JP2011040193A

JP2011040193A - Irradiation device

Info

Publication number: JP2011040193A
Application number: JP2009184405A
Authority: JP
Inventors: Masaki Nakamura; 雅規中村
Original assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Current assignee: Ushio Denki KK; Ushio Inc
Priority date: 2009-08-07
Filing date: 2009-08-07
Publication date: 2011-02-24
Anticipated expiration: 2029-08-07
Also published as: JP4702473B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an atmospheric-pressure plasma generating device capable of preventing transition from glow discharging to arc discharging and moreover capable of solving various problems in using a pulse power source. <P>SOLUTION: An AC electric field is supplied between an internal electrode 13 arranged inside a discharging vessel 11 in which an inert gas layer 14 with an inert gas enclosed is formed and an external electrode 25 arranged outside the discharging vessel 11 interposing a reactive gas layer 24 in which a reactive gas is flowed under an atmospheric pressure, and discharging generated between the external electrode 25 and the internal electrode 14 is generated through plasma discharging in the reactive gas layer 24 and excimer discharging in the inert gas layer 14. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体素子や液晶基板の製造工程において、ウエハやガラス基板等の基板のドライ洗浄に好適に用いることができる照射装置に関する。 The present invention relates to an irradiation apparatus that can be suitably used for dry cleaning of a substrate such as a wafer or a glass substrate in a manufacturing process of a semiconductor element or a liquid crystal substrate.

半導体素子や液晶基板の製造工程においては、シリコンウエハやガラス基板等の基板の表面に付着した有機化合物等の除去処理が行われており、かかる有機化合物等の除去処理方法としては、水や有機溶剤等を使用しないドライ洗浄法が広く利用されている。
このようなドライ洗浄法の一つとして大気圧プラズマ発生装置が知られている。この装置は、一対の電極の間にプラズマが生じる空隙が形成されており、この空隙に窒素ガスを流しながら、短パルスの高電圧電界が印加される。高周波電界が印加された電極の大気圧近傍でプラズマが発生し、プラズマによってガラス基板などの被処理物に付着した有機物を除去することができる。 In the manufacturing process of a semiconductor element or a liquid crystal substrate, an organic compound attached to the surface of a substrate such as a silicon wafer or a glass substrate is removed. As a method for removing such an organic compound, water or organic Dry cleaning methods that do not use solvents are widely used.
An atmospheric pressure plasma generator is known as one of such dry cleaning methods. In this apparatus, a gap in which plasma is generated is formed between a pair of electrodes, and a short-pulse high-voltage electric field is applied while flowing nitrogen gas into the gap. Plasma is generated in the vicinity of the atmospheric pressure of the electrode to which a high-frequency electric field is applied, and organic substances attached to an object to be processed such as a glass substrate can be removed by the plasma.

プラズマは、大気圧下では一瞬にしてグロー放電からアーク放電に移行し、スパーク放電が発生しやすい。そのため、短パルスの電界を電極に印加して、グロー放電からアーク放電に移行する前に、強制的に電界を切替えて、アーク放電に移行しないようにし、グロー放電のまま維持させている。 Plasma changes from glow discharge to arc discharge in an instant under atmospheric pressure, and spark discharge is likely to occur. Therefore, an electric field of a short pulse is applied to the electrode to forcibly switch the electric field before shifting from the glow discharge to the arc discharge so as not to shift to the arc discharge, and the glow discharge is maintained.

しかしながら、短パルスの電界を生成するパルス電源は高価であるため、装置全体の価格が上昇してしまうという問題がある。また、短パルス電界を印加する場合は、処理物であるガラス基板との走行位置とのタイミングを図る複雑な制御が必要となることや、急峻な電界が発生することからノイズの問題も生じる。 However, since a pulse power source that generates an electric field of a short pulse is expensive, there is a problem that the price of the entire apparatus increases. In addition, when a short pulse electric field is applied, complicated control is required for timing with the glass substrate, which is a processed object, and a steep electric field is generated, resulting in noise problems.

特開２００２−１５１４８０号公報JP 2002-151480 A

本発明は、上記の問題点に鑑み、グロー放電からアーク放電への移行を防止することができ、かつ、パルス電源を使うことの種々の問題を解決できる新しい大気圧プラズマ発生装置を提供することを目的とする。 In view of the above problems, the present invention provides a new atmospheric pressure plasma generator capable of preventing the transition from glow discharge to arc discharge and solving various problems of using a pulse power supply. With the goal.

本願第１の発明は、不活性ガスが封入された不活性ガス層が形成された放電容器の内部に配置された内部電極と、放電容器の外部に大気圧下に反応性ガスが流過された反応性ガス層を挟んで配置された外部電極との間に交流電界が供給され、前記外部電極と前記内部電極との間で発生する放電が、反応性ガス層におけるプラズマ放電と不活性ガス層におけるエキシマ放電とを介して発生することを特徴とする。
本願第２の発明は、第１の発明において、前記内部電極に高電圧が供給されることを特徴とする。 In the first invention of the present application, an internal electrode disposed inside a discharge vessel in which an inert gas layer filled with an inert gas is formed, and a reactive gas is allowed to flow outside the discharge vessel under atmospheric pressure. An AC electric field is supplied between the external electrodes arranged with the reactive gas layer interposed therebetween, and a discharge generated between the external electrode and the internal electrode is caused by plasma discharge and inert gas in the reactive gas layer. It is generated via excimer discharge in the layer.
A second invention of the present application is characterized in that, in the first invention, a high voltage is supplied to the internal electrode.

本願第１の発明に係る照射装置によれば、一対の電極で発生する放電が反応性ガス層と不活性ガス層とを介して生じるようにすることによって、反応性ガス層の放電を持続させずに停止できるので、正弦波交流電圧を供給してもプラズマ放電のアーク放電への移行を防止でき、プラズマ放電を安定に維持することができる。また、被処理体に対して、エキシマランプからの紫外線による洗浄処理およびエキシマランプと電極との間に発生したプラズマによる洗浄処理の両方を行うことができるので、被処理体に対して高い洗浄処理能力が得られる。 According to the irradiation apparatus according to the first invention of the present application, the discharge of the reactive gas layer is sustained by causing the discharge generated at the pair of electrodes to be generated through the reactive gas layer and the inert gas layer. Therefore, even if a sinusoidal AC voltage is supplied, the transition of the plasma discharge to the arc discharge can be prevented and the plasma discharge can be maintained stably. In addition, since the object to be processed can be subjected to both the cleaning process using ultraviolet light from the excimer lamp and the cleaning process using plasma generated between the excimer lamp and the electrode, a high cleaning process can be performed on the object to be processed. Ability is gained.

本願第２の発明に係る照射装置によれば、内側電極は放電容器の内部の閉じられた空間内にあるので、内側電極を高圧側とすることによって、容易に絶縁を図ることができる。 According to the irradiation apparatus according to the second invention of the present application, since the inner electrode is in a closed space inside the discharge vessel, insulation can be easily achieved by setting the inner electrode to the high voltage side.

第１の実施形態の照射装置の構成を示す説明用断面図Sectional drawing for description which shows the structure of the irradiation apparatus of 1st Embodiment 第２の実施形態の照射装置の構成を示す説明用断面図Sectional drawing for description which shows the structure of the irradiation apparatus of 2nd Embodiment

図１は、第１の実施形態の照射装置の構成を示す説明用断面図である。
ランプハウス２０の内部に、エキシマランプ１０が配置され、エキシマランプ１０の下方に被処理体Ｗを水平方向に搬送して移動させる搬送機構３０が設けられている。ランプハウス２０は、側壁を形成する側壁部材２１ａ、２１ｂが向かい合うように配置され、側壁部材２１ａ、２１ｂの上部の開口を塞ぐように天板２２が形成されている。ランプハウス２０を、側壁部材２１ａ、２１ｂと天板２２とに分けて構成することにより、天板２２を開閉式にしてランプハウス２０内部に配置されるエキシマランプ１０を交換できるようにしている。搬送機構３０は、複数の搬送コロ３１が被処理体Ｗの搬送方向に沿って並ぶよう配置されて構成されている。 FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the irradiation apparatus according to the first embodiment.
The excimer lamp 10 is disposed inside the lamp house 20, and a transport mechanism 30 that transports and moves the workpiece W in the horizontal direction is provided below the excimer lamp 10. The lamp house 20 is disposed so that the side wall members 21a and 21b forming the side walls face each other, and the top plate 22 is formed so as to close the opening at the top of the side wall members 21a and 21b. The lamp house 20 is divided into the side wall members 21a and 21b and the top plate 22, so that the excimer lamp 10 disposed inside the lamp house 20 can be exchanged by making the top plate 22 openable. The transport mechanism 30 is configured such that a plurality of transport rollers 31 are arranged along the transport direction of the workpiece W.

ランプハウス２０の天板２２の内面には、例えばアルミニウムよりなる直方体状の外側電極２５が設けられている。外側電極２５の内部に、エキシマランプ１０の長手方向に沿って水平に伸びる冷却水管２６が複数設けられている。一方の側壁部材２１ａと外側電極２５との間にマニホールド２７が設けられ、エキシマランプ１０と外側電極２５との間に反応性ガスを供給している。反応性ガスとしては、窒素ガス（Ｎ_２）、アルゴンガス（Ａｒ）、炭酸ガス（ＣＯ_２）、ヘリウムガス（Ｈｅ）などを主成分とし、酸素ガスが１〜２体積％含有してなるものを用いることが好ましい。また、単位長さ当りの流量が、１ｍ当り０．５〜４ｍ^３／ｓとなるように流過させている。 A rectangular parallelepiped outer electrode 25 made of aluminum, for example, is provided on the inner surface of the top plate 22 of the lamp house 20. A plurality of cooling water pipes 26 extending horizontally along the longitudinal direction of the excimer lamp 10 are provided inside the outer electrode 25. A manifold 27 is provided between the side wall member 21 a and the outer electrode 25, and a reactive gas is supplied between the excimer lamp 10 and the outer electrode 25. The reactive gas is mainly composed of nitrogen gas (N ₂ ), argon gas (Ar), carbon dioxide gas (CO ₂ ), helium gas (He), etc., and contains 1 to 2% by volume of oxygen gas. Is preferably used. Moreover, it is made to flow so that the flow rate per unit length may be 0.5-4 m < ³ > / s per meter.

反応性ガスが、大気圧またはその近傍の圧力下において、マニホールド２７から外側電極２５とエキシマランプ１０との間を流れ、他方の側壁部材２１ｂとの隙間からエキシマランプ１０の下方の被処理体Ｗに向かって流すことによって、発生したプラズマが被処理体Ｗに照射されるようにしている。反応性ガスが一方の側壁部材２１ａに沿って流出しないように、エキシマランプ１０の側面に接触するように固定板２３が配置されている。また、他方の側壁部材２１ｂとの間にはエキシマランプ１０の側面との間に反応性ガスが流過する隙間を挟んで案内部材２８が配置されている。 The reactive gas flows between the outer electrode 25 and the excimer lamp 10 from the manifold 27 under the atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof, and the workpiece W below the excimer lamp 10 through the gap between the other side wall member 21b. The generated plasma is irradiated to the workpiece W by flowing toward the surface. The fixing plate 23 is disposed so as to contact the side surface of the excimer lamp 10 so that the reactive gas does not flow out along the one side wall member 21a. Further, a guide member 28 is disposed between the other side wall member 21b and a gap through which reactive gas flows between the side wall of the excimer lamp 10 and the side wall member 21b.

エキシマランプ１０は、合成石英ガラスなどのシリカガラス、サファイアなどの真空紫外線を良好に透過する断面矩形状で中空長尺の放電容器１１の内部に、希ガス、または、希ガスとハロゲンガスとを混合した混合ガスよりなる不活性ガスが、例えば１０〜８０ｋＰａで気密に封入されている。放電容器１１の内部に内側電極１３が設けられている。内側電極１３は、アルミニウム、ニッケル、金などの金属材料よりなり、放電容器１１の内部で支持することや、放電容器１１の内面に導電性ペーストをスクリーン印刷することなどにより形成される。 The excimer lamp 10 contains a rare gas or a rare gas and a halogen gas in a hollow long discharge vessel 11 having a rectangular cross section that transmits vacuum ultraviolet rays such as synthetic silica glass and sapphire. An inert gas made of a mixed gas mixture is hermetically sealed at, for example, 10 to 80 kPa. An inner electrode 13 is provided inside the discharge vessel 11. The inner electrode 13 is made of a metal material such as aluminum, nickel, or gold, and is formed by supporting the inside of the discharge vessel 11 or screen printing a conductive paste on the inner surface of the discharge vessel 11.

外側電極２５および内側電極１３は、正弦波交流電圧を供給する高周波電源Ｐに接続されている。高周波電源Ｐから供給される電力は、例えば、周波数が１０〜１００ｋＨｚであり、電圧が１ｋＶｒｍｓ〜数１０ｋＶｒｍｓである。外側電極２５と内側電極１３との間に、放電容器１１の内部に不活性ガスが封入された不活性ガス層１４と、大気圧下に反応性ガスが流過する反応性ガス層２４とが連続して挟まれるように配置されている。このため、外側電極２５と内側電極１３との放電は、エキシマランプ１０の上面１１ａを介してプラズマ放電とエキシマ放電とを経ることになる。 The outer electrode 25 and the inner electrode 13 are connected to a high frequency power source P that supplies a sinusoidal AC voltage. The power supplied from the high-frequency power source P has, for example, a frequency of 10 to 100 kHz and a voltage of 1 kVrms to several tens of kVrms. Between the outer electrode 25 and the inner electrode 13, there is an inert gas layer 14 in which an inert gas is sealed inside the discharge vessel 11, and a reactive gas layer 24 through which the reactive gas flows under atmospheric pressure. It is arranged so as to be sandwiched continuously. For this reason, the discharge between the outer electrode 25 and the inner electrode 13 passes through the plasma discharge and the excimer discharge via the upper surface 11 a of the excimer lamp 10.

内側電極１３と放電容器１１の上面１１ａに挟まれる不活性ガス層１４でエキシマ放電が発生してエキシマ分子が形成され、真空紫外線が放射される。また、反応性ガス層２４にかかる高周波電界によってプラズマ放電が発生し、反応性ガス２４が電離または励起されてプラズマが生成される。そして、搬送機構３０によって水平方向に移動する被処理体Ｗの表面に、エキシマランプ１０から放射された真空紫外線が照射されると共に、真空紫外線によって発生したオゾン等の活性酸素が被処理体Ｗの表面に接触することにより、被処理体Ｗの表面に付着した有機化合物が分解・酸化される。更に、プラズマを含むガスが、エキシマランプ１０の側面と案内部材２８によって下方に導かれ、被処理体Ｗの表面に接触することにより、被処理体Ｗの表面に付着した有機化合物が分解・酸化される。
被処理体Ｗに対して、エキシマランプ１０からの真空紫外線による洗浄処理、およびプラズマによる洗浄処理の両方を行うことができるので、被処理体Ｗに対して高い洗浄処理能力が得られる。 Excimer discharge occurs in the inert gas layer 14 sandwiched between the inner electrode 13 and the upper surface 11a of the discharge vessel 11, excimer molecules are formed, and vacuum ultraviolet rays are emitted. In addition, a plasma discharge is generated by the high frequency electric field applied to the reactive gas layer 24, and the reactive gas 24 is ionized or excited to generate plasma. The surface of the object to be processed W that moves in the horizontal direction by the transport mechanism 30 is irradiated with vacuum ultraviolet rays emitted from the excimer lamp 10, and active oxygen such as ozone generated by the vacuum ultraviolet rays is irradiated on the object to be processed W. By contacting the surface, the organic compound attached to the surface of the workpiece W is decomposed and oxidized. Further, a gas containing plasma is guided downward by the side surface of the excimer lamp 10 and the guide member 28 and comes into contact with the surface of the object to be processed W, whereby the organic compound attached to the surface of the object to be processed W is decomposed and oxidized. Is done.
Since the object to be processed W can be subjected to both the cleaning process using vacuum ultraviolet light from the excimer lamp 10 and the cleaning process using plasma, a high cleaning processing capability can be obtained for the object to be processed W.

エキシマ放電およびプラズマ放電の開始電圧は、放電空間の圧力、放電ギャップの大きさ、ガスの種類等によって定まるが、プラズマ放電の開始電圧の方がエキシマ放電の開始電圧よりも高く、プラズマ放電がエキシマ放電より例えば数マイクロ秒間遅延して発生するよう設定されることが好ましい。このような条件が満たすように、反応性ガス層２４と不活性ガス層１４の放電ギャップの大きさや、不活性ガス層１４のガス圧が設定される。
例えば、反応性ガス層２４の放電ギャップの大きさとなるエキシマランプ１０と外側電極２５との離間距離を１〜１０ｍｍとし、不活性ガス層１４の放電ギャップとなる放電容器１１の上面１１ａと内側電極１３との距離を０．０５〜５ｍｍとする。 The excimer discharge and plasma discharge start voltages are determined by the pressure in the discharge space, the size of the discharge gap, the type of gas, etc., but the plasma discharge start voltage is higher than the excimer discharge start voltage, and the plasma discharge is For example, it is preferably set to occur with a delay of several microseconds from the discharge. The size of the discharge gap between the reactive gas layer 24 and the inert gas layer 14 and the gas pressure of the inert gas layer 14 are set so that these conditions are satisfied.
For example, the distance between the excimer lamp 10 and the outer electrode 25, which is the size of the discharge gap of the reactive gas layer 24, is 1 to 10 mm, and the upper surface 11 a and the inner electrode of the discharge vessel 11 that are the discharge gap of the inert gas layer 14. The distance to 13 is 0.05 to 5 mm.

内側電極１３を高電圧発生側として正弦波交流電圧を供給した場合について説明する。内側電極１３に印加された高電圧により電荷が蓄えられ、電圧がエキシマ放電の開始電圧に達すると、不活性ガス層１４でエキシマ放電が発生する。不活性ガス層１４でのエキシマ放電により、エキシマランプ１０の上面１１ａに電荷がさらに充電され、プラズマ放電の放電開始電圧に達すると、反応性ガス層２４でプラズマ放電が発生する。しかしながら、不活性ガス層１４では、エキシマ放電により内側電極１３とエキシマランプ１０の下面１１ｂとの間の電圧が低下するため、放電が維持することなく停止する。さらに、エキシマ放電の停止により、反応性ガス層２４への電流が制限されてプラズマ放電も停止する。印加される高圧電圧をさらに上昇させていくと、上記状態が最大電圧に到達するまで繰り返し発生して放電する。反応性ガス層２４の放電を持続させずに停止できるので、アーク放電への移行を防止できる。
プラズマ放電用電極２５の極性が反転することによって、上記放電が再び生じる。 A case where a sinusoidal AC voltage is supplied with the inner electrode 13 as the high voltage generation side will be described. When charges are stored by the high voltage applied to the inner electrode 13 and the voltage reaches the excimer discharge start voltage, excimer discharge occurs in the inert gas layer 14. Due to the excimer discharge in the inert gas layer 14, the upper surface 11a of the excimer lamp 10 is further charged, and when the discharge start voltage of the plasma discharge is reached, the reactive gas layer 24 generates a plasma discharge. However, in the inert gas layer 14, the voltage between the inner electrode 13 and the lower surface 11 b of the excimer lamp 10 decreases due to excimer discharge, so that the discharge stops without being maintained. Furthermore, by stopping the excimer discharge, the current to the reactive gas layer 24 is limited and the plasma discharge is also stopped. When the applied high voltage is further increased, the above state is repeatedly generated and discharged until the maximum voltage is reached. Since the discharge of the reactive gas layer 24 can be stopped without sustaining, the transition to the arc discharge can be prevented.
When the polarity of the plasma discharge electrode 25 is reversed, the discharge occurs again.

外側電極２５と内側電極１３との間に挟まれる空間に、反応性ガス層２４と不活性ガス層１４とが内側電極１３と外側電極２５に対して並ぶよう配置することによって、内側電極１３と外側電極２５との間で発生する放電が反応性ガス層２４と不活性ガス層１４とを介して生じるようにしている。このような構成にすることによって、反応性ガス層２４の放電を持続させずに停止できるので、正弦波交流電圧を供給してもプラズマ放電のアーク放電への移行を防止でき、プラズマ放電を安定に維持することができる。 By arranging the reactive gas layer 24 and the inert gas layer 14 so as to be aligned with the inner electrode 13 and the outer electrode 25 in a space sandwiched between the outer electrode 25 and the inner electrode 13, A discharge generated between the outer electrode 25 and the outer gas layer 25 is generated through the reactive gas layer 24 and the inert gas layer 14. By adopting such a configuration, the discharge of the reactive gas layer 24 can be stopped without sustaining, so that the transition of the plasma discharge to the arc discharge can be prevented even if a sine wave AC voltage is supplied, and the plasma discharge is stabilized. Can be maintained.

また、内側電極１３は放電容器１１の内部の閉じられた空間内にあるので、内側電極１３を高圧側とすることによって、ランプハウス２０や被処理体Ｗとの絶縁を容易に図ることができる。 Further, since the inner electrode 13 is in a closed space inside the discharge vessel 11, the inner electrode 13 can be easily insulated from the lamp house 20 and the workpiece W by setting the inner electrode 13 to the high voltage side. .

続いて、第２の実施形態を示す。
図２は、第２の実施形態の照射装置のランプハウス内に配置される反射鏡５１とエキシマランプ４０とを示す説明用断面図である。
第２の実施形態のエキシマランプ４０は、不活性ガスが封入された円筒状の放電容器４１の内部に、円筒状の内側電極４３が配置されている。エキシマランプ４０の上方にアルミニウムよりなる樋状の反射鏡５１が配置されている。放電容器３１と反射鏡５１との間には、反応性ガスが大気圧下において流過され、漏れ出たガスが被処理体に向かって流れ出るようになっている。 Next, a second embodiment will be shown.
FIG. 2 is a cross-sectional view for explaining the reflecting mirror 51 and the excimer lamp 40 arranged in the lamp house of the irradiation apparatus according to the second embodiment.
In the excimer lamp 40 of the second embodiment, a cylindrical inner electrode 43 is disposed inside a cylindrical discharge vessel 41 filled with an inert gas. Above the excimer lamp 40, a bowl-shaped reflecting mirror 51 made of aluminum is disposed. The reactive gas flows between the discharge vessel 31 and the reflecting mirror 51 under atmospheric pressure, and the leaked gas flows toward the object to be processed.

放電容器４１の内部に配置された内側電極４４は、反射鏡５１を他方の電極として対をなし、正弦波交流電圧を供給する高周波電源Ｐが接続されている。内側電極４４は放電容器４１の内部の閉じられた空間内にあるので、内側電極４４を高圧側とし、反射鏡５１を低圧側とすることによって、容易に絶縁を図ることができる。 The inner electrode 44 disposed inside the discharge vessel 41 is paired with the reflecting mirror 51 as the other electrode, and is connected to a high frequency power source P that supplies a sine wave AC voltage. Since the inner electrode 44 is in a closed space inside the discharge vessel 41, insulation can be easily achieved by setting the inner electrode 44 on the high voltage side and the reflecting mirror 51 on the low voltage side.

内側電極４４の上半分側は、反射鏡５１との間に、放電容器４１の内部に不活性ガスが封入された不活性ガス層４５と、大気圧下に反応性ガスが流過する反応性ガス層５２とが連続して挟まれるように配置されている。このような構成にすることによって、反応性ガス層５２の放電を持続させずに停止できるので、正弦波交流電圧を供給してもプラズマ放電のアーク放電への移行を防止でき、プラズマ放電を安定に維持することができる。
また、被処理体に対して、エキシマランプ４０からの真空紫外線による洗浄処理、およびプラズマによる洗浄処理の両方を行うことができるので、被処理体に対して高い洗浄処理能力が得られる。
Between the upper half side of the inner electrode 44 and the reflecting mirror 51, an inert gas layer 45 in which an inert gas is sealed inside the discharge vessel 41, and a reactivity in which a reactive gas flows under atmospheric pressure. It arrange | positions so that the gas layer 52 may be pinched | interposed continuously. By adopting such a configuration, the discharge of the reactive gas layer 52 can be stopped without being sustained, so that even if a sine wave AC voltage is supplied, the transition of the plasma discharge to the arc discharge can be prevented, and the plasma discharge can be stabilized. Can be maintained.
In addition, since the object to be processed can be subjected to both the cleaning process using vacuum ultraviolet light from the excimer lamp 40 and the cleaning process using plasma, a high cleaning processing capability can be obtained for the object to be processed.

１０エキシマランプ
１１放電容器
１３内側電極
１４不活性ガス層
１５誘電体
２０ランプハウス
２１側壁部材
２２天板
２３固定板
２４反応性ガス層
２５外側電極
２６冷却水管
２７マニホールド
２８案内部材
２９側面電極
３０搬送機構
３１搬送コロ
Ｐ高周波電源
Ｗ被処理体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Excimer lamp 11 Discharge vessel 13 Inner electrode 14 Inert gas layer 15 Dielectric 20 Lamp house 21 Side wall member 22 Top plate 23 Fixing plate 24 Reactive gas layer 25 Outer electrode 26 Cooling water pipe 27 Manifold 28 Guide member 29 Side electrode 30 Conveyance Mechanism 31 Transport roller P High frequency power supply W Object to be processed

Claims

不活性ガスが封入された不活性ガス層が形成された放電容器の内部に配置された内部電極と、
放電容器の外部に大気圧下に反応性ガスが流過された反応性ガス層を挟んで配置された外部電極との間に交流電界が供給され、
前記外部電極と前記内部電極との間で発生する放電が、反応性ガス層におけるプラズマ放電と不活性ガス層におけるエキシマ放電とを介して発生することを特徴とする照射装置。 An internal electrode disposed inside a discharge vessel in which an inert gas layer filled with an inert gas is formed;
An AC electric field is supplied between an external electrode arranged across a reactive gas layer in which a reactive gas is passed under atmospheric pressure outside the discharge vessel,
An irradiation apparatus, wherein a discharge generated between the external electrode and the internal electrode is generated through a plasma discharge in a reactive gas layer and an excimer discharge in an inert gas layer.

前記内部電極に高電圧が供給されることを特徴とする請求項１に記載の照射装置。 The irradiation apparatus according to claim 1, wherein a high voltage is supplied to the internal electrode.