JP2011077076A - 外部共振型半導体レーザ - Google Patents
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Abstract
【課題】部品点数の増加を抑制しながら、出力ビームの整形を可能とすると共に、共振器長を短縮可能な外部共振型半導体レーザを提供する。
【解決手段】同一端面より少なくとも2方向にレーザ光を出射する半導体レーザ素子1と、出射する該レーザ光の一部を外部共振用レーザ光5とし、その他の該レーザ光を出力用レーザ光6とする外部共振型半導体レーザにおいて、該外部共振用レーザ光と出力用レーザ光との各光路に跨って配置される少なくとも一つ以上のビーム整形素子2,3と、該ビーム整形素子を構成するシリンドリカルレンズ3の該半導体レーザ素子側の一部30で、該外部共振用レーザ光を反射させ、反射した該レーザ光を該半導体レーザ素子に入射させる。
【選択図】図3
【解決手段】同一端面より少なくとも2方向にレーザ光を出射する半導体レーザ素子1と、出射する該レーザ光の一部を外部共振用レーザ光5とし、その他の該レーザ光を出力用レーザ光6とする外部共振型半導体レーザにおいて、該外部共振用レーザ光と出力用レーザ光との各光路に跨って配置される少なくとも一つ以上のビーム整形素子2,3と、該ビーム整形素子を構成するシリンドリカルレンズ3の該半導体レーザ素子側の一部30で、該外部共振用レーザ光を反射させ、反射した該レーザ光を該半導体レーザ素子に入射させる。
【選択図】図3
Description
本発明は、外部共振型半導体レーザに関し、特に、同一端面より少なくとも2方向にレーザ光を出射する半導体レーザ素子を用いた外部共振型半導体レーザに関する。
従来、半導体レーザは、小型なコヒーレント光源として、光通信技術、光計測技術、さらには光加工技術など多様な用途に利用されている。しかしながら、半導体レーザは一般的に光出力が小さく、温度変化に依存して波長や光量がシフトし易い、さらには、光出力を上げるため半導体レーザの駆動電流を大きくするとスペクトル幅が広がるなどの問題点がある。
これに対して、外部共振型半導体レーザは、半導体レーザ素子から出射するレーザ光の一部(特定波長光)を半導体レーザ素子にフィードバックし、光出力の安定化を図るものとして知られている。例えば、特許文献1に示すように、半導体レーザ素子のバックビームをレンズとホログラフィック回折格子を用いて、ビーム中の特定波長光のみを半導体レーザ素子に帰還させるものが提案されている。
近年では、利得導波路型半導体レーザの高出力特性を利用した外部共振型半導体レーザが提案されている。利得導波路型半導体レーザにおいては、同一端面より出射するレーザ光が、レーザ素子内の導波路の光軸から外れた2方向に出射されるため、一方のレーザ光を半導体レーザ素子にフィードバックし、他方のレーザ光を出力光として利用するものである。
利得導波路型半導体レーザを用いた外部共振型半導体レーザの例としては、特許文献2又は3などの例がある。
特許文献2に記載された外部共振型半導体レーザを図1に示す。利得導波路型半導体レーザ(Gain-guided diode laser)11と半導体レーザの出射面に形成される回折格子16により、レーザ素子内の導波路の光軸から外れた2方向にレーザ光が放出される。2つのレーザ光を含む平面に対して垂直な方向にレーザ光をコリメートするためのシリンドリカルレンズ12が配置されている。また、2つのレーザ光の一方を半導体レーザ11に帰還し、レーザ発振させるためのミラー13が設けられている。符号15は半導体レーザ11への帰還ビームであり、符号14は出力ビームである。
特許文献3に記載された外部共振型半導体レーザを図2に示す。2方向にレーザ光を出射する半導体レーザ20と、2つのレーザ光をコリメートするため、ビーム整形素子として、速軸用コリメータ(FAC)21と遅軸用コリメータ(SAC)22が設けられている。FAC21は、2つのビーム(レーザ光)を含む平面に垂直な方向にビームをコリメートするシリンドリカルレンズであり、SAC22は、2つのビームを含む平面に平行な方向にビームをコリメートするシリンドリカルレンズである。
一方のレーザ光26は、アパーチャ23を通過し、高反射ミラー25で反射し、再度、アパーチャ23,SAC22及びFAC21を通過して半導体レーザ20に帰還し、外部共振用レーザ光27を形成する。他方、出力用レーザ光27は、FAC21,SAC22及びアパーチャ23を通過して出射される。符号24は、2つのレーザ光の波長を調整するためのバンドパスフィルタである。
図1に示すような外部共振型半導体レーザでは、出力ビーム14が発散状態であり、ビームの集光及び光ファイバなどの導波路への結合が難しい(結合効率が低い)という問題がある。
図2に示すような外部共振型半導体レーザでは、部品点数が多いためアライメントが難しく、同時に光学系の保持が煩雑化するなどの問題を有する。また、SAC22配置する分だけ、図1のものと比較して、共振部分の長さdが長くなるという問題も生じる。さらに、SACの表面には、多重共振を防止するための反射防止膜をコーティングする必要がありコスト増加の原因ともなっていた。
本発明が解決しようとする課題は、上述したような問題を解決し、部品点数の増加を抑制しながら、出力ビームの整形を可能とすると共に、共振器長を短縮可能な外部共振型半導体レーザを提供することである。
上記課題を解決するため、請求項1に係る発明は、同一端面より少なくとも2方向にレーザ光を出射する半導体レーザ素子と、出射する該レーザ光の一部を外部共振用レーザ光とし、その他の該レーザ光を出力用レーザ光とする外部共振型半導体レーザにおいて、該外部共振用レーザ光と出力用レーザ光との各光路に跨って配置される少なくとも一つ以上のビーム整形素子と、該ビーム整形素子を構成するシリンドリカルレンズの該半導体レーザ素子側の一部で、該外部共振用レーザ光を反射させ、反射した該レーザ光を該半導体レーザ素子に入射させることを特徴とする。
請求項2に係る発明は、請求項1に記載の外部共振型半導体レーザにおいて、該シリンドリカルレンズを透過した該外部共振用レーザ光を遮光するため遮光手段が、該シリンドリカルレンズの該半導体レーザ素子と反対側に配置されていることを特徴とする。
請求項3に係る発明は、請求項1又は2に記載の外部共振型半導体レーザにおいて、該シリンドリカルレンズと該半導体レーザ素子との間に、該外部共振用レーザ光と該出力用レーザ光との各光路に跨って配置される特定波長透過フィルタを有することを特徴とする。
請求項4に係る発明は、請求項1又は2に記載の外部共振型半導体レーザにおいて、該シリンドリカルレンズの該外部共振用レーザの反射部分に反射ミラーが形成されていることを特徴とする。
請求項5に係る発明は、請求項4に記載の外部共振型半導体レーザにおいて、該反射ミラーが特定波長光を反射するフィルタ機能を備えていることを特徴とする。
請求項6に係る発明は、請求項1乃至5のいずれかに記載の外部共振型半導体レーザにおいて、該半導体レーザ素子は、利得導波路型半導体レーザであることを特徴とする。
請求項1に係る発明は、同一端面より少なくとも2方向にレーザ光を出射する半導体レーザ素子と、出射する該レーザ光の一部を外部共振用レーザ光とし、その他の該レーザ光を出力用レーザ光とする外部共振型半導体レーザにおいて、該外部共振用レーザ光と出力用レーザ光との各光路に跨って配置される少なくとも一つ以上のビーム整形素子と、該ビーム整形素子を構成するシリンドリカルレンズの該半導体レーザ素子側の一部で、該外部共振用レーザ光を反射させ、反射した該レーザ光を該半導体レーザ素子に入射させるため、該シリンドリカルレンズで出力用レーザ光のビーム整形を行いながら、外部共振用レーザ光を反射でき、部品点数の増加を抑制できると共に、共振器長も短縮することが可能となる。特に、部品点数の削減により、製造コストが削減でき、信頼性の高い外部共振型半導体レーザを提供することができる。
請求項2に係る発明により、シリンドリカルレンズを透過した外部共振用レーザ光を遮光するため遮光手段が、該シリンドリカルレンズの該半導体レーザ素子と反対側に配置されているため、外部共振用レーザ光で共振に不要なレーザ光を遮断することができ、多重共振を防止することが可能となる。
請求項3に係る発明により、シリンドリカルレンズと半導体レーザ素子との間に、外部共振用レーザ光と出力用レーザ光との各光路に跨って配置される特定波長透過フィルタを有するため、1枚の特定波長透過フィルタのみで外部共振型半導体レーザから出力光を狭窄化できる。
請求項4に係る発明により、シリンドリカルレンズの外部共振用レーザの反射部分に反射ミラーが形成されているため、より効率的に外部共振用レーザ光を反射でき、外部共振型半導体レーザからの出力強度を増加させることが可能となる。
請求項5に係る発明により、反射ミラーが特定波長光を反射するフィルタ機能を備えているため、外部共振用レーザ光を特定波長に限定するために、バンドパスフィルタを別途設ける必要がなく、部品点数の増加を抑制することが可能となる。
請求項6に係る発明により、半導体レーザ素子は、利得導波路型半導体レーザであるため、高出力なレーザ光を得ることが可能となる。
以下、本発明の外部共振型半導体レーザについて、好適例を用いて詳細に説明する。
本発明は、図3に示すように、同一端面より少なくとも2方向にレーザ光を出射する半導体レーザ素子1と、出射する該レーザ光の一部を外部共振用レーザ光5とし、その他の該レーザ光を出力用レーザ光6とする外部共振型半導体レーザにおいて、該外部共振用レーザ光と出力用レーザ光との各光路に跨って配置される少なくとも一つ以上のビーム整形素子(2,3)と、該ビーム整形素子を構成するシリンドリカルレンズ3の該半導体レーザ素子側の一部(30)で、該外部共振用レーザ光5を反射させ、反射した該レーザ光を該半導体レーザ素子1に入射させることを特徴とする。符号7の一点鎖線は、半導体レーザ素子1内の導波路の光軸であり、2つのレーザ光の中心対称線を示している。
本発明は、図3に示すように、同一端面より少なくとも2方向にレーザ光を出射する半導体レーザ素子1と、出射する該レーザ光の一部を外部共振用レーザ光5とし、その他の該レーザ光を出力用レーザ光6とする外部共振型半導体レーザにおいて、該外部共振用レーザ光と出力用レーザ光との各光路に跨って配置される少なくとも一つ以上のビーム整形素子(2,3)と、該ビーム整形素子を構成するシリンドリカルレンズ3の該半導体レーザ素子側の一部(30)で、該外部共振用レーザ光5を反射させ、反射した該レーザ光を該半導体レーザ素子1に入射させることを特徴とする。符号7の一点鎖線は、半導体レーザ素子1内の導波路の光軸であり、2つのレーザ光の中心対称線を示している。
ビーム整形素子は、2つのビーム(レーザ光)を含む平面に垂直な方向にビームをコリメートするシリンドリカルレンズである「速軸用コリメータ(FAC)」2と、2つのビームを含む平面に平行な方向にビームをコリメートするシリンドリカルレンズである「遅軸用コリメータ(SAC)」3から構成される。外部共振用レーザ光5を反射させるシリンドリカルレンズは、SAC3が好適である。ただし、FAC2で反射させることも可能であり、その際には、FAC2とSAC3との配置位置を交換することにより、SACのビーム整形機能を生かし、半導体レーザ1に帰還する外部共振用レーザ光を収束させることも可能となる。
本発明の外部共振型半導体レーザは、図3のSAC3により半導体レーザ素子1へのレーザ光の帰還を行うと共に、出力用レーザ光のビーム整形を同時に行うため、部品点数の増加を抑制できると共に、共振器長も短縮することが可能となる。
半導体レーザ素子1には、同一端面から少なくとも2方向にレーザ光を出射する、利得導波路型半導体レーザを利用する。利得導波路型半導体レーザとは、レーザの活性層がp型半導体およびn型半導体との接合面に沿って50μm〜400μm程度の広い幅を持つものである。この半導体レーザ素子は、駆動電流の増加に伴い活性層の両端部の屈折率が高くなるため、活性層自身が凹レンズの効果を持ち、出射するレーザ光が2方向に曲げられるという特性を持つ。また、このような半導体レーザ素子1は、ブロードエリア半導体レーザ(BALD)であり、広帯域の波長光を出射することが可能である。また、半導体レーザ素子は、帰還する外部共振用レーザ光と同じ波長のレーザ光を、高出力で出力用レーザ光として出射する。
図3の第1の実施例では、半導体レーザ素子1から出射するレーザ光5は、ビーム整形素子である速軸用コリメータ(FAC)2を通過し、遅軸用コリメータ(SAC)3の半導体レーザ素子側の一部(30)で反射され、再度、FAC2を通過して、半導体レーザ素子1に帰還する。この外部共振用レーザ光5の共振周波数に対応して、半導体レーザ素子1からは出力用レーザ光6は放射され、FAC2及びSAC3によりビーム整形されて出力される。
SAC3の角度を調整することで、半導体レーザ素子1への戻り光の方向を調整でき、最適な発振状態を実現することが可能である。また、SAC3の光軸方向7の位置を調整することで、ビームのコリメート状態も調整可能である。ただし、これらの調整により、共振器長が変化する場合には出力波長が若干変化することとなる。
図3では、遮光手段4を、シリンドリカルレンズ(SAC3)の半導体レーザ素子1と反対側に配置している。遮光手段4は、レーザ光5を吸収するか、あるいは帰還しない方向にレーザ光を反射・散乱させる機能を有している。これにより、不要なレーザ光が、外部共振用レーザ光として半導体レーザ素子1に戻ることを阻止でき、多重共振を防止することが可能となる。なお、遮光手段4は、従来の外部共振型半導体レーザに使用されるミラー13(図1参照)、25(図2参照)と比較し、部品の位置調整の精度が低くても良く、装置の組立や調整を容易に行うことが可能である。
図4は、本発明の外部共振型半導体レーザの第2の実施例を説明する図である。図4では、シリンドリカルレンズ(SAC3)と半導体レーザ素子1との間に、外部共振用レーザ光と出力用レーザ光との各光路に跨って配置される特定波長透過フィルタ8を配置している。
半導体レーザ素子1から出射するレーザ光5は、ビーム整形素子である速軸用コリメータ(FAC)2を通過して、特定波長透過フィルタ8に入射する。特定波長成分のビームのみ該フィルタ8を通過し、さらに遅軸用コリメータ(SAC)3の一部(30)で反射される。反射したビームは、再度、特定波長透過フィルタ8を通過し、より波長選択性が高まり、さらにFAC2を通過して、半導体レーザ素子に帰還する。このように、外部共振用レーザ光の波長選択性を高めることにより、半導体レーザ素子が発生するレーザ光のスペクトル幅を狭窄化することができる。
他方、レーザ光6は、出力用レーザ光として、FAC2、波長透過フィルタ8、及びSAC3を通過し、波長選択性がより高められた状態で外部に出力される。図4に示すように、特定波長透過フィルタ8が、外部共振用レーザ光5と出力用レーザ光6との各光路に跨って配置されているため、1枚の特定波長透過フィルタのみで両ビームの狭窄化の向上が実現でき、しかも、両者で選択される波長は同じであることから、複数のフィルタで構成した場合に発生するフィルタ毎の微妙な特性の違いを、フィルタの角度調整などで行う必要も無い。
特定波長透過フィルタ8には、支持体上にTiO2/SiO2やTa2O5/SiO2などの低屈折率材料と高屈折率材料とによる誘電体膜を複数積層した誘電体多層膜フィルタや、透過型ファブリ・ペロー型エタロンを用いることが可能である。
誘電体多層膜フィルタは、波長選択性が温度変化の影響を受けにくく、しかも部品の製造が容易であり部品自体もコンパクトに形成できるため、装置全体を安価に構成することが可能となる。他方、透過型ファブリ・ペロー型エタロンの場合には、温度変化により透過波長特性が変化し易いという欠点はあるものの、誘電体多層膜フィルタと比較し広い範囲で、特定波長光の波長選択を可変する利点がある。
誘電体多層膜フィルタは、波長選択性が温度変化の影響を受けにくく、しかも部品の製造が容易であり部品自体もコンパクトに形成できるため、装置全体を安価に構成することが可能となる。他方、透過型ファブリ・ペロー型エタロンの場合には、温度変化により透過波長特性が変化し易いという欠点はあるものの、誘電体多層膜フィルタと比較し広い範囲で、特定波長光の波長選択を可変する利点がある。
図5は、本発明の外部共振型半導体レーザに係る第3の実施例を説明する図である。
図5では、シリンドリカルレンズ(SAC3)の外部共振用レーザ5の反射部分に、反射ミラー40を形成している。反射ミラーはアルミなどの金属材料をシリンドリカルレンズの一部に蒸着することにより形成することが可能である。この反射ミラー40により、より効率的に外部共振用レーザ光5を反射でき、外部共振型半導体レーザからの出力強度を増加させることが可能となる。
図5では、シリンドリカルレンズ(SAC3)の外部共振用レーザ5の反射部分に、反射ミラー40を形成している。反射ミラーはアルミなどの金属材料をシリンドリカルレンズの一部に蒸着することにより形成することが可能である。この反射ミラー40により、より効率的に外部共振用レーザ光5を反射でき、外部共振型半導体レーザからの出力強度を増加させることが可能となる。
また、反射ミラー40の表面には、多層膜フィルタを形成し、反射ミラーに特定波長光を反射するフィルタ機能を備えるよう構成することも可能である。これにより、外部共振用レーザ光5を特定波長に限定するために、バンドパスフィルタを別途設ける必要がなく、部品点数の増加を抑制することが可能となる。
以上説明したように、本発明によれば、部品点数の増加を抑制しながら、出力ビームの整形を可能とすると共に、共振器長を短縮可能な外部共振型半導体レーザを提供することが可能となる。
1 半導体レーザ素子
2 速軸用コリメータ(FAC)
3 遅軸用コリメータ(SAC)
4 遮光手段
5 外部共振用レーザ光
6 出力用レーザ光
7 中心対称軸
2 速軸用コリメータ(FAC)
3 遅軸用コリメータ(SAC)
4 遮光手段
5 外部共振用レーザ光
6 出力用レーザ光
7 中心対称軸
Claims (6)
- 同一端面より少なくとも2方向にレーザ光を出射する半導体レーザ素子と、出射する該レーザ光の一部を外部共振用レーザ光とし、その他の該レーザ光を出力用レーザ光とする外部共振型半導体レーザにおいて、
該外部共振用レーザ光と出力用レーザ光との各光路に跨って配置される少なくとも一つ以上のビーム整形素子と、
該ビーム整形素子を構成するシリンドリカルレンズの該半導体レーザ素子側の一部で、該外部共振用レーザ光を反射させ、反射した該レーザ光を該半導体レーザ素子に入射させることを特徴とする外部共振型半導体レーザ。 - 請求項1に記載の外部共振型半導体レーザにおいて、該シリンドリカルレンズを透過した該外部共振用レーザ光を遮光するため遮光手段が、該シリンドリカルレンズの該半導体レーザ素子と反対側に配置されていることを特徴とする外部共振型半導体レーザ。
- 請求項1又は2に記載の外部共振型半導体レーザにおいて、該シリンドリカルレンズと該半導体レーザ素子との間に、該外部共振用レーザ光と該出力用レーザ光との各光路に跨って配置される特定波長透過フィルタを有することを特徴とする外部共振型半導体レーザ。
- 請求項1又は2に記載の外部共振型半導体レーザにおいて、該シリンドリカルレンズの該外部共振用レーザの反射部分に反射ミラーが形成されていることを特徴とする外部共振型半導体レーザ。
- 請求項4に記載の外部共振型半導体レーザにおいて、該反射ミラーが特定波長光を反射するフィルタ機能を備えていることを特徴とする外部共振型半導体レーザ。
- 請求項1乃至5のいずれかに記載の外部共振型半導体レーザにおいて、該半導体レーザ素子は、利得導波路型半導体レーザであることを特徴とする外部共振型半導体レーザ。
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JP2009223802A JP2011077076A (ja) | 2009-09-29 | 2009-09-29 | 外部共振型半導体レーザ |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6696629B1 (ja) * | 2018-10-22 | 2020-05-20 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置 |
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2009
- 2009-09-29 JP JP2009223802A patent/JP2011077076A/ja active Pending
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