JP2011167594A - Air cleaner - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、空気浄化装置に関する。 The present invention relates to an air purification device.
特許文献1には、霧液装置によって霧化された脱臭液を室内汚染空気と混合させることによって脱臭すると共に、蛇行通路を通過させることによって脱臭作用を促進させた脱臭装置が記載されている。 Patent Document 1 describes a deodorizing apparatus that deodorizes the deodorized liquid atomized by the fog liquid apparatus by mixing it with indoor polluted air and promotes the deodorizing action by passing through a meandering passage.
特許文献2には、光触媒を分散させた水に排気ガスをバブリングさせ、水に溶解した成分を光触媒により分解する排気ガスの処理装置が記載されている。 Patent Document 2 describes an exhaust gas processing apparatus in which exhaust gas is bubbled into water in which a photocatalyst is dispersed, and components dissolved in water are decomposed by the photocatalyst.
また、半導体や液晶パネル等の電子デバイスの製造は、クリーンルームにて行なわれている。半導体や液晶パネル等の電子デバイスの製造工程においては、ガス状の汚染物質が製造工程の製品と化学反応したり物理的に吸着したりすることにより、製品不良の原因となる虞がある。このため、クリーンルームのガス状の汚染物質を除去し、空気を浄化する必要がある。 In addition, electronic devices such as semiconductors and liquid crystal panels are manufactured in a clean room. In the manufacturing process of electronic devices such as semiconductors and liquid crystal panels, gaseous pollutants may cause product defects due to chemical reaction or physical adsorption with products in the manufacturing process. For this reason, it is necessary to remove gaseous pollutants in the clean room and purify the air.
空気浄化性能を向上させることが望まれている。
本発明は、空気浄化性能を向上させることが目的である。
It is desired to improve the air purification performance.
The object of the present invention is to improve air purification performance.
請求項1の発明は、光触媒が分散した水が貯留された浄化槽と、前記光触媒に光を照射する光照射手段と、前記浄化槽の下部に設けられ、貯留された水の中に浄化対象の空気を噴出する空気噴出部と、前記浄化槽の内部に形成され、前記空気噴出部から噴出された空気の気泡が、正面視において左右に蛇行しながら下から上に向かって移動するように形成された流路と、前記浄化槽の水面よりも上側に設けられ、前記空気流路を通過した空気を排出する空気排出部と、を備えている。 The invention according to claim 1 is a purification tank in which water in which a photocatalyst is dispersed is stored, light irradiation means for irradiating light to the photocatalyst, and air to be purified in the stored water. Formed in the inside of the septic tank, and air bubbles ejected from the air ejection part are formed so as to move from bottom to top while meandering left and right in a front view. A flow path, and an air discharge unit that is provided above the water surface of the septic tank and discharges air that has passed through the air flow path.
請求項1の発明では、空気噴出部から噴出された浄化対象の空気が、気泡となって流路を通過する際に、気泡(浄化対象の空気中)の汚染物質が水Hに溶解すると共に、光触媒によって汚染物質が分解されることによって浄化され、空気排出部から排出される。 According to the first aspect of the present invention, when the air to be purified ejected from the air ejection section becomes bubbles and passes through the flow path, the contaminants in the bubbles (in the air to be purified) are dissolved in the water H. The pollutant is decomposed by the photocatalyst to be purified and discharged from the air discharge unit.
気泡は、浄化槽の内部に形成された流路を、左右に蛇行しながら下から上に向かって流れる。よって、気泡が左右に蛇行しない構成と比較し、気泡が光触媒が分散した水と接触する接触時間が長くなり、その結果、空気浄化性能が向上する。 The bubbles flow from the bottom to the top while meandering left and right in the flow path formed inside the septic tank. Therefore, compared with the configuration in which the bubbles do not meander to the left and right, the contact time for the bubbles to contact the water in which the photocatalyst is dispersed becomes longer, and as a result, the air purification performance is improved.
請求項2の発明は、前記光触媒が分散した水を前記浄化槽の底部から回収する回収手段と、前記回収手段によって回収された前記光触媒が分散した水の一部又は全部を前記浄化槽に供給する供給手段と、を有し、前記光触媒が分散した水が前記流路を上方から下方に流れるように水流を発生させる水流発生手段を備えている。 Invention of Claim 2 collect | recovers the water which the said photocatalyst disperse | distributed from the bottom part of the said septic tank, and the supply which supplies one part or all part of the water which the said photocatalyst collect | recovered collect | recovered by the said recovery means is supplied to the said septic tank And a water flow generating means for generating a water flow so that the water in which the photocatalyst is dispersed flows downward from above in the flow path.
請求項2の発明では、光触媒が分散した水は流路を上方から下方に流れている。つまり、光触媒が分散した水と気泡とが対向して流れている。これにより、光触媒による汚染物質の分解作用が促進される。つまり、水流発生手段を備えていない構成と比較し、空気浄化作用が向上する。 In the invention of claim 2, the water in which the photocatalyst is dispersed flows through the flow path from above to below. That is, the water in which the photocatalyst is dispersed and the bubbles flow in opposition. Thereby, the decomposition | disassembly effect | action of the pollutant by a photocatalyst is accelerated | stimulated. That is, the air purification action is improved as compared with a configuration that does not include the water flow generating means.
また、回収手段によって回収された光触媒が分散した水の一部又は全部が供給手段に送られ、浄化槽に供給される。よって、光触媒が浄化槽の底部に沈殿したままとならないので、光触媒が浄化槽の底部に沈殿することによる空気浄化性能の低下が防止又は抑制される。 Further, a part or all of the water in which the photocatalyst recovered by the recovery means is dispersed is sent to the supply means and supplied to the septic tank. Therefore, since the photocatalyst does not remain precipitated at the bottom of the septic tank, a decrease in air purification performance due to the photocatalyst being precipitated at the bottom of the septic tank is prevented or suppressed.
また、回収手段によって回収された(光触媒が分散した)水が、供給手段に送られない構成と比較し、浄化コストが低減される。 Further, the purification cost is reduced as compared with a configuration in which the water recovered by the recovery means (with the photocatalyst dispersed) is not sent to the supply means.
請求項3に記載の発明は、前記流路は、正面視において、前記浄化槽の槽壁から左右互い違いに張り出す板材によって構成され、前記板材は、張り出し方向に向かって下り勾配となるように配置され、前記板材の前記槽壁の近傍には、上下方向に貫通する貫通孔が形成されている。 According to a third aspect of the present invention, the flow path is configured by a plate material that alternately protrudes from the left and right from the tank wall of the septic tank in a front view, and the plate material is disposed so as to have a downward slope toward the extension direction. In the vicinity of the tank wall of the plate material, a through-hole penetrating in the vertical direction is formed.
請求項3の発明では、板材が張り出し方向に向かって下り勾配となるように配置されているので、板材の上面(流路の底面)に沿って、光触媒が上方から下方に流れていく。 In the invention of claim 3, since the plate material is arranged so as to have a downward slope toward the overhanging direction, the photocatalyst flows downward from above along the upper surface of the plate material (bottom surface of the flow path).
よって、板材の上面(流路の底面)に光触媒が沈殿することによる空気浄化性能の低下が防止される。 Therefore, the deterioration of the air purification performance due to the precipitation of the photocatalyst on the upper surface (bottom surface of the flow path) of the plate material is prevented.
また、板材の槽壁の近傍に形成された上下方向に貫通する貫通孔から、気泡が抜けていく。よって、板材の槽壁の近傍に気泡が長時間に亘って溜まることによる空気浄化性能の低下が防止される。 In addition, bubbles are released from a through-hole formed in the vicinity of the tank wall of the plate material in the vertical direction. Therefore, the air purification performance is prevented from deteriorating due to air bubbles remaining in the vicinity of the tank wall of the plate material for a long time.
したがって、板材が水平又は略水平に配置された構成と比較し、空気浄化性能が向上する。 Therefore, the air purification performance is improved as compared with a configuration in which the plate material is arranged horizontally or substantially horizontally.
請求項4に記載の発明は、前記流路は、正面視において、前記浄化槽の槽壁から左右互い違いに張り出す板材によって構成され、前記隔壁は、張り出し方向に向かって上り勾配となるように配置され、前記板材の前記槽壁の近傍には、上下方向に貫通する貫通孔が形成されている。 According to a fourth aspect of the present invention, the flow path is configured by a plate material that protrudes left and right alternately from the tank wall of the septic tank in a front view, and the partition is disposed so as to have an upward slope toward the protruding direction. In the vicinity of the tank wall of the plate material, a through-hole penetrating in the vertical direction is formed.
請求項4の発明では、板材が張り出し方向に向かって上り勾配となるように配置されているので、板材の下面(流路の天井面)に沿って、気泡がスムーズに移動する。 In the fourth aspect of the invention, since the plate material is disposed so as to rise upward in the overhanging direction, the bubbles move smoothly along the lower surface of the plate material (the ceiling surface of the flow path).
つまり、板材が水平又は略水平に配置された構成と比較し、気泡が溜まることなくスムーズに移動する。 That is, as compared with a configuration in which the plate material is arranged horizontally or substantially horizontally, the bubbles move smoothly without accumulating bubbles.
また、板材の槽壁の近傍に形成された上下方向に貫通する貫通孔から、光触媒が落下する。よって、触媒が板材の槽壁の近傍に溜まることによる空気浄化性能の低下が防止される。 Moreover, a photocatalyst falls from the through-hole penetrated in the up-down direction formed in the vicinity of the tank wall of a board | plate material. Therefore, the deterioration of the air purification performance due to the catalyst remaining in the vicinity of the tank wall of the plate material is prevented.
したがって、板材が水平又は略水平に配置された構成と比較し、空気浄化性能が向上する。 Therefore, the air purification performance is improved as compared with a configuration in which the plate material is arranged horizontally or substantially horizontally.
請求項5の発明は、前記浄化槽の槽壁には、光が透過する透過部が設けられ、前記光照射手段は、前記浄化槽の外側に配置され、前記透過部から前記流路に光を照射する。 According to a fifth aspect of the present invention, the tank wall of the septic tank is provided with a transmission part that transmits light, and the light irradiating means is disposed outside the septic tank, and irradiates the flow path from the transmission part. To do.
請求項5の発明では、光照射手段は浄化槽の外側に配置され、浄化槽の槽壁の透過部から流路に光を照射する。 In the invention of claim 5, the light irradiation means is disposed outside the septic tank, and irradiates light to the flow path from the transmission part of the tank wall of the septic tank.
例えば、浄化槽の内部に光照射手段が配置されている構成の場合、光照射手段の耐水性能を確保する必要があり、高コストとなる。 For example, in the case where the light irradiation means is arranged inside the septic tank, it is necessary to ensure the water resistance performance of the light irradiation means, resulting in high cost.
よって、浄化槽の外側に光照射手段が配置されることで、浄化槽の内部に光照射手段が配置されている構成と比較し、光照射手段を低コストで設置できる。 Therefore, by arranging the light irradiating means outside the septic tank, the light irradiating means can be installed at a lower cost compared to the configuration in which the light irradiating means is arranged inside the septic tank.
請求項1に記載の発明によれば、気泡が左右に蛇行しない構成と比較し、空気浄化性能を向上させることができる。 According to the first aspect of the present invention, the air purification performance can be improved as compared with the configuration in which the bubbles do not meander left and right.
請求項2に記載の発明によれば、水流発生手段を有しない構成と比較し、空気浄化性能を向上させることができる。 According to invention of Claim 2, compared with the structure which does not have a water flow generation means, air purification performance can be improved.
請求項3に記載の発明によれば、板材が水平又は略水平に配置された構成と比較し、空気浄化性能を向上させることができる。 According to invention of Claim 3, compared with the structure by which the board | plate material is arrange | positioned horizontally or substantially horizontally, air purification performance can be improved.
請求項4に記載の発明によれば、板材が水平又は略水平に配置された構成と比較し、空気浄化性能を向上させることができる。 According to invention of Claim 4, compared with the structure by which the board | plate material is arrange | positioned horizontally or substantially horizontally, air purification performance can be improved.
請求項5に記載の発明によれば、浄化槽の内部に光照射手段が配置されている構成と比較し、光照射手段を低コストで設置することができる。 According to invention of Claim 5, compared with the structure by which the light irradiation means is arrange | positioned inside the septic tank, a light irradiation means can be installed at low cost.
<第一実施形態>
本発明の第一実施形態に係る空気浄化装置100とクリーンルーム12とを備えるクリーンルーム装置10について、図1を用いて説明する。
<First embodiment>
A
まず、クリーンルーム装置10の全体構成について説明する。
なお、本実施形態では、クリーンルーム12の中で、半導体や液晶パネルの製造が行なわれる。
First, the overall configuration of the
In the present embodiment, semiconductors and liquid crystal panels are manufactured in the
図1に示すように、クリーンルーム12の排出口14から排出された汚染された空気(浄化対象の空気)は、空気経路22を介して、空気浄化装置100に送られる。空気浄化装置100に送られた汚染された空気は、空気浄化装置100で浄化され排出される。空気浄化装置100によって浄化され排出された空気は、空気経路24を介してクリーンルーム12の吹出口16から吹き出される。
As shown in FIG. 1, the contaminated air (air to be purified) discharged from the
なお、空気経路24には空調装置30が設けられており、浄化された空気は空調装置30によって温度と湿度とが調整されたのち、クリーンルーム12の吹出口16から吹出される。
An
つぎに、空気浄化装置100について説明する。
空気浄化装置100は浄化槽110を備えている。浄化槽110には、光触媒Sが分散した水Hが貯留されている。
Next, the
The
なお、水Hには、種々の物質が溶解や分散された水も含まれる。例えば、酸やアルカリなどが添加された水やオゾン水なども含まれる。また、光触媒S以外の他の物質も分散されていてもよい。なお、光触媒Sについての詳細は後述する。 The water H includes water in which various substances are dissolved or dispersed. For example, water to which acid or alkali is added, ozone water, or the like is also included. Further, substances other than the photocatalyst S may be dispersed. Details of the photocatalyst S will be described later.
図1は装置構成を模式的に示す構成図であるので、各装置の実際の上下方向は図示されている上下方向とは必ずしも一致しない。しかし、浄化槽に関しては、実際の上下方向と図における上下方向とが一致する。
同様に図2〜図10の構成図も、各装置の実際の上下方向は図示されている上下方向とは必ずしも一致しないが、浄化槽に関しては、実際の上下方向と図における上下方向とが一致する。
Since FIG. 1 is a configuration diagram schematically showing a device configuration, the actual vertical direction of each device does not necessarily match the vertical direction shown in the drawing. However, regarding the septic tank, the actual vertical direction matches the vertical direction in the figure.
Similarly, in the configuration diagrams of FIGS. 2 to 10, the actual vertical direction of each device does not necessarily match the vertical direction shown in the figure, but for the septic tank, the actual vertical direction matches the vertical direction in the figure. .
浄化槽110の中には、正面視において、斜めに配置された複数の板状の隔壁120によって、流路130が形成されている。正面視において、複数の隔壁120は上下方向に並んで配置されると共に、隔壁120の上端部120Aが、浄化槽110の槽壁110Aと槽壁110Bとに交互に接合されている。言い換えると、正面視において、板状の隔壁120が浄化槽110の槽壁110A,110Bから左右、互い違いに(交互)に張り出している。
In the
各隔壁120は、張り出し方向に向かって下り勾配となるように配置されている。別の言い方をすると、上端部120A側(槽壁110A,110B側)が上り勾配となるように設けられている。また、各隔壁120は、上り勾配方向の傾斜方向が交互に逆方向となって配置されている。
Each
よって、流路130は、正面視において、左右に蛇行した構成とされている。別の言い方をすると、流路130は、正面視おいて、左右に複数回折れ曲がったジグザク(Zigzag)形状となるように構成されている。
Therefore, the
流路130を構成する底面、すなわち各隔壁120の上面120Uは、流路130が折り返す折返部位130Aに向かって下り勾配となっている。別の言い方をすると、各隔壁120の上面120Uは、後述する水流Y方向に向かって下り勾配となった傾斜面とされている。
The bottom surface constituting the
更に、各隔壁120の上端部120Aの浄化槽110の槽壁110A、110Bのとの接合部位(又は接合部位近傍)に、上下方向に貫通する貫通孔122が形成されている。
Further, a through-
浄化槽110の下部における流路130の流末130Mには、クリーンルーム12から排出された汚染された空気(浄化対象の空気)を噴出する空気噴出部150が設けられている。空気噴出部150は、複数の小さな孔154から細かい気泡(泡)Kを吹き出す気泡流噴射部(バブリングジェットバルブ)152を有している。
At the
気泡流噴射部152の複数の小さな孔154から噴出された細かい気泡(泡)Kは、流路130を下方から上方に移動する。なお、気泡Kの移動を図中の矢印Tで示している。
Fine bubbles (bubbles) K ejected from the plurality of
流路130を移動した気泡Kは浄化槽110の水面HAよりも上の空気溜部116に溜まる。この空気溜部116に溜まった空気は、浄化槽110の水面HAよりも上方、本実施形態では、天井部112に設けられた空気排出部160から排出される。空気排出部160から排出された浄化された空気は、クリーンルーム12に送られ吹出口16から吹き出される。
The bubbles K that have moved through the
浄化槽110の底部114には、光触媒Sが分散した水Hを回収する回収部170が設けられている。つまり、流路130の流末130Mには回収部170が設けられている。
また、浄化槽110の上部には、回収部170から回収された水を供給する供給部172が設けられている。
そして、回収部170と供給部172との間は循環経路176によって連結され、この循環経路176にポンプ174が設けられている。
A
In addition, a
The
したがって、光触媒Sが分散した水Hが、流路130を上方から下方に流れる水流Y(図中の矢印Y)が発生する。
Therefore, a water flow Y (arrow Y in the figure) in which the water H in which the photocatalyst S is dispersed flows from the upper side to the lower side in the
浄化槽110の槽壁110A,110Bにおける流路130の折返部位130Aに対応する部位に、光が透過する透過部118が設けられている。透過部118は透明なガラスや樹脂などで構成されている。
A
浄化槽110の各透過部118の外側には、光照射装置180が配置されている。光照射装置180から照射される光の波長は、光触媒Sが触媒作用(光分解作用)を効果的に行なうことに適した波長が望ましい。
A
ここで、光触媒Sと光照射装置180とについて説明する。
光触媒Sは、光を照射することにより触媒作用を示す物質の総称とされている。
光触媒Sとしては、酸化チタン(TiO2)が知られている。一般的には、酸化チタンが吸収する光の波長のピークは380nm以下の紫外領域にあるとされている。よって、光照射装置180もこれに対応し、紫外線を多く含む光源(紫外線ランプ)が望ましい。
Here, the photocatalyst S and the
The photocatalyst S is a generic name for substances that show catalytic action when irradiated with light.
As the photocatalyst S, titanium oxide (TiO2) is known. Generally, the peak of the wavelength of light absorbed by titanium oxide is said to be in the ultraviolet region of 380 nm or less. Therefore, the
なお、紫外線だけでなく、400nm〜600nmの可視光で作用する光触媒Sが開発されている。よって、このような可視光で触媒作用する光触媒Sの場合は、光照射装置180の光源として、通常の白熱球、蛍光灯、及びLEDなどを用いることができる。
Note that a photocatalyst S that works with not only ultraviolet rays but also visible light of 400 nm to 600 nm has been developed. Therefore, in the case of such a photocatalyst S that catalyzes with visible light, a normal incandescent bulb, a fluorescent lamp, an LED, or the like can be used as the light source of the
つぎに本実施形態の作用及び効果について説明する。
クリーンルーム12内での、半導体や液晶パネル等の電子デバイスの製造は、ガス状の汚染物質が製造工程の製品と化学反応したり物理的に吸着したりすることにより、製品不良の原因となる虞がある。特に、露光工程においては、アンモニアや硫酸などの無機成分と有機成分が光学系のレンズやマスク(回路の原板)の表面に吸着して解像度を劣化させ、配線不良をもたらす虞がある。このため、クリーンルーム12内のガス状の汚染物質を除去し、空気を浄化する必要がある。
Next, the operation and effect of this embodiment will be described.
Manufacturing of electronic devices such as semiconductors and liquid crystal panels in the
なお、本実施形態で浄化する具体的な汚染物質(ケミカル物質)は、アンモニア、硫黄酸化物、可塑剤に含まれるフタル酸エステルやシール材に含まれるシロキサンなどの有機物質、半導体の製造工程で使用される溶剤(PGMEA: プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)やレジスト材料(TMAH :テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド)、レジスト膜と基板との密着 性を向上させる薬品(HMDS:ヘキサメチルジンラザン)等が上げられる。
また、光触媒Sは汚染物質の有機物を分解し浄化する。なお、本実施形態においては、光触媒Sによって、有機物はウェーハやガラス基板に吸着し難い物質に分解される。
The specific pollutants (chemical substances) to be purified in this embodiment are ammonia, sulfur oxides, organic substances such as phthalates contained in plasticizers and siloxanes contained in sealing materials, and semiconductor manufacturing processes. Solvents used (PGMEA: propylene glycol monomethyl ether acetate), resist materials (TMAH: tetramethylammonium hydroxide), chemicals that improve the adhesion between the resist film and the substrate (HMDS: hexamethylzine lazane), etc. .
In addition, the photocatalyst S decomposes and purifies organic substances as pollutants. In the present embodiment, the organic substance is decomposed by the photocatalyst S into a substance that is difficult to adsorb on the wafer or the glass substrate.
そして、図1に示すように、クリーンルーム12の排出口14から排出された汚染された空気を空気浄化装置100に送り、空気浄化装置100によって浄化された空気がクリーンルーム12の吹出口16から吹き出される。
As shown in FIG. 1, the contaminated air discharged from the
クリーンルーム12の排出口14から排出された汚染された空気(浄化対象の空気)は、空気経路22を介して、空気浄化装置100の浄化槽110に設けられた空気噴出部150の気泡流噴射部152から細かい気泡Kとなって噴出する。気泡Kは、浄化槽110の内部に形成された流路130を左右に蛇行しながら下から上に向かって流れる(矢印Tを参照)。
The polluted air (air to be purified) discharged from the
このとき、気泡K(空気中)の汚染物質が水Hに溶解すると共に、光触媒Sによって汚染物質が分解されることによって、浄化される。浄化された気泡Kは空気溜部116に溜まり、空気排出部160から排出される。
At this time, the contaminants in the bubbles K (in the air) are dissolved in the water H and are purified by being decomposed by the photocatalyst S. The purified air bubbles K are accumulated in the
気泡Kは、矢印Tで示すように、流路130を左右に蛇行しながら下から上に向かって流れる。よって、気泡Kが左右に蛇行しない構成と比較し、光触媒Sが分散した水Hと気泡Kが接触する接触時間が長くなり、その結果、空気浄化性能が向上する。
As indicated by an arrow T, the bubble K flows from the bottom to the top while meandering the
更に、光触媒Sが分散した水Hは、矢印Yで示すように、流路130を上方から下方に流れている。つまり、光触媒Sが分散した水Hと気泡Kとが対向して流れている。これにより、光触媒Sが分散した水Hと気泡Kとが接触する接触時間が長くなり、光触媒Sによる汚染物質の分解作用が促進され、その結果、空気浄化性能が向上する。
Furthermore, as shown by the arrow Y, the water H in which the photocatalyst S is dispersed flows from the upper side to the lower side in the
また、光触媒Sは浄化槽110の底部114に徐々に沈殿する。しかし、底部114に沈殿した光触媒Sが分散した水Hは、回収部170から回収され、循環経路176を介して、供給部172から流路130の上流端に供給される。
Further, the photocatalyst S gradually settles at the bottom 114 of the
よって、光触媒Sが浄化槽110の底部114に沈殿することによる空気浄化性能の低下が防止される。
Therefore, the deterioration of the air purification performance due to the precipitation of the photocatalyst S on the
また、流路130を構成する底面、すなわち隔壁120の上面120Uは折返部位130Aに向かって下り勾配となった傾斜面とされている。別の言い方をすると、水流Y方向に向かって下り勾配となった傾斜面とされている。
Further, the bottom surface constituting the
よって、流路130に沿って上方から下方に移動した光触媒Sが、浄化槽110の底部114に流れ回収部170から回収される。したがって、光触媒Sが流路130の底面(隔壁120の上面120U)に沈殿することによる空気浄化性能の低下が防止される。
Therefore, the photocatalyst S that has moved downward from above along the
更に、光触媒Sが分散した水Hは、循環経路176を介して循環するので、光触媒Sが分散した水Hが循環しないで新たに供給する構成と比較し、コストが低減する。
Furthermore, since the water H in which the photocatalyst S is dispersed circulates through the
また、流路130を構成する隔壁120の上端部120Aと浄化槽110の槽壁110A,110Bとの接合部位又は接合部位近傍に溜まった気泡Kは、貫通孔122から気泡Kが抜ける。よって、気泡Kの長時間の滞留が防止される。
Further, the bubbles K accumulated at or near the joining portion between the
また、光照射装置180は浄化槽110の外側に配置され、浄化槽110の槽壁110A,110Bの透過部118から光を照射する。
The
例えば、浄化槽の内部に光照射装置が配置されている構成の場合、光照射装置の耐水性能を確保する必要があり、高コストとなる。よって、本実施形態のように浄化槽110の外側に光照射装置180を配置する構成とることで、浄化槽110の内部に光照射装置が配置されている構成と比較し、光照射装置180を低コストで設置することができる。
For example, in the case where the light irradiation device is arranged inside the septic tank, it is necessary to ensure the water resistance of the light irradiation device, resulting in high cost. Therefore, the configuration in which the
また、各隔壁120の折返部位130Aにそれぞれ透過部118が設けられているので、流路130に全体に亘って光が照射される。
In addition, since the
なお、光照射装置180は、浄化槽110の中に配置されていてもよい。例えば、光照射装置180を天井部112に設けてもよい。この場合、光が底部114まで届くように、隔壁120を透明な部材で構成することが望ましい。或いは、光照射装置180を高い防水性能を有する構成とし、各隔壁120に設けてもよい。
In addition, the
なお、浄化槽110の内部に光照射装置180を設ける構成の場合、光源として紫外線を用いる場合であっても、紫外線が浄化槽110の外に漏れないので好適である。
Note that the structure in which the
「変形例」
つぎに、本実施形態の変形例について説明する。
上記実施形態では、浄化槽110の底部114から回収した光触媒Sが分散した水Hを、全て循環させる構成であったがこれに限定されない。
"Modification"
Next, a modification of this embodiment will be described.
In the above embodiment, the water H in which the photocatalyst S collected from the
「第一変形例」
例えば、図2に示す第一変形例のクリーンルーム装置51のように、回収された水Hの一部を廃棄経路178から廃棄して残りを循環させると共に、供給経路179から新しい水で希釈して供給するようにしてもよい。
"First variation"
For example, like the
「第二変形例」
或いは、図3に示す第二変形例のクリーンルーム装置52のように、回収された水Hを全て廃棄経路178から廃棄し、新しい水Hのみを供給してもよい。
"Second modification"
Alternatively, like the
「第三変形例」
或いは、図4に示す第三変形例のクリーンルーム装置53のように、回収した水Hをろ過装置171で光触媒Sをろ過し、矢印Xで示すように、光触媒Sを新たに水に分散させて供給してもよい。
なお、この場合、光触媒をろ過した後に、図2に示す第一変形例のクリーンルーム装置51のように、ろ過後の水Hの一部を廃棄経路178から廃棄して残りを循環させると共に、供給経路179から新しい水で希釈して供給するようにしてもよい。
`` Third modification ''
Alternatively, as in the
In this case, after filtering the photocatalyst, a part of the filtered water H is discarded from the
また、上記実施形態では、クリーンルーム12の排出口14から排出された汚染された空気を空気浄化装置100に送り、空気浄化装置100によって浄化された空気がクリーンルーム12の吹出口16から吹き出されている。つまり、空気が循環する構成であったがこれに限定されない。
Moreover, in the said embodiment, the contaminated air discharged | emitted from the
「第四変形例」
例えば、図5に示す第四変形例のクリーンルーム装置54のように、空気浄化装置100によって浄化された空気を外気に排出する構成であってもよい。この場合、クリーンルーム12の吹出口16から吹き出す空気は、本発明が適用されていない浄化装置210やフィルター(図示略)を介して取り込まれる。
`` Fourth modification ''
For example, like the
「第五変形例」
また、図6に示す第五変形例のクリーンルーム装置55のように、空気浄化装置100は外気を取り込んで浄化し、浄化された空気がクリーンルーム12の吹出口16から吹き出される構成であってもよい。この場合、クリーンルーム12の排出口14から排出された汚染された空気は、本発明が適用されていない浄化装置212やフィルター(図示略)などを介して外気に排出される。
`` Fifth modification ''
Further, like the
「第六変形例」
また、図示は省略するが、クリーンルーム12の中に、空気浄化装置100を配置してもよい。
"Sixth Modification"
Although not shown, the
<第二実施形態>
つぎに、本発明の第三実施形態のクリーンルーム装置について、図7を用いて説明する。なお、第一実施形態と同一の部材には、同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
<Second embodiment>
Next, a clean room apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member same as 1st embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
図7に示すように、第二実施形態のクリーンルーム装置62における空気浄化装置200の隔壁220は、導光板で構成されている。導光板とは、アクリル等の樹脂製の板の表面に特殊な加工をほどこして、端面より導入した光を面発光させる板とされている。
As shown in FIG. 7, the
隔壁220の上端部220Aは、浄化槽110の外側に突出されている。光照射装置280は、突出した隔壁220の端部220Aに光を照射するように構成されている。
An
つぎに本実施形態の作用及び効果について説明する。
光照射装置280によって隔壁(導光板)220の上端部220Aに光が照射される。隔壁220の中を光が側面(界面)に全反射しながら進む。そして、反射ドットに光が当たって向きを変え、全反射角より小さくなった成分の光が隔壁220の表面に出てくることで、隔壁220が面発光する。
Next, the operation and effect of this embodiment will be described.
Light is irradiated to the
このように、隔壁220が面発光することで、流路130全体により均一に光が照射される。よって、光触媒Sの分解性能が向上する。つまり、空気浄化性能が向上する。
As described above, the
<第三実施形態>
つぎに、本発明の第三実施形態のクリーンルーム装置について、図8を用いて説明する。なお、第一実施形態及び第二実施形態と同一の部材には、同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
<Third embodiment>
Next, a clean room apparatus according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member same as 1st embodiment and 2nd embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
図8に示すように、第三実施形態のクリーンルーム装置63における浄化槽110の中には、正面視において、斜めに配置された複数の板状の隔壁320によって、流路130が形成されている。
As shown in FIG. 8, the
正面視において、複数の隔壁320は上下方向に並んで配置されると共に、隔壁320の下端部320Bが、浄化槽110の槽壁110Aと槽壁110Bとに交互に接合されている。言い換えると、正面視において、板状の隔壁320が浄化槽110の槽壁110A,110Bから左右、互い違いに(交互)に張り出している。
In the front view, the plurality of
各隔壁320は、張り出し方向に向かって上り勾配となるように配置されている。別の言い方をすると、上端部120A側が上り勾配となるように設けられている。また、各隔壁120は、上り勾配方向の傾斜方向が交互に逆方向となって配置されている。
Each
よって、流路130は、正面視において、左右に蛇行した構成とされている。別の言い方をすると、流路130は、正面視おいて、左右に複数回折れ曲がったジグザク(Zigzag)形状となるように構成されている。
Therefore, the
流路130の天井面、すなわち各隔壁320の下面320Uは、折返部位130Aに向かって上り勾配となる傾斜面とされている。別の言い方をすると、気泡Kの移動方向Tに向かって上り勾配となる傾斜面とされている。
The ceiling surface of the
なお、各隔壁320の上端部320Aと浄化槽110の槽壁110A、110Bとの接合部位(又は接合部位近傍)に、上下方向に貫通する貫通孔123が形成されている。
In addition, a through-
つぎに本実施形態の作用及び効果について説明する。
流路130の天井面、すなわち隔壁320の下面320Uは、折返部位130Aに向かって上り勾配となる傾斜面とされている。つまり、気泡Kの移動方向Tに向かって上り勾配となる傾斜面とされている。よって、気泡Kが流路130の天井面に溜まることなく、流路130を移動する。
Next, the operation and effect of this embodiment will be described.
The ceiling surface of the
なお、流路130を構成する隔壁320の上端部320Aと浄化槽110の槽壁110A,110Bとの接合部位近傍に溜まる光触媒Sが貫通孔123から落ちる。そして、最終的に、光触媒Sが底部114の回収部170から回収される。よって、流路130を構成する隔壁320の上端部320Aと浄化槽110の槽壁110A,110Bとの接合部位近傍溜に光触媒Sが溜まることによる空気浄化性能の低下が防止される。
Note that the photocatalyst S that accumulates in the vicinity of the joining portion between the
<第四実施形態>
つぎに、本発明の第四実施形態のクリーンルーム装置について、図9を用いて説明する。なお、第一実施形態〜第三実施形態と同一の部材には、同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
<Fourth embodiment>
Next, a clean room apparatus according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member same as 1st embodiment-3rd embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted.
図9に示すように、第四実施形態のクリーンルーム装置64における空気浄化装置400では、図1に示す隔壁120の上端部120Aが浄化槽110の槽壁110A,110Bに接合され、且つ図8に示す隔壁320の下端部320Bが浄化槽110の槽壁110A,110Bに接合されている。そして、隔壁320の上端部320Aと隔壁120の下端部120Bとが接合されている。よって、隔壁320と隔壁120とで、正面視において、上端部320Aと下端部120Bの接合部位の頂点側が水平方向(張り出し方向)に向いた略二等辺三角形が形成されている。
As shown in FIG. 9, in the
なお、本実施形態においては、貫通孔122(図1参照)及び貫通孔123(図8)は、形成されていない。 In the present embodiment, the through hole 122 (see FIG. 1) and the through hole 123 (FIG. 8) are not formed.
つぎに本実施形態の作用及び効果について説明する。
流路130を構成する底面、すなわち隔壁120の上面120Uは折返部位130Aに向かって下り勾配となった傾斜面とされている。別の言い方をすると、水流Y方向に向かって下り勾配となった傾斜面とされている。
Next, the operation and effect of this embodiment will be described.
The bottom surface constituting the
よって、流路130に沿って上方から下方に移動した光触媒Sが浄化槽110の底部114に流れ回収部170から回収される。したがって、光触媒Sが流路130を構成する底面に沈殿することによる空気浄化性能の低下が防止される。
Accordingly, the photocatalyst S that has moved downward from above along the
また、流路130の天井面、すなわち隔壁320の下面320Uは、折返部位130Aに向かって上り勾配となる傾斜面とされている。つまり、気泡Kの移動方向に向かって上り勾配となる傾斜面とされている。よって、気泡Kが流路130の天井面に溜まることなく、流路130を移動する。
Moreover, the ceiling surface of the
したがって、空気浄化性能が、更に向上する。 Therefore, the air purification performance is further improved.
<第五実施形態>
つぎに、本発明の第五実施形態のクリーンルーム装置について、図10を用いて説明する。なお、第一実施形態〜第四実施形態と同一の部材には、同一の符号を付し、重複する説明は省略する。なお、クリーンルーム装置の全体の図示は省略さている。
<Fifth embodiment>
Next, a clean room apparatus according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the member same as 1st embodiment-4th embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted. In addition, illustration of the whole clean room apparatus is abbreviate | omitted.
図10に示すように、第五実施形態のクリーンルーム装置の空気浄化装置500の浄化槽410は、円筒形とされ、円の中心部に柱508が設けられている。この柱508の周りに螺旋状の隔壁520が形成されている。隔壁520の端部520Aは浄化槽510の槽壁(周壁)510Aに接合されている。よって、隔壁520によって、螺旋形状の流路430が形成されている。
As shown in FIG. 10, the purification tank 410 of the
浄化槽510の下部における流路530の流末には、空気噴出部150が設けられている。浄化槽510の天井部512には、空気を排出する空気排出部160が設けられている。
An
よって、気泡K(図1参照)が螺旋形の流路530を下方から下から上に向かって移動する。また、光触媒Sが分散した水H(図1参照)が流路530を上方から下方に流れる水流が発生する。
Therefore, the bubble K (see FIG. 1) moves through the
なお、これ以外の構成は、第一実施形態と同様であるので、説明は省略する。
例えば、浄化槽510の底部には、回収部が設けれ、上部には供給部が設けられている。また槽壁510Aには透明部が設けられ、透明部の外側に光照射装置が配置されている。
Since the other configuration is the same as that of the first embodiment, the description thereof is omitted.
For example, a recovery unit is provided at the bottom of the
つぎに本実施形態の作用及び効果について説明する。
流路530は、螺旋形状とされ、気泡Kは、平面視において柱508を中心に円運動し、正面視においては左右に蛇行しながら上方に移動する。よって、光触媒Sが分散した水Hと気泡Kとが接触する接触時間が更に長くなり、その結果、空気浄化性能が更に向上する。
Next, the operation and effect of this embodiment will be described.
The
また、流路530に沿って上方から下方に移動した光触媒Sが、浄化槽510の底部に流れ回収部から回収される。よって、光触媒Sが流路530の底面、すなわち隔壁520の上面に沈殿することによる空気浄化性能の低下が防止される。
In addition, the photocatalyst S that has moved downward from above along the
また、流路530の天井面、すなわち隔壁520の下面は、気泡Kの移動方向に向かって上り勾配となる傾斜面とされているので、気泡Kが流路530の天井面に溜まることなく、流路530を移動する。
Further, since the ceiling surface of the
尚、本発明は上記実施形態に限定されない。本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる態様で実施し得ることは言うまでもない The present invention is not limited to the above embodiment. Needless to say, the present invention can be implemented in various modes without departing from the scope of the present invention.
例えば、上記実施形態では、空気浄化装置は、クリーンルームに適用したがこれに限定されない。クリーンルーム以外の適用例としては、例えば、工場や実験施設から汚染された空気を浄化して排出する目的で使用することがきる。また、排気ガスの浄化にも使用することができる。 For example, in the said embodiment, although the air purifying apparatus was applied to the clean room, it is not limited to this. As an application example other than a clean room, for example, it can be used for the purpose of purifying and discharging contaminated air from a factory or experimental facility. It can also be used for exhaust gas purification.
10 クリーンルーム装置
12 クリーンルーム
14 排気口
16 吹出口
51 クリーンルーム装置
52 クリーンルーム装置
53 クリーンルーム装置
54 クリーンルーム装置
55 クリーンルーム装置
62 クリーンルーム装置
63 クリーンルーム装置
64 クリーンルーム装置
100 空気浄化装置
110 浄化槽
110A 槽壁
110B 槽壁
118 透過部
120 隔壁(板材)
122 貫通孔
123 貫通孔
130 流路
150 空気噴出部
160 空気排出部
170 回収部(回収手段、水流発生手段)
172 供給部(供給手段、水流発生手段)
174 ポンプ(供給手段、水流発生手段)
176 循環経路(供給手段、水流発生手段)
180 光照射装置(光照射手段)
200 空気浄化装置
220 隔壁(板材)
280 光照射装置(光照射手段)
300 空気浄化装置
320 隔壁(板材)
400 空気浄化装置
500 空気浄化装置
510 浄化槽
530 流路
S 光触媒
H 水
HA 水面
K 気泡
DESCRIPTION OF
122 Through-
172 Supply section (supply means, water flow generation means)
174 Pump (supplying means, water flow generating means)
176 Circulation path (supply means, water flow generation means)
180 Light irradiation device (light irradiation means)
200
280 Light irradiation device (light irradiation means)
300
400
S photocatalyst
H water
HA Water surface
K bubble
Claims (5)
前記光触媒に光を照射する光照射手段と、
前記浄化槽の下部に設けられ、貯留された水の中に浄化対象の空気を噴出する空気噴出部と、
前記浄化槽の内部に形成され、前記空気噴出部から噴出された空気の気泡が、正面視において左右に蛇行しながら下から上に向かって移動するように形成された流路と、
前記浄化槽の水面よりも上側に設けられ、前記空気流路を通過した空気を排出する空気排出部と、
を備える空気浄化装置。 A septic tank in which water in which a photocatalyst is dispersed is stored;
A light irradiation means for irradiating the photocatalyst with light;
An air ejection part provided at a lower part of the septic tank, and ejects air to be purified into the stored water;
A flow path formed inside the septic tank and formed so that air bubbles ejected from the air ejection section move from bottom to top while meandering left and right in a front view;
An air discharge unit that is provided above the water surface of the septic tank and discharges air that has passed through the air flow path;
An air purification apparatus comprising:
請求項1に記載の空気浄化装置。 Recovery means for recovering the water in which the photocatalyst is dispersed from the bottom of the septic tank; and supply means for supplying a part or all of the water in which the photocatalyst recovered by the recovery means is dispersed to the septic tank, Water flow generating means for generating a water flow so that the water in which the photocatalyst is dispersed flows from above to below the flow path,
The air purifier according to claim 1.
前記板材は、張り出し方向に向かって下り勾配となるように配置され、
前記板材の前記槽壁の近傍には、上下方向に貫通する貫通孔が形成されている、
請求項1又は請求項2に記載の空気浄化装置。 The flow path is configured by a plate material that alternately protrudes left and right from the tank wall of the septic tank in front view,
The plate material is arranged to have a downward slope toward the overhang direction,
In the vicinity of the tank wall of the plate material, a through-hole penetrating in the vertical direction is formed,
The air purification apparatus according to claim 1 or 2.
前記隔壁は、張り出し方向に向かって上り勾配となるように配置され、
前記板材の前記槽壁の近傍には、上下方向に貫通する貫通孔が形成されている、
請求項1又は請求項2に記載の空気浄化装置。 The flow path is configured by a plate material that alternately protrudes left and right from the tank wall of the septic tank in front view,
The partition wall is arranged to have an upward slope toward the overhanging direction,
In the vicinity of the tank wall of the plate material, a through-hole penetrating in the vertical direction is formed,
The air purification apparatus according to claim 1 or 2.
前記光照射手段は、前記浄化槽の外側に配置され、前記透過部から前記流路に光を照射する、
請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の空気浄化装置。 The tank wall of the septic tank is provided with a transmission part through which light passes,
The light irradiation means is disposed outside the septic tank, and irradiates light from the transmission part to the flow path.
The air purification apparatus of any one of Claims 1-4.
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JP (1) | JP2011167594A (en) |
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2010
- 2010-02-16 JP JP2010031423A patent/JP2011167594A/en active Pending
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