JP2011204944A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wに対して処理液による処理を施す処理チャンバ10と、基板収容器17を保持する収容器保持部4と、収容器保持部4と処理チャンバ10との間で基板Wを搬送するインデクサロボット6、シャトル搬送機構7および主搬送ロボット9を備えている。シャトル搬送機構7が備えられたシャトル搬送空間14の上部には、172nmの波長を中心とする紫外線を照射するランプハウスが設けられている。シャトル搬送機構7によって基板Wを搬送するのと同時に、搬送中の基板Wに紫外線を照射することによって、基板Wに付着している有機物を分解・除去したり、基板W表面に酸化膜を形成する処理を行う。
【選択図】図1
Description
2 処理部
3 インデクサ部
4 収容器保持部
5 インデクサ搬送路
6 インデクサロボット
7 シャトル搬送機構
8 搬送路
9 主搬送ロボット
10 処理チャンバ
11 流体ボックス
12 第1隔壁
13 第2隔壁
14 シャトル搬送空間
15 第1窓部
16 第2窓部
17 基板収容器
57 ランプハウス
58 エキシマランプ
60 第1給排気口
61 第1給排気配管
62 第1排気バルブ
63 第1ガス供給配管
64 第1窒素ガス供給配管
65 第1クリーンエア供給配管
66 第1窒素ガスバルブ
67 第1クリーンエアバルブ
68 第2給排気口
69 第2給排気配管
70 第2排気バルブ
71 第2ガス供給配管
72 第2窒素ガス供給配管
73 第2クリーンエア供給配管
74 第2窒素ガスバルブ
75 第2クリーンエアバルブ
80 制御装置
Claims (10)
- 基板に対して処理を施すための基板処理装置であって、
基板に対して処理液による処理を施すための基板処理部と、
基板を収容する基板収容器を保持する収容器保持部と、
前記収容器保持部と前記基板処理部との間で基板を搬送するための基板搬送手段と、
前記基板搬送手段が配置された基板搬送空間に設けられ、前記基板搬送手段により搬送中の基板に対して、172nmの波長を中心とする紫外線を照射する紫外線照射手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板搬送空間内の酸素濃度を調整する酸素濃度調整手段をさらに備えることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記酸素濃度調整手段は、前記基板搬送空間内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段を含み、前記不活性ガス供給手段による不活性ガス供給量を調整することにより前記基板搬送空間内の酸素濃度を調整するものであることを特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
- 前記不活性ガス供給手段は、不活性ガスの供給方向を変更する供給方向変更手段を含み、前記供給方向変更手段は前記基板搬送手段による基板の搬送方向に応じて、不活性ガスの供給方向を変更することを特徴とする請求項3記載の基板処理装置。
- 前記紫外線照射手段は、前記基板処理部において処理が施された後であって、前記収容器保持部に搬送中の基板に対して紫外線を照射することを特徴とする請求項1ないし4記載の基板処理装置。
- 前記紫外線照射手段は、前記収容器保持部から前記基板処理部に搬送中の未処理の基板に対して紫外線を照射することを特徴とする請求項1ないし5記載の基板処理装置。
- 前記紫外線照射手段は、172nmの波長を中心とする紫外線を発生するエキシマランプであることを特徴とする請求項1ないし6記載の基板処理装置。
- 基板処理部において基板に対して処理液による処理を施す基板処理工程と、
基板を収容する基板収容器を保持する収容器保持部と前記基板処理部との間で基板を搬送する基板搬送工程と、
前記基板搬送工程と並行して行われ、搬送中の基板に対して172nmの波長を中心とする紫外線を照射する紫外線照射工程とを備えたことを特徴とする基板処理方法。 - 前記紫外線照射工程は、前記基板処理工程の後に行われることを特徴とする請求項8記載の基板処理方法。
- 前記紫外線照射工程は、前記基板処理工程に先立って行われることを特徴とする請求項8または9記載の基板処理方法。
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