage unit 33 and the linear moving means 34 for linearly moving the rotary stage unit 33 in one radial direction of the rotary stage 31 are provided. The linear moving means 34 includes a rod 35 that is screwed into a part of the rotary stage unit 33 and is precisely threaded, and a pulse motor 36 that drives the rod 35 to rotate forward and backward. The stage unit 33 is provided with an encoder 37 that outputs an encoder signal corresponding to the rotation angle of the rotary stage 31. The encoder 37 includes a rotating plate 38 that is attached to the motor shaft of the spindle motor 32 and has a large number of radial slits, and an optical element 39 that optically reads the slits and outputs an encoder signal.

駆動制御部４０は、駆動部３０のスピンドルモータ３２のドライバ４１およびパルスモータ３６のドライバ４２に駆動制御信号を送出し、これらの駆動を制御するものである。   The drive control unit 40 sends drive control signals to the driver 41 of the spindle motor 32 and the driver 42 of the pulse motor 36 of the drive unit 30, and controls these drives.

フォーマッタ５０は、不変の基準クロックを発生する基準クロック発生部を５１と、描画クロックを生成する描画クロック生成部５２と、描画クロックに基づいて、電子ビーム照射部２０の偏向手段２２，２３のための偏向アンプ２８およびブランキング２６のためのブランキングアンプ２９、およびスピンドルモータのドライバ４１に接続されているＰＬＬ回路へデータ信号を送出するデータ振分け部５４と、エンコーダ３７からの信号を受けて、動作タイミング（データ振分けタイミング）を制御するタイミング制御部５５を備えている。   The formatter 50 includes a reference clock generator 51 that generates an invariant reference clock, a drawing clock generator 52 that generates a drawing clock, and deflection means 22 and 23 of the electron beam irradiation unit 20 based on the drawing clock. Receiving a signal from the encoder 37 and a data distribution unit 54 for sending a data signal to a PLL circuit connected to the deflection amplifier 28 and the blanking amplifier 29 for the blanking 26 and the spindle motor driver 41. A timing control unit 55 that controls operation timing (data distribution timing) is provided.

データ信号送出装置５は、ハードディスクパターンなどの所望の磁気ディスクパターン（磁気ディスク媒体のパターン）に対応する描画すべきパターンの描画設計データ（描画パターンや描画タイミングを示すデータ）を記憶し、描画設計データを出力するものである。   The data signal transmission device 5 stores drawing design data (data indicating a drawing pattern and drawing timing) of a pattern to be drawn corresponding to a desired magnetic disk pattern (pattern of a magnetic disk medium) such as a hard disk pattern, and draw design Data is output.

描画位置変更手段６０は、描画設計データのバーストパターンに対する描画タイミングデータについて変更を加えるための変更データ（バーストパターンを特定するための情報とそのタイミング変更量とを対応付けて記録したテーブル）を予め記録した記憶手段６１を備え、その変更データに基づいて、データ信号送出装置５から出力された描画設計データに対し変更を加え、変更された描画設計データをフォーマッタ５０に送出するものである。   The drawing position changing means 60 previously stores change data (a table in which information for specifying a burst pattern and its timing change amount are recorded in association with each other) for changing the drawing timing data for the burst pattern of the drawing design data. A recording storage unit 61 is provided. Based on the change data, the drawing design data output from the data signal sending device 5 is changed, and the changed drawing design data is sent to the formatter 50.

これにより、バーストパターンの描画位置が、データ信号送出装置５からの描画設計データにおいて規定されている位置（基準位置）から半径方向内側に向けて所定のズレ量だけずらした位置に変更される。ここで、所定のズレ量は、サーボパターンにおけるバースト方式が位相方式である場合は上記式（１）の条件を満たすズレ量ｘ_Ｔとし、振幅方式である場合は上記式（２）の条件を満たすズレ量ｘ_Ｔとする。 Thereby, the drawing position of the burst pattern is changed to a position shifted from the position (reference position) defined in the drawing design data from the data signal transmission device 5 by a predetermined deviation amount inward in the radial direction. Here, the predetermined deviation amount, if burst-mode in the servo pattern is a phase method and satisfy deviation amount x _T in the formula (1), the above equation if the amplitude type conditions (2) and the amount of deviation _{x T} to meet.

本電子ビーム描画装置１００においては、描画位置変更手段６０により変更が加えられた描画設計データがフォーマッタ５０に入力されると、フォーマッタ５０は、入力された描画設計データを、ブランキングのオン・オフ制御、電子ビームＥＢのＸ−Ｙ偏向制御、回転ステージ３１の回転速度制御等の制御信号として、各アンプおよびドライバに振り分けるものであり、それぞれの制御信号はエンコーダ３７から入力されたエンコーダ信号と同期させて所定のタイミングで送出される。そしてフォーマッタ５０からの信号に基づいて、ブランキング手段２４、偏向手段２２，２３、スピンドルモータ等が駆動され、原盤の全面に所望の微細パターンを描画する。   In the electron beam drawing apparatus 100, when the drawing design data changed by the drawing position changing means 60 is input to the formatter 50, the formatter 50 turns the input drawing design data on / off for blanking. The control signals are distributed to each amplifier and driver as control signals such as control, XY deflection control of the electron beam EB, and rotational speed control of the rotary stage 31. Each control signal is synchronized with the encoder signal input from the encoder 37. And sent at a predetermined timing. Based on the signal from the formatter 50, the blanking means 24, the deflecting means 22, 23, the spindle motor, etc. are driven to draw a desired fine pattern on the entire surface of the master.

＜原盤製造方法＞
以下、図４の工程図を参照して、本発明の原盤製造方法の一実施の形態について説明する。 <Master production method>
Hereinafter, an embodiment of the master production method of the present invention will be described with reference to the process diagram of FIG.

[塗布工程]
まず、図４（ａ）に示す如く、平坦な基板１０を用意し、その表面全体にスピンコート法等によりポジ型又はネガ型のレジスト１１を塗布する。 [Coating process]
First, as shown in FIG. 4A, a flat substrate 10 is prepared, and a positive or negative resist 11 is applied to the entire surface by spin coating or the like.

[露光工程]
次に、図４（ｂ）に示す如く、レジスト１１が塗布された基板に、複数のトラックに沿って円周方向に配置されたサーボパターンを含む所望の磁気ディスクパターンに対応するパターンを露光する。 [Exposure process]
Next, as shown in FIG. 4B, a pattern corresponding to a desired magnetic disk pattern including a servo pattern arranged in a circumferential direction along a plurality of tracks is exposed on a substrate coated with a resist 11. .

この磁気ディスクパターンには、円周方向に規則的にサーボ領域とデータ領域とが交互に配置されており、サーボ領域にはサーボパターンを有する。磁気ディスクパターンは、基板１０に、外周部および内周部を除く円環状領域に形成される。サーボパターンは、基板１０の同心円状トラックに等間隔で、各セクターに中心部からほぼ放射方向に延びる細幅のサーボ領域に形成されてなる。一般に、サーボ領域は半径方向に延びる円弧状に形成される。   In this magnetic disk pattern, servo areas and data areas are regularly arranged alternately in the circumferential direction, and the servo areas have servo patterns. The magnetic disk pattern is formed on the substrate 10 in an annular region excluding the outer peripheral portion and the inner peripheral portion. The servo patterns are formed in concentric tracks on the substrate 10 at equal intervals and in narrow servo areas extending in the radial direction from the center of each sector. Generally, the servo area is formed in an arc shape extending in the radial direction.

サーボパターンには、複数トラックのトラック、たとえばトラックｎ〜ラックｎ＋４に亘って、再生信号のクロックを同期させるための情報が記録されたプリアンブル、サーボ信号認識コード、セクター情報、シリンダー情報などが形成されたアドレス、および位置誤差を検出するためのバーストパターンがなどのエレメントが配置される。   The servo pattern is formed with a preamble, servo signal recognition code, sector information, cylinder information, etc. in which information for synchronizing the clock of the reproduction signal is recorded over a plurality of tracks, for example, track n to rack n + 4. The elements such as the address and the burst pattern for detecting the position error are arranged.

上記サーボパターンの各エレメントの描画は、電子ビーム描画装置１００において、表面にレジスト１１が塗布された基板１０を、回転ステージ３１（図３参照）に設置して回転させつつ、例えば内周側のトラックより外周側トラックへ順に、またはその反対方向へ、１トラックずつ電子ビームＥＢで各エレメントを順に走査しレジスト１１を照射露光して行う。   In the drawing of each element of the servo pattern, in the electron beam drawing apparatus 100, the substrate 10 having the surface coated with the resist 11 is placed on the rotary stage 31 (see FIG. 3) and rotated, for example, on the inner peripheral side. Each element is sequentially scanned with the electron beam EB one track at a time from the track to the outer track or in the opposite direction, and the resist 11 is irradiated and exposed.

電子ビーム描画装置１００においては、画位置変更手段６０により、データ信号送出装置５からの描画設計データに対し、記憶手段６１に記録されている変更データに基づいて変更が加えられ、バーストパターンが、データ信号送出装置５からの設計データにおいて規定されている位置（基準位置）から半径方向内側に向けて所定のズレ量だけずらした位置に描画される。   In the electron beam drawing apparatus 100, the image position changing means 60 changes the drawing design data from the data signal sending apparatus 5 based on the change data recorded in the storage means 61, and the burst pattern is Drawing is performed at a position shifted from the position (reference position) defined in the design data from the data signal transmission device 5 by a predetermined shift amount inward in the radial direction.

各トラックをトラックＴ（Ｔ＝０、１、２、…、Ｎ）としたとき、トラックＴに対する位相方式を用いたサーボパターン中のバーストパターンが、サーボパターン中のアドレスパターンとの関係で規定される基準位置から半径方向内側に向けて下記式（１）の条件を満たすズレ量ｘ_Ｔ（nm）だけずらした位置に描画される。

ここで、α_Ｔは、前記トラックＴのスキュー角（deg）であり、Ｌ_Ｔは、前記トラックＴの半径方向の長さ（nm）である。また、ｘ_Ｔ＜０のときに半径方向内側に向けてズレ量ｘ_Ｔだけずらすというのは、半径方向外側に向けて|ｘ_Ｔ|だけずらすことを意味する。 When each track is a track T (T = 0, 1, 2,..., N), the burst pattern in the servo pattern using the phase method for the track T is defined in relation to the address pattern in the servo pattern. The image is drawn at a position shifted by a displacement amount x _T (nm) satisfying the condition of the following expression (1) from the reference position toward the inside in the radial direction.

Here, alpha _T, said a skew angle of the track _T (deg), L T is the radial length of the track T (nm). Further, when x _T <0, shifting by the shift amount x _T toward the inside in the radial direction means shifting by | x _T | toward the outside in the radial direction.

また、位相サーボパターンである場合には、下記式（２）の条件を満たすズレ量ｘ_Ｔ（nm）だけずらした位置に描画される。

In the case of a phase servo pattern, the pattern is drawn at a position shifted by a shift amount x _T (nm) that satisfies the condition of the following formula (2).

このように、バーストパターンを予めズレ量ｘ_Ｔ（nm）だけずらした位置に描画することにより、この原盤製造を含む磁気ディスク媒体の全製造過程における各種要因によって生じるアドレスパターンに対するバーストパターンの位置ズレを相殺でき、この原盤を用いて最終的に製造される磁気ディスク媒体の全体においてＡＥＲを許容範囲に抑えることができる。 In this way, by drawing the burst pattern at a position shifted in advance by a shift amount x _T (nm), the positional deviation of the burst pattern with respect to the address pattern caused by various factors in the entire manufacturing process of the magnetic disk medium including the master production. The AER can be kept within an allowable range in the entire magnetic disk medium finally manufactured using this master.

[現像工程]
次に、現像を実施し、図４（ｃ）に示すレジストパターンＲ１を形成する。 [Development process]
Next, development is performed to form a resist pattern R1 shown in FIG.

[エッチング工程]
次に、図４（ｄ）に示す如く、レジストパターンＲ１をマスクとして基板を、ＲＩＥ（リアクティブ・イオン・エッチング）等のプラズマドライエッチング法によりエッチングし、平坦基板２０に凹部２１を形成する。 [Etching process]
Next, as shown in FIG. 4D, the substrate is etched by a plasma dry etching method such as RIE (reactive ion etching) using the resist pattern R 1 as a mask to form a recess 21 in the flat substrate 20.

[レジスト除去工程]
エッチング終了後、図４（ｅ）に示す如く、酸素プラズマアッシング等を実施して残存するレジスト１１を除去することにより、原盤７０が完成する。 [Resist removal process]
After the etching is completed, as shown in FIG. 4E, oxygen plasma ashing or the like is performed to remove the remaining resist 11, whereby the master 70 is completed.

＜凹凸パターン担持体製造方法＞
以下、図４の工程図を参照して、本発明の凹凸パターン担持体製造方法の一実施の形態について説明する。この凹凸パターン担持体製造方法は、上記本発明の原盤製造方法により製造された原盤７０を用いてインプリントモールド８０を製造するものである。 <Concavity and convexity pattern carrier manufacturing method>
Hereinafter, with reference to the process diagram of FIG. 4, an embodiment of the method for producing a concavo-convex pattern carrier of the present invention will be described. This uneven pattern carrier manufacturing method manufactures the imprint mold 80 using the master disc 70 manufactured by the master disc manufacturing method of the present invention.

[電鋳工程]
まず、図４（ｆ）に示す如く、原盤７０の表面全体に金属スパッタリング等により導電層８２を成膜し、その上に、電鋳を実施することでインプリントモールド８０を成形する。導電層８２はインプリントモールド８０と同一材質（例えばニッケル）で成膜することが好ましい。導電層８２は電鋳によりインプリントモールド８０の一部となる。 [Electroforming process]
First, as shown in FIG. 4F, an imprint mold 80 is formed by forming a conductive layer 82 on the entire surface of the master 70 by metal sputtering or the like and performing electroforming thereon. The conductive layer 82 is preferably formed of the same material (for example, nickel) as the imprint mold 80. The conductive layer 82 becomes a part of the imprint mold 80 by electroforming.

[剥離工程]
次に、図４（ｇ）に示す如く、インプリントモールド８０を原盤７０から剥離し、凹凸パターンを有するインプリントモールド８０が完成する。この表面凹凸パターンは、原盤７０の凹凸形状が反転されたものである。上記電鋳工程と剥離工程を繰り返し実施することで、１つの原盤７０から複数のインプリントモールド８０を簡易に効率よく製造できる。 [Peeling process]
Next, as shown in FIG. 4G, the imprint mold 80 is peeled off from the master 70 to complete the imprint mold 80 having a concavo-convex pattern. This surface concavo-convex pattern is obtained by inverting the concavo-convex shape of the master 70. By repeatedly performing the electroforming process and the peeling process, a plurality of imprint molds 80 can be easily and efficiently manufactured from one master 70.

なお、原盤７０を用いて磁気転写用マスター担体を製造する際には、上記電鋳工程と剥離工程を実施することで、凹凸パターンを有するマスター担体の基板部を形成する。その後、形成された基板部の表面に磁性材料をスパッタリングするなどして、基板部の表面形状に沿って磁性層を積層することにより、マスター担体が完成する。   When the master carrier for magnetic transfer is manufactured using the master disc 70, the substrate portion of the master carrier having a concavo-convex pattern is formed by performing the electroforming process and the peeling process. Thereafter, a magnetic layer is laminated along the surface shape of the substrate portion by, for example, sputtering a magnetic material on the surface of the formed substrate portion, thereby completing the master carrier.

＜第１の磁気ディスク媒体製造方法＞
以下、図５の工程図を参照して、本発明の第１の磁気ディスク媒体製造方法の一実施の形態について説明する。この磁気ディスク媒体製造方法は、上記本発明の凹凸パターン担持体製造方法により製造された凹凸パターン担持体であるインプリントモールド８０を用いて磁気ディスク媒体９０を製造するものである。 <First Magnetic Disk Medium Manufacturing Method>
Hereinafter, an embodiment of the first magnetic disk medium manufacturing method of the present invention will be described with reference to the process chart of FIG. In this magnetic disk medium manufacturing method, a magnetic disk medium 90 is manufactured using an imprint mold 80 which is a concavo-convex pattern carrier manufactured by the concavo-convex pattern carrier manufacturing method of the present invention.

[転写工程]
まず、図５（ａ）に示す如く、アルミニウム、ガラス、シリコン、石英等の基板９１上に、Ｆｅ又はＦｅ合金、Ｃｏ又はＣｏ合金等の磁性層９２を有する磁気記録媒体中間体の磁性層上にポリメタアクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）等のインプリントレジスト液を塗布してなるレジスト層９３を形成したレジスト層付き磁気記録媒体中間体に対して、表面に凹凸パターンが形成されたインプリントモールド８０を押し当て、加圧することにより、インプリントモールド８０上に形成された凹凸パターンをレジスト層９３に転写する。 [Transfer process]
First, as shown in FIG. 5A, on a magnetic layer of a magnetic recording medium intermediate having a magnetic layer 92 such as Fe or Fe alloy, Co or Co alloy on a substrate 91 such as aluminum, glass, silicon, or quartz. An imprint mold 80 having a concavo-convex pattern formed on the surface of a magnetic recording medium intermediate with a resist layer in which a resist layer 93 is formed by applying an imprint resist solution such as polymethyl methacrylate (PMMA) to the surface. The concavo-convex pattern formed on the imprint mold 80 is transferred to the resist layer 93 by pressing and applying pressure.

[硬化工程]
次に、図５（ｂ）に示す如く、光照射により、あるいは加熱によって上記レジスト層９３を硬化させる。
―光照射による硬化―
レジスト層９３を形成するインプリントレジスト組成物が、光硬化性樹脂を含む場合、紫外線などの電子線を、透明性を有するインプリントモールド８０を介してレジスト層９３に照射し、該レジスト層９３が硬化することとなる。ここで用いる光硬化性樹脂としては、ラジカル重合タイプとカチオン重合タイプがあるが、要求されるパターン形状精度や硬化速度に対し適宜選択することができる。 [Curing process]
Next, as shown in FIG. 5B, the resist layer 93 is cured by light irradiation or heating.
-Curing by light irradiation-
When the imprint resist composition forming the resist layer 93 includes a photocurable resin, the resist layer 93 is irradiated with an electron beam such as ultraviolet rays through the transparent imprint mold 80. Will be cured. The photocurable resin used here includes a radical polymerization type and a cationic polymerization type, and can be appropriately selected for the required pattern shape accuracy and curing speed.

―加熱による硬化―
レジスト層９３を形成するインプリントレジスト組成物が、熱可塑性樹脂を含む場合、レジスト層９３にインプリントモールド８０を押し当てる際に、系を前記レジスト液のガラス転移点（Ｔｇ）付近に維持しておき、転写後、前記レジスト液のガラス転移点よりも低下することによりレジスト層９３が硬化することとなる。さらに、必要に応じて紫外線などを照射してパターンを硬化させてもよい。なお、インプリントレジスト組成物が、熱硬化性樹脂を含む場合、室温あるいは加熱して流動性を示す状態でレジスト層９３にインプリントモールド８０を押し当てて凹凸パターンを転写した後、樹脂の硬化温度まで加熱することにより、レジスト層９３が硬化することとなる。 ―Curing by heating―
When the imprint resist composition forming the resist layer 93 includes a thermoplastic resin, the system is maintained near the glass transition point (Tg) of the resist solution when the imprint mold 80 is pressed against the resist layer 93. In addition, after transfer, the resist layer 93 is cured by lowering the glass transition point of the resist solution. Furthermore, the pattern may be cured by irradiating ultraviolet rays or the like as necessary. When the imprint resist composition contains a thermosetting resin, the imprint mold 80 is pressed against the resist layer 93 in a state where the imprint resist 80 exhibits fluidity at room temperature or after heating to transfer the uneven pattern, and then the resin is cured. By heating to a temperature, the resist layer 93 is cured.

[磁性パターン部形成工程]
次に、図５（ｃ）に示す如く、凹凸部のパターンが転写されたレジスト層９３をマスクにして、ドライエッチングを行い、レジスト層に形成された凹凸パターン形状に基づく凹凸形状を磁性層に形成する。このドライエッチングとしては、磁性層に凹凸形状を形成できるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンミリング法、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）、スパッタエッチング、等が挙げられる。これらの中でも、イオンミリング法、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）が特に好ましい。 [Magnetic pattern formation process]
Next, as shown in FIG. 5C, dry etching is performed using the resist layer 93 to which the pattern of the concavo-convex portion is transferred as a mask, and the concavo-convex shape based on the concavo-convex pattern shape formed in the resist layer is applied to the magnetic layer. Form. The dry etching is not particularly limited as long as it can form a concavo-convex shape in the magnetic layer, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, ion milling, reactive ion etching (RIE), sputter etching , Etc. Among these, ion milling and reactive ion etching (RIE) are particularly preferable.

イオンミリング法は、イオンビームエッチングとも言われ、イオン源にＡｒ等の不活性ガスを導入し、イオンを生成する。これを、グリッドを通して加速して、試料基板に衝突させてエッチングするものである。イオン源としては、カウフマン型、高周波型、電子衝撃型、デュオプラズマトロン源、フリーマン型、ＥＣＲ（電子サイクロトロン共鳴）型、Closed‐drift型などが挙げられる。イオンビームエッチングでのプロセスガスとしてはＡｒ、ＲＩＥのエッチャントとしてはＣＯ＋ＮＨ_３、塩素ガス、ＣＦ系ガス、ＣＨ系ガス及びこれらのガスに酸素、窒素、水素ガスを添加したものなどを用いることができる。 The ion milling method is also called ion beam etching and introduces an inert gas such as Ar into an ion source to generate ions. This is accelerated through the grid and collides with the sample substrate for etching. Examples of the ion source include a Kaufman type, a high frequency type, an electron impact type, a duoplasmatron source, a Freeman type, an ECR (electron cyclotron resonance) type, and a closed-drift type. As a process gas in ion beam etching, as an etchant for RIE, CO + NH ₃ , chlorine gas, CF-based gas, CH-based gas, and those obtained by adding oxygen, nitrogen, or hydrogen gas to these gases can be used. .

[非磁性パターン部形成工程]
次に、図５（ｄ）に示す如く、形成された凹部に非磁性材料を埋め込み、表面を平坦化した後、必要に応じて、保護膜などを形成することにより、磁気ディスク媒体９０が完成する。非磁性材料としては、例えばＳｉＯ_２、カーボン、アルミナ、ポリメタアクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）等のポリマー、円滑油などが挙げられる。保護膜としては、ダイヤモンドカーボン（ＤＬＣ）、スパッタカーボン等が好ましく、該保護膜の上に更に潤滑剤層を設けてもよい。 [Non-magnetic pattern part forming process]
Next, as shown in FIG. 5 (d), the magnetic disk medium 90 is completed by embedding a nonmagnetic material in the formed recess, planarizing the surface, and forming a protective film or the like as necessary. To do. Examples of the nonmagnetic material include polymers such as SiO ₂ , carbon, alumina, polymethyl methacrylate (PMMA), polystyrene (PS), and smooth oil. As the protective film, diamond carbon (DLC), sputtered carbon or the like is preferable, and a lubricant layer may be further provided on the protective film.

本発明の磁気ディスク媒体製造方法により製造された磁気ディスク媒体は、ディスクリート型磁気記録媒体及びパターンドメディア型磁気記録媒体の少なくともいずれかであることが好適である。
＜第２の磁気ディスク媒体製造方法＞ The magnetic disk medium manufactured by the magnetic disk medium manufacturing method of the present invention is preferably at least one of a discrete type magnetic recording medium and a patterned medium type magnetic recording medium.
<Second Magnetic Disk Medium Manufacturing Method>

以下、本発明の第２の磁気ディスク媒体製造方法の一実施の形態について説明する。この磁気ディスク媒体製造方法は、上記本発明の凹凸パターン担持体製造方法により製造された凹凸パターン担持体である磁気転写用マスター担体を用いて磁気ディスク媒体を製造するものである。   Hereinafter, an embodiment of the second magnetic disk medium manufacturing method of the present invention will be described. In this magnetic disk medium manufacturing method, a magnetic disk medium is manufactured using a magnetic transfer master carrier which is a concavo-convex pattern carrier manufactured by the concavo-convex pattern carrier manufacturing method of the present invention.

情報が転写される被転写媒体（磁気ディスク媒体の中間体）は、例えば、基板の両面または片面に磁気記録層が形成されたハードディスク、フレキシブルディスク等であり、ここでは、磁気記録層の磁化容易方向が記録面に対して垂直な方向に形成されている垂直磁気記録媒体とする。   The medium to which the information is transferred (intermediate medium of the magnetic disk medium) is, for example, a hard disk or a flexible disk having a magnetic recording layer formed on both sides or one side of the substrate. Here, the magnetic recording layer is easily magnetized. The perpendicular magnetic recording medium is formed in a direction perpendicular to the recording surface.

予め被転写媒体に初期直流磁界をトラック面に垂直な一方向に印加して磁気記録層の磁化を初期直流磁化させておく。その後、この被転写媒体の記録層側の面とマスター担体の磁性層の面とを密着させ、被転写媒体のトラック面に垂直な方向に初期直流磁界とは逆方向の転写用磁界を印加して磁気転写を行う。その結果、転写用磁界がマスター担体の磁性層に吸い込まれ、凸部に対応する部分の被転写媒体の磁性層の磁化が反転し、その他の部分の磁化は反転しない結果、被転写媒体の磁気記録層にはマスター担体の凹凸パターンに応じた情報（例えばサーボ信号）が磁気的に転写記録される。   An initial direct current magnetic field is applied in advance to the transfer medium in one direction perpendicular to the track surface to cause the magnetic recording layer to undergo initial direct current magnetization. After that, the recording layer side surface of the transfer medium and the magnetic layer surface of the master carrier are brought into close contact with each other, and a transfer magnetic field opposite to the initial DC magnetic field is applied in a direction perpendicular to the track surface of the transfer medium. Magnetic transfer. As a result, the magnetic field for transfer is sucked into the magnetic layer of the master carrier, the magnetization of the magnetic layer of the transferred medium corresponding to the convex part is reversed, and the magnetization of the other part is not reversed. Information (for example, servo signals) corresponding to the uneven pattern of the master carrier is magnetically transferred and recorded on the recording layer.

なお、面内磁気記録媒体への磁気転写の場合にも、上記垂直磁気記録媒体用とほぼ同様のマスター担体が使用される。この面内記録の場合には、被転写媒体の磁化を、予めトラック方向に沿った一方向に初期直流磁化しておき、マスター担体と密着させてその初期直流磁化方向と略逆向きの転写用磁界を印加して磁気転写を行うものであり、この転写用磁界がマスター担体の凸部磁性層に吸い込まれ、凸部に対応する部分の被転写媒体の磁性層の磁化は反転せず、その他の部分の磁化が反転する結果、凹凸パターンに対応した磁化パターンを被転写媒体に記録することができる。   In the case of magnetic transfer to the in-plane magnetic recording medium, the same master carrier as that for the perpendicular magnetic recording medium is used. In the case of this in-plane recording, the magnetization of the medium to be transferred is preliminarily DC magnetized in one direction along the track direction and is in close contact with the master carrier for transfer in the direction substantially opposite to the initial DC magnetizing direction. Magnetic transfer is performed by applying a magnetic field, and the magnetic field for transfer is sucked into the convex magnetic layer of the master carrier, and the magnetization of the magnetic layer of the transferred medium corresponding to the convex part is not reversed. As a result, the magnetization pattern corresponding to the concavo-convex pattern can be recorded on the transfer medium.

以下、図６および図７を参照して、実験例１〜６について説明する。
［実験例１］
マスタークロックのレート：２００００００（Ｈｚ）、トラックの半径方向の長さＬ：１００（nm）、セクター数：２５６本、サーボパターンのバースト方式：位相方式、バーストの周期：１周期/４トラック＝１Ｔ／４Ｔｒの仕様を用いた。レジストが塗布された基板上に、２deg刻みの各Skew角α＝２０，１８，・・・，−２０(deg）のトラックに沿ってそれぞれ、バーストパターンを基準位置から半径方向に０．０５Ｌ刻みのズレ量ｘ＝−０．２Ｌ，−０．１５Ｌ，・・・，０．２Ｌ（nm）でそれぞれずらした位置に形成した９つのBandパターン（テストパターン：半径方向の幅０．２mm）をＥＢ描画し、現像、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）することにより原盤を製造した（図６参照）。次いで、この原盤に対し、プレーティング（電鋳後の剥離など）、磁性膜付与を行い、磁気転写用マスター担体を製造した。次いで、この磁気転写用マスター担体を用いて磁気ディスク媒体を製造した。ここでは、ズレ量ｘをトラックの半径方向の長さＬに対する割合として示した。たとえばシリンダー番号＋方向（半径方向内側の方向）に１Ｔｒ長の５％のズレ量でずらした場合、ズレ量ｘは＋０．０５Ｌとなる。以下同じ。 Hereinafter, Experimental Examples 1 to 6 will be described with reference to FIGS. 6 and 7.
[Experimental Example 1]
Master clock rate: 2000000 (Hz), track radial length L: 100 (nm), number of sectors: 256, servo pattern burst system: phase system, burst period: 1 period / 4 track = 1T The specification of / 4Tr was used. On the resist-coated substrate, the burst pattern is incremented by 0.05 L in the radial direction from the reference position along the tracks of each Skew angle α = 20, 18,..., −20 (deg) in increments of 2 degrees. 9 band patterns (test pattern: radial width 0.2 mm) formed at positions shifted by x = −0.2L, −0.15L,..., 0.2L (nm), respectively. A master was produced by EB drawing, development, and RIE (reactive ion etching) (see FIG. 6). Next, this master was subjected to plating (peeling after electroforming, etc.) and a magnetic film to produce a master carrier for magnetic transfer. Next, a magnetic disk medium was manufactured using this magnetic transfer master carrier. Here, the shift amount x is shown as a ratio to the length L in the radial direction of the track. For example, when the displacement is 5% of the 1Tr length in the cylinder number + direction (radially inward direction), the displacement amount x is + 0.05L. same as below.

［実験例２］
マスタークロックのレート：２００００００（Ｈｚ）、トラックの半径方向の長さＬ：１００（nm）、セクター数：２５６本、サーボパターンのバースト方式：振幅方式、バーストの周期：１周期/４トラック＝１Ｔ／４Ｔｒの仕様を用いた。レジストが塗布された基板上に、２deg刻みの各Skew角α＝２０，１８，・・・，−２０(deg）のトラックに沿ってそれぞれ、バーストパターンを基準位置から半径方向に０．０５Ｌ刻みのズレ量ｘ＝−０．２Ｌ，−０．１５Ｌ，・・・，０．２Ｌ（nm）でそれぞれずらした位置に形成した９つのBandパターン（テストパターン：半径方向の幅０．２mm）をＥＢ描画し、現像、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）することにより原盤を製造した（図７参照）。次いで、この原盤に対し、プレーティング（電鋳後の剥離など）、磁性膜付与を行い、磁気転写用マスター担体を製造した。次いで、この磁気転写用マスター担体を用いて磁気ディスク媒体を製造した。 [Experiment 2]
Master clock rate: 2000000 (Hz), track radial length L: 100 (nm), number of sectors: 256, servo pattern burst method: amplitude method, burst cycle: 1 period / 4 track = 1T The specification of / 4Tr was used. On the resist-coated substrate, the burst pattern is incremented by 0.05 L in the radial direction from the reference position along the tracks of each Skew angle α = 20, 18,..., −20 (deg) in increments of 2 degrees. 9 band patterns (test pattern: radial width 0.2 mm) formed at positions shifted by x = −0.2L, −0.15L,..., 0.2L (nm), respectively. A master was manufactured by EB drawing, development, and RIE (reactive ion etching) (see FIG. 7). Next, this master was subjected to plating (peeling after electroforming, etc.) and a magnetic film to produce a master carrier for magnetic transfer. Next, a magnetic disk medium was manufactured using this magnetic transfer master carrier.

［実験例３］
マスタークロックのレート：２００００００（Ｈｚ）、トラックの半径方向の長さＬ：１００（nm）、セクター数：２５６本、サーボパターンのバースト方式：位相方式、バーストの周期：１周期/４トラック＝１Ｔ／４Ｔｒの仕様を用いた。また、データ領域にはトラック間を分断するように円周状のLand／Grooveを設けた。レジストが塗布された基板上に、２deg刻みの各Skew角α＝２０，１８，・・・，−２０(deg）のトラックに沿ってそれぞれ、バーストパターンを基準位置から半径方向に０．０５Ｌ刻みのズレ量ｘ＝−０．２Ｌ，−０．１５Ｌ，・・・，０．２Ｌ（nm）でそれぞれずらした位置に形成した９つのBandパターン（テストパターン：半径方向の幅０．２mm）をＥＢ描画し、現像、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）することにより原盤を製造した。次いで、この原盤に対しプレーティング（Ｎｉ電鋳後の剥離など）を行うことにより、Ｎｉからなるインプリントモールドを製造した。次いで、このインプリントモールドを用いて垂直磁気記録媒体に対し、垂直転写を実施することにより磁気ディスク媒体を製造した。 [Experiment 3]
Master clock rate: 2000000 (Hz), track radial length L: 100 (nm), number of sectors: 256, servo pattern burst system: phase system, burst period: 1 period / 4 track = 1T The specification of / 4Tr was used. In addition, a circumferential land / groove is provided in the data area so as to divide between tracks. On the resist-coated substrate, the burst pattern is incremented by 0.05 L in the radial direction from the reference position along the tracks of each Skew angle α = 20, 18,..., −20 (deg) in increments of 2 degrees. 9 band patterns (test pattern: radial width 0.2 mm) formed at positions shifted by x = −0.2L, −0.15L,..., 0.2L (nm), respectively. A master was produced by EB drawing, development, and RIE (reactive ion etching). Subsequently, an imprint mold made of Ni was manufactured by performing plating (such as peeling after Ni electroforming) on the master. Next, a magnetic disk medium was manufactured by performing vertical transfer on the perpendicular magnetic recording medium using this imprint mold.

［実験例４］
マスタークロックのレート：２００００００（Ｈｚ）、トラックの半径方向の長さＬ：１００（nm）、セクター数：２５６本、サーボパターンのバースト方式：振幅方式、バーストの周期：１周期/４トラック＝１Ｔ／４Ｔｒの仕様を用いた。また、データ領域にはトラック間を分断するように円周状のLand／Grooveを設けた。レジストが塗布された基板上に、２deg刻みの各Skew角α＝２０，１８，・・・，−２０(deg）のトラックに沿ってそれぞれ、バーストパターンを基準位置から半径方向に０．０５Ｌ刻みのズレ量ｘ＝−０．２Ｌ，−０．１５Ｌ，・・・，０．２Ｌ（nm）でそれぞれずらした位置に形成した９つのBandパターン（テストパターン：半径方向の幅０．２mm）をＥＢ描画し、現像、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）することにより原盤を製造した。次いで、この原盤に対しプレーティング（Ｎｉ電鋳後の剥離など）を行うことにより、Ｎｉからなるインプリントモールドを製造した。次いで、このインプリントモールドを用いて垂直磁気記録媒体に対し、垂直転写を実施することにより磁気ディスク媒体を製造した。 [Experimental Example 4]
Master clock rate: 2000000 (Hz), track radial length L: 100 (nm), number of sectors: 256, servo pattern burst method: amplitude method, burst cycle: 1 period / 4 track = 1T The specification of / 4Tr was used. In addition, a circumferential land / groove is provided in the data area so as to divide between tracks. On the resist-coated substrate, the burst pattern is incremented by 0.05 L in the radial direction from the reference position along the tracks of each Skew angle α = 20, 18,..., −20 (deg) in increments of 2 degrees. 9 band patterns (test pattern: radial width 0.2 mm) formed at positions shifted by x = −0.2L, −0.15L,..., 0.2L (nm), respectively. A master was produced by EB drawing, development, and RIE (reactive ion etching). Subsequently, an imprint mold made of Ni was manufactured by performing plating (such as peeling after Ni electroforming) on the master. Next, a magnetic disk medium was manufactured by performing vertical transfer on the perpendicular magnetic recording medium using this imprint mold.

［実験例５］
マスタークロックのレート：２００００００（Ｈｚ）、トラックの半径方向の長さＬ：１００（nm）、セクター数：２５６本、サーボパターンのバースト方式：位相方式、バーストの周期：１周期/４トラック＝１Ｔ／４Ｔｒの仕様を用いた。また、データ領域にはトラック間を分断するように円周状のLand／Grooveを設けた。レジストが塗布された基板上に、２deg刻みの各Skew角α＝２０，１８，・・・，−２０(deg）のトラックに沿ってそれぞれ、バーストパターンを基準位置から半径方向に０．０５Ｌ刻みのズレ量ｘ＝−０．２Ｌ，−０．１５Ｌ，・・・，０．２Ｌ（nm）でそれぞれずらした位置に形成した９つのBandパターン（テストパターン：半径方向の幅０．２mm）をＥＢ描画し、現像、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）することにより原盤を製造した。次いで、この原盤に対しプレーティングを行うことにより、Ｑｚからなるインプリントモールドを製造した。次いで、このインプリントモールドを用いて垂直磁気記録媒体に対し、垂直転写を実施することにより磁気ディスク媒体を製造した。 [Experimental Example 5]
Master clock rate: 2000000 (Hz), track radial length L: 100 (nm), number of sectors: 256, servo pattern burst system: phase system, burst period: 1 period / 4 track = 1T The specification of / 4Tr was used. In addition, a circumferential land / groove is provided in the data area so as to divide between tracks. On the resist-coated substrate, the burst pattern is incremented by 0.05 L in the radial direction from the reference position along the tracks of each Skew angle α = 20, 18,..., −20 (deg) in increments of 2 degrees. 9 band patterns (test pattern: radial width 0.2 mm) formed at positions shifted by x = −0.2L, −0.15L,..., 0.2L (nm), respectively. A master was produced by EB drawing, development, and RIE (reactive ion etching). Subsequently, an imprint mold made of Qz was manufactured by plating the master. Next, a magnetic disk medium was manufactured by performing vertical transfer on the perpendicular magnetic recording medium using this imprint mold.

［実験例６］
マスタークロックのレート：２００００００（Ｈｚ）、トラックの半径方向の長さＬ：１００（nm）、セクター数：２５６本、サーボパターンのバースト方式：振幅方式、バーストの周期：１周期/４トラック＝１Ｔ／４Ｔｒの仕様を用いた。また、データ領域にはトラック間を分断するように円周状のLand／Grooveを設けた。レジストが塗布された基板上に、２deg刻みの各Skew角α＝２０，１８，・・・，−２０(deg）のトラックに沿ってそれぞれ、バーストパターンを基準位置から半径方向に０．０５Ｌ刻みのズレ量ｘ＝−０．２Ｌ，−０．１５Ｌ，・・・，０．２Ｌ（nm）でそれぞれずらした位置に形成した９つのBandパターン（テストパターン：半径方向の幅０．２mm）をＥＢ描画し、現像、ＲＩＥ（反応性イオンエッチング）することにより原盤を製造した。次いで、この原盤に対しプレーティングを行うことにより、Ｑｚからなるインプリントモールドを製造した。次いで、このインプリントモールドを用いて垂直磁気記録媒体に対し、垂直転写を実施することにより磁気ディスク媒体を製造した。 [Experimental Example 6]
Master clock rate: 2000000 (Hz), track radial length L: 100 (nm), number of sectors: 256, servo pattern burst method: amplitude method, burst cycle: 1 period / 4 track = 1T The specification of / 4Tr was used. In addition, a circumferential land / groove is provided in the data area so as to divide between tracks. On the resist-coated substrate, the burst pattern is incremented by 0.05 L in the radial direction from the reference position along the tracks of each Skew angle α = 20, 18,..., −20 (deg) in increments of 2 degrees. 9 band patterns (test pattern: radial width 0.2 mm) formed at positions shifted by x = −0.2L, −0.15L,..., 0.2L (nm), respectively. A master was produced by EB drawing, development, and RIE (reactive ion etching). Subsequently, an imprint mold made of Qz was manufactured by plating the master. Next, a magnetic disk medium was manufactured by performing vertical transfer on the perpendicular magnetic recording medium using this imprint mold.

上記各実験例１〜６において製造した各磁気ディスク媒体上に形成された全てのBandパターンに対してそれぞれ後述するＡＥＲ測定方法によりＡＥＲを測定し、実験例１，３，５の測定結果は図８に、実験例２，４，６の測定結果は図９に示した。図８および図９では、ＡＥＲ＜１０⁻⁶が達成できたズレ量ｘの範囲の上限と下限をグラフ上にプロットし、それらの点を結ぶ線を示している。 The AER was measured by the AER measurement method described later for all the Band patterns formed on each magnetic disk medium manufactured in each of the above Experimental Examples 1 to 6, and the measurement results of Experimental Examples 1, 3, and 5 are shown in FIG. 8 and the measurement results of Experimental Examples 2, 4 and 6 are shown in FIG. 8 and 9, the upper limit and lower limit of the range of the deviation amount x in which AER <10 ⁻⁶ can be achieved are plotted on the graph, and lines connecting these points are shown.

＜ＡＥＲの測定方法＞
300ＭＨｚ以上の周波数成分を除去した再生波形１０００００周分を、スピンスタンドを用いてＴＭＲヘッド（リードコア幅８０nm）で取得し、デコードプログラムを使用して解析した。これより求められた全セル数に対するアドレスエラーの数よりＡＥＲを計算した。 <AER measurement method>
A reproduction waveform of 100,000 cycles from which a frequency component of 300 MHz or higher was removed was obtained with a TMR head (read core width 80 nm) using a spin stand, and analyzed using a decoding program. The AER was calculated from the number of address errors with respect to the total number of cells obtained from this.

また、トラックの半径方向の長さＬをそれぞれ５０，６０，・・・，１００（nm）とした仕様で、各Skew角α＝１６，０．５，−１０(deg）の位置に形成されたテストパターンのそれぞれに対してＡＥＲを測定し、ＡＥＲがもっとも低い値を示すときのズレ量ｘの値を調べ、その結果を図１０に示した。図１０では、ズレ量ｘの最適値がトラックの半径方向の長さＬに比例することが示されている。   The track length L is set to 50, 60,..., 100 (nm), respectively, and is formed at each skew angle α = 16, 0.5, −10 (deg). The AER was measured for each of the test patterns, the value of the shift amount x when the AER showed the lowest value was examined, and the result is shown in FIG. FIG. 10 shows that the optimum value of the deviation amount x is proportional to the length L in the radial direction of the track.

また、上記各実験例１〜６の結果それぞれから、ＡＥＲ＜１０⁻⁶が達成できたズレ量ｘの範囲をSkew角αとトラックの半径方向の長さＬにより規定した関係式を求め、表２に示した。

Further, from each of the results of the above experimental examples 1 to 6, a relational expression defining the range of the deviation amount x in which AER <10 ⁻⁶ can be achieved by the Skew angle α and the length L in the radial direction of the track is obtained. It was shown in 2.

表２では、サーボパターンにおけるバースト方式が位相方式である場合はズレ量ｘが上記式（１）の条件を満たすとき、振幅方式である場合はズレ量ｘが上記式（２）の条件を満たすとき、ＡＥＲを許容範囲である１０⁻⁶以下に抑えられることが示されている。 In Table 2, when the servo method burst method is the phase method, the deviation amount x satisfies the condition of the above equation (1), and when the servo method is the amplitude method, the deviation amount x satisfies the equation (2). It is shown that the AER can be suppressed to 10 ⁻⁶ or less which is an allowable range.

以下、比較例１〜６と、実験例１〜６について説明する。
比較例１〜比較例６では、それぞれ実験例１〜６と同じ仕様で、レジストが塗布された基板上に、一般的な磁気ディスクパターンをズレ量ゼロでＥＢ描画し、現像、ＲＩＥすることにより原盤を製造した。次いで、この原盤に対し、プレーティング、磁性膜付与を行い、磁気転写用マスター担体を製造した。次いで、この磁気転写用マスター担体を用いて磁気ディスク媒体を製造した。 Hereinafter, Comparative Examples 1 to 6 and Experimental Examples 1 to 6 will be described.
In Comparative Examples 1 to 6, with the same specifications as Experimental Examples 1 to 6, respectively, a general magnetic disk pattern was EB-drawn on a substrate coated with a resist with zero deviation, developed, and RIE. A master was produced. Next, plating and magnetic film application were performed on this master disc to produce a magnetic transfer master carrier. Next, a magnetic disk medium was manufactured using this magnetic transfer master carrier.

実験例１、３、５では、それぞれ実験例１，３，５と同じ仕様で、レジストが塗布された基板上に、一般的な磁気ディスクパターンを、各トラックをトラックＴ（Ｔ＝０、１、２、…、Ｎ）としたとき、トラックＴに対する位相方式を用いたサーボパターン中のバーストパターンを、サーボパターン中のアドレスパターンとの関係で規定される基準位置から半径方向内側に向けてズレ量ｘ_Ｔ（nm）＝0.009α_Ｔ×Ｌ_Ｔだけずらした位置にＥＢ描画し、現像、ＲＩＥすることにより原盤を製造した。次いで、この原盤に対し、プレーティング、磁性膜付与を行い、磁気転写用マスター担体を製造した。次いで、この磁気転写用マスター担体を用いて磁気ディスク媒体を製造した。 In Experimental Examples 1, 3, and 5, with the same specifications as Experimental Examples 1, 3, and 5, respectively, a general magnetic disk pattern was placed on a resist-coated substrate, and each track was track T (T = 0, 1). ,..., N), the burst pattern in the servo pattern using the phase method for the track T is shifted inward in the radial direction from the reference position defined by the relationship with the address pattern in the servo pattern. A master was manufactured by drawing EB at a position shifted by an amount x _T (nm) = 0.009α _T × L _T , developing, and RIE. Next, plating and magnetic film application were performed on this master disc to produce a magnetic transfer master carrier. Next, a magnetic disk medium was manufactured using this magnetic transfer master carrier.

実験例２、４、６では、それぞれ実験例２，４，６と同じ仕様で、レジストが塗布された基板上に、一般的な磁気ディスクパターンを、各トラックをトラックＴ（Ｔ＝０、１、２、…、Ｎ）としたとき、トラックＴに対する振幅方式を用いたサーボパターン中のバーストパターンを、サーボパターン中のアドレスパターンとの関係で規定される基準位置から半径方向内側に向けてズレ量ｘ_Ｔ（nm）＝0.004α_Ｔ×Ｌ_Ｔだけずらした位置にＥＢ描画し、現像、ＲＩＥすることにより原盤を製造した。次いで、この原盤に対し、プレーティング、磁性膜付与を行い、磁気転写用マスター担体を製造した。次いで、この磁気転写用マスター担体を用いて磁気ディスク媒体を製造した。 In Experimental Examples 2, 4, and 6, with the same specifications as in Experimental Examples 2, 4, and 6, respectively, a general magnetic disk pattern and a track T (T = 0, 1) on a substrate coated with a resist. ,..., N), the burst pattern in the servo pattern using the amplitude method for the track T is shifted inward in the radial direction from the reference position defined by the relationship with the address pattern in the servo pattern. A master was manufactured by drawing EB at a position shifted by an amount x _T (nm) = 0.004α _T × L _T , developing, and RIE. Next, plating and magnetic film application were performed on this master disc to produce a magnetic transfer master carrier. Next, a magnetic disk medium was manufactured using this magnetic transfer master carrier.

上記各比較例１〜６、実験例１〜６において製造した磁気ディスク媒体のそれぞれについて、該磁気ディスク媒体上の各Skew角α＝２０，１８，・・・，−２０(deg）のトラック位置においてＡＥＲを測定・評価し、比較例１〜６の結果は表３に、実験例１〜６の結果は表４に示した。表３および表４では、ＡＥＲ＜１０⁻⁶である場合を○とし、ＡＥＲ≧１０⁻⁶である場合を×とした。 For each of the magnetic disk media manufactured in the above Comparative Examples 1 to 6 and Experimental Examples 1 to 6, the track position of each Skew angle α = 20, 18,..., −20 (deg) on the magnetic disk medium AER was measured and evaluated, and the results of Comparative Examples 1 to 6 are shown in Table 3, and the results of Experimental Examples 1 to 6 are shown in Table 4. In Table 3 and Table 4, the case where AER <10 ⁻⁶ is indicated by “◯”, and the case where AER ≧ 10 ⁻⁶ is indicated by “X”.

表３によると、比較例１，３，５（位相方式を用いたサーボパターン）では、Skew角の絶対値｜α｜≦６の位置範囲では評価結果が○であるが、｜α｜＞6の位置範囲では評価結果が×となった。比較例２，４，６（振幅方式を用いたサーボパターン）では、Skew角の絶対値｜α｜≦１０の位置範囲では評価結果が○であるが、｜α｜＞10の位置範囲では評価結果が×となった。一方、表４によると、実施例１〜６では、スキュー角の全範囲で、評価結果が○となった。   According to Table 3, in Comparative Examples 1, 3, and 5 (servo pattern using the phase method), the evaluation result is ◯ in the position range where the absolute value | α | ≦ 6 of the Skew angle, but | α |> 6 The evaluation result was x in the position range of. In Comparative Examples 2, 4, and 6 (servo patterns using the amplitude method), the evaluation result is ○ in the position range where the absolute value | α | ≦ 10 of the Skew angle, but the evaluation result is evaluated in the position range where | α |> 10. The result was x. On the other hand, according to Table 4, in Examples 1 to 6, the evaluation result was “◯” in the entire skew angle range.

上記表３および表４の結果より、本発明の原盤製造方法により、原盤を製造する際に、サーボパターンにおけるバースト方式が位相方式である場合は、サーボパターン中のバーストパターンを、サーボパターン中のアドレスパターンとの関係で規定される基準位置から半径方向内側に向けて、上記式（１）の条件を満たすズレ量ｘ_Ｔだけずらした位置に露光するようにし、サーボパターンにおけるバースト方式が振幅方式である場合は、サーボパターン中のバーストパターンを、サーボパターン中のアドレスパターンとの関係で規定される基準位置から半径方向内側に向けて、上記式（２）の条件を満たすズレ量ｘ_Ｔだけずらした位置に露光するようにすることにより、この原盤を用いて最終的に製造される磁気ディスク媒体の全体においてＡＥＲを許容範囲に抑えることができることが確認できた。 From the results of Table 3 and Table 4 above, when the master disk is manufactured by the master disk manufacturing method of the present invention, when the burst method in the servo pattern is the phase method, the burst pattern in the servo pattern is towards the radially inward from a reference position defined in relation to the address pattern, so as to expose the position shifted by satisfying the deviation amount x _T in the formula (1), a burst mode in the servo pattern amplitudes scheme In this case, the burst pattern in the servo pattern is moved inward in the radial direction from the reference position defined by the relationship with the address pattern in the servo pattern, and only the deviation amount x _T satisfying the above equation (2) is satisfied. By exposing to the shifted position, the entire magnetic disk medium finally produced using this master disk can be exposed. AER was confirmed that it is possible to suppress the allowable range.

１００ 電子ビーム描画装置
１０ 基板
１１ レジスト
６０ 描画位置変更手段
６１ 記憶手段
７０ 原盤
８０ インプリントモールド
９０ 磁気ディスク媒体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Electron beam drawing apparatus 10 Substrate 11 Resist 60 Drawing position changing means 61 Storage means 70 Master disk 80 Imprint mold 90 Magnetic disk medium

Claims (6)

基板に、レジストの塗布、複数のトラックに沿って円周方向に配置されたサーボパターンを含む所望の磁気ディスクパターンに対応するパターンの露光および現像を実施して、レジストパターンを形成し、
該レジストパターンをマスクとして前記基板をエッチングすることにより、
前記磁気ディスクパターンに対応した凹凸パターンを表面に有する凹凸パターン担持体を成形するための原盤を製造する方法であって、
前記露光において、前記各トラックをトラックＴ（Ｔ＝０、１、２、…、Ｎ）としたとき、前記トラックＴに対する位相方式を用いたサーボパターン中のバーストパターンを、前記サーボパターン中のアドレスパターンとの関係で規定される基準位置から半径方向内側に向けて下記式（１）の条件を満たすズレ量ｘ_Ｔ（nm）だけずらした位置に露光する
ことを特徴とする原盤製造方法。

α_Ｔは、前記トラックＴのスキュー角（deg）
Ｌ_Ｔは、前記トラックＴの半径方向の長さ（nm） A resist pattern is formed on a substrate by applying a resist and exposing and developing a pattern corresponding to a desired magnetic disk pattern including a servo pattern arranged in a circumferential direction along a plurality of tracks.
By etching the substrate using the resist pattern as a mask,
A method of manufacturing a master for forming a concavo-convex pattern carrier having a concavo-convex pattern corresponding to the magnetic disk pattern on the surface,
In the exposure, when each track is a track T (T = 0, 1, 2,..., N), a burst pattern in a servo pattern using a phase method for the track T is changed to an address in the servo pattern. A master production method, wherein exposure is performed at a position shifted by a displacement amount x _T (nm) satisfying a condition of the following formula (1) from a reference position defined in relation to a pattern inward in a radial direction.

α _T is the skew angle (deg) of the track T
L _T is the length of the track T in the radial direction (nm) 基板に、レジストの塗布、複数のトラックに沿って円周方向に配置されたサーボパターンを含む所望の磁気ディスクパターンに対応するパターンの露光および現像を実施して、レジストパターンを形成し、
該レジストパターンをマスクとして前記基板をエッチングすることにより、
前記磁気ディスクパターンに対応した凹凸パターンを表面に有する凹凸パターン担持体を成形するための原盤を製造する方法であって、
前記露光において、前記各トラックをトラックＴ（Ｔ＝０、１、２、…、Ｎ）としたとき、前記トラックＴに対する振幅方式を用いたサーボパターン中のバーストパターンを、前記サーボパターン中のアドレスパターンとの関係で規定される基準位置から半径方向内側に向けて下記式（２）の条件を満たすズレ量ｘ_Ｔ（nm）だけずらした位置に露光する
ことを特徴とする原盤製造方法。希望

α_Ｔは、前記トラックＴのスキュー角（deg）
Ｌ_Ｔは、前記トラックＴの半径方向の長さ（nm） A resist pattern is formed on a substrate by applying a resist and exposing and developing a pattern corresponding to a desired magnetic disk pattern including a servo pattern arranged in a circumferential direction along a plurality of tracks.
By etching the substrate using the resist pattern as a mask,
A method of manufacturing a master for forming a concavo-convex pattern carrier having a concavo-convex pattern corresponding to the magnetic disk pattern on the surface,
In the exposure, when each track is a track T (T = 0, 1, 2,..., N), a burst pattern in a servo pattern using an amplitude method for the track T is changed to an address in the servo pattern. A master production method, wherein exposure is performed at a position shifted by a displacement amount x _T (nm) satisfying a condition of the following formula (2) from a reference position defined in relation to a pattern inward in a radial direction. Hope

α _T is the skew angle (deg) of the track T
L _T is the length of the track T in the radial direction (nm) 前記露光が、電子線描画によるものであり、
前記エッチングが、反応性イオンエッチングによるものであることを特徴とする請求項１または２記載の原盤製造方法。 The exposure is by electron beam drawing;
3. The master production method according to claim 1, wherein the etching is performed by reactive ion etching. 請求項１から３のいずれか１項記載の製造方法により製造された原盤を用いて、前記凹凸パターン担持体を製造することを特徴とする凹凸パターン担持体製造方法。   4. A method for producing a concavo-convex pattern carrier, wherein the concavo-convex pattern carrier is produced using a master produced by the production method according to claim 1. 請求項４記載の製造方法により製造された凹凸パターン担持体であるインプリントモールドを用い、該モールドの表面に設けられた前記凹凸パターンを被転写媒体に転写して磁気ディスク媒体を製造することを特徴とする磁気ディスク媒体製造方法。   A magnetic disk medium is manufactured by using an imprint mold which is a concavo-convex pattern carrier manufactured by the manufacturing method according to claim 4 and transferring the concavo-convex pattern provided on the surface of the mold onto a transfer medium. A method of manufacturing a magnetic disk medium. 請求項４記載の製造方法により製造された凹凸パターン担持体である磁気転写用マスター担体を用い、該マスター担体の表面に設けられた前記凹凸パターンに応じた磁化パターンを被転写媒体に磁気転写して磁気ディスク媒体を製造することを特徴とする磁気ディスク媒体製造方法。   A magnetic transfer master carrier that is a concavo-convex pattern carrier manufactured by the manufacturing method according to claim 4 is used, and a magnetic pattern corresponding to the concavo-convex pattern provided on the surface of the master carrier is magnetically transferred to a transfer medium. And manufacturing a magnetic disk medium.

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