JP2011113815A - 画像表示装置、画像表示装置の製造方法及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に2次元的に形成されたトランジスタと、前記トランジスタのソース電極またはドレイン電極上に開口部を有し、前記トランジスタ上に形成された層間絶縁膜と、前記2次元方向のうち一方の方向に沿って、前記開口部を覆うことなく形成された複数の第2の隔壁と、前記第2の隔壁間に前記開口部を埋込み前記層間絶縁膜上の所定の領域に形成された画素電極と、前記一方の方向に交差または交差する直線上に配列するように、前記画素電極を介し前記開口部上を覆ように形成された複数の第1の隔壁と、を有し、前記第1の隔壁と前記第2の隔壁により形成される前記画素電極の露出部分における4隅の角はすべて鈍角であること、または、前記画素電極の露出部分は円形状または長円形状となるように形成されていることを特徴とする画像表示装置を提供することにより上記課題を解決する。
【選択図】図1
Description
(画像表示装置の構成)
第1の実施の形態について説明する。図1及び図2に本実施の形態における画像表示装置の構造を示す。図1は、本実施の形態における画像表示装置の対向電極及び有機発光層が形成されていない状態の上面図であり、図2は、図1における破線2A−2Bにおいて切断した対向電極及び有機発光層が形成されている状態の本実施の形態における画像表示装置の断面図である。
次に、図3及び図4に基づき本実施の形態における画像表示装置の製造方法について説明する。尚、図4(a)、(e)は断面構造を示すものであり、図4(b)〜(d)は上面構造を示すものである。
次に、第2の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第1の形態における画像表示装置とは、略同様の構造のものであるが、画素電極23をマイクロコンタクト法により形成するものである。図1及び図2に示す本実施の形態における画像表示装置の製造方法について、図3及び図4に基づき説明する。
次に、第3の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第1の実施の形態とは、第1の隔壁及び第2の隔壁の構造が異なる構成の画像表示装置である。図5に基づき本実施の形態について説明する。
次に、第4の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第3の実施の形態を更に変形したものであり、第1の隔壁の構造が異なる構成のものである。図6に基づき本実施の形態について説明する。
次に、第5の実施の形態について説明する。本実施の形態は、第1の実施の形態と異なる構成の画像表示装置である。
図7及び図8に基づき本実施の形態における画像表示装置の構成を説明する。尚、図7は、本実施の形態における画像表示装置の対向電極及び有機発光層が形成されていない状態の上面図であり、図8は、図7における破線8A−8Bにおいて切断した対向電極及び有機発光層が形成されている状態の本実施の形態における画像表示装置の断面図である。
は、第1の隔壁128が形成される部分において広く、画素電極123と接する部分において狭くなるように形成されており、第2の隔壁127のY軸方向における幅は、画素電極123と接する部分において、第1の隔壁が形成される部分に近づくにつれて徐々に幅が広くなるように形成されている。これにより、第1の隔壁128と第2の隔壁127により形成される画素電極123上の開口領域129の4隅は、すべて鈍角に形成することができ、電界集中が起こりにくく、有機EL素子126におけるリーク電流のバラツキを抑制することができ、発光特性を均一にすることができる。即ち、画素電極123の露出面の4隅の形状が鋭角または直角である場合には、電界集中が起こりやすく、有機EL素子126におけるリーク電流のバラツキが生じ、発光特性が均一でなくなってしまうが、本実施の形態における画像表示装置では、電界集中が起こりにくく、有機EL素子126におけるリーク電流のバラツキを抑制することができ、発光特性を均一にすることができるのである。
次に、図9及び図10に基づき本実施の形態における画像表示装置の製造方法について説明する。尚、図10(a)、(f)は断面構造を示すものであり、図4(b)〜(e)は上面構造を示すものである。
次に、第6の実施の形態について説明する。本実施の形態に係る電子機器は画像表示装置を有するテレビジョン装置である。図11から図16に基づき本実施の形態におけるテレビジョン装置について説明する。
12 ゲート電極
13 ゲート絶縁膜
14 半導体層
15 ソース電極
16 ドレイン電極
17 薄膜トランジスタ
21 層間絶縁膜
22 コンタクトホール
23 画素電極
24 有機発光層
25 対向電極
26 有機EL素子
27 第2の隔壁
28 第1の隔壁
29 開口領域
Claims (13)
- 基板上に2次元的に形成されたトランジスタと、
前記トランジスタのソース電極またはドレイン電極上に開口部を有し、前記トランジスタ上に形成された層間絶縁膜と、
前記2次元方向のうち一方の方向に沿って、前記開口部を覆うことなく形成された複数の第2の隔壁と、
前記第2の隔壁間に前記開口部を埋込み前記層間絶縁膜上の所定の領域に形成された画素電極と、
前記一方の方向に交差または交差する直線上に配列するように、前記画素電極を介し前記開口部上を覆ように形成された複数の第1の隔壁と、
を有し、前記第1の隔壁と前記第2の隔壁により形成される前記画素電極の露出部分における4隅の角はすべて鈍角であること、または、前記画素電極の露出部分は円形状または長円形状となるように形成されていることを特徴とする画像表示装置。 - 基板上に2次元的に形成されたトランジスタと、
前記トランジスタのソース電極またはドレイン電極上に開口部を有し、前記トランジスタ上に形成された層間絶縁膜と、
前記2次元方向のうち一方の方向に沿って、前記開口部を覆うことなく形成された複数の第2の隔壁と、
前記第2の隔壁間に前記開口部を埋込み前記層間絶縁膜上の所定の領域に形成された補助電極と、
前記一方の方向に交差または交差する直線上に配列するように、前記補助電極を介し前記開口部上を覆ように形成された複数の第1の隔壁と、
前記第1の隔壁間には前記補助電極が露出しており、前記第1の隔壁及び前記第2の隔壁に囲まれた領域に形成された画素電極と、
を有し、前記第1の隔壁と前記第2の隔壁により形成される前記画素電極の露出部分における4隅の角はすべて鈍角であること、または、前記画素電極の露出部分は円形状または長円形状となるように形成されていることを特徴とする画像表示装置。 - 前記第2の隔壁及び前記第1の隔壁はライン状に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の画像表示装置。
- 前記第2の隔壁及び前記第1の隔壁のいずれか一方の隔壁はライン状に形成されており、他方の隔壁は、一方の隔壁間の領域に所定の間隔で形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の画像表示装置。
- 前記第2の隔壁の端部における領域上の一部にも前記第1の隔壁が形成されることを特徴とする請求項4に記載の画像表示装置。
- 2次元的にトランジスタが形成されている基板上に、前記トランジスタのソース電極またはドレイン電極上に開口部を有する層間絶縁膜を形成する層間絶縁膜形成工程と、
前記層間絶縁膜上に前記開口部を覆うことなく、前記2次元方向のうち一方の方向に沿って複数の第2の隔壁を形成する第2の隔壁形成工程と、
前記第2の隔壁間において開口部を埋込み、かつ、前記層間絶縁膜上の所定の領域に画素電極を形成する画素電極形成工程と、
前記画素電極を介して開口部を覆い、前記画素電極が露出するように前記一方の方向に交差または交差する直線上に配列するように複数の第1の隔壁を形成する第1の隔壁形成工程と、
を有し、前記第1の隔壁と前記第2の隔壁により形成される前記画素電極の露出部分における4隅の角はすべて鈍角であること、または、前記画素電極の露出部分は円形状または長円形状となるように形成されていることを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 2次元的にトランジスタが形成されている基板上に、前記トランジスタのソース電極またはドレイン電極上に開口部を有する層間絶縁膜を形成する層間絶縁膜形成工程と、
前記層間絶縁膜上に前記開口部を覆うことなく、前記2次元方向のうち一方の方向に沿って複数の第2の隔壁を形成する第2の隔壁形成工程と、
前記第2の隔壁間において開口部を埋込み、かつ、前記層間絶縁膜上の所定の領域に補助電極を形成する補助電極形成工程と、
前記補助電極を介して開口部を覆い、前記補助電極が露出するように前記一方の方向に交差または交差する直線上に配列するように複数の第1の隔壁を形成する第1の隔壁形成工程と、
前記第2の隔壁及び前記第1の隔壁に囲まれた領域に画素電極を形成する画素電極形成工程と、
を有し、前記第1の隔壁と前記第2の隔壁により形成される前記画素電極の露出部分における4隅の角はすべて鈍角であること、または、前記画素電極の露出部分は円形状または長円形状となるように形成されていることを特徴とする画像表示装置の製造方法。 - 前記画素電極形成工程は、極性溶媒に導電性微粒子を分散したインクを用いて、インクジェット法により形成するものであることを特徴とする請求項6または7に記載の画像表示装置の製造方法。
- 前記画素電極上に有機発光層を形成する有機発光層形成工程をさらに有し、
前記有機発光層形成工程は、有機発光層を構成する材料をインクジェット法、ディスペンサー法、ノズルプリンティング法により印刷し形成するものであることを特徴とする請求項6から8のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。 - 前記第2の隔壁形成工程では、前記第2の隔壁の表面に撥液処理を行うことを特徴とする請求項6から9のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。
- 前記第1の隔壁形成工程では、前記第1の隔壁の表面に撥液処理を行うことを特徴とする請求項6から10のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。
- 前記第1の隔壁形成工程では、前記第1の隔壁と前記第2の隔壁の表面に撥液処理を行うことを特徴とする請求項6から10のいずれかに記載の画像表示装置の製造方法。
- 請求項1から5のいずれかに記載の画像表示装置を有することを特徴とする電子機器。
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