JP2011157334A - 雑草の防除方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】
本発明は、ダイズ畑又はワタ畑の雑草を防除する方法を提供すること。
【解決手段】
ダイズ畑又はワタ畑の雑草の防除方法であって、
イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンからなる群より選ばれる1以上の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物と、フルミオキサジンとの有効量を、ダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する工程を有するダイズ畑又はワタ畑の雑草の防除方法により、ダイズ畑又はワタ畑(遺伝子組み換えダイズの畑又は遺伝子組み換えワタの畑も含まれる)の雑草を効果的に防除することができる。
【選択図】なし

Description

本発明は、ダイズ畑又はワタ畑の雑草の防除方法に関する。
除草剤の有効成分をして多くの化合物が知られている。
US4,640,707
Crop Protection Handbook 2008,Meister Publishing Company,ISBN:1-892829-20-7 The Pesticide Manual Fourteenth Edition(2006),British Crop Council,ISBN:1-901396-14-2 Herbicide Handbook Eighth Edition(2002),Weed Science Society of America,ISBN:1-891276-33-6
本発明は、ダイズ畑又はワタ畑の雑草を防除する方法を提供するものである。
本発明は、ダイズ畑又はワタ畑において、イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンからなる群より選ばれる1以上の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物と、フルミオキサジンとを処理することによって、ダイズ畑又はワタ畑の雑草を効果的に防除できるというものである。
本発明は、以下のものである。
〔1〕 ダイズ畑又はワタ畑の雑草の防除方法であって、
イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンからなる群より選ばれる1以上の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物と、フルミオキサジンとの有効量を、ダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する工程を有するダイズ畑又はワタ畑の雑草の防除方法。
〔2〕 イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンからなる群より選ばれる1以上の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物と、フルミオキサジンとの処理量の重量比が、1:0.025〜1:1200である、〔1〕記載の雑草の防除方法。
〔3〕 イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンからなる群より選ばれる1以上の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物と、フルミオキサジンとの処理量の重量比が、1:0.01〜1:300である、〔1〕記載の雑草の防除方法。
〔4〕 イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンからなる群より選ばれる1以上の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物と、フルミオキサジンとの処理量の重量比が、1:0.08〜1:40である、〔1〕記載の雑草の防除方法。
〔5〕 ダイズ畑のダイズ又はワタ畑のワタが、遺伝子組み換えダイズ又は遺伝子組み換えワタである〔1〕〜〔4〕いずれか1項記載の雑草の防除方法。
〔6〕 ダイズ畑のダイズ又はワタ畑のワタが、除草剤抵抗性遺伝子組み換えダイズ又は除草剤抵抗性遺伝子組み換えワタである〔1〕〜〔4〕いずれか1項記載の雑草の防除方法。
〔7〕 ダイズ畑のダイズ又はワタ畑のワタが、4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤抵抗性遺伝子組み換えダイズ又は4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤遺伝子組み換えワタである〔1〕〜〔4〕いずれか1項記載の雑草の防除方法。
〔8〕 ダイズ畑のダイズ又はワタ畑のワタが、
4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤に対して抵抗性を示す4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼをコードする遺伝子、4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤により4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼが阻害されてもホモゲンチジン酸を合成できる酵素をコードする遺伝子、4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼを過剰発現させる遺伝子、及び、プレフェナートデヒドロゲナーゼをコードする遺伝子
からなる群より選ばれる1以上の遺伝子を有するワタ又はダイズである〔1〕〜〔4〕いずれか1項記載の雑草の防除方法。
〔9〕 ピラスルホトールとフルミオキサジンとからなる除草用組成物。
〔10〕 テンボトリオンとフルミオキサジンとからなる除草剤組成物。
本発明によりダイズ畑又はワタ畑の雑草を効果的に防除することができる。
本発明の雑草の防除方法は、イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンからなる群より選ばれる1以上の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物(以下、本HPPD阻害活性化合物と記す。)と、フルミオキサジンとの有効量を、ダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する工程を有するものである。
本発明に用いられる、
イソキサフルトールは、化学名が(5−シクロプロピル−1,2−オキサゾール−4−イル)(α,α,α−トリフルオロ−2−メシル−p−トリル)メタノンの化合物であり、
メソトリオンは、化学名が2−(4−メシル−2−ニトロベンゾイル)シクロヘキサン−1,3−ジオンの化合物であり、
スルコトリオンは、化学名が2−(2−クロロ−4−メシルベンゾイル)シクロヘキサン−1,3−ジオンの化合物であり、
トプラメゾンは、化学名が[3−(4,5−ジヒドロ−1,2−オキサゾール−3−イル) −4−メシル−o−トリル](5−ヒドロキシ−1−メチルピラゾール−4−イル)メタノンの化合物であり、
ピラスルホトールは、化学名が(5−ヒドロキシ−1,3−ジメチルピラゾール−4−イル)(α,α,α−トリフルオロ−2−メシル−p−トリル)メタノンの化合物であり、
テンボトリオンは、化学名が2−{2−クロロ−4−メシル−3−[(2,2,2−トリフルオロエトキシ)メチル]ベンゾイル}シクロヘキサン−1,3−ジオンの化合物であり、
ビシクロピロンは、化学名が4−ヒドロキシ−3−{2−[(2−メトキシエトキシ)メチル]−6−(トリフルオロメチル)−3−ピリジルカルボニル}ビシクロ[3.2.1]オクト−3−エン−2−オンの化合物である。
イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンは、非特許文献1、2、3、Compendium of Pesticide Common Names(http://www.alanwood.net/pesticides/)、及び/又は、WO/2001/094339に記載される化合物で、公知の製造法により製造することができ、また、市販品を購入することもできる。
本発明に用いられる、イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンは、いずれも4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物であり、p−ヒドロキシフェニルピルビン酸をホモゲンチジン酸に変換する反応を触媒する4-ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ(EC 1.13.11.27)を阻害することで、間接的にカロテノイドの生合成を阻害し、その結果として植物を枯死に至らしめる。かかる作用機作はよく知られており、例えば、 Kenneth E.Paletta (2000) The mode of action of Isoxaflutole: a case study of an emerging target site. Herbicides and their Mechanisms of Action, 215-238 CRC Press, ISBN: 1-84127−109-8に記載されている。
本発明に用いられるフルミオキサジンは、化学名がN−(7−フルオロ−3,4−ジヒドロ−3−オキソ−4−プロプ−2−イニル−2H−1,4−ベンズオキサジン−6−イル)シクロへキス−1−エン−1,2−ジカルボキサミドの化合物である。フルミオキサジンは、US4,640,707等に記載された化合物で、該公報に記載された方法で製造することができる。
本発明の雑草の防除方法において、本HPPD阻害活性化合物とフルミオキサジンとの処理量の重量比は、通常1:0.025〜1:1200であり、好ましくは1:0.01〜1:300であり、さらに好ましくは1:0.08〜1:40である。
本発明の雑草の防除方法において、本HPPD阻害活性化合物とフルミオキサジンとの処理量は、ダイズ畑又はワタ畑10000m2あたり、本HPPD阻害活性化合物とフルミオキサジンとの合計量で、通常15〜1000g、好ましくは30〜500gである。
本発明の雑草の防除方法では、本HPPD阻害活性化合物とフルミオキサジンとは混用又は併用される。
本発明の除草方法において、本HPPD阻害活性化合物とフルミオキサジンとを、ダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。
本HPPD阻害活性化合物の製剤と、フルミオキサジンの製剤とを、それぞれ水で希釈して、それぞれの水希釈液を混合し、混合した水希釈液をダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
本HPPD阻害活性化合物の製剤と、フルミオキサジンの製剤とを、それぞれ水で希釈して、それぞれの水希釈液を順次、ダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
本HPPD阻害活性化合物の製剤と、フルミオキサジンの製剤とを混合し、この混合物を水で希釈して、その水希釈液をダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
本HPPD阻害活性化合物の製剤と、フルミオキサジンの製剤とを、順次、ダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
イソキサフルトールと、フルミオキサジンの製剤とを、それぞれ水で希釈して、それぞれの水希釈液を混合し、混合した水希釈液をダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
イソキサフルトールの製剤と、フルミオキサジンの製剤とを、それぞれ水で希釈して、それぞれの水希釈液を順次、ダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
イソキサフルトールの製剤と、フルミオキサジンの製剤とを混合し、この混合物を水で希釈して、その水希釈液をダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
イソキサフルトールの製剤と、フルミオキサジンの製剤とを、順次、ダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
メソトリオンと、フルミオキサジンの製剤とを、それぞれ水で希釈して、それぞれの水希釈液を混合し、混合した水希釈液をダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
メソトリオンの製剤と、フルミオキサジンの製剤とを、それぞれ水で希釈して、それぞれの水希釈液を順次、ダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
メソトリオンの製剤と、フルミオキサジンの製剤とを混合し、この混合物を水で希釈して、その水希釈液をダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
メソトリオンの製剤と、フルミオキサジンの製剤とを、順次、ダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する方法;
本発明の雑草の防除方法では、本HPPD阻害活性化合物とフルミオキサジンとは雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理される。雑草への処理としては、雑草そのものへの処理及び雑草が発生した後の土壌への処理が挙げられる。雑草が発生するであろう場所への処理としては、例えば雑草が発生する前の土壌表面への処理が挙げられる。
本発明の雑草の防除方法では、本HPPD阻害活性化合物とフルミオキサジンとの処理時期としては、例えばダイズ又はワタの播種前、ダイズ又はワタの播種後出芽前、ダイズ又はワタの出芽後が挙げられる。
本発明の雑草の防除方法における本HPPD阻害活性化合物とフルミオキサジンとの処理方法としては、例えば以下の態様が挙げられる。
ダイズ又はワタの播種前、かつ雑草発生前に土壌表面に散布する方法;
ダイズ又はワタの播種前、かつ雑草発生後に土壌表面に散布する方法;
ダイズ又はワタの播種前、かつ雑草発生後に雑草に散布する方法;
ダイズ又はワタの播種後でダイズ又はワタの出芽前、かつ雑草発生前に土壌表面に散布する方法;
ダイズ又はワタの播種後でダイズ又はワタの出芽前、かつ雑草発生後に土壌表面に散布する方法;
ダイズ又はワタの播種後でダイズ又はワタの出芽前、かつ雑草発生後に雑草に散布する方法;
ダイズ又はワタの出芽後、かつ雑草の出芽前に土壌表面に散布する方法;
ダイズ又はワタの出芽後、かつ雑草の出芽後に土壌表面に散布する方法;及び
又はダイズ又はワタの出芽後、かつ雑草の出芽後に雑草に散布する方法。
本発明の雑草防除方法では、ダイズ畑のダイズ又はワタ畑のワタが、遺伝子組み換えダイズ又は遺伝子組み換えワタであってもよい。
かかる遺伝子組み換えダイズ及び遺伝子組み換えワタとしては、例えばイソキサフルトール等の4-ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ(以後HPPDと略する)阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のアセト乳酸合成酵素(以後ALSと略する)阻害剤、グリホサート等の5-エノールピルビルシキミ酸-3-リン酸シンターゼ(以後EPSPと略する)阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、2,4-D、ジカンバ等のオーキシン型除草剤、フルミオキサジン、ホメサフェン等のプロトポルフィリノーゲンIX酸化酵素阻害型除草剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が、遺伝子組換え技術により付与されたダイズ又はワタが挙げられる。
遺伝子組み換えダイズ及び遺伝子組み換えワタとして、グリホサート耐性のダイズ及びワタ品種があり、RoundupReady(登録商標)、Agrisure(登録商標)GT、Glytol(登録商標)等の商品名で既に販売されている。遺伝子組み換えダイズ及び遺伝子組み換えワタとして、グルホシネート耐性のダイズ及びワタ品種があり、LibertyLink(登録商標)等の商品名で既に販売されている。遺伝子組み換えワタとしてブロモキシニル耐性のワタ品種がありBXNの商品名で既に販売されている。遺伝子組み換えダイズとして、グリホサート及びALS阻害剤の両方に耐性のダイズの品種があり、Optimum(登録商標)GAT(登録商標)の商品名が公開されている。
アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に対する耐性が付与された植物は、Proc. Natl. Acad. Sci. USA (1990)vol. 87の7175〜7179頁等に記載されている。アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の変異アセチルCoAカルボキシラーゼがWeed Science (2005) Vol. 53の728〜746頁等に報告されており、こうした変異アセチルCoAカルボキシラーゼ遺伝子を遺伝子組換え技術により植物に導入するか若しくは抵抗性付与に関わる変異を植物アセチルCoAカルボキシラーゼに導入する事により、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤に耐性の植物を作出することができる。
キメラプラスティ技術(Gura T. 1999 Repairing The Genome's Spelling Mistakes. Science 285:316〜318)に代表される塩基置換変異導入核酸を植物細胞内に導入して植物のアセチルCoAカルボキシラーゼ遺伝子やALS遺伝子等に部位特異的アミノ酸置換変異を導入することにより、アセチルCoAカルボキシラーゼ阻害剤やALS阻害剤等に耐性の植物を作出することができる。
シュードモナス・マルトフィリア(Pseudomonas maltophilia)より単離されたジカンバモノオキシゲナーゼ(dicamba monooxygenase)を含むジカンバの分解酵素を導入し、ジカンバに耐性のダイズ等の作物を作出することができる(Behrens et al. 2007 Dicamba Resistance: Enlarging and Preserving Biotechnology-Based Weed Management Strategies. Science 316:1185〜1188)。
アリルオキシアルカノエートジオキゲナーゼ(aryloxyalkanoate dioxygenase)をコードする遺伝子を導入し、2,4−D、MCPA、ジクロプロップ、メコプロップのようなフェノキシ酸系除草剤と、キザロホップ、ハロキシホップ、フルアジホップ、ジクロホップ、フェノキサプロップ、メタミホップ、シハロホップ、クロジナホップのようなアリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤の、両方の除草剤系統に対して耐性となる作物を作出することができる(WO2005/107437、WO2007/053482、WO2008/141154)。
HPPD阻害剤に対して抵抗性を示すHPPDをコードする遺伝子を導入し、HPPD阻害剤に耐性の植物を作出することができる(US2004/0058427)。HPPD阻害剤によりHPPDが阻害されても、別の代謝経路でHPPDの生成物であるホモゲンチジン酸を合成できるような遺伝子を導入し、結果としてHPPD阻害剤に対して耐性を示す植物を作出することができる(WO02/036787)。HPPDを過剰に発現させる遺伝子を導入し、HPPD阻害剤の存在下においても、植物の生育に影響が出ないまでの量のHPPDを生産させ、結果としてHPPD阻害剤に対して耐性を示す植物を作出することができる(WO96/38567)。前出のHPPDを過剰に発現させる遺伝子の導入に加え、さらに、HPPDの基質であるp−ヒドロキシフェニルピルビン酸の生成量を増加させるためにプレフェナレートデヒドロゲナーゼをコードする遺伝子を導入し、HPPD阻害剤に対して耐性を示す植物を作出できる(Rippert P et.al. 2004 Engineering plant shikimate pathway for production of tocotrienol and improving herbicide resistance. Plant Physiol. 134:92-100)。
作物を除草剤に対して耐性にする方法として、他にWO98/20144、WO2002/46387、US2005/0246800に記載される遺伝子を導入する方法が挙げられる。
遺伝子組み換えダイズ及び遺伝子組み換えワタとしては、遺伝子組換えにより、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となったダイズ及びワタも含まれる。
この様な遺伝子組み換えダイズ及び遺伝子組み換えワタで発現される毒素として、例えばバチルス・セレウス(Bacillus cereus)やバチルス・ポピリエ(Bacillus popilliae)由来の殺虫性タンパク;バチルス・チューリンゲンシス(Bacillus thuringiensis)由来のCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1又はCry9Cなどのδ−エンドトキシン、VIP1、VIP2、VIP3又はVIP3Aなどの殺虫タンパク;線虫由来の殺虫タンパク;さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素又は昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素;糸状菌類毒素;植物レクチン;アグルチニン;トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤;リシン、トウモロコシ−RIP、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク(RIP);3−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−UDP−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素;エクダイソン阻害剤;HMG-CoAリダクターゼ;ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤;幼若ホルモンエステラーゼ;利尿ホルモン受容体;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ等が挙げられる。
また、この様な遺伝子組み換えダイズ及び遺伝子組み換えワタで発現される毒素として、例えばCry1Ab、Cry1Ac、Cry1F、Cry1Fa2、Cry2Ab、Cry3A、Cry3Bb1、 Cry9C、Cry34Ab又はCry35Abなどのδ−エンドトキシンタンパク、VIP1、VIP2、VIP3又はVIP3Aなどの殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素が挙げられる。ハイブリッド毒素は、組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組合せによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したCry1Abが知られている。修飾された毒素は、天然型の毒素のアミノ酸の1つ又は複数が置換されている。これら毒素の例及びこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、EP-A-0 374 753、WO 93/07278、WO 95/34656、EP-A-0 427 529、EP-A-451 878、WO 03/052073等に記載されている。これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
また、1つ若しくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、1つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組み換えダイズ及び遺伝子組み換えワタは既に知られており、いくつかのものは市販されている。遺伝子組み換えダイズ及び遺伝子組み換えワタとしては、例えば、Bollgard I(登録商標)(Cry1Ac毒素を発現するワタ品種)及びBollgard II(登録商標)(Cry1AcとCry2Ab毒素とを発現するワタ品種)、VIPCOT(登録商標)(VIP毒素を発現するワタ品種)が挙げられる。
また、古典的な育種法によりセンチュウやアブラムシに対して耐性を付与した作物が知られており、その例として、アブラムシに対する耐性を付与するRag1(Resistance Aphid Gene 1)遺伝子が導入されたダイズが挙げられる。
遺伝子組み換えダイズ及び遺伝子組み換えワタには、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたダイズ及びワタも含まれる。抗病原性物質の例として、PRタンパク等が知られている(PRPs、EP-A-0 392 225)。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、EP-A-0 392 225、WO 95/33818、EP-A-0 353 191等に記載されている。こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤(ウイルスが産生するKP1、KP4、KP6毒素等が知られている。)等のイオンチャネル阻害剤;スチルベンシンターゼ;ビベンジルシンターゼ;キチナーゼ;グルカナーゼ;PRタンパク;ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子(植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、WO 03/000906に記載されている。)等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。
上記の植物には、遺伝子組換え技術を用いて、油糧成分物質やアミノ酸含有増強形質などの有用形質を付与した植物も含まれる。かかる植物としては、例えばVISTIVE(登録商標)(リノレン含有量を低減させた低リノレン大豆)が挙げられる。
さらに、上記の古典的な除草剤形質又は除草剤耐性遺伝子、害虫抵抗性遺伝子、抗病原性物質産生遺伝子、油糧成分改質やアミノ酸含有増強形質などの有用物質について、これらを複数組み合わせたスタック品種も含まれる。
本発明の雑草の防除方法によれば、ダイズ畑又はワタ畑の雑草を効果的に防除できる。
本発明の雑草の防除方法により防除可能な雑草としては、例えば以下のものを挙げることができる。
タデ科雑草:ソバカズラ(Polygonum convolvulus)、サナエタデ(Polygonum lapathifolium)、アメリカサナエタデ(Polygonum pensylvanicum)、ハルタデ(Polygonum persicaria)、イヌタデ(Polygonum longisetum)、ミチヤナギ(Polygonum aviculare)、ハイミチヤナギ(Polygonum arenastrum)、イタドリ(Polygonum cuspidatum)、ギシギシ(Rumex japonicus)、ナガバギシギシ(Rumex crispus)、エゾノギシギシ(Rumex obtusifolius)、スイバ(Rumex acetosa)
スベリヒユ科雑草:スベリヒユ(Portulaca oleracea)
ナデシコ科雑草:ハコベ(Stellaria media)、ミミナグサ(Cerastium holosteoides)、オランダミミナグサ(Cerastium glomeratum)、オオツメクサ(Spergula arvensis)
アカザ科雑草:シロザ(Chenopodium album)、ホウキギ(Kochia scoparia)、ノハラヒジキ(Salsola kali)、アトリプレックス属(Atriplex spp.)
ヒユ科雑草:アオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)、アオビユ(Amaranthus viridis)、イヌビユ(Amaranthus lividus)、ハリビユ(Amaranthus spinosus)、ホナガアオゲイトウ(Amaranthus hybridus)、オオホナガアオゲイトウ(Amaranthus palmeri)、タリホノアオゲイトウ(Amaranthus rudis)、ホソアオゲイトウ(Amaranthus patulus)、トールウォーターヘンプ(Amaranthus tuberculatos)、アメリカビユ(Amaranthus blitoides)、ナガエツルノゲイトウ(Alternanthera philoxeroides)、ツルゲイトウ(Alternanthera sessilis)
ケシ科雑草:ヒナゲシ(Papaver rhoeas)
アブラナ科雑草:セイヨウノダイコン(Raphanus raphanistrum)、ノハラガラシ(Sinapis arvensis)、ナズナ(Capsella bursa-pastoris)、セイヨウカラシナ(Brassica juncea)、ヒメクジラグサ(Descurainia pinnata)、スカシタゴボウ(Rorippa islandica)、キレハイヌガラシ(Rorippa sylvestris)、グンバイナズナ(Thlaspi arvense)
マメ科雑草:クサネム(Aeschynomene indica)、アメリカツノクサネム(Sesbania exaltata)、エビスグサ(Cassia obtusifolia)、ハブソウ(Cassia occidentalis)、ジュズハギ(Desmodium tortuosum)、シロツメクサ(Trifolium repens)、クズ(Pueraria lobata)、カラスノエンドウ(Vicia angustifolia)
カタバミ科:カタバミ(Oxalis corniculata),オッタチカタバミ(Oxalis strica) フウロソウ科雑草:アメリカフウロ(Geranium carolinense)、オランダフウロ(Erodium cicutarium)
トウダイグサ科雑草:トウダイグサ(Euphorbia helioscopia)、オオニシキソウ(Euphorbia maculata)、コニシキソウ(Euphorbia humistrata)、ハギクソウ(Euphorbia esula)、ショウジョウソウ(Euphorbia heterophylla)、エノキグサ(Acalypha australis)
アオイ科雑草:イチビ(Abutilon theophrasti)、アメリカキンゴジカ(Sida spinosa)、ギンセンカ(Hibiscus trionum)
スミレ科雑草:フィ−ルドパンジー(Viola arvensis)、ワイルドパンジー(Viola tricolor)
ウリ科雑草:アレチウリ(Sicyos angulatus)、ワイルドキューカンバー(Echinocystis lobata)
ミソハギ科雑草:エゾミソハギ(Lythrum salicaria)
セリ科雑草:チドメグサ(Hydrocotyle sibthorpioides)
ガガイモ科雑草:オオトウワタ(Asclepias syriaca)、ハニーヴァインミルクウィード(Ampelamus albidus)
アカネ科雑草:キャッチウィードベッドストロー(Galium aparine)、ヤエムグラ(Galium spurium var. echinospermon)、ヒロハフタバムグラ(Spermacoce latifolia)
ヒルガオ科雑草:アサガオ(Ipomoea nil)、アメリカアサガオ(Ipomoea hederacea)、マルバアサガオ(Ipomoea purpurea)、マルバアメリカアサガオ(Ipomoea hederacea var. integriuscula)、マメアサガオ(Ipomoea lacunosa)、ホシアサガオ(Ipomoea triloba)、マルバルコウ(Ipomoea coccinea)、ルコウソウ(Ipomoea quamoclit)、ヒルガオセイヨウヒルガオ(Convolvulus arvensis)、コヒルガオ(Calystegia hederacea) ムラサキ科雑草:ワスレナグサ(Myosotis arvensis)
シソ科雑草:ヒメオドリコソウ(Lamium purpureum)、ホトケノザ(Lamium amplexicaule)
ナス科雑草:シロバナチョウセンアサガオ(Datura stramonium)、イヌホオズキ(Solanum nigrum)、テリミノイヌホオズキ(Solanum americanum)、アメリカイヌホオズキ(Solanum ptycanthum)、ケイヌホオズキ(Solanum sarrachoides)、トマトダマシ(Solanum rostratum)、キンギンナスビ(Solanum aculeatissimum)、ワルナスビ(Solanum carolinense)、センナリホオズキ(Physalis angulata)、スムーズグランドチェリー(Physalis subglabrata)、オオセンナリ(Nicandra physaloides)
ゴマノハグサ科雑草:フラサバソウ(Veronica hederaefolia)、オオイヌノフグリ(Veronica persica)、タチイヌノフグリ(Veronica arvensis)
オオバコ科:オオバコ(Plantago asiatica)
キク科雑草:オナモミ(Xanthium pensylvanicum)、オオオナモミ(Xanthium occidentale)、野生ヒマワリ(Helianthus annuus)、カミツレ(Matricaria chamomilla)、イヌカミツレ(Matricaria perforata)、コーンマリーゴールド(Chrysanthemum segetum)、オロシャギク(Matricaria matricarioides)、ヨモギ(Artemisia princeps)、セイタカアワダチソウ(Solidago altissima)、セイヨウタンポポ(Taraxacum officinale)、ハキダメギク(Galinsoga ciliata)、ノボロギク(Senecio vulgaris)、アレチノギク(Conyza bonariensis)、ヒメムカシヨモギ(Conyza canadensis)、ブタクサ(Ambrosia artemisiaefolia)、クワモドキ(Ambrosia trifida)、コセンダングサ(Bidens pilosa)、アメリカセンダングサ(Bidens frondosa)、セイヨウトゲアザミ(Cirsium arvense)、アメリカオニアザミ(Cirsium vulgare)、マスクチッスル(Carduus nutans)、トゲチシャ(Lactuca serriola)、オニノゲシ(Sonchus asper)
ユリ科雑草:ワイルドオニオン(Allium canadense)、ワイルドガーリック(Allium vineale)
ツユクサ科雑草:ツユクサ(Commelina communis)、マルバツユクサ(Commelina bengharensis)
イネ科雑草:イヌビエ(Echinochloa crus-galli)、エノコログサ(Setaria viridis)、アキノエノコログサ(Setaria faberi)、キンエノコロ(Setaria glauca)、メヒシバ(Digitaria ciliaris)、ラージクラブグラス(Digitaria sanguinalis)、オヒシバ(Eleusine indica)、スズメノカタビラ(Poa annua)、スズメノテッポウ(Alospecurus aequalis)、ブラックグラス(Alopecurus myosuroides)、カラスムギ(Avena fatua)、セイバンモロコシ(Sorghum halepense)、シャタ−ケ−ン(Sorghum vulgare)、シバムギ(Agropyron repens)、ネズミムギ(Lolium multiflorum)、ホソムギ(Lolium perenne)、ボウムギ(Lolium rigidum)、カラスノチャヒキ(Bromus secalinus)、ウマノチャヒキ(Bromus tectorum)、ホソノゲムギ(Hordeum jubatum)、ヤギムギ(Aegilops cylindrica)、クサヨシ(Phalaris arundinacea)、ヒメカナリークサヨシ(Phalaris minor)、シルキーベントグラス(Apera spica-venti)、オオクサキビ(Panicum dichotomiflorum)、テキサスパニカム(Panicum texanum)、メリケンニクキビ(Brachiaria platyphylla)、シンクリノイガ(Cenchrus echinatus)、ヒメクリノイガ(Cenchrus pauciflorus)、ナルコビエ(Eriochloa villosa)
カヤツリグサ科雑草:カヤツリグサ(Cyperus microiria)、コゴメガヤツリ(Cyperus iria)、ハマスゲ(Cyperus rotundus)、キハマスゲ(Cyperus esculentus)、ヒメクグ(Kyllinga gracillima)
トクサ科雑草:スギナ(Equisetum arvense)、イヌスギナ(Equisetum palustre)等。
本発明の雑草の防除方法では、1種以上の他の農薬を併用することもできる。他の農薬としては、例えば殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物調節剤及び薬害軽減剤が挙げられる。
上記の他の農薬としては、例えば、以下のものが挙げられる。
殺虫剤:フェンチオン(fenthion)、フェニトロチオン(fenitrothion)、ピリミホスメチル(pirimiphos-methyl)、ダイアジノン(diazinon)、キナルホス(quinalphos)、イソキサチオン(isoxathion)、ピリダフェンチオン(Pyridafenthion)、クロルピリホスメチル(chlorpyrifos-methyl)、バミドチオン(vamidothion)、マラチオン(malathion)、フェントエート(phenthoate)、ジメトエート(dimethoate)、ジスルホトン(disulfoton)、モノクロトホス(monocrotophos)、テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、プロパホス(propaphos)、アセフェート(acephate)、トリクロルホン(trichlorphon)、EPN、ピラクロホス(pyraclorfos)、カルバリル(carbaryl)、メトルカルブ(metolcarb)、イソプロカルブ(isoprocarb)、BPMC、プロポキスル(propoxur)、XMC、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、フラチオカルブ(furathiocarb)、メソミル(methomyl)、チオジカルブ(thiodicarb)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、エトフェンプロックス(ethofenprox)、カルタップ(cartap)、ベンスルタップ(bensultap)、チオシクラム(thiocyclam)、ブプロフェジン(buprofezin)、テブフェノジド(tebufenozide)、エチプロール(ethiprole)、ピリダリル(pyridalyl)、クロチアニジン(clothianidin)、ジノテフラン(dinotefuran)、イミダクロプリド(imidacloprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)、アセタミプリド(acetamiprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、及びチアクロプリド(thiacloprid)。
殺ダニ剤:ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、ピリダベン(pyridaben)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、クロルフェナピル(chlorfenapyr)、エトキサゾール(etoxazole)、ピリミジフェン(pyrimidifen)、及びスピロメシフェン(spirodiclofen)。
殺線虫剤:フォスチアゼート(fosthiazate)
殺菌剤:キャプタン(captan)、IBP、EDDP、トルクロフォスメチル(tolc1ofos-methyl、べノミル(benomyl)、カルベンダジム(carbendazim)、チオファネートメチル(thiophanate-methyl)、メプロニル(mepronil)、フルトラニル(flutolanil)、チフルザミド(thifluzamid)、フラメトピル(furametpyr)、テクロフタラム(tec1ofthalam)、ペンシクロン(pencycuron)、カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(diclocymet)、メタラキシル(metalaxyl)、トリフルミゾール(triflumizole)、アザコナゾール(azaconazole)、ブロムコナゾール(bromuconazole)、シプロコナゾール(cyproconazole)、ジクロブトラゾール(diclobutrazol)、ジフェノコナゾール(difenoconazole)、ジニコナゾール(diniconazole)、ジニコナゾール-M(diniconazole-M)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、フェンブコナゾール(fenbuconazole)、フルキンコナゾール(fluquinconazole)、フシラゾール(flusilazole)、フルトリアホール(flutriafol)、フルコナゾール(furconazole)、フルコナゾール-シス(furconazole-cis)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、イミベンコナゾール(imibenconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、メトコナゾール(metconazole)、ミクロブタニル(myclobutanil)、ペンコナゾール(penconazole)、プロピコナゾール(propiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、キンコナゾール(quinconazole)、シメコナゾール(simeconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、テトラコナゾール(tetraconazole)、トリアジメホン(triadimefon)、トリアジメノール(triadimenol)、トリチコナゾール( triticonazole)、ペフラゾエート(pefurazoate)、プログロラズ(prochloraz)、アゾキシストロビン(azoxystrobin)、ジモキシストロビン(dimoxystrobin)、フロキサストロビン(fluoxastrobin)、クレソキシム-メチル(kresoxim-methyl)、メトミノストロビン(metominostrobin)、オリサスロトビン(orysastrobin)、ピコキシスロトビン(picoxystrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、バリダマイシンA(validamycin A)、ブラストサイジンS(blasticidin S)、カスガマイシン(kasugamycin)、ポリオキシン(polyoxin)、フサライド(fthalide)、プロベナゾール(probenazole)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、トリシクラゾール(tricyclazole)、ピロキロン(pyroquilon)、フェリムゾン(ferimzone)、アシベンゾラルSメチル(acibnzolar S-methyl)、ジクロメジン(diclomezine)、オキソリニック酸(oxolinic acid)、フェナジンオキシド(phenazine oxide)、TPN、及びイプロジオン(iprodione)。
除草剤:2,4-D、2,4-DB、MCPA、MCPB、メコクロップ(mecoprop)、メコクロップP(mecoprop-P)、ジクロプロップ(dichlorprop)、ジクロプロップP(dichlorprop-P)、ジカンバ(dicamba)、ジカンバジクロールアミン塩(dicamba diglycolamine salt)、ジカンバジメチルアミン塩(dicamba−dimethylammonium)、ジカンバカリウム(dicamba−potassium)、ジカンバナトリウム(dicamba−sodium)、ブロモキシニル(bromoxynil)、ジクロベニル(dichlobenil)、アイオキシニル(ioxynil)、ジアレート(di-allate)、ブチレート(butylate)、トリアレート(tri-allate)、フェンメディファム(phenmedipham)、クロロプロファム(chlorpropham)、アシュラム(asulam)、フェニソファム(phenisopham)、ベンチオカーブ(benthiocarb)、モリネート(molinate)、エスプロカルブ(esprocarb)、ピリブチカルブ(pyributicarb)、プロスルカルブ(prosulfocarb)、オルベンカルブ(orbencarb)、EPTC、ジメピペレート(dimepiperate)、スエップ(swep)、プロパクロール(propachlor)、メタザクロール(metazachlor)、アラクロール(alachlor)、アセトクロール(acetochlor)、メトラクロール(metolachlor)、S-メトラクロール(S- metolachlor)、ブタクロール(butachlor)、プレチラクロール(pretilachlor)、テニルクロール(thenylchlor)、アミノシクロピラクロール(aminocyclopyrachlor)、トリフルラリン(trifluralin)、ペンディメタリン(pendimethalin)、エタフルラリン(ethalfluralin)、ベンフルラリン(benfluralin)、プロジアミン(prodiamine)、シマジン(simazine)、アトラジン(atrazine)、プロパジン(propazine)、シアナジン(cyanazine)、アメトリン(ametryn)、シメトリン(simetryn)、ジメタメトリン(dimethametryn)、プロメトリン(prometryn)、インダジフラム(indaziflam)、トリアジフラム(triaziflam)、メトリブジン(metribuzin)、ヘキサジノン(hexazinone)、イソキサベン(isoxaben)、ジフルフェニカン(diflufenican)、ジウロン(diuron)、リニュロン(linuron)、フルオメツロン(fluometuron)、ジフェノクスロン(difenoxuron)、メチルダイムロン(methyl-daimuron)、イソプロツロン(isoproturon)、イソウロン(isouron)、テブチウロン(tebuthiuron)、ベンズチアズロン(benzthiazuron)、メタベンズチアズウロン(methabenzthiazuron)、プロパニル(propanil)、メフェナセット(mefenacet)、クロメプロップ(clomeprop)、ナプロアニリド(naproanilide)、ブロモブチド(bromobutide)、ダイムロン(daimuron)、クミルロン(cumyluron)、エトベンザニド(etobenzanid)、ベンタゾン(bentazon)、トリジファン(tridiphane)、インダノファン(indanofan)、アミトロール(amitrole)、フェンクロラゾール (fenchlorazole)、クロマゾン(clomazone)、マレイン酸ヒドラジド(maleic hydrazide)、ピリデート(pyridate)、クロリダゾン(chloridazon)、ノルフルラゾン(norflurazon)、ブロマシル(bromacil)、ターバシル(terbacil)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone)、シンメチリン(cinmethylin)、べンフレセート(benfuresate)、カフェンストロール(cafenstrole)、ピリチオバック (pyrithiobac)、ピリチオバックナトリウム塩 (pyrithiobac-sodium)、ピリミノバック (pyriminobac)、ピリミノバックメチル (pyriminobac-methyl)、ビスビリバック (bispyribac)、ビスビリバックナトリウム塩(bispyribac-sodium)、ピリベンゾキシム(pyribenzoxim)、ピリミスルファン(pyrimisulfan)、ピリフタリド(pyriftalid)、フェントラザミド(fentrazamide)、ジメテナミド(dimethenamid)、ジメテナミドP(dimethenamid-P)、ACN、ベンゾビシクロン(benzobicyclon)、ジチオピル(dithiopyr)、トリクロピル(triclopyr)、チアゾピル(thiazopyr)、アミノピラリド(aminopyralid)、クロピラリド(clopyralid)、ダラポン(dalapon)、クロルチアミド(chlorthiamid)、アミドスルフロン(amidosulfuron)、アジムスルフロン(azimsulfuron)、ベンスルフロン(bensulfuron)、ベンスルフロンメチル(bensulfuron-methyl)、クロリムロン(chlorimuron)、クロリムロンエチル(chlorimuron-ethyl)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron)、フラザスルフロン(flazasulfuron)、フルセトスルフロン(flucetosulfuron)、フルピルスルフロン(flupyrsulfuron)、フルピルスルフロンメチルナトリウム(flupyrsulfuron-methyl- sodium)、ホラムスルフロン(foramsulfuron)、ハロスルフロン(halosulfuron)、ハロスルフロンメチル(halosulfuron-methyl)、イマゾスルフロン(imazosulfuron)、メソスルフロン(mesosulfuron)、メソスルフロンメチル(mesosulfuron-methyl)、ニコスルフロン(nicosulfuron)、オルトスルファムロン(orthosulfamuron)、オキサスルフロン(oxasulfuron)、プリミスルフロン(primisulfuron)、プリミスルフロンメチル(primisulfuron-methyl)、プロピリスルフロン(propyrisulfuron)、ピラゾスルフロン(pyrazosulfuron)、ピラゾスルフロンエチル(pyrazosulfuron-ethyl)、リムスルフロン(rimsulfuron)、スルホメツロン(sulfometuron)、スルホメツロンメチル(sulfometuron-methyl)、スルホスルフロン(sulfosulfuron)、トリフロキシスルフロン(trifloxysulfuron)、クロルスルフロン(chlorsulfuron)、シノスルフロン(cinosulfuron)、エタメトスルフロン(ethametsulfuron)、エタメトスルフロンメチル(ethametsulfuron-methyl)、ヨードスルフロン(iodosulfuron)、ヨードスルフロンメチルナトリウム(iodosulfuron-methyl-sodium)、メトスルフロン(metsulfuron)、メトスルフロンメチル(metsulfuron-methyl)、プロスルフロン(prosulfuron)、チフェンスルフロン(thifensulfuron)、チフェンスルフロンメチル(thifensulfuron-methyl)、トリアスルフロン(triasulfuron)、トリベニュロン(tribenuron)、トリベニュロンメチル(tribenuron-methyl)、トリフルスルフロン (triflusulfuron)、トリフルスルフロンメチル (triflusulfuron-methyl)、トリトスルフロン(tritosulfuron)、ピロコリナフェン(picolinafen)、ベンフルブタミド(beflubutamid)、スルコトリオン(sulcotrione)、テフリルトリオン(tefuryltrione)、イソキサクロルトール(isoxachlortole)、ベンゾフェナップ(benzofenap)、ピラゾリネート(pyrazolynate)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen)、フルポキサム(flupoxam)、アミカルバゾン(amicarbazone)、ベンカルバゾン(bencarbazone)、 フルカルバゾン(flucarbazone)、フルカルバゾンナトリウム塩(flucarbazone-sodium)、イプフェンカルバゾン(ipfencarbazone)、プロポキシカルバゾン(propoxycarbazone)、プロポキシカルバゾンナトリウム塩(propoxycarbazone-sodium)、チエンカルバゾン(thiencarbazone)、チエンカルバゾンメチル(thiencarbazone-methyl)、クロランスラム(cloransulam)、クロランスラムメチル(cloransulam-methyl)、ジクロスラム(diclosulam)、フロラスラム(florasulam)、フルメトスラム(flumetsulam)、メトスラム(metosulam) 、ペノキススラム(penoxsulam)、ピロキシスラム(pyroxsulam)、イマザメタベンズ(imazamethabenz)、イマザメタベンズメチル(imazamethabenz-methyl)、イマザモックス(imazamox)、イマザモックスアンモニウム塩(imazamox-ammonium)、イマザピック(imazapic)、イマザピックアンモニウム塩(imazapic-ammonium)、イマザピル(imazapyr)、イマザキン(imazaquin)、イマゼタピル(imazethapyr)、クロジナホップ(clodinafop)、クロジナホッププロパルギル(clodinafop-propargyl)、シハロホップ (cyhalofop)、 シハロホップブチル(cyhalofop-butyl)、ジクロホップ(diclofop)、ジクロホップメチル(diclofop-methyl)、フェノキサプロップ(fenoxaprop)、フェノキサプロップエチル(fenoxaprop-ethyl)、フェノキサプロップP(fenoxaprop-P)、フェノキサプロップPエチル(fenoxaprop-P-ethyl)、フルアジホップ(fluazifop)、フルアジホップブチル(fluazifop-butyl)、フルアジホップP(fluazifop-P)、フルアジホップPブチル(fluazifop-P-butyl)、ハロキシホップ(haloxyfop)、ハロキシホップメチル(haloxyfop-methyl)、ハロキシホップP(haloxyfop-P)、ハロキシホップPメチル(haloxyfop-P-methyl)、メタミホップ(metamifop)、プロパキザホップ(propaquizafop)、キザロホップ(quizalofop)、キザロホップエチル(quizalofop-ethyl)、キザロホップP(quizalofop-P)、キザロホップPエチル(quizalofop-P-ethyl)、アロキシジム(alloxydim)、クレトジム(clethodim)、セトキシジム(sethoxydim)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)、ピノキサデン(pinoxaden)、ピロキサスルホン(pyroxasulfone)、グリホサート(glyphosate)、グリホサートイソプロピルアミン塩(glyphosate-isopropylamine)、グリホサートトリメシウム塩(glyphosate-trimethylsulfonium)、グリホサートアンモニウム塩(glyphosate-ammonium)、グリホサートジアンモニウム塩(glyphosate-diammonium)、グリホサートナトリウム塩(glyphosate-sodium)、グリホサートカリウム塩(glyphosate-potassium)、グルホシネート(glufosinate)、グルホシネートアンモニウム塩(glufosinate-ammonium)、グルホシネートP(glufosinate-P)、グルホシネートPナトリウム塩(glufosinate-P-sodium)、ビアラホス(bialafos)、アニロホス(anilofos)、ベンスリド(bensulide)、ブタミホス(butamifos)、パラコート(paraquat)、及びジクワット(diquat)。
植物生長調節剤(植物生長調節活性成分):ヒメキサゾール(hymexazol)、パクロブトラゾール(paclobutrazol)、ウニコナゾール(uniconazole)、ウニコナゾールP(uniconazole-P)、イナベンフィド(inabenfide)、プロヘキサジオンカルシウム(prohexadione-ca1cium)、1-メチルシクロプロペン(1-methylcyclopropene)、トリネキサパック(trinexapac)、及びジベレリン(gibberellins)。
薬害軽減剤:ベノキサコール(benoxacor)、クロキントセット(cloquintocet)、シオメトリニル(cyometrinil)、シプロスルファミド(cyprosulfamide)、ジクロルミド(dichlormid)、ジシクロノン(dicyclonon)、ジエトレート(dietholate)、フェンクロラゾール(fenchlorazole)、フェンクロリム(fenclorim)、フルラゾール(flurazole)、フルクソフェニム(fluxofenim)、フリラゾール(furilazole)、イソキサジフェン(isoxadifen)、メフェンピル(mefenpyr)、メフェネート(mephenate)、ナフタリックアンヒドライド(naphthalic anhydride)、及びオキサベトリニル(oxabetrinil)。
以下、本発明を実施例を挙げてさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
なお、以下の記載においてhaとはヘクタール即ち10000m2を意味する。
また、以下の実施例において除草効力は以下の[評価基準]で判定した。
[評価基準]
除草効力の評価は、調査時の供試雑草の出芽又は生育の状態が無処理のそれと比較して全く乃至ほとんど違いがないものを「0」とし、供試植物が完全枯死又は出芽若しくは生育が完全に抑制されているものを「100」として、0〜100に区分する。
実施例1
長さ255ミリメートル、幅173ミリメートル、高さ70ミリメートル(以上全て内寸)のプラスチック製ポットに畑地土壌を詰め、ダイズ(品種:Williams 82)及びアメリカアサガオを播種した。
播種翌日に、イソキサフルトール顆粒水和剤(イソキサフルトールを75%含有する顆粒水和剤、商品名:Balance、Aventis社製)とフルミオキサジン顆粒水和剤(フルミオキサジンを51%含有する顆粒水和剤、商品名:Valor SX、Valent USA社製)とを混合した後、水で希釈し、表1に記載の量となるように小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。
植物を温室内で育成し、薬剤処理20日後にアメリカアサガオに対する除草効力を判定した。結果を表1に示す。
実施例2
長さ158ミリメートル、幅108ミリメートル、高さ70ミリメートル(以上全て内寸)のプラスチック製ポット及び内径111ミリメートル、高さ78ミリメートル(内寸)のプラスチック製ポットにに畑地土壌を詰め、後者のポットにスベリヒユを播種した。
スベリヒユの播種翌日に、イソキサフルトール顆粒水和剤(イソキサフルトールを75%含有する顆粒水和剤、商品名:Balance、Aventis社製)とフルミオキサジン顆粒水和剤(フルミオキサジンを51%含有する顆粒水和剤、商品名:Valor SX、Valent USA社製)とを混合した後、水で希釈し、表2に記載の量となるように小型噴霧器で、ポットに詰めた土壌表面に均一に散布した。
薬剤処理14日後に、上記長さ158ミリメートル、幅108ミリメートル、高さ70ミリメートル(以上全て内寸)のプラスチック製ポットにダイズ(品種:Williams82)を播種した。
植物を温室内で育成し、薬剤処理21日後にスベリヒユに対する除草効力を判定した。結果を表2に示す。
実施例3
内径177ミリメートル、高さ140ミリメートルのプラスチック製ポットに、畑地土壌を詰め、ダイズ(品種:Williams82)を播種し、その3日後に同じポットにアメリカアサガオを播種した。
ダイズの播種10日後、アメリカアサガオの播種7日後に、イソキサフルトール顆粒水和剤(イソキサフルトールを75%含有する顆粒水和剤、商品名:Balance、Aventis社製)とフルミオキサジン顆粒水和剤(フルミオキサジンを51%含有する顆粒水和剤、商品名:Valor SX、Valent USA社製)とを混合した後、水で希釈し、表3に記載の量となるように小型噴霧器で雑草及び土壌表面に均一に散布した。
また、メソトリオン懸濁剤(メソトリオンを100g/Lで含有する懸濁剤、商品名Callisto、Syngenta社製)と上記フルミオキサジン顆粒水和剤とを混合した後、水で希釈し、表3に記載の量となるように小型噴霧器で、雑草及び土壌表面に均一に散布した。
植物を温室内で育成し、薬剤処理4日後にアメリカアサガオに対する効力を判定した。結果を表3に示す。

本発明の雑草の防除方法は、ダイズ畑又はワタ畑の雑草防除に有用である。

Claims (10)

  1. ダイズ畑又はワタ畑の雑草の防除方法であって、
    イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンからなる群より選ばれる1以上の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物と、フルミオキサジンとの有効量を、ダイズ畑又はワタ畑の雑草又は雑草が発生するであろう場所に処理する工程を有するダイズ畑又はワタ畑の雑草の防除方法。
  2. イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンからなる群より選ばれる1以上の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物と、フルミオキサジンとの処理量の重量比が、1:0.025〜1:1200である、請求項1記載の雑草の防除方法。
  3. イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンからなる群より選ばれる1以上の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物と、フルミオキサジンとの処理量の重量比が、1:0.01〜1:300である、請求項1記載の雑草の防除方法。
  4. イソキサフルトール、メソトリオン、スルコトリオン、トプラメゾン、ピラスルホトール、テンボトリオン及びビシクロピロンからなる群より選ばれる1以上の4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害活性化合物と、フルミオキサジンとの処理量の重量比が、1:0.08〜1:40である、請求項1記載の雑草の防除方法。
  5. ダイズ畑のダイズ又はワタ畑のワタが、遺伝子組み換えダイズ又は遺伝子組み換えワタである請求項1〜4いずれか1項記載の雑草の防除方法。
  6. ダイズ畑のダイズ又はワタ畑のワタが、除草剤抵抗性遺伝子組み換えダイズ又は除草剤抵抗性遺伝子組み換えワタである請求項1〜4いずれか1項記載の雑草の防除方法。
  7. ダイズ畑のダイズ又はワタ畑のワタが、4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤抵抗性遺伝子組み換えダイズ又は4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤遺伝子組み換えワタである請求項1〜4いずれか1項記載の雑草の防除方法。
  8. ダイズ畑のダイズ又はワタ畑のワタが、
    4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤に対して抵抗性を示す4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼをコードする遺伝子、4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤により4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼが阻害されてもホモゲンチジン酸を合成できる酵素をコードする遺伝子、4−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼを過剰発現させる遺伝子、及び、プレフェナートデヒドロゲナーゼをコードする遺伝子
    からなる群より選ばれる1以上の遺伝子を有するワタ又はダイズである請求項1〜4いずれか1項記載の雑草の防除方法。
  9. ピラスルホトールとフルミオキサジンとからなる除草用組成物。
  10. テンボトリオンとフルミオキサジンとからなる除草剤組成物。
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