JP2011155038A - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2011155038A
JP2011155038A JP2010013988A JP2010013988A JP2011155038A JP 2011155038 A JP2011155038 A JP 2011155038A JP 2010013988 A JP2010013988 A JP 2010013988A JP 2010013988 A JP2010013988 A JP 2010013988A JP 2011155038 A JP2011155038 A JP 2011155038A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solid
state imaging
imaging device
closed space
state image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010013988A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsumi Yamamoto
克己 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP2010013988A priority Critical patent/JP2011155038A/ja
Publication of JP2011155038A publication Critical patent/JP2011155038A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

【課題】固体撮像装置の受光領域となる閉鎖空間の気密性を向上し、過酷な外部環境によっても受光領域の独立性が保たれ、長期にわたって性能を良好に維持できる固体撮像装置を提供することである。
【解決手段】シリコン基板1上層の固体撮像素子の上に枠壁6と封止ガラス板7により形成された受光領域の閉鎖空間11に、屈折率1.3以下の透明不活性オイル10、特に、パーフルオロポリエーテル油を代表とするフッ素系オイルが充填されていることを特徴とする固体撮像装置である。
【選択図】図1

Description

本発明は、性能劣化の少ない固体撮像装置に関する。
近年、CCDやCMOS等の固体撮像装置をカメラに装着して、デジタルカメラやビデオカメラとして使われることが多く、携帯電話に付設するカメラ機能としても固体撮像装置とレンズ系からなるカメラモジュールが内蔵されるようになってきた。これらの用途に対して、小型・軽量・薄型でかつ高解像度の固体撮像装置がさらに求められている。例えば、1000万画素に及ぶ解像画素数を小型の固体撮像素子で実現するために、各画素の大きさを数μm四方程度に微細化することも行われている。
従来の固体撮像装置の構成を説明するための模式断面図を図2に示す。シリコン基板1は、その上層部に固体撮像素子(図示せず)が形成されており、固体撮像素子の各画素に対応させて引き続き上層の受光側に、色分解用のカラーフィルタ8と集光用のマイクロレンズ9を設ける。固体撮像素子にて得られる画像情報の電気信号は、スルー・シリコン・ビア(以下、TSVと略称する)内に充填もしくはTSVの内壁を被覆する導電物質2により、シリコン基板1の裏面に導かれ、パターン化された絶縁層3と配線回路が形成された導電層4とによって、例えばBGA(ボール・グリッド・アレイ)方式による接続端子5を通じて、外部回路への選択的接続を可能とする。ソルダーレジスト13によるパターン化された絶縁層により接続端子5の相互間を電気的に分離した構造を形成することができる。
従来の固体撮像装置の受光側は、固体撮像素子の上面を開口させてその周辺を囲む枠壁6と接着層12により枠壁に接合して固体撮像素子を覆う封止ガラス板7により閉鎖空間11を構成する。受光領域となる上記の閉鎖空間11を窒素ガス等の不活性ガス11aで充填している。閉鎖空間11と不活性ガス11aとは、便宜的に、同一領域からの引き出し線で図示し、他の図面でも同様の表示とする。受光領域をこのような閉鎖空間として、安定的に構成するための構造や製造方法が、特許文献1および2に提案されている。
図2に示した固体撮像装置は、一品だけを描いているが、実用的な作製工程においては、例えば直径20cmまたは30cmのシリコンウェハの加工プロセスと、同じく直径20cmまたは30cmのガラス板の加工プロセスを組み合わせて、プレーナー技術を多用したいわゆるウェハプロセスにて作製され、最終的にダイシング工程にて個々に断裁されて一個ずつの固体撮像装置を形成する。上記シリコンウェハおよびガラス板のサイズは限定されず、種々可能である。固体撮像装置が携帯電話に内蔵される小型カメラ用であれば、シリコン基板1の大きさが、3〜5mm四方程度であるから、一枚のウェハから最大4000個程度の固体撮像装置が採れることになる。
特開平1−277068号公報 特開2008−117919号公報
固体撮像装置の受光領域となる閉鎖空間内を不活性ガスで充填することにより、受光領域を外部の汚染から遮断して清浄状態を維持することは、一定期間程度可能とはいえるが
、長期または多湿/温度差大の使用環境下で閉鎖空間の気密性を維持することは困難である。前記接着層12に用いる樹脂の変質により、また、樹脂の変質以外の理由として、周辺温度の上昇と下降のため気密状態の受光領域内のガスが膨張または収縮することにより、また、外部からの衝撃等により、気密状態が破れて外気の侵入や封止ガスのリークが生じるなど、バリアー性が低下する。その結果生じる閉鎖空間11内への水分の浸入は、封止ガラス板の曇り現象となって、素子性能の劣化に直結し易い。特に、車載用途などでは、曇りは致命的な欠陥となる。
本発明は、前記の問題点に鑑みて提案するものであり、本発明が解決しようとする課題は、固体撮像装置の受光領域となる閉鎖空間の気密性を向上し、過酷な外部環境によっても受光領域の独立性が保たれ、長期にわたって性能を良好に維持できる固体撮像装置を提供することである。
上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、固体撮像素子の上に形成された受光領域の閉鎖空間に、マイクロレンズの集光効果を保つために、屈折率1.3以下の透明不活性オイルが充填されていることを特徴とする固体撮像装置である。
また、請求項2に記載の発明は、固体撮像素子上の閉鎖空間が、固体撮像素子の上面周辺を囲む枠壁と枠壁に接合して固体撮像素子を覆う封止ガラス板により規制されることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置である。
また、請求項3に記載の発明は、透明不活性オイルが、フッ素系オイルであることを特徴とする請求項1または2に記載の固体撮像装置である。
また、請求項4に記載の発明は、フッ素系オイルが、パーフルオロポリエーテル油であることを特徴とする請求項3に記載の固体撮像装置である。
本発明の固体撮像装置によれば、受光領域となる閉鎖空間に透明不活性オイルが充填されているため、過酷な外部環境の変化、例えば温度の上下に対しても体積膨張や収縮の程度が小さく、環境からの水蒸気の浸入による曇りを防止できる。すなわち、閉鎖空間の気密性を向上し易く、受光領域の独立性が保たれるので、長期にわたって固体撮像装置の性能を良好に維持できる。また、透明不活性オイルの屈折率を、撮像素子の各画素に対応して設けられる集光用のマイクロレンズの屈折率より充分に小さい1.3以下とすることにより、マイクロレンズの集光能を活用する光学設計が可能となる。
本発明の固体撮像装置の構成を説明するための模式断面図である。 従来の固体撮像装置の構成を説明するための模式断面図である。 本発明の固体撮像装置の他の構成を説明するための模式断面図である。
以下、本発明を実施するための形態を図面に従って説明する。
図1は、本発明の固体撮像装置の構成を説明するための模式断面図である。
シリコン基板1は、その上層部に固体撮像素子(図示せず)が形成されており、固体撮像素子の各画素に対応させて引き続き上層の受光側に、色分解用のカラーフィルタ8と集光用のマイクロレンズ9を設ける。固体撮像素子にて得られる画像情報の電気信号は、TSV内に充填もしくはTSVの内壁を被覆する導電物質2により、シリコン基板1の裏面
に導かれ、パターン化された絶縁層3と配線回路が形成された導電層4とによって、例えばBGA方式による接続端子5を通じて、外部回路への選択的接続を可能とする。ソルダーレジスト13によるパターン化された絶縁層により接続端子5の相互間を電気的に分離した構造を形成することができる。
本発明の固体撮像装置の受光側には、固体撮像素子の上面を前記カラーフィルタ8とマイクロレンズ9を介して開口させて、受光領域となる閉鎖空間11を構成する。前記閉鎖空間11は、少なくとも外部光の入射側を透明な物質で構成すれば、種々の構造が可能であるが、閉鎖空間11のギャップを保持するスペーサを兼ねてその周辺を囲む枠壁6と枠壁6上に形成した接着層12により枠壁に接合して固体撮像素子を覆う透明な封止ガラス板7により閉鎖空間11を構成することができる。
図3は、本発明の固体撮像装置の他の構成を説明するための模式断面図である。
封止ガラス板7を閉鎖空間11に相当する領域だけザグリ加工またはエッチング加工をして凹部を予め形成しておけば、封止ガラス板の一部が枠壁14として、図1の前記枠壁6と同様の機能を封止ガラス板7と一体として付与することができる。この場合、枠壁14上(図では、下面)に接着層12を設けて、シリコン基板1と接合することによって、前記と同様の閉鎖空間11を構成することができる。また、構成する閉鎖空間11のギャップを調節するために、前記シリコン基板1上に設ける枠壁6と併せて封止ガラス板の一部の枠壁14を設けることもでき、前記の構造に限定されない。
また、実用的な作製工程において、直径20cmまたは30cmのシリコンウェハの加工プロセスと、同じく直径20cmまたは30cmのガラス板の加工プロセスを組み合わせて、プレーナー技術を多用したいわゆるウェハプロセスにて集合体が作製され、最終的にダイシング工程にて個々に断裁されて一個ずつの固体撮像装置を形成する方法は、従来と同様であるが、上記シリコンウェハおよびガラス板のサイズは限定されず、種々可能である。
本発明は、受光領域となる上記の閉鎖空間11に、屈折率1.3以下の透明不活性オイル10が充填されることを特徴とする。透明不活性オイル10としては、フッ素系オイルが適しており、中でも、パーフルオロポリエーテル油が最適である。
前記透明不活性オイル10は、封止ガラス板7の直下の受光領域にあって、透明であるので、封止ガラス板7を通過した外部光を減衰させずに集光用のマイクロレンズ9に導き、略1.5程度の屈折率を有するマイクロレンズ9より充分に低い1.3以下の屈折率とすることによって、透明不活性オイルとマイクロレンズとの界面での屈折効果を保持してマイクロレンズの集光能を活用するように光学設計することが可能である。
また、前記透明不活性オイル10として、閉鎖空間11の内部を均一に埋め尽くすことができて、熱的、化学的に安定な材料を選ぶことが可能であるので、閉鎖空間の気密性を向上し易く、受光領域の独立性が保たれるので、長期にわたって固体撮像装置の性能を良好に維持できる。上記の目的に合致する材料として、パーフルオロポリエーテル(PFPE)やクロロトリフルオロエチレン(CTFE)の低重合体等のフッ素系オイルが適しており、中でも、パーフルオロポリエーテル油が好ましい。
以下、本発明の固体撮像装置の製造工程を説明する。
まず、直径20cm、30cm、もしくは他のサイズのシリコンウェハ表面に多数の固体撮像素子を、また、シリコンウェハの裏面に絶縁層と導電層とを、半導体のウェハプロセスに従ってそれぞれ位置決めされたパターンを形成する。シリコンウェハの所定の位置に電気的に表裏導通するためのスルー・シリコン・ビア(TSV)を加工し、表裏を導電物
質2で繋ぐ。また、表面の固体撮像素子上に、各画素に対応させて、色分解用のカラーフィルタ8と集光用のマイクロレンズ9とをフォトリソグラフィー法で設ける。上記の各工程は、適宜、工程中の保護のための保護層を仮設置し、順序を変更して実施することもできる。
枠壁6の材料として、接着性に富む樹脂膜であって、熱硬化性のポリイミド、エポキシ樹脂、もしくはアクリルウレタン系の感光性樹脂を利用できる。上記感光性樹脂を上述の加工表面に塗布後、露光・現像工程を有するフォトリソグラフィー法により、固体撮像素子と対応するカラーフィルタ、マイクロレンズを取り囲む位置に、枠壁6を所望のパターンで、50〜100μm程度の厚さに形成する。
さらに、封止ガラス板7との充分な接着力を得るために、引き続き、枠壁6上に枠壁6と略同一のパターンで、接着層12を設けることができる。接着層の材料として上記の感光性樹脂を用いることもできるが、その特性と塗布法は、具体的な工程条件に合わせて自由に選ぶことができる。
次いで、上述の加工表面に、透明不活性オイル10を適量滴下することにより、閉鎖空間となる凹部を均一に埋め尽くすことができる。滴下方法は、一般的な定量ディスペンス方式で処理することができる。
続いて、シリコンウェハと同じ直径のガラスウェハを、前記枠壁上に、固体撮像素子、カラーフィルタ、マイクロレンズと対向させて、位置決めしてUV硬化および加熱圧着する。この状態で枠壁6は、接着層12とともに接着力を発現し、しかる後に硬化するから、ガラスウェハは、固体撮像装置の封止ガラス板7として接合される。
また、本発明の固体撮像装置の他の構成例として説明した封止ガラス板7を加工して枠壁14を用いる場合には、閉鎖空間11に相当する領域だけザグリ加工またはエッチング加工をして凹部を予め形成しておく。その後、枠壁14上(図では、下面)に接着層12を設けておき、図3の上下逆向きに透明不活性オイル10を適量滴下することにより、閉鎖空間となる凹部を均一に埋め尽くすことができる。滴下方法は、一般的な定量ディスペンス方式で処理することができる。次に、固体撮像素子、カラーフィルタ、マイクロレンズを形成済みのシリコン基板1と位置合わせしてUV硬化等により接合することによって、前記と同様の閉鎖空間11を構成することができる。
最後に、個々の固体撮像装置に断裁するためのダイシング工程を経て完成する。
なお、固体撮像素子にて得られる画像情報の電気信号を外部回路に選択的に接続するためのBGA(ボール・グリッド・アレイ)方式による接続端子5を、ダイシング工程の前に予めシリコンウェハ裏面側に形成しておくことが望ましいが、接続の手段とその具体的方法は限定されない。
以下に、本発明の具体的な実施例を述べる。
厚さ0.25mm、直径20cmのシリコンウェハに、固体撮像素子を多数作製したものを用意する。この固体撮像素子の上面に、60μm厚の感光性エポキシ樹脂接着剤のドライフィルムを被覆し、露光・現像して、枠壁6を形成した。次いで、透明不活性オイルとして、ダイキン工業株式会社製のパーフルオロポリエーテル油(商品名 デムナムTM、屈折率1.2)を滴下して閉鎖空間となる空間を埋め、続いて、枠壁6をスペーサ兼接着層として、上面に厚さ0.4mm、直径20cmの封止ガラス板7を0.2MPa、130℃の加熱圧着で貼り合わせた。封止ガラス7を貼り合わせ硬化した後、ダイシング装置にて固体撮像装置を個々に分離して本発明品を得た。
〈比較例1〉
上記、透明不活性オイルに代えて、乾燥窒素ガスを閉鎖空間となる空間に充填した以外は、実施例1と同様にして、従来タイプの固体撮像装置を比較サンプルとして作製した。
〈耐性試験〉
上記実施例で得られた本発明品と比較サンプルとを、60℃、湿度90%の高温・高湿の加速耐性試験機の中に100時間処理して取り出し、封止ガラス板面から固体撮像装置の受光面を観察した。その結果、比較サンプルは、受光面に結露したと見られる曇りが生じたが、本発明品は、異常を認めなかった。
1・・・シリコン基板
2・・・導電物質
3・・・絶縁層
4・・・導電層
5・・・接続端子
6・・・枠壁
7・・・封止ガラス板
8・・・カラーフィルタ
9・・・マイクロレンズ
10・・・透明不活性オイル
11・・・閉鎖空間
11a・・・不活性ガス
12・・・接着層
13・・・ソルダーレジスト(絶縁層)
14・・・枠壁(封止ガラス板の一部)

Claims (4)

  1. 固体撮像素子の上に形成された受光領域の閉鎖空間に、屈折率1.3以下の透明不活性オイルが充填されていることを特徴とする固体撮像装置。
  2. 固体撮像素子上の閉鎖空間が、固体撮像素子の上面周辺を囲む枠壁と枠壁に接合して固体撮像素子を覆う封止ガラス板により規制されることを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置。
  3. 透明不活性オイルが、フッ素系オイルであることを特徴とする請求項1または2に記載の固体撮像装置。
  4. フッ素系オイルが、パーフルオロポリエーテル油であることを特徴とする請求項3に記載の固体撮像装置。
JP2010013988A 2010-01-26 2010-01-26 固体撮像装置 Pending JP2011155038A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010013988A JP2011155038A (ja) 2010-01-26 2010-01-26 固体撮像装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010013988A JP2011155038A (ja) 2010-01-26 2010-01-26 固体撮像装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2011155038A true JP2011155038A (ja) 2011-08-11

Family

ID=44540819

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010013988A Pending JP2011155038A (ja) 2010-01-26 2010-01-26 固体撮像装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2011155038A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100950915B1 (ko) 웨이퍼 레벨 카메라 모듈 및 그 제조방법
KR100982270B1 (ko) 카메라 모듈 및 이의 제조 방법
JP4793618B2 (ja) Cmosイメージセンサ構造体及びこれを用いたカメラモジュールを製作する為のプロセス
CN108604574B (zh) 半导体装置及制造方法、成像装置、以及电子设备
TWI512956B (zh) 光學成像裝置及其製造方法
JP4764941B2 (ja) 光学素子、光学素子ウエハ、光学素子ウエハモジュール、光学素子モジュール、光学素子モジュールの製造方法、電子素子ウエハモジュール、電子素子モジュールの製造方法、電子素子モジュールおよび電子情報機器
US20080191334A1 (en) Glass dam structures for imaging devices chip scale package
KR100994845B1 (ko) 고체 촬상 장치 및 그 제조 방법
JP2008305972A (ja) 光学デバイス及びその製造方法、並びに、光学デバイスを用いたカメラモジュール及び該カメラモジュールを搭載した電子機器
KR20140001734A (ko) 고체 촬상 장치, 고체 촬상 장치의 제조 방법, 및 전자 기기
JP2010103491A (ja) 光学素子、光学素子ウエハ、光学素子ウエハモジュール、光学素子モジュール、光学素子モジュールの製造方法、電子素子ウエハモジュール、電子素子モジュールの製造方法、電子素子モジュールおよび電子情報機器
US20080272473A1 (en) Optical device and method of manufacturing the same
WO2020003796A1 (ja) 固体撮像装置、電子機器、および固体撮像装置の製造方法
JP5061579B2 (ja) 固体撮像装置及びその製造方法
KR100956381B1 (ko) 웨이퍼 레벨 카메라 모듈의 제조 방법
JP5520646B2 (ja) マイクロレンズ非搭載の光電変換膜積層型固体撮像素子及び撮像装置
JP5162607B2 (ja) カメラモジュールの組み立て方法
JP2011155038A (ja) 固体撮像装置
KR100945445B1 (ko) 웨이퍼 레벨 카메라 모듈 및 그 제조방법
JP2011199036A (ja) 固体撮像装置及びその製造方法
JP2004260356A (ja) カメラモジュール
KR100927425B1 (ko) 웨이퍼 레벨 카메라 모듈 및 그 제조방법
KR20100005882A (ko) 웨이퍼 레벨 카메라 모듈 및 그 제조방법
JP2008166939A (ja) カメラモジュール
JP2008288603A (ja) 固体撮像素子およびその製造方法