JP2011100111A5 - - Google Patents
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Description
これらの方法で実施した防塵性能の結果を表５に示す。
表５では、（４−１）ポリエチレンパウダー法、（４−２）関東ローム法及び（４−３）コットンリンタ法の結果が示される。
表５に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例１，３が比較例１，３，５，７，９や参考例１に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例２，４が比較例２，４，６，８，１０や参考例２に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。なお、実施例１，３が参考例１に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例２，４が参考例２に比べて着塵量及び残存量とも小さいのは、前述の通り、ＺｒがＴｉに比べて電気陰性度が小さいことに起因するものと思われる。
電気陰性度とは、分子内で結合している原子が電子を引きつける能力を数値で表したものであり、その数値を求める方法がいくつかあるが、ポウリングの方法で求められた数値が一般的である。ポウリングの方法による電気陰性度はＴｉが１．５４に対してＺｒが１．３３と小さい。電気陰性度はゴミが表面から脱離するのに最低限必要なエネルギーとも解釈できる。そのため、電気陰性度が小さい元素を含む酸化物を使用することにより、防塵性能を向上させることができる。
また、実施例及び比較例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例２，４、比較例２，４，６，８，１０及び比較例２がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例１，３、比較例１，３，５，７，９及び比較例１に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例、比較例及び参考例とも、実施例１，２が比較例１〜１０や参考例１，２に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。また、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例２，４、比較例２，４，６，８、１０及び参考例２がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例１，３、比較例１，３，５，７，９及び比較例１に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、フッ素含有有機ケイ素化合物膜により表面エネルギーが低下したため、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
表５では、（４−１）ポリエチレンパウダー法、（４−２）関東ローム法及び（４−３）コットンリンタ法の結果が示される。
表５に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例１，３が比較例１，３，５，７，９や参考例１に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例２，４が比較例２，４，６，８，１０や参考例２に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。なお、実施例１，３が参考例１に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例２，４が参考例２に比べて着塵量及び残存量とも小さいのは、前述の通り、ＺｒがＴｉに比べて電気陰性度が小さいことに起因するものと思われる。
電気陰性度とは、分子内で結合している原子が電子を引きつける能力を数値で表したものであり、その数値を求める方法がいくつかあるが、ポウリングの方法で求められた数値が一般的である。ポウリングの方法による電気陰性度はＴｉが１．５４に対してＺｒが１．３３と小さい。電気陰性度はゴミが表面から脱離するのに最低限必要なエネルギーとも解釈できる。そのため、電気陰性度が小さい元素を含む酸化物を使用することにより、防塵性能を向上させることができる。
また、実施例及び比較例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例２，４、比較例２，４，６，８，１０及び比較例２がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例１，３、比較例１，３，５，７，９及び比較例１に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例、比較例及び参考例とも、実施例１，２が比較例１〜１０や参考例１，２に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。また、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例２，４、比較例２，４，６，８、１０及び参考例２がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例１，３、比較例１，３，５，７，９及び比較例１に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、フッ素含有有機ケイ素化合物膜により表面エネルギーが低下したため、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
表１２では、ポリエチレンパウダー法、関東ローム法及びコットンリンタ法による防塵性能の結果が示される。
表１２に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例５，７が比較例１１，１３，１５，１７，１９や参考例１に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例６，８が比較例１２，１４，１６，１８，２０や参考例４に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。なお、実施例５，７が参考例３に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例６，８が参考例４に比べて着塵量及び残存量とも小さいのは、前述の通り、ＺｒがＴｉに比べて電気陰性度が小さいことに起因するものと思われる。
電気陰性度はゴミが表面から脱離するのに最低限必要なエネルギーとも解釈でき、値が小さいほどゴミが取れやすくなる。そのため、電気陰性度が小さい元素を含む酸化物を使用することにより、防塵性能を向上させることができる。
また、実施例、比較例及び参考例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例６，８、比較例１２，１４，１６，１８，２０及び参考例４がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例５，７、比較例１１，１３，１５，１７，１９及び参考例３に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例、比較例及び参考例とも、実施例５〜８が比較例１１〜２０や比較例３，４に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、表面粗さが改善されることで、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
表１２に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例５，７が比較例１１，１３，１５，１７，１９や参考例１に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例６，８が比較例１２，１４，１６，１８，２０や参考例４に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。なお、実施例５，７が参考例３に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例６，８が参考例４に比べて着塵量及び残存量とも小さいのは、前述の通り、ＺｒがＴｉに比べて電気陰性度が小さいことに起因するものと思われる。
電気陰性度はゴミが表面から脱離するのに最低限必要なエネルギーとも解釈でき、値が小さいほどゴミが取れやすくなる。そのため、電気陰性度が小さい元素を含む酸化物を使用することにより、防塵性能を向上させることができる。
また、実施例、比較例及び参考例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例６，８、比較例１２，１４，１６，１８，２０及び参考例４がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例５，７、比較例１１，１３，１５，１７，１９及び参考例３に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例、比較例及び参考例とも、実施例５〜８が比較例１１〜２０や比較例３，４に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、表面粗さが改善されることで、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
４）防塵性能
防塵性能試験を、（４−１）ポリエチレンパウダー法、（４−２）関東ローム法、（４−３）コットンリンタ法で実施した。これらの方法の具体的な仕様は前述の通りである。 表１７では、（４−１）ポリエチレンパウダー法、（４−２）関東ローム法及び（４−３）コットンリンタ法の結果が示される。
表１７に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例９，１０が比較例２１〜２４や参考例５，６に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。なお、実施例９，１１が参考例５に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例１０，１２が参考例６に比べて着塵量及び残存量とも小さいのは、前述の通り、ＴａがＴｉに比べて電気陰性度が小さいことに起因するものと思われるまた、実施例及び比較例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例１０，１２、比較例２２，２４，２６及び参考例６がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例９，１１、比較例２１，２３，２５及び参考例５に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例、比較例及び参考例とも、実施例９，１０が比較例２１〜２４や参考例５，６に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。
電気陰性度とは、分子内で結合している原子が電子を引きつける能力を数値で表したものであり、その数値を求める方法がいくつかあるが、ポウリングの方法で求められた数値が一般的である。ポウリングの方法による電気陰性度はＴｉが１．５４に対してＴａが１．５０と小さい。電気陰性度はゴミが表面から脱離するのに最低限必要なエネルギーとも解釈できる。そのため、電気陰性度が小さい元素を含む酸化物を使用することにより、防塵性能を向上させることができる。
また、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例１０，１２、比較例２２，２４，２６及び参考例６がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例９，１１、比較例２１，２３，２５及び参考例５に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、フッ素含有有機ケイ素化合物膜により表面エネルギーが低下したため、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
防塵性能試験を、（４−１）ポリエチレンパウダー法、（４−２）関東ローム法、（４−３）コットンリンタ法で実施した。これらの方法の具体的な仕様は前述の通りである。 表１７では、（４−１）ポリエチレンパウダー法、（４−２）関東ローム法及び（４−３）コットンリンタ法の結果が示される。
表１７に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例９，１０が比較例２１〜２４や参考例５，６に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。なお、実施例９，１１が参考例５に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例１０，１２が参考例６に比べて着塵量及び残存量とも小さいのは、前述の通り、ＴａがＴｉに比べて電気陰性度が小さいことに起因するものと思われるまた、実施例及び比較例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例１０，１２、比較例２２，２４，２６及び参考例６がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例９，１１、比較例２１，２３，２５及び参考例５に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例、比較例及び参考例とも、実施例９，１０が比較例２１〜２４や参考例５，６に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。
電気陰性度とは、分子内で結合している原子が電子を引きつける能力を数値で表したものであり、その数値を求める方法がいくつかあるが、ポウリングの方法で求められた数値が一般的である。ポウリングの方法による電気陰性度はＴｉが１．５４に対してＴａが１．５０と小さい。電気陰性度はゴミが表面から脱離するのに最低限必要なエネルギーとも解釈できる。そのため、電気陰性度が小さい元素を含む酸化物を使用することにより、防塵性能を向上させることができる。
また、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例１０，１２、比較例２２，２４，２６及び参考例６がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例９，１１、比較例２１，２３，２５及び参考例５に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、フッ素含有有機ケイ素化合物膜により表面エネルギーが低下したため、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
表２４では、ポリエチレンパウダー法、関東ローム法及びコットンリンタ法による防塵性能の結果が示される。
表２４に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例１３，１５が比較例２７，２９，３１や参考例７に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例１４，１６が比較例２８，３０や参考例８に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。なお、実施例１３，１５が参考例７に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例１４，１６が参考例８に比べて着塵量及び残存量とも小さいのは、前述の通り、ＴａがＴｉに比べて電気陰性度が小さいことに起因するものと思われる。
電気陰性度はゴミが表面から脱離するのに最低限必要なエネルギーとも解釈でき、値が小さいほどゴミが取れやすくなる。そのため、電気陰性度が小さい元素を含む酸化物を使用することにより、防塵性能を向上させることができる。
また、実施例、比較例及び参考例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例１４，１６、比較例２８，３０，３２及び参考例８がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例１３，１５、比較例２７，２９，３１及び参考例７に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例、比較例及び参考例とも、実施例１３〜１６が比較例２７〜３２や参考例７，８に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、表面粗さが改善されることで、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
表２４に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例１３，１５が比較例２７，２９，３１や参考例７に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例１４，１６が比較例２８，３０や参考例８に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。なお、実施例１３，１５が参考例７に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例１４，１６が参考例８に比べて着塵量及び残存量とも小さいのは、前述の通り、ＴａがＴｉに比べて電気陰性度が小さいことに起因するものと思われる。
電気陰性度はゴミが表面から脱離するのに最低限必要なエネルギーとも解釈でき、値が小さいほどゴミが取れやすくなる。そのため、電気陰性度が小さい元素を含む酸化物を使用することにより、防塵性能を向上させることができる。
また、実施例、比較例及び参考例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例１４，１６、比較例２８，３０，３２及び参考例８がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例１３，１５、比較例２７，２９，３１及び参考例７に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例、比較例及び参考例とも、実施例１３〜１６が比較例２７〜３２や参考例７，８に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、表面粗さが改善されることで、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
４）防塵性能
防塵性能試験を、（４−１）ポリエチレンパウダー法、（４−２）関東ローム法、（４−３）コットンリンタ法で実施した。これらの方法の具体的な仕様は前述の通りである。 これらの方法で実施した防塵性能の結果を表２８に示す。
表２８では、（４−１）ポリエチレンパウダー法、（４−２）関東ローム法及び（４−３）コットンリンタ法の結果が示される。
表２８に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例１７，１８が比較例３３〜３６に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。また、実施例及び比較例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例１８，２０及び比較例３４，３６，３８，４０がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例１７，１９及び比較例３３，３５，３７，３９に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例及び比較例とも、実施例１７，１８が比較例３３〜３６に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。また、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例１８，２０及び比較例３４，３６，３８，４０がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例１７，１９及び比較例３３，３５，３７，３９に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、表面粗さが改善されることで、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
防塵性能試験を、（４−１）ポリエチレンパウダー法、（４−２）関東ローム法、（４−３）コットンリンタ法で実施した。これらの方法の具体的な仕様は前述の通りである。 これらの方法で実施した防塵性能の結果を表２８に示す。
表２８では、（４−１）ポリエチレンパウダー法、（４−２）関東ローム法及び（４−３）コットンリンタ法の結果が示される。
表２８に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例１７，１８が比較例３３〜３６に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。また、実施例及び比較例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例１８，２０及び比較例３４，３６，３８，４０がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例１７，１９及び比較例３３，３５，３７，３９に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例及び比較例とも、実施例１７，１８が比較例３３〜３６に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。また、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例１８，２０及び比較例３４，３６，３８，４０がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例１７，１９及び比較例３３，３５，３７，３９に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、表面粗さが改善されることで、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
表３４では、ポリエチレンパウダー法、関東ローム法及びコットンリンタ法による防塵性能の結果が示される。
表３４に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例２１，２３が比較例４１，４３，４５，４７に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例２２，２４が比較例４２，４４，４６，４８に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。また、実施例及び比較例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例２２，２４及び比較例４２，４４，４６，４８がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例２１，２３及び比較例４１，４３，４５，４７に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例及び比較例とも、実施例２１〜２４が比較例４１〜４８に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、表面粗さが改善されることで、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
表３４に示される通り、ポリエチレンパウダー法では、実施例２１，２３が比較例４１，４３，４５，４７に比べて着塵量及び残存量とも小さく、実施例２２，２４が比較例４２，４４，４６，４８に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。また、実施例及び比較例とも、フッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けた実施例２２，２４及び比較例４２，４４，４６，４８がフッ素含有有機ケイ素化合物膜３を設けない実施例２１，２３及び比較例４１，４３，４５，４７に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。関東ローム法及びコットンリンタ法では、ポリエチレンパウダー法と同様に、実施例及び比較例とも、実施例２１〜２４が比較例４１〜４８に比べて着塵量及び残存量とも小さいことがわかる。以上の結果は、表面粗さが改善されることで、表面に塵や埃がつきにくくなることに起因する。
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Cited By (1)
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Families Citing this family (24)
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| US20140065838A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | Carolyn R. Ellinger | Thin film dielectric layer formation |
| US8791023B2 (en) * | 2012-08-31 | 2014-07-29 | Eastman Kodak Company | Patterned thin film dielectric layer formation |
| US8927434B2 (en) * | 2012-08-31 | 2015-01-06 | Eastman Kodak Company | Patterned thin film dielectric stack formation |
| JP6042156B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2016-12-14 | 学校法人慶應義塾 | 積層体とその製造方法 |
| JP6269665B2 (ja) | 2013-05-31 | 2018-01-31 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ、光学フィルタの製造方法 |
| US9611999B2 (en) * | 2014-07-21 | 2017-04-04 | GE Lighting Solutions, LLC | Reflecting apparatus including enhanced aluminum optical coatings |
| JP2016061792A (ja) * | 2014-09-12 | 2016-04-25 | 東海光学株式会社 | 光学製品及びレンズ用フィルタ |
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| EP3356306B1 (en) * | 2015-09-28 | 2021-06-16 | Tru Vue, Inc. | Near infrared reflective coated articles |
| JP6630161B2 (ja) * | 2016-01-21 | 2020-01-15 | 株式会社日本触媒 | 光選択透過フィルターおよびその製造方法 |
| KR102396179B1 (ko) | 2016-04-19 | 2022-05-09 | 어포지 엔터프라이지즈, 인크. | 코팅된 유리 표면 및 유리 기판을 코팅하는 방법 |
| KR101806698B1 (ko) * | 2016-05-30 | 2017-12-07 | 현대자동차주식회사 | 적외선 광학 필터 |
| CN108375892B (zh) * | 2017-01-30 | 2022-02-01 | 精工爱普生株式会社 | 钟表用部件以及钟表 |
| CN108375893A (zh) * | 2017-01-30 | 2018-08-07 | 精工爱普生株式会社 | 钟表用部件以及钟表 |
| CN108375894A (zh) * | 2017-01-30 | 2018-08-07 | 精工爱普生株式会社 | 钟表用部件以及钟表 |
| CA3058157A1 (en) | 2017-05-04 | 2018-11-08 | Apogee Enterprises, Inc. | Low emissivity coatings, glass surfaces including the same, and methods for making the same |
| US11231533B2 (en) * | 2018-07-12 | 2022-01-25 | Visera Technologies Company Limited | Optical element having dielectric layers formed by ion-assisted deposition and method for fabricating the same |
| KR102582465B1 (ko) | 2018-09-19 | 2023-09-25 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
| JP2020083700A (ja) * | 2018-11-26 | 2020-06-04 | コニカミノルタ株式会社 | 光学部材及び光学部材の製造方法 |
| CN109799557A (zh) * | 2019-02-28 | 2019-05-24 | 南京前海有芯信息技术有限公司 | 一种能反射紫外光的薄膜 |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53135348A (en) * | 1977-04-30 | 1978-11-25 | Toshiba Corp | Etching method for multilayer film |
| IT1270628B (it) * | 1994-10-06 | 1997-05-07 | Enichem Spa | Manufatti in ossido di silicio e/o altri ossidi metallici misti e procedimento per la loro preparazione in dimensioni finali o quasi finali |
| US6083628A (en) * | 1994-11-04 | 2000-07-04 | Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. | Hybrid polymer film |
| US6531230B1 (en) * | 1998-01-13 | 2003-03-11 | 3M Innovative Properties Company | Color shifting film |
| JP2000243075A (ja) * | 1998-12-24 | 2000-09-08 | Sony Corp | ディスクドライブ装置 |
| JP2001074931A (ja) * | 1999-08-31 | 2001-03-23 | Nikon Corp | 光学薄膜及び光学素子及び光学装置 |
| WO2002069000A1 (fr) * | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Seiko Epson Corporation | Filtre a film multicouche et procede de production de celui-ci, filtre eliminateur d'uv, verre etanche aux poussieres, panneau d'affichage et unite d'affichage du type a projection |
| KR20030012506A (ko) * | 2001-08-01 | 2003-02-12 | 삼성코닝 주식회사 | 디스플레이장치용 무반사 무정전 다층 박막 |
| JP2003227938A (ja) * | 2001-11-28 | 2003-08-15 | Sumitomo Chem Co Ltd | 偏光変換素子及びそれを用いた反射型液晶プロジェクタ |
| WO2005001526A1 (ja) * | 2003-06-26 | 2005-01-06 | Nikon Corporation | 多層膜光学素子の製造方法 |
| JP2005276306A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Hitachi Maxell Ltd | 偏光ビームスプリッタ及びその製造方法並びに光ピックアップ装置 |
| FR2869324B1 (fr) | 2004-04-21 | 2007-08-10 | Saint Gobain | Procede de depot sous vide |
| JP4449616B2 (ja) * | 2004-07-21 | 2010-04-14 | パナソニック株式会社 | タッチパネル |
| JP4989846B2 (ja) * | 2004-08-27 | 2012-08-01 | Ｈｏｙａ株式会社 | 光学部材及びその製造方法 |
| JP2007043063A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-02-15 | Kyocera Corp | 固体撮像素子収納用パッケージおよび固体撮像素子搭載用基板ならびに固体撮像装置 |
| JP2007093804A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Epson Toyocom Corp | 紫外線／赤外線カットフィルタ、及びその製造方法 |
| JP2007264388A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Nikon Corp | 多層膜光学素子の製造方法 |
| JP4207083B2 (ja) | 2006-04-04 | 2009-01-14 | セイコーエプソン株式会社 | 光学多層膜フィルタ、光学多層膜フィルタの製造方法および電子機器装置 |
| US20070291363A1 (en) * | 2006-06-19 | 2007-12-20 | Fujifilm Corporation | Optical Film |
| US7465681B2 (en) * | 2006-08-25 | 2008-12-16 | Corning Incorporated | Method for producing smooth, dense optical films |
| JP2009093717A (ja) * | 2007-10-04 | 2009-04-30 | Sony Corp | 光情報記録媒体 |
| JP2009093067A (ja) * | 2007-10-11 | 2009-04-30 | Seiko Epson Corp | 酸化ジルコニウム層、耐擦傷性物品および光学物品 |
| KR100991056B1 (ko) * | 2007-11-16 | 2010-10-29 | 엡슨 토요콤 가부시키 가이샤 | 광학 다층막 필터, 광학 다층막 필터의 제조 방법 및 전자기기 장치 |
| JP2009139925A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-25 | Epson Toyocom Corp | 光学多層膜フィルタ、光学多層膜フィルタの製造方法および電子機器装置 |
-
2010
- 2010-09-22 JP JP2010211690A patent/JP2011100111A/ja active Pending
- 2010-10-07 US US12/900,174 patent/US9134462B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-10-09 CN CN2010105032706A patent/CN102043173B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7117081B2 (ja) | 2017-05-12 | 2022-08-12 | Hoya株式会社 | 防塵レンズ及びその製造方法 |
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