JP2011124191A - インピーダンス整合装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 高周波電源Aと負荷Bとの間に接続された第1及び第2可変コンデンサC1,C2と、負荷側Bの反射係数ρの実部Zの大きさに応じた第1検出値(Z’値)と虚部φの大きさに応じた第2検出値(φ値)とを検出する検出部12と、この検出部12で検出した第1検出値に基づいて第1可変コンデンサC1の静電容量値を調整し、第2検出値に基づいて第2可変コンデンサC2の静電容量値を調整する制御部とを備えており、検出部12は、負荷側Bの反射係数ρの実部Zの大きさに応じた値に反射係数ρの大きさに応じた値を加算した値を第1検出値(Z’値)として検出する。
【選択図】図1
Description
図1に示すように、本実施形態に係るインピーダンス整合装置10は、高周波電源Aと負荷(本実施形態ではプラズマ発生装置)Bとの間の伝送路の中途部に設置されており、高周波電源Aの出力インピーダンスZoutと負荷B側の入力インピーダンスZinとのインピーダンス整合を行うものである。なお、入力インピーダンスZinとは、図1を使って説明すると、インピーダンス整合装置10の入力端10aより負荷B側の回路全体のインピーダンスのことである。
上述したインピーダンス整合装置の具体的構成の一例について、図2及び図3を参照して説明する。
以上のように構成されたインピーダンス整合装置10の具体的動作について図4及び図5を参照して説明する。
(i)C1=220pF、C2=1000pF
(ii)C1=220pF、C2=1050pF
(iii)C1=220pF、C2=1200pF
(iv)C1=220pF、C2=1500pF
なお、図8(a),図9(a),図10(a),図11(a)は、従来のインピーダンス整合装置の特性を示し、図8(b),図9(b),図10(b),図11(b)は、本実施形態に係るインピーダンス整合装置10の特性を示している、
B 負荷(プラズマ発生装置)
10 インピーダンス整合装置
11 インピーダンス整合部
12 センサ
13 制御部
C1 第1可変コンデンサ
C2 第2可変コンデンサ
Claims (3)
- 高周波電源と負荷との間に接続された第1及び第2可変コンデンサと、
前記負荷側の反射係数の実部の大きさに応じた第1検出値と虚部の大きさに応じた第2検出値とを検出する検出部と、
前記検出部で検出した前記第1検出値に基づいて前記第1可変コンデンサを調整し、前記検出部で検出した前記第2検出値に基づいて前記第2可変コンデンサを調整する制御部と、を備え、
前記検出部は、前記負荷側の反射係数の実部の大きさに応じた値に前記反射係数の大きさに応じた値を加算した値を前記第1検出値として検出することを特徴とするインピーダンス整合装置。 - 前記検出部は、前記高周波電源から前記負荷へ向かう進行波の電力に応じた値から、前記負荷から前記高周波電源へ向かう反射波の電力に応じた値を減算し、当該減算値の平方根を演算し、当該平方根値を前記高周波電源から出力される電圧に応じた値から減算し、当該減算値を、前記第1検出値とすることを特徴とする請求項1に記載のインピーダンス整合装置。
- 前記検出部は、
前記高周波電源から出力される電圧を検出する出力電圧検出部と、
前記出力電圧検出部により検出した電圧を整流する整流器と、
前記高周波電源から前記負荷へ向かう進行波の電圧を検出する進行波電圧検出部と、
前記負荷から前記高周波電源へ向かう反射波の電圧を検出する反射波電圧検出部と、
前記進行波の電圧と前記反射波の電圧を加算する加算器と、
前記進行波の電圧から前記反射波の電圧を減算する第1減算器と、
前記加算器の出力と前記第1減算器の出力とを乗算する乗算器と、
前記乗算器の出力の平方根を演算する平方根演算器と、
前記整流器の出力から前記平方根演算器の出力を減算する第2減算器と、を備え、
前記第2減算器から前記第1検出値を出力することを特徴とする請求項2に記載のインピーダンス整合装置。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015149323A (ja) * | 2014-02-05 | 2015-08-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置及びfsvの制御方法 |
WO2015129678A1 (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-03 | 株式会社日立国際電気 | 整合器及び整合方法 |
JP2016046391A (ja) * | 2014-08-22 | 2016-04-04 | 株式会社アルバック | プラズマエッチング装置 |
US10818477B2 (en) | 2015-10-26 | 2020-10-27 | Trumpf Huettinger Gmbh + Co. Kg | Impedance matching between loads and power generators |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62175651A (ja) * | 1986-01-30 | 1987-08-01 | Shimadzu Corp | Icp分析方法 |
JPH0688224A (ja) * | 1992-09-10 | 1994-03-29 | Jeol Ltd | 高周波装置 |
JPH07204178A (ja) * | 1993-10-21 | 1995-08-08 | Univ California | 磁気共鳴イメージングrfコイルのチューニング方法および装置 |
JPH10126174A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-05-15 | Northern Telecom Ltd | 高周波雑音およびインピーダンスの整合がとれた集積回路並びにその回路設計方法 |
JP2000299198A (ja) * | 1999-02-10 | 2000-10-24 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2001044780A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-02-16 | Daihen Corp | インピーダンス自動整合方法及び整合装置 |
JP2006166412A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置 |
JP2008181846A (ja) * | 2006-12-29 | 2008-08-07 | Daihen Corp | 高周波装置 |
JP2009027496A (ja) * | 2007-07-20 | 2009-02-05 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 空中線整合回路 |
JP2011530254A (ja) * | 2008-08-07 | 2011-12-15 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 動的なインピーダンスマッチングネットワーク、およびソースと負荷の間のインピーダンスをマッチングさせる方法 |
-
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62175651A (ja) * | 1986-01-30 | 1987-08-01 | Shimadzu Corp | Icp分析方法 |
JPH0688224A (ja) * | 1992-09-10 | 1994-03-29 | Jeol Ltd | 高周波装置 |
JPH07204178A (ja) * | 1993-10-21 | 1995-08-08 | Univ California | 磁気共鳴イメージングrfコイルのチューニング方法および装置 |
JPH10126174A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-05-15 | Northern Telecom Ltd | 高周波雑音およびインピーダンスの整合がとれた集積回路並びにその回路設計方法 |
JP2000299198A (ja) * | 1999-02-10 | 2000-10-24 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
JP2001044780A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-02-16 | Daihen Corp | インピーダンス自動整合方法及び整合装置 |
JP2006166412A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置 |
JP2008181846A (ja) * | 2006-12-29 | 2008-08-07 | Daihen Corp | 高周波装置 |
JP2009027496A (ja) * | 2007-07-20 | 2009-02-05 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 空中線整合回路 |
JP2011530254A (ja) * | 2008-08-07 | 2011-12-15 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | 動的なインピーダンスマッチングネットワーク、およびソースと負荷の間のインピーダンスをマッチングさせる方法 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015149323A (ja) * | 2014-02-05 | 2015-08-20 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置及びfsvの制御方法 |
WO2015129678A1 (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-03 | 株式会社日立国際電気 | 整合器及び整合方法 |
US9876482B2 (en) | 2014-02-28 | 2018-01-23 | Hitachi Kokusai Electric Inc. | Matching unit and matching method |
JP2016046391A (ja) * | 2014-08-22 | 2016-04-04 | 株式会社アルバック | プラズマエッチング装置 |
US10818477B2 (en) | 2015-10-26 | 2020-10-27 | Trumpf Huettinger Gmbh + Co. Kg | Impedance matching between loads and power generators |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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