JP2011106775A - Rotary kiln - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、処理雰囲気を保持して、被処理物を熱処理するロータリーキルンに関する。 The present invention relates to a rotary kiln that maintains a processing atmosphere and heat-treats an object to be processed.
従来からあるロータリーキルンは、ほぼ水平に支持された円筒体と、円筒体の端部に設けられる供給フードおよび排出フード等から成る固定部とで構成される。そして、円筒体を回転させて供給フード側から排出フード側へと被処理物を搬送しながら、加熱手段により被処理物を加熱して、熱処理を行う。 A conventional rotary kiln is composed of a cylindrical body that is supported substantially horizontally and a fixed portion that includes a supply hood, a discharge hood, and the like provided at the end of the cylindrical body. And while rotating a cylindrical body and conveying a to-be-processed object from the supply hood side to the discharge hood side, a to-be-processed object is heated with a heating means, and heat processing is performed.
被処理物の熱処理を行う際に、被処理物の種類によっては熱分解されることにより、有毒なガスが発生することがあるため、発生したガスが外部に漏れないようにする必要がある。また、大気がロータリーキルン内に侵入した場合、熱処理を行うための処理雰囲気が変化することにより、所望の熱処理を行うことができなくなるため、外部から大気が侵入することを防止して、処理雰囲気を保持する必要がある。 When heat-treating an object to be processed, toxic gas may be generated due to thermal decomposition depending on the type of the object to be processed. Therefore, it is necessary to prevent the generated gas from leaking to the outside. In addition, when the air enters the rotary kiln, the processing atmosphere for performing the heat treatment changes, so that the desired heat treatment cannot be performed. Need to hold.
したがって、ロータリーキルンでは、発生したガスが外部に漏れたり、外部から大気が侵入したりすることがないような気密性の高い構造が要求される。 Therefore, a rotary kiln is required to have a highly airtight structure in which the generated gas does not leak to the outside or the atmosphere does not enter from the outside.
そこで、円筒体と固定部との隙間に、例えば、パッキン等のシール部材で構成されるシール構造を設けることにより、ロータリーキルン内の気密性を確保しようと努めている。 Therefore, an attempt is made to ensure airtightness in the rotary kiln by providing a seal structure formed of a seal member such as a packing in the gap between the cylindrical body and the fixed portion.
このシール構造では、円筒体を回転可能にシールしなければならないため、円筒体と固定部との間で、シール部材が摺動する面を設ける必要がある。しかし、円筒体が回転すると、シール部材が摺動面で摩耗するため、摺動面に次第に隙間が生じて気密性が低下し、ロータリーキルン内の処理雰囲気を保持することができない。 In this seal structure, since the cylindrical body must be sealed rotatably, it is necessary to provide a surface on which the seal member slides between the cylindrical body and the fixed portion. However, when the cylindrical body is rotated, the seal member is worn on the sliding surface, so that gaps are gradually formed on the sliding surface, the airtightness is lowered, and the processing atmosphere in the rotary kiln cannot be maintained.
さらに、円筒体は加熱されて長手方向および径方向に熱膨張することで、撓むなどの熱変形をする。このような加熱による円筒体の変形によっても、円筒体と固定部間のシール構造が変化して隙間が生じ、気密性が低下するという問題もある。 Furthermore, the cylindrical body is heated and thermally expanded in the longitudinal direction and the radial direction, thereby undergoing thermal deformation such as bending. Even when the cylindrical body is deformed by such heating, there is a problem in that the sealing structure between the cylindrical body and the fixed portion is changed to create a gap, resulting in a decrease in airtightness.
このような問題点を解決するために、摺動面におけるシール部材の摩耗や円筒体の熱変形に対応したロータリーキルンのシール構造は、例えば、特許文献1、特許文献2など多数考えられている。
In order to solve such problems, a number of rotary kiln seal structures corresponding to wear of the seal member on the sliding surface and thermal deformation of the cylindrical body have been considered, for example, Patent Document 1 and
特許文献1では、固定側のシールリングと、これに対向するように設けられた可動側のシールリングとを常に一定の圧力を押しつける構成を取り、シールリングが摩耗したとしても、常に摺動面が密接した状態となることにより、内部ガスが外部へ漏洩することを防止するシール装置が考えられている。 In Patent Document 1, even if the fixed ring and the movable seal ring provided so as to oppose the fixed ring are always pressed against each other, even if the seal ring is worn, the sliding surface always remains. A sealing device that prevents the internal gas from leaking to the outside due to the close contact state is considered.
特許文献2では、回転筒が、運転時の熱の影響で、熱膨張、撓むなどの変形をしたとしても、シール面が良好に当接して摺動する構成により、回転筒の熱膨張の影響を受けにくいシール構造が考えられている。
In
特許文献1にように、摺動面を圧力で押し付けるような構成は、押しつける圧力を大きくすると気密性が高くなる一方で、摺動面に作用する摩擦力が大きくなり、円筒体を回転させるための駆動力が大きくなってしまう、または円筒体を回転できないという問題がある。 As in Patent Document 1, the structure in which the sliding surface is pressed with pressure increases the airtightness when the pressing pressure is increased, while the frictional force acting on the sliding surface increases and the cylindrical body is rotated. There is a problem that the driving force increases, or the cylindrical body cannot be rotated.
また、特許文献2では、回転筒の熱変形に対応できるような気密性の高いシール構造が得られるが、そのシール構造の構成は極めて複雑なものとなる。
Further, in
そこで、本発明が解決しようとする課題は、円筒体を回転可能にシールするシール構造を設けることなく、簡単な構成で、被処理物を熱処理する際の処理雰囲気を保持することができる気密性の高いロータリーキルンを提供することにある。 Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a hermeticity capable of maintaining a processing atmosphere when heat-treating an object to be processed with a simple configuration without providing a seal structure for sealing a cylindrical body rotatably. To provide a high-quality rotary kiln.
上記課題を解決するために、本発明に係るロータリーキルンは、軸回りに回転する円筒体と、円筒体を回転可能に支持する支持手段と、被処理物を加熱する加熱手段とを備え、被処理物を円筒体の一端から他端へと搬送しながら、加熱手段により熱処理を行い、
円筒体、支持手段および加熱手段を包囲し、これによって包囲される処理雰囲気を保持する気密機構と、円筒体の上側から処理雰囲気を冷却する冷却手段を備える。
In order to solve the above problems, a rotary kiln according to the present invention includes a cylindrical body that rotates about an axis, a support unit that rotatably supports the cylindrical body, and a heating unit that heats an object to be processed. While conveying the object from one end of the cylindrical body to the other end, heat treatment is performed by heating means,
An airtight mechanism is provided that surrounds the cylindrical body, the support means, and the heating means, and maintains a processing atmosphere surrounded by the cylindrical body, and a cooling means that cools the processing atmosphere from above the cylindrical body.
好ましくは、冷却手段は、冷却水を循環させて、冷却水により処理雰囲気を冷却する水冷式冷却である。 Preferably, the cooling means is water-cooled cooling that circulates cooling water and cools the treatment atmosphere with the cooling water.
好ましくは、冷却手段は、気密機構の少なくとも上面が内壁と外壁とで構成され、内壁と外壁の間に冷却水を循環させる。 Preferably, the cooling means is configured such that at least the upper surface of the airtight mechanism is constituted by an inner wall and an outer wall, and the cooling water is circulated between the inner wall and the outer wall.
好ましくは、冷却手段は、冷却水を循環させるための水冷管を備え、水冷管が気密機構の外側で、気密機構の上面全体に渡って設けられている。 Preferably, the cooling means includes a water cooling pipe for circulating the cooling water, and the water cooling pipe is provided on the entire upper surface of the airtight mechanism outside the airtight mechanism.
好ましくは、冷却手段は、冷却水を循環させるための水冷管を備え、水冷管が気密機構の上面の内側で、気密機構の上面全体に渡って設けられている。 Preferably, the cooling means includes a water cooling pipe for circulating the cooling water, and the water cooling pipe is provided over the entire upper surface of the airtight mechanism inside the upper surface of the airtight mechanism.
好ましくは、水冷管は、少なくとも一部が上下方向に蛇行して設けられている。 Preferably, the water-cooled tube is provided so that at least a part thereof meanders in the vertical direction.
本発明によれば、円筒体、円筒体を支持する支持手段、および加熱手段を全て包囲する気密機構を設け、この気密機構により、大気とロータリーキルン内の処理雰囲気とを遮断して、処理雰囲気を保持している。そのため、シール部材が摺動して円筒体を回転可能にシールするシール構造を設けずに、非常に簡単な構造で、確実に処理雰囲気を保持することができる。 According to the present invention, an airtight mechanism that surrounds all of the cylindrical body, the supporting means for supporting the cylindrical body, and the heating means is provided, and by this airtight mechanism, the atmosphere and the processing atmosphere in the rotary kiln are shut off, thereby reducing the processing atmosphere. keeping. Therefore, it is possible to reliably maintain the processing atmosphere with a very simple structure without providing a seal structure for slidingly sealing the cylindrical body by sliding the seal member.
したがって、従来のように円筒体が回転することによって、シール部材が摩耗して気密性が低下することは当然ない。そのため、摺動面の摩擦力に対抗して円筒体を回転しなくてよいので、円筒体の回転に必要な駆動力が軽減される。さらに、加熱により円筒体が熱変形したとしても気密機構は変形せず、円筒体の熱膨張によりロータリーキルンの気密性が低下することはない。 Therefore, the sealing member is not worn by the rotation of the cylindrical body as in the prior art, and naturally the airtightness is not lowered. Therefore, it is not necessary to rotate the cylindrical body against the frictional force of the sliding surface, so that the driving force necessary for rotating the cylindrical body is reduced. Furthermore, even if the cylindrical body is thermally deformed by heating, the airtight mechanism is not deformed, and the airtightness of the rotary kiln is not lowered by the thermal expansion of the cylindrical body.
本発明の構成では、気密機構内に加熱手段が含まれるため、ロータリーキルンを継続して運転すると、気密機構内の温度が著しく上昇する。そこで、冷却手段により、加熱されて気密機構の上部へ上昇する気体を冷却することにより、気密機構内の温度を調整して、ロータリーキルンが正常に運転することを確保している。 In the structure of this invention, since a heating means is contained in an airtight mechanism, if a rotary kiln is continuously operated, the temperature in an airtight mechanism will rise remarkably. Therefore, the cooling means cools the gas that is heated and rises to the top of the hermetic mechanism, thereby adjusting the temperature in the hermetic mechanism and ensuring that the rotary kiln operates normally.
以下、図面に基づいて本発明に係るロータリーキルンの実施形態を説明する。 Hereinafter, an embodiment of a rotary kiln according to the present invention will be described based on the drawings.
[第一実施形態]
図1に示すように、本発明に係るロータリーキルンは、チャンバー10を備える。チャンバー10は、架台11の上に設けられて支持されている。ロータリーキルンは、チャンバー10の一端側に供給フード12を、他端側には排出フード13を備える。そして、チャンバー10内部と供給フード12の内部とは連通し、これらの取付位置にはシール構造が設けられて、シールされる。チャンバー10と排出フード13も同様に、内部が連通し、シール構造を介して取り付けられる。
[First embodiment]
As shown in FIG. 1, the rotary kiln according to the present invention includes a
ロータリーキルンは、被処理物を搬送する円筒体2を備える。また、ロータリーキルンは、チャンバー10内に、円筒体2を軸周りに回転させる駆動手段3を備える。さらに、ロータリーキルンは、チャンバー10内に、円筒体2を軸周りに回転可能に支持する支持手段4を備える。
The rotary kiln includes a
円筒体2は、支持手段4により支持されて、一端2aが供給フード12に、他端2bが排出フード13へ突出するようにチャンバー10内に設けられる。円筒体2の内周面には、被処理物を攪拌できるように、らせん状の羽部材(図示せず)が設けられる。
The
駆動手段3は、モータ30、ギア31、および円筒体2に外嵌されるリングギア32とで構成される。ギア31は、モータ30により回転するように取り付けられ、さらにリングギア32に係合している。この構成によって、モータ30を駆動させることにより、動力がギア31を介してリングギア32に伝達され、リングギア32とともに円筒体2が軸周りに回転する。
The
支持手段4は、支持土台40、支持土台40の上に設けられた支持ローラ41、および円筒体に外嵌されるタイヤ42とで構成される。円筒体2は、円筒体2とともに回転するタイヤ42を介して、支持ローラ41によって回転可能に支持されている。支持手段4は、円筒体2の両端2a、2b側のそれぞれ設けられ、円筒体2の供給口2aが排出口2bよりも僅かに高くなるように、水平に対して傾斜をなすように円筒体2を支持している。
The support means 4 includes a
さらに、ロータリーキルンは、チャンバー10内に被処理物を熱処理する加熱手段5を備える。加熱手段5は、円筒体2の周囲に設けられるヒータ50と、これを支持するヒータ台51で構成される。ヒータ50は、円筒体2の外周面を加熱することにより、円筒体2の内部にある被処理物を間接的に加熱して、熱処理を行う。
Further, the rotary kiln includes a heating means 5 for heat-treating an object to be processed in the
ロータリーキルンは、熱処理される被処理物を内部へ投入する供給ホッパ60を備える。供給ホッパ60には、シール可能な二段ダンパ61が設けられ、大気がロータリーキルン内に侵入し、または、処理雰囲気が外部に漏れることを防止しながら、ロータリーキルン内に被処理物を投入する。
The rotary kiln includes a
具体的には、下段ダンパ61bを閉じた状態で上段ダンパ61aを開き、二段ダンパ61間の空間60aに、被処理物を投入する。そして、上段ダンパ61aを閉じ、空間60aを密閉状態にする。そして、密閉された空間60a内の大気を排除し、空間60a内に雰囲気ガスを導入し、空間60a内の圧力を、ロータリーキルン内の圧力と同圧となるように調整する。その後、下段ダンパ61bを開くことにより、被処理物をロータリーキルン内に投入する。このようにして、大気の侵入および処理雰囲気の漏れを防止しながら、被処理物をロータリーキルン内に投入する。
Specifically, the
さらに、ロータリーキルンは、内部に投入された被処理物を円筒体2へと搬送するスクリューフィーダ62を備える。スクリューフィーダ62は、供給ホッパ60の下側に設けられ、円筒体2の軸方向に沿って伸び、その先端が円筒体2の供給口2aに入り込んでいる。供給ホッパ60と供給フード12との間には、スクリューフィーダ62の径よりも大きい径を有するフランジ管14が取り付けられてシールされ、気密に連通している。
Further, the rotary kiln includes a
ロータリーキルンは、熱処理された被処理物を外部へ排出する排出ホッパ63を備える。排出ホッパ63は、供給ホッパ60と同様に、二段ダンパ61が設けられ、気密に被処理物を排出する。さらに、ロータリーキルンは、排出フード13から送られる被処理物を排出ホッパ63へ搬送するスクリューフィーダ64を備える。スクリューフィーダ64は、水平方向に伸び、その先端が排出ホッパ63の入り口の上側に位置するように設けられる。そして、排出フード13と排出ホッパ63と間には、スクリューフィーダ64より径の大きい管15が設けられ、スクリューフィーダ64を包囲している。この管15は、排出フード13にシール構造を介して取り付けられ、さらに、排出ホッパ63の入口側とも同様に、シール構造を介して取り付けられている。
The rotary kiln includes a
上記構成からなるロータリーキルン内に、粉状、粒状などの被処理物が投入されて、熱処理された後、外部へ排出される。 An object to be processed such as powder or granules is put into the rotary kiln having the above-described configuration, heat-treated, and then discharged to the outside.
まず初めに、熱処理される被処理物は、投入ホッパ60へ投入される。投入ホッパ60は、二段ダンパ61により大気の侵入、または内部の処理雰囲気の漏れを防止しながら、被処理物をスクリューフィーダ62まで送る。そして、被処理物は、スクリューフィーダ62が回転駆動することにより、フランジ管14内を通ってスクリューフィーダ62の先端側へ移動し、供給口2аから円筒体2の内部へ投入される。
First, the workpiece to be heat-treated is put into the
円筒体2の内部へ投入された被処理物は、駆動手段3によって円筒体2が軸周りに回転することにより、攪拌されながら排出口2bへと搬送され、搬送されながら加熱手段5により熱処理をされる。
The object to be processed put into the
そして、熱処理された被処理物は、排出口2bから排出され、排出フード13を通過して、管15内に設けられたスクリューフィーダ64に達する。そして、被処理物は、スクリューフィーダ64が駆動することにより、管15内をスクリューフィーダ64の先端側へ移動し、排出ホッパ63に投入され、外部へと排出される。
The heat-treated object is discharged from the
このようにロータリーキルン内において、被処理物の熱処理が行われるときの処理雰囲気は、供給ホッパ60、フランジ管14、供給フード12、チャンバー10、排出フード13、管15および排出ホッパ63によって形成される一つの空間に包囲されている。さらに、供給ホッパ60および排出フード63は、二段ダンパ61により外気を遮断し、気密に被処理物の供給および排出を行い、そして、この処理雰囲気を包囲する各構成部材間には、上述のようにシール構造が設けられシールされている。そのため、これらによって包囲された処理雰囲気は外部に漏れることはなく、また、外部から大気が侵入することはない。
Thus, in the rotary kiln, the processing atmosphere when the heat treatment of the workpiece is performed is formed by the
すなわち、本発明に係るロータリーキルンでは、被処理物が投入され、熱処理され、そして、排出されるまでの処理雰囲気を包囲し、この包囲された処理雰囲気を保持する気密機構が構成される。上記の通り、本実施例では気密機構は、供給ホッパ60、フランジ管14、供給フード12、チャンバー10、排出フード13、管15、および排出ホッパ63とで構成される。そして、円筒体2、駆動手段3、支持手段4および加熱手段5は、この気密機構内に完全に包囲され、被処理物はこの気密機構内において熱処理される。
That is, in the rotary kiln according to the present invention, an airtight mechanism is formed that surrounds the processing atmosphere until the workpiece is charged, heat-treated, and discharged, and holds the surrounded processing atmosphere. As described above, in the present embodiment, the hermetic mechanism includes the
したがって、本発明に係るロータリーキルンは、従来にように円筒体2と供給フード12、排出フード13間に、円筒体2を回転可能にシールするシール構造を設けなくても、円筒体全体を包囲する気密機構によって、被処理物を熱処理する処理雰囲気を確実に保持している。そして、円筒体2が、加熱されることにより軸方向や、径方向へ膨張して撓むといった熱変形しても、気密機構の構成は変化せず、ロータリーキルンの気密性が低下することはない。
Therefore, the rotary kiln according to the present invention surrounds the entire cylindrical body without providing a sealing structure for rotatably sealing the
なお、本実施例では、供給フード12および排出フード13は、チャンバーにシール構造を介して取り付けられているが、チャンバー10に取付けるのではなく、チャンバー10に一体的に形成してもよい。これによって、気密機構を構成するために必要とするシール構造を減らすことができ、さらに確実に、気密機構により包囲される処理雰囲気を保持することが可能となる。
In this embodiment, the
また、本実施例において、ガス流通管(図示せず)をチャンバー10にシール構造を介して気密に取り付け、チャンバー10内と連通するようにし、気密機構内において被処理物の加熱により発生したガスを吸引する構成としてもよい。また、ガス流通管により雰囲気ガスを吸引または導入するようにし、気密機構内の圧力を正圧または負圧に圧力調整ができる構成としてもよい。
In this embodiment, a gas flow pipe (not shown) is hermetically attached to the
本発明に係るロータリーキルンでは、気密機構内に加熱手段5が包囲された構成となっているため、ロータリーキルンの運転を継続させると、気密機構内の温度は次第に上昇する。そのため、気密機構を構成する各部材および気密機構内に設けられた各部材は全て、気密機構内の温度上昇に耐えることができる耐熱性のある素材で構成されている。しかし、気密機構内の温度が上昇しすぎると、ロータリーキルンが正常な運転を行うことができない虞がある。 In the rotary kiln according to the present invention, the heating means 5 is enclosed in the airtight mechanism. Therefore, when the operation of the rotary kiln is continued, the temperature in the airtight mechanism gradually increases. Therefore, each member constituting the hermetic mechanism and each member provided in the hermetic mechanism are all made of a heat-resistant material capable of withstanding the temperature rise in the hermetic mechanism. However, if the temperature in the airtight mechanism rises too much, the rotary kiln may not be able to perform normal operation.
そこで、本発明に係るロータリーキルンは、気密機構に包囲された処理雰囲気を冷却するための冷却手段を備える。本実施例における冷却手段は、冷却水を循環させて冷却を行う水冷式冷却である。 Therefore, the rotary kiln according to the present invention includes a cooling means for cooling the processing atmosphere surrounded by the airtight mechanism. The cooling means in the present embodiment is water-cooled cooling that performs cooling by circulating cooling water.
図1に示されるように、チャンバー10の上面全体および側面の一部は、外壁10aおよび内壁10bとで構成され、外壁10aと内壁10bとの間に空間10cが形成された二重構造となっている。給水管70が外壁10aの側面の下端で接続され、排水管71が外壁10аの上面で接続され、いずれも外壁10aおよび内壁10bにより形成された空間10cと連通する。さらに、給水管70および排水管71は循環ポンプ(図示せず)に接続されることにより、循環経路が形成される。
As shown in FIG. 1, the entire upper surface and a part of the side surface of the
循環ポンプを作動させることにより、冷却水は給水管70を通って、外壁10aと内壁10bとの間に形成された空間10cへ供給される。冷却水は、下側から排水管71側へと空間10cを満たしながら移動する。そして、冷却水はチャンバー10の二重構造内部を通過することによって、過熱されてチャンバー10上部に上昇している処理雰囲気を、内壁10bを介して冷却する。冷却後、排水管71に送られた冷却水は、冷却器(図示せず)に送られて冷却される。そして、循環ポンプにより再び循環経路を循環して、気密機構により包囲された処理雰囲気の冷却を行う。
By operating the circulation pump, the cooling water is supplied through the
[第二実施形態]
また、上記のようにチャンバー10を二重構造にして気密機構内を冷却する場合のほか、図2に示す実施例のように冷却手段として水冷管72を用いてもよい。図2の実施例では、一本の水冷管72が、チャンバー10の上面の外側に当接して設けられる。この水冷管72は、図3に示すようにチャンバー10上面において、排出フード13側から供給フード12側に向かって、円筒体2の軸方向に沿って伸び、複数回往復することによりチャンバー10の上面全体に渡って配設される。
[Second Embodiment]
In addition to cooling the inside of the airtight mechanism with the
水冷管72は、図1の場合と同様に循環ポンプおよび冷却装置に接続されて、循環経路が形成される。そして、冷却水は、循環ポンプにより給水管72の冷却水入口72a通り、水冷管72を循環し、水冷管72の冷却水出口72bを通過することによって、チャンバー10の外面から気密機構により包囲された処理雰囲気を間接的に冷却する。
The
[第三実施形態]
また図4に示す実施例のように、水冷管72が、チャンバー10内を通るようにしてもよい。図4の実施例では、水冷管72が、チャンバー10の壁を貫通し、チャンバー10の内側上面を通って、再びチャンバー10の壁を貫通して外部へと導かれている。チャンバー10の水冷管72を貫通させた箇所には、シール構造が設けられ、処理雰囲気がロータリーキルンの外部に漏れ、または、大気がチャンバー10内に入ることを防止して、処理雰囲気が保持される。その他の構成は、図2の実施例の場合と同様である。
[Third embodiment]
Further, as in the embodiment shown in FIG. 4, the
本実施例では、水冷管72がチャンバー10内に配設されているため、加熱手段5により加熱されてチャンバー10内を上昇する処理雰囲気を直接的に冷却することができる。また、図2の実施例では、水冷管72とチャンバー10との当接部分からのみ処理雰囲気の冷却を行うが、本実施例ではチャンバー10内を通った水冷管72の周面全体から冷却を行うことができる。したがって、本実施例は、図2に示す実施例の場合と比較して、より高い冷却効率を得ることができる。
In this embodiment, since the
[第四実施形態]
さらに、図5の実施例に示すように、チャンバー10内において、水冷管72の少なくとも一部が上下に蛇行するように設けてもよい。図5の実施例では、チャンバー10内において、水冷管72が、円筒体2上側に配置されたヒータ50の両端側を通るようし、加熱面を除いてヒータ50を囲うように配設されている。他の構成は、図4に示した実施例と同様である。
[Fourth embodiment]
Furthermore, as shown in the embodiment of FIG. 5, at least a part of the water-cooled
本実施例では、チャンバー10内の上面側において水冷管72を蛇行させて配置しているため、図4の実施例と比べて、水冷管72が、チャンバー10内を通過する距離が増加している。さらに、水冷管73は、円筒体2の上側にあるヒータ50の加熱面以外を囲うようにし、チャンバー10内の円筒体2の上側の空間を埋めるように配置される。したがって、図4の実施例よりも、加熱してチャンバー10上部に上昇する処理雰囲気を、さらに効率よく冷却することができる。
In this embodiment, since the
なお、図1、図3〜図5に示す実施例では、冷却手段がチャンバー10の上面や側面に設けられているが、これだけでなく、チャンバー10の下面にも冷却手段を設けてもよい。すなわち、チャンバー10全体を二重構造としたり、水冷管72をチャンバー10の全体に渡って配設したりしてもよい。また、チャンバー10を二重構造とする冷却手段と、水冷管72による冷却手段を合わせて用いてもよい。
In the embodiment shown in FIGS. 1 and 3 to 5, the cooling means is provided on the upper surface and side surfaces of the
チャンバー 10
チャンバー外壁 10a
チャンバー内壁 10b
空間 10c
供給フード 12
排出フード 13
円筒体 2
駆動手段 3
支持手段 4
加熱手段 5
供給ホッパ 60
排出ホッパ 63
給水管 70
排出管 71
水冷管 72
Chamber
Chamber
Driving means 3
Support means 4
Heating means 5
Water-cooled
Claims (6)
前記円筒体、前記支持手段および前記加熱手段を包囲し、これにより包囲された処理雰囲気を保持する気密機構と、
前記円筒体の上側から前記処理雰囲気を冷却する冷却手段を備えたことを特徴とするロータリーキルン。 A cylindrical body that rotates about an axis; a support unit that rotatably supports the cylindrical body; and a heating unit that heats the object to be processed. The object to be processed is conveyed from one end to the other end of the cylindrical body. While in the rotary kiln that performs heat treatment by the heating means,
An airtight mechanism that surrounds the cylindrical body, the support means, and the heating means, and thereby holds the enclosed processing atmosphere;
A rotary kiln comprising cooling means for cooling the processing atmosphere from above the cylindrical body.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009263886A JP2011106775A (en) | 2009-11-19 | 2009-11-19 | Rotary kiln |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011106775A true JP2011106775A (en) | 2011-06-02 |
Family
ID=44230440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009263886A Pending JP2011106775A (en) | 2009-11-19 | 2009-11-19 | Rotary kiln |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
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- 2009-11-19 JP JP2009263886A patent/JP2011106775A/en active Pending
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