JP2011034823A - 粒子線治療システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】粒子線治療システム100は、シンクロトロン200とビーム輸送系300と照射装置500から構成される。制御装置600は、照射装置500に荷電粒子ビームを供給する際には出射装置26に印加する高周波電力をONし、荷電粒子ビームの供給を遮断する際には出射装置26に印加する高周波電力をOFFした後に、シンクロトロン200に設置した電磁石の励磁量を変化させて安定限界を広げ荷電粒子ビームの出射を停止し、次に荷電粒子ビームの供給を再開する前に安定限界を狭め荷電粒子ビームの一部を出射し、該荷電粒子ビームをビーム輸送系300に設置した電磁石で遮断する。
【選択図】図1
Description
なお、本実施形態の図5では、高速四極電磁石28の励磁ONで安定限界の大きさを広げてビーム出射を停止する場合を示しているが、高速四極電磁石28の励磁OFFで安定限界の大きさを広げビーム出射を停止する動作論理に設計することも可能である。また、シンクロトロン200に設置した六極電磁石の励磁量の制御で、高速四極電磁石28と同様に安定限界の大きさを制御することも可能である。
21…偏向電磁石(シンクロトロン)
22…収束/発散型四極電磁石(シンクロトロン)
23…六極電磁石
24…入射装置
25…加速空胴
26…出射装置
27…出射偏向装置
28…高速四極電磁石
31…偏向電磁石(ビーム輸送系)
32…収束/発散型四極電磁石(ビーム輸送系)
33…ビーム遮断用電磁石
34…ビームダンプ
41…患者
42…患部
51…走査電磁石
52…ビームモニタ
100…粒子線治療システム
200…シンクロトロン
300…ビーム輸送系
400…治療室
500…照射装置
600…制御装置
25A,26A,28A,33A,500A…電源
Claims (5)
- 荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、出射装置に高周波電力を印加して発生させた高周波電磁波で安定限界を超えさせて荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、前記シンクロトロンから出射された荷電粒子ビームを治療室まで導くビーム輸送系と、前記治療室で患者の患部形状に合わせて荷電粒子ビームを照射する照射装置から構成される粒子線治療システムであって、前記照射装置に荷電粒子ビームを供給する際には前記出射装置に印加する高周波電力をONし、一方、前記照射装置への荷電粒子ビームの供給を遮断する際には前記出射装置に印加する高周波電力をOFFするとともに、前記シンクロトロンに設置した電磁石の励磁量を変化させて前記安定限界を広げ荷電粒子ビームの出射を停止し、次に前記照射装置への荷電粒子ビームの供給を再開する前に、前記シンクロトロンに設置した電磁石の励磁量を変化させて前記安定限界を狭め荷電粒子ビームの一部を出射し、該荷電粒子ビームを前記ビーム輸送系に設置した電磁石で遮断する制御装置を備えることを特徴とする粒子線治療システム。
- 荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、出射装置に高周波電力を印加して発生させた高周波電磁波で安定限界を超えさせて荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、前記シンクロトロンから出射された荷電粒子ビームを治療室まで導くビーム輸送系と、前記治療室で患者の患部形状に合わせて荷電粒子ビームを照射する照射装置から構成される粒子線治療システムであって、前記照射装置に荷電粒子ビームを供給する際には前記出射装置に印加する高周波電力をONし、一方、前記照射装置への荷電粒子ビームの供給を遮断する際には予め前もって前記出射装置に印加する高周波電力をOFFした後に、前記シンクロトロンに設置した電磁石の励磁量を変化させて前記安定限界を広げ荷電粒子ビームの出射を停止する制御装置を備えることを特徴とする粒子線治療システム。
- 前記制御装置は、前記照射装置への荷電粒子ビームの供給を遮断する際に、予め前もって前記出射装置に印加する高周波電力をOFFした後に、前記シンクロトロンに設置した電磁石の励磁量を変化させて前記安定限界を広げ荷電粒子ビームの出射を停止することを特徴とする請求項1記載の粒子線治療システム。
- 前記安定限界を調整するために前記シンクロトロンに設置した電磁石が四極磁場成分を発生する収束あるいは発散型電磁石であることを特徴とする請求項1から請求項3の何れか1項に記載の粒子線治療システム。
- 前記シンクロトロンで所定のエネルギーまで加速した荷電粒子ビームを、前記照射装置へ断続的に複数回に分けて供給することを特徴とする請求項1から請求項4の何れか1項に記載の粒子線治療システム。
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