JP2011016175A - Cutting device - Google Patents

Cutting device Download PDF

Info

Publication number
JP2011016175A
JP2011016175A JP2009160861A JP2009160861A JP2011016175A JP 2011016175 A JP2011016175 A JP 2011016175A JP 2009160861 A JP2009160861 A JP 2009160861A JP 2009160861 A JP2009160861 A JP 2009160861A JP 2011016175 A JP2011016175 A JP 2011016175A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cutting
cutting blade
dressing board
chuck table
dressing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009160861A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5571331B2 (en
Inventor
Hideaki Tanaka
英明 田中
Fumio Uchida
文雄 内田
Yuki Nomura
優樹 野村
Hirohiko Kozai
宏彦 香西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2009160861A priority Critical patent/JP5571331B2/en
Priority to CN201010220486.1A priority patent/CN101941248B/en
Publication of JP2011016175A publication Critical patent/JP2011016175A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5571331B2 publication Critical patent/JP5571331B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cutting device which efficiently dress a first cutting blade and a second cutting blade.SOLUTION: The cutting device includes a means for machining-feeding a chuck table 34, a first cutting means 46a having the first cutting blade 463a mounted on a first rotating spindle 462a arranged movably in an indexing-feeding direction perpendicular thereto, a means for indexing-feeding it, a second cutting means 46b having the second cutting blade 463b mounted on a second rotating spindle 462b arranged on the coaxial line with the first rotating spindle, and a means for indexing-feeding it. The cutting device further includes a first dressing board supporting table 5a arranged adjacent to the chuck table movably to the side of the first cutting means, and a second dressing board supporting table 5b arranged adjacent to the chuck table movably to the side of the second cutting means.

Description

本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を切削する切削装置、更に詳しくは被加工物を保持するチャックテーブルと該チャックテーブルに保持されたウエーハに切削加工を施す第1の切削ブレードを備えた第1の切削手段および第2の切削ブレードを備えた第2の切削手段を備えた切削装置に関する。   The present invention includes a cutting device for cutting a workpiece such as a semiconductor wafer, and more specifically, a chuck table for holding the workpiece and a first cutting blade for cutting the wafer held by the chuck table. The present invention relates to a cutting apparatus including a second cutting means including a first cutting means and a second cutting blade.

半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列されたストリートと呼ばれる分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等の回路を形成する。そして、半導体ウエーハをストリートに沿って切断することにより回路が形成された領域を分割して個々の半導体チップを製造している。   In the semiconductor device manufacturing process, a plurality of regions are partitioned by dividing lines called streets arranged in a lattice pattern on the surface of a substantially disc-shaped semiconductor wafer, and circuits such as ICs, LSIs, etc. are partitioned in these partitioned regions. Form. Then, the semiconductor wafer is cut along the streets to divide the region where the circuit is formed to manufacture individual semiconductor chips.

また、ストリートの表面にテスト エレメント グループ(Teg)と称するテスト用の金属パターンが部分的に配設されている半導体ウエーハがある。このようにストリートにTegが配設された半導体ウエーハをシリコン等の半導体素材を切削する切削ブレードによって切削すると、切削ブレードに目詰まりが生じたり、半導体ウエーハを損傷させるという問題がある。   Further, there is a semiconductor wafer in which a test metal pattern called a test element group (Teg) is partially arranged on the surface of a street. When the semiconductor wafer having the Teg disposed on the street is cut with a cutting blade that cuts a semiconductor material such as silicon, the cutting blade is clogged or the semiconductor wafer is damaged.

上述した問題を解消するために、厚さが比較的厚い切削ブレードによってストリートに配設されたTegを除去する第1の切削溝を形成することにより半導体素材を露出させ、その後に薄い厚さの切削ブレードにより第1の切削溝に沿って半導体素材を切断する第2の切削溝を形成する方法が採用されている。   In order to solve the above-described problem, the semiconductor material is exposed by forming a first cutting groove that removes Teg disposed on the street by a relatively thick cutting blade, and then a thin thickness of the semiconductor material is exposed. A method of forming a second cutting groove for cutting a semiconductor material along the first cutting groove with a cutting blade is employed.

このような切削加工を実施する切削装置として、被加工物を保持するチャックテーブルと、チャックテーブルに保持されたウエーハに切削加工を施す第1の切削ブレードを備えた第1の切削手段および第2の切削ブレードを備えた第2の切削手段を備えた切削装置が下記特許文献1に開示されている。   As a cutting apparatus for performing such a cutting process, a first cutting means and a second cutting table including a chuck table for holding a workpiece, and a first cutting blade for cutting a wafer held by the chuck table. A cutting apparatus provided with a second cutting means provided with a cutting blade is disclosed in Patent Document 1 below.

また、切削装置の切削ブレードは、切削作業を続けることにより目つぶれが生じ、切削能力が低下する。このように目つぶれが生じた切削ブレードをドレッシングして目立てをするために、チャックテーブルにドレッシングボードを保持し、このドレッシングボードを定期的に切削するようにした切削装置が下記特許文献2に開示されている。   Further, the cutting blade of the cutting device is crushed by continuing the cutting operation, and the cutting ability is reduced. A dressing board is held on a chuck table in order to dress a cutting blade that has been clogged in this way, and a cutting apparatus that periodically cuts the dressing board is disclosed in Patent Document 2 below. Has been.

特許第3493282号公報Japanese Patent No. 3493282 特開2006−218571号公報JP 2006-218571 A

而して、切削ブレードをドレッシングする際には被加工物の切削を中断しなければならない。特に、第1の切削手段と第2の切削手段を備えた切削装置において、第1の切削手段に装着された第1の切削ブレードと第2の切削手段に装着された第2の切削ブレードの種類が異なる場合は、第1の切削ブレードに対応した第1のドレッシングボードをチャックテーブルに保持して第1の切削ブレードのドレッシングを実施した後、チャックテーブルから第1のドレッシングボードを外し、第2の切削ブレードに対応した第2のドレッシングボードをチャックテーブルに保持して第2の切削ブレードのドレッシングを実施しなければならず、生産性が悪いという問題がある。   Thus, the cutting of the workpiece must be interrupted when dressing the cutting blade. In particular, in a cutting apparatus including a first cutting means and a second cutting means, a first cutting blade attached to the first cutting means and a second cutting blade attached to the second cutting means. When the types are different, after holding the first dressing board corresponding to the first cutting blade on the chuck table and performing dressing of the first cutting blade, the first dressing board is removed from the chuck table, The second dressing board corresponding to the second cutting blade must be held on the chuck table to perform dressing of the second cutting blade, and there is a problem that productivity is poor.

本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術的課題は、第1の切削手段と第2の切削手段を備えた切削装置において、第1の切削手段に装着された第1の切削ブレードと第2の切削手段に装着された第2の切削ブレードのドレッシングを効率よく実施することができる切削装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-mentioned facts, and the main technical problem thereof is that the first cutting means mounted on the first cutting means in the cutting apparatus including the first cutting means and the second cutting means. Another object of the present invention is to provide a cutting apparatus capable of efficiently performing dressing of the cutting blade and the second cutting blade attached to the second cutting means.

上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルを加工送り方向に移動せしめる加工送り手段と、該加工送り手段と直交する割り出し送り方向に沿って移動可能に配設された第1の回転スピンドルに装着された第1の切削ブレードを備えた第1の切削手段と、該第1の切削手段を割り出し送り方向に移動せしめる第1の割り出し送り手段と、該第1の回転スピンドルと同一軸線上に配設された第2の回転スピンドルに該第1の切削ブレードと対向して装着された第2の切削ブレードを備えた第2の切削手段と、該第2の切削手段を割り出し送り方向に移動せしめる第2の割り出し送り手段と、を具備する切削装置において、
該チャックテーブルに隣接して該第1の切削手段側に該チャックテーブルとともに加工送り方向に移動可能に配設されドレッシングボードを保持する第1のドレッシングボード支持テーブルと、
該チャックテーブルに隣接して該第2の切削手段側に該チャックテーブルとともに加工送り方向に移動可能に配設されドレッシングボードを保持する第2のドレッシングボード支持テーブルと、を具備している、
ことを特徴とする切削装置が提供される。
In order to solve the above main technical problem, according to the present invention, a chuck table for holding a workpiece, a processing feed means for moving the chuck table in the processing feed direction, and an indexing feed direction orthogonal to the processing feed means And a first cutting means having a first cutting blade mounted on a first rotary spindle movably disposed along the first cutting means, and a first cutting means for moving the first cutting means in the indexing feed direction. And a second cutting blade mounted on the second rotating spindle disposed on the same axis as the first rotating spindle so as to face the first cutting blade. In a cutting apparatus comprising: cutting means; and second index feed means for moving the second cutting means in the index feed direction;
A first dressing board support table, which is disposed adjacent to the chuck table on the first cutting means side so as to be movable in the machining feed direction together with the chuck table, and holds a dressing board;
A second dressing board support table that is disposed adjacent to the chuck table on the second cutting means side so as to be movable in the processing feed direction together with the chuck table, and holds a dressing board.
A cutting device is provided.

上記第1の切削ブレードと第2の切削ブレードは種類が異なり、上記第1のドレッシングボード支持テーブルには第1の切削ブレードに対応した第1のドレッシングボードが保持され、上記第2のドレッシングボード支持テーブルには第2の切削ブレードに対応した第2のドレッシングボードが保持される。   The first cutting blade and the second cutting blade are of different types, and the first dressing board support table holds a first dressing board corresponding to the first cutting blade, and the second dressing board A second dressing board corresponding to the second cutting blade is held on the support table.

本発明による切削装置は、チャックテーブルに隣接して第1の切削手段側にチャックテーブルとともに加工送り方向に移動可能に配設されドレッシングボードを保持する第1のドレッシングボード支持テーブルと、チャックテーブルに隣接して第2の切削手段側にチャックテーブルとともに加工送り方向に移動可能に配設されドレッシングボードを保持する第2のドレッシングボード支持テーブルとを具備しているので、チャックテーブルに被加工物が保持されていても第1の切削ブレードおよび第2の切削ブレードのドレッシングを適宜実施することができる。また、第1の切削ブレードおよび第2の切削ブレードの種類が異なる場合でも、第1のドレッシングボード支持テーブルおよび第2のドレッシングボード支持テーブルに第1の切削ブレードおよび第2の切削ブレードにそれぞれ適したドレッシングボードを保持してドレッシングすることができる。   A cutting apparatus according to the present invention includes a first dressing board support table that is disposed adjacent to the chuck table on the first cutting means side so as to be movable in the processing feed direction together with the chuck table, and a chuck table. Since the second cutting means is provided with a second dressing board support table that is disposed so as to be movable in the machining feed direction together with the chuck table on the second cutting means side, the workpiece is placed on the chuck table. Even if it is held, dressing of the first cutting blade and the second cutting blade can be appropriately performed. Even if the types of the first cutting blade and the second cutting blade are different, the first dressing board support table and the second dressing board support table are suitable for the first cutting blade and the second cutting blade, respectively. The dressing board can be held for dressing.

本発明に従って構成された切削装置の要部斜視図。The principal part perspective view of the cutting device comprised according to this invention. 図1に示す切削装置を構成する第1のスピンドルユニットおよび第2のスピンドルユニットを簡略化して示す説明図。Explanatory drawing which simplifies and shows the 1st spindle unit and the 2nd spindle unit which comprise the cutting apparatus shown in FIG. 図1に示す切削装置を構成する第1のスピンドルユニットおよび第2のスピンドルユニットと第1のドレッシングボード支持テーブルおよび第2のドレッシングボード支持テーブルとの関係を示す平面図。The top view which shows the relationship between the 1st spindle unit and 2nd spindle unit which comprise the cutting apparatus shown in FIG. 1, and a 1st dressing board support table and a 2nd dressing board support table. 図1に示す切削装置によって切削される被加工物としての半導体ウエーハが環状のフレームに装着されたダイシングテープの表面に貼着された状態を示す斜視図。The perspective view which shows the state by which the semiconductor wafer as a workpiece cut by the cutting apparatus shown in FIG. 1 was stuck on the surface of the dicing tape with which the cyclic | annular flame | frame was mounted | worn. 図1に示す切削装置を構成する第1のスピンドルユニットの第1の切削ブレードによって第1の切削溝を形成する工程の説明図。Explanatory drawing of the process of forming a 1st cutting groove with the 1st cutting blade of the 1st spindle unit which comprises the cutting apparatus shown in FIG. 図1に示す切削装置を構成する第1のスピンドルユニットの第1の切削ブレードによって第1の切削溝を形成する工程の説明図。Explanatory drawing of the process of forming a 1st cutting groove with the 1st cutting blade of the 1st spindle unit which comprises the cutting apparatus shown in FIG. 図1に示す切削装置を構成する第1のスピンドルユニットの第1の切削ブレードおよび第2のスピンドルユニットの第2の切削ブレードによって第1の切削溝および第2の切削溝を形成する工程の説明図。Description of the step of forming the first cutting groove and the second cutting groove by the first cutting blade of the first spindle unit and the second cutting blade of the second spindle unit constituting the cutting apparatus shown in FIG. Figure. 図1に示す切削装置を構成する第1のスピンドルユニットの第1の切削ブレードによって第1の切削溝を形成する工程の説明図。Explanatory drawing of the process of forming a 1st cutting groove with the 1st cutting blade of the 1st spindle unit which comprises the cutting apparatus shown in FIG. 図1に示す切削装置を構成する第1のスピンドルユニットの第1の切削ブレードおよび第2のスピンドルユニットの第2の切削ブレードをドレッシングするドレッシング工程の説明図。Explanatory drawing of the dressing process which dresses the 1st cutting blade of the 1st spindle unit which comprises the cutting apparatus shown in FIG. 1, and the 2nd cutting blade of a 2nd spindle unit.

以下、本発明に従って構成された切削装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, a preferred embodiment of a cutting device configured according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1には、本発明に従って構成された切削装置の一実施形態の斜視図が示されている。
図示の実施形態における切削装置は、静止基台2と、該静止基台2上に配設され被加工物を保持するチャックテーブル機構3と、該チャックテーブル機構3に保持された被加工物を切削する切削機構4とを具備している。
FIG. 1 shows a perspective view of one embodiment of a cutting device constructed in accordance with the present invention.
The cutting apparatus in the illustrated embodiment includes a stationary base 2, a chuck table mechanism 3 that is disposed on the stationary base 2 and holds a workpiece, and a workpiece held on the chuck table mechanism 3. And a cutting mechanism 4 for cutting.

チャックテーブル機構3は、静止基台2上に矢印Xで示す加工送り方向(X軸方向)に沿って配設された2本のガイドレール31、31と、該2本のガイドレール31、31上に摺動可能に配設された移動基台32と、該移動基台32上に配設された円筒状の支持部材33に回転可能に支持された被加工物を保持するチャックテーブル34と、該チャックテーブル34と円筒状の支持部材33との間に配設されたカバーテーブル35と、チャックテーブル34が配設された移動基台32を2本のガイドレール31、31に沿って加工送り方向(X軸方向)に移動させるための加工送り手段36とを具備している。チャックテーブル34は、円筒状の支持部材33に回転可能に支持されたチャックテーブル本体341と、該チャックテーブル本体341の上面に配設された吸着チャック342とを具備している。吸着チャック342は、ポーラスセラミックスによって形成され図示しない吸引手段に接続されており、適宜負圧が作用せしめられるようになっている。従って、吸着チャック342上に載置された被加工物は、図示しない吸引手段を作動することにより吸着チャック342上に吸引保持される。また、チャックテーブル34は、円筒状の支持部材33内に配設された図示しないパルスモータによって回動せしめられるようになっている。このように構成されたチャックテーブル34のチャックテーブル本体341には、被加工物として後述するウエーハをダイシングテープを介して支持する環状のダイシングフレームを固定するためのクランプ343が配設されている。上記カバーテーブル35は、チャックテーブル34を嵌挿して配設され円筒状の支持部材33の上面に固定されている。なお、上記加工送り手段36は、周知のボールスクリュー機構によって構成されている。   The chuck table mechanism 3 includes two guide rails 31, 31 disposed on the stationary base 2 along the machining feed direction (X-axis direction) indicated by an arrow X, and the two guide rails 31, 31. A movable base 32 slidably disposed on the upper surface, and a chuck table 34 for holding a workpiece rotatably supported on a cylindrical support member 33 disposed on the movable base 32. The cover table 35 disposed between the chuck table 34 and the cylindrical support member 33 and the movable base 32 on which the chuck table 34 is disposed are processed along the two guide rails 31, 31. And machining feed means 36 for moving in the feed direction (X-axis direction). The chuck table 34 includes a chuck table main body 341 that is rotatably supported by a cylindrical support member 33, and a suction chuck 342 disposed on the upper surface of the chuck table main body 341. The suction chuck 342 is made of porous ceramics and is connected to suction means (not shown) so that a negative pressure is appropriately applied. Therefore, the workpiece placed on the suction chuck 342 is sucked and held on the suction chuck 342 by operating a suction means (not shown). The chuck table 34 is rotated by a pulse motor (not shown) disposed in a cylindrical support member 33. The chuck table main body 341 of the chuck table 34 configured as described above is provided with a clamp 343 for fixing an annular dicing frame that supports a wafer, which will be described later, via a dicing tape as a workpiece. The cover table 35 is disposed with the chuck table 34 inserted therein, and is fixed to the upper surface of the cylindrical support member 33. The processing feed means 36 is constituted by a known ball screw mechanism.

次に、上記切削機構4について説明する。
切削機構4は、上記静止基台2上に固定された門型の支持台41を具備している。この門型の支持台41は、上記切削作業領域60を跨ぐように配設されている。支持台41の側壁には加工送り方向(X軸方向)と直交する矢印Yで示す割り出し送り方向(Y軸方向)に沿って平行に配設された2本のガイドレール411、411が設けられているとともに、この2本のガイドレール411、411に沿って第1の基部42aおよび第2の基部42bがそれぞれ割り出し送り方向(Y軸方向)に摺動可能に配設されている。図示の実施形態における切削機構4は、第1の基部42aおよび第2の基部42bをそれぞれ2本のガイドレール411、411に沿って割り出し送り方向(Y軸方向)に移動するための第1の割り出し送り手段43aおよび第2の割り出し送り手段43bを具備している。第1の割り出し送り手段43aおよび第2の割り出し送り手段43bは、それぞれ周知のボールスクリュー機構によって構成されている。
Next, the cutting mechanism 4 will be described.
The cutting mechanism 4 includes a gate-shaped support base 41 fixed on the stationary base 2. The gate-shaped support base 41 is disposed so as to straddle the cutting work area 60. Two guide rails 411 and 411 arranged in parallel along the index feed direction (Y-axis direction) indicated by an arrow Y orthogonal to the machining feed direction (X-axis direction) are provided on the side wall of the support base 41. In addition, the first base portion 42a and the second base portion 42b are arranged along the two guide rails 411 and 411 so as to be slidable in the indexing feed direction (Y-axis direction). The cutting mechanism 4 in the illustrated embodiment has a first base 42a and a second base 42b for moving in the indexing and feeding direction (Y-axis direction) along the two guide rails 411 and 411, respectively. An index feed unit 43a and a second index feed unit 43b are provided. The first index feed means 43a and the second index feed means 43b are each constituted by a known ball screw mechanism.

上記第1の基部42aおよび第2の基部42bにはそれぞれ2本のガイドレール421a、421aおよび421b、421bが矢印Zで示す切り込み送り方向(Z軸方向)に沿って設けられており、このガイドレール421a、421aおよび421b、421bに沿って第1の懸垂ブラケット44aおよび第2の懸垂ブラケット44bがそれぞれ切り込み送り方向(Z軸方向)に摺動可能に配設されている。第1の懸垂ブラケット44aおよび第2の懸垂ブラケット44bにはそれぞれ第1の切り込み送り手段45aおよび第2の切り込み送り手段45bが配設されている。この第1の切り込み送り手段45aおよび第2の切り込み送り手段45bは、それぞれ周知のボールスクリュー機構によって構成されており、第1の懸垂ブラケット44aおよび第2の懸垂ブラケット44bをそれぞれガイドレール421a、421aおよび421b、421bに沿って上記チャックテーブル34の上面である保持面に垂直な切り込み送り方向(Z軸方向)に移動せしめる。   Two guide rails 421a, 421a and 421b, 421b are provided on the first base portion 42a and the second base portion 42b, respectively, along the cutting feed direction (Z-axis direction) indicated by an arrow Z. A first suspension bracket 44a and a second suspension bracket 44b are arranged along the rails 421a, 421a and 421b, 421b so as to be slidable in the cutting feed direction (Z-axis direction), respectively. The first suspension bracket 44a and the second suspension bracket 44b are respectively provided with a first cutting feed means 45a and a second cutting feed means 45b. The first notch feed means 45a and the second notch feed means 45b are each constituted by a well-known ball screw mechanism, and the first suspension bracket 44a and the second suspension bracket 44b are respectively connected to the guide rails 421a and 421a. And 421b and 421b are moved in a cutting feed direction (Z-axis direction) perpendicular to the holding surface which is the upper surface of the chuck table 34.

上記第1の懸垂ブラケット44aおよび第2の懸垂ブラケット44bには、第1の切削手段としての第1のスピンドルユニット46aと第2の切削手段としての第2のスピンドルユニット46bが装着されている。この第1のスピンドルユニット46aおよび第2のスピンドルユニット46bについて、簡略化して示されている図2を参照して説明する。第1のスピンドルユニット46aおよび第2のスピンドルユニット46bは、それぞれ第1の懸垂ブラケット44aおよび第2の懸垂ブラケット44bに固定された第1のスピンドルハウジング461aおよび第2のスピンドルハウジング461bと、該第1のスピンドルハウジング461aおよび第2のスピンドルハウジング461bにそれぞれ回転可能に支持された第1の回転スピンドル462aおよび第2の回転スピンドル462bと、該第1の回転スピンドル462aおよび第2の回転スピンドル462bの一端部に装着された第1の切削ブレード463aおよび第2の切削ブレード463bと、第1の回転スピンドル462aおよび第2の回転スピンドル462bをそれぞれ回転駆動する第1のサーボモータ464aおよび第2の第1のサーボモータ464bとからなっている。このように構成された第1のスピンドルユニット46aおよび第2のスピンドルユニット46bは、第1の切削ブレード463aと第2の切削ブレード463bが互いに対向するように配設されている。即ち、第1のスピンドルユニット46aと第2のスピンドルユニット46bは、それぞれ軸芯が割り出し送り方向(Y軸方向)に向くように一直線上に配設されている。なお、上記第1の切削ブレード463aと第2の切削ブレード463bは異なる種類のブレードが用いられており、上記第1の切削ブレード463aは厚さが例えば40μm程度のテスト用の金属パターン除去用に形成され、第2の切削ブレード463bは厚さが例えば20μm程度の切断用に形成されている。   A first spindle unit 46a as a first cutting means and a second spindle unit 46b as a second cutting means are mounted on the first suspension bracket 44a and the second suspension bracket 44b. The first spindle unit 46a and the second spindle unit 46b will be described with reference to FIG. The first spindle unit 46a and the second spindle unit 46b include a first spindle housing 461a and a second spindle housing 461b fixed to the first suspension bracket 44a and the second suspension bracket 44b, respectively. A first rotary spindle 462a and a second rotary spindle 462b rotatably supported by one spindle housing 461a and a second spindle housing 461b, respectively, and the first rotary spindle 462a and the second rotary spindle 462b. The first servo motor 464a and the second servo blade 464a and the second cutting spindle 462b, and the first and second cutting blades 463a and 463b mounted on one end of the first rotating spindle 462a and the second rotating spindle 462b, respectively. It is made from one of the servo motor 464b. The first spindle unit 46a and the second spindle unit 46b configured as described above are arranged such that the first cutting blade 463a and the second cutting blade 463b face each other. That is, the first spindle unit 46a and the second spindle unit 46b are arranged in a straight line so that the shaft cores face the indexing feed direction (Y-axis direction). Note that different types of blades are used for the first cutting blade 463a and the second cutting blade 463b, and the first cutting blade 463a is used for removing a metal pattern for testing having a thickness of, for example, about 40 μm. The second cutting blade 463b is formed for cutting with a thickness of about 20 μm, for example.

図1および図3を参照して説明を続けると、図示の実施形態における切削装置は、上記チャックテーブル34に隣接してチャックテーブル34とともに加工送り方向(X軸方向)に移動可能に配設された第1のドレッシングボード支持テーブル5aおよび第2のドレッシングボード支持テーブル5bを具備している。第1のドレッシングボード支持テーブル5aは、第1の切削手段としての第1のスピンドルユニット46a側において移動基台32に配設されている。また、第2のドレッシングボード支持テーブル5bは、第2の切削手段としての第2のスピンドルユニット46b側において移動基台32に配設されている。第1のドレッシングボード支持テーブル5aおよび第2のドレッシングボード支持テーブル5bは、それぞれ第1の吸着テーブル51aおよび第2の吸着テーブル51bを備えており(図1参照)、この第1の吸着テーブル51aおよび第2の吸着テーブル51bがそれぞれ図示しない吸引手段に接続されている。このように構成された第1のドレッシングボード支持テーブル5aおよび第2のドレッシングボード支持テーブル5bの第1の吸着テーブル51aおよび第2の吸着テーブル51bには、それぞれ第1のドレッシングボード6aおよび第2のドレッシングボード6bが載置され、図示しない吸引手段を作動することにより第1のドレッシングボード6aおよび第2のドレッシングボード6bは第1の吸着テーブル51aおよび第2の吸着テーブル51b上に吸引保持される。なお、第1のドレッシングボード6aは第1の切削ブレード463aの目たてに適した砥石によって形成されており、第2のドレッシングボード6bは上記第2の切削ブレード463bの目たてに適した砥石によって形成されている。   1 and 3, the cutting device in the illustrated embodiment is disposed adjacent to the chuck table 34 so as to be movable along with the chuck table 34 in the machining feed direction (X-axis direction). The first dressing board support table 5a and the second dressing board support table 5b are provided. The first dressing board support table 5a is disposed on the moving base 32 on the first spindle unit 46a side as the first cutting means. The second dressing board support table 5b is disposed on the moving base 32 on the second spindle unit 46b side as the second cutting means. The first dressing board support table 5a and the second dressing board support table 5b are respectively provided with a first suction table 51a and a second suction table 51b (see FIG. 1), and this first suction table 51a. The second suction table 51b is connected to suction means (not shown). The first dressing board 6a and the second dressing table 51b of the first dressing board support table 5a and the second dressing board support table 5b configured as described above are respectively provided on the first dressing board 6a and the second dressing board 51b. The first dressing board 6b and the second dressing board 6b are sucked and held on the first suction table 51a and the second suction table 51b by operating a suction means (not shown). The The first dressing board 6a is formed by a grindstone suitable for the first cutting blade 463a, and the second dressing board 6b is suitable for the second cutting blade 463b. It is formed by a grindstone.

図示の実施形態における切削装置は以上のように構成されており、以下その作用について説明する。
図4には、被加工物である半導体ウエーハの斜視図が示されている。図4に示す半導体ウエーハ10は、表面10aに複数のストリート101が格子状に形成されているとともに、該複数のストリート101によって区画された複数の領域にIC、LSI等のデバイス102が形成されている。なお、この半導体ウエーハ10のストリート101には、デバイス102の機能をテストするためのテスト エレメント グループ(Teg)と称するテスト用の金属パターン104が部分的に複数配設されている。この半導体ウエーハ10は、環状のダイシングフレームFに装着されたダイシングテープTの表面に貼着される。このようにダイシングテープTを介してダイシングフレームFに支持された半導体ウエーハ10は、図示しない搬送手段によって上記チャックテーブル34に載置される。チャックテーブル34に半導体ウエーハ10が載置されたならば、図示しない吸引手段を作動することにより、半導体ウエーハ10はチャックテーブル34上にダイシングテープTを介して吸引保持される。なお、半導体ウエーハ10をダイシングテープTを介して支持するダイシングフレームFは、チャックテーブル34に装着されたクランプ343によって固定される。
The cutting apparatus in the illustrated embodiment is configured as described above, and the operation thereof will be described below.
FIG. 4 shows a perspective view of a semiconductor wafer as a workpiece. A semiconductor wafer 10 shown in FIG. 4 has a plurality of streets 101 formed in a lattice pattern on a surface 10a, and devices 102 such as ICs and LSIs are formed in a plurality of regions partitioned by the plurality of streets 101. Yes. Note that a plurality of test metal patterns 104 called test element groups (Teg) for testing the function of the device 102 are partially disposed on the street 101 of the semiconductor wafer 10. The semiconductor wafer 10 is attached to the surface of a dicing tape T mounted on an annular dicing frame F. Thus, the semiconductor wafer 10 supported by the dicing frame F via the dicing tape T is placed on the chuck table 34 by a conveying means (not shown). When the semiconductor wafer 10 is placed on the chuck table 34, the semiconductor wafer 10 is sucked and held on the chuck table 34 via the dicing tape T by operating a suction means (not shown). The dicing frame F that supports the semiconductor wafer 10 via the dicing tape T is fixed by a clamp 343 attached to the chuck table 34.

上述したようにチャックテーブル34上に半導体ウエーハ10を吸引保持したならば、加工送り手段36を作動して半導体ウエーハ10を吸引保持したチャックテーブル34を加工領域60に移動する。次に、第1の割り出し送り手段43aおよび第1の切り込み送り手段45aを作動して図5の(a)に示すように第1のスピンドルユニット46aの第1の切削ブレード463aをチャックテーブル34に吸引保持された半導体ウエーハ10のストリートにおける図において最左側のストリート101に対応した位置に所定の切り込み深さHIをもって位置付ける。このとき、第1の切削ブレード463aは、図6において実線で示すように上記ストリート101の延長線上においてウエーハ10の外周縁とダイシングフレームFとも間に露出しているダイシングテープTの上方に位置付けられる。また、第2の割り出し送り手段43bを作動して第2のスピンドルユニット46bの第2の切削ブレード463bを図5の(a)に示すように半導体ウエーハ10の左方に位置付ける。次に、第1の切削ブレード463aを矢印Aで示す方向に回転するとともに、加工送り手段36を作動してチャックテーブル34を図5の(a)において紙面に垂直な方向、図6において矢印X1で示す方向に加工送りすることにより、図5の(b)に示すように半導体ウエーハ10の図において最左側のストリート101に沿って所定深さHIの切削溝G1が形成される(第1の切削工程)。なお、上記加工送りは、第1の切削ブレード463aが図6において2点鎖線で示すようにウエーハ10の外周縁(図6において右端)とダイシングフレームFとの間に露出しているダイシングテープTの上方に位置するまでチャックテーブル34を移動する。これにより、ストリート101の表面に形成されているテスト用の金属パターン(図4参照)が除去される。このようにして、半導体ウエーハ10の図5の(b)において最左側のストリート101に沿って切削溝G1を形成したならば、第1の切り込み送り手段45aを作動して第1のスピンドルユニット46aの第1の切削ブレード463aを上方に所定量移動し、第1の割り出し送り手段43aを作動して図5において右方にストリートの間隔に相当する量だけ割り出し送りするとともに、加工送り手段36を作動してチャックテーブル34を図6において矢印X1で示す方向と反対方向に移動することにより、第1の切削ブレード463aと半導体ウエーハ10との矢印X1で示す方向の相対位置を図6において実線で示す位置に位置付ける。次に、第1の切り込み送り手段45aを作動して第1の切削ブレード463aを下方に所定量切り込み送りして図5において左から2番目のストリート101に対応した位置に所定の切り込み深さHIをもって位置付ける。そして、上述したように第1の切削ブレード463aを矢印Aで示す方向に回転するとともに加工送り手段36を作動してチャックテーブル34を図6において矢印X1で示す方向に切削送りすることにより、図5において左から2番目のストリート101に沿って所定深さHIの第1の切削溝G1が形成される。   As described above, when the semiconductor wafer 10 is sucked and held on the chuck table 34, the processing feed means 36 is operated to move the chuck table 34 holding the semiconductor wafer 10 by suction to the processing region 60. Next, the first indexing feed means 43a and the first cutting feed means 45a are actuated to place the first cutting blade 463a of the first spindle unit 46a on the chuck table 34 as shown in FIG. In the drawing of the street of the semiconductor wafer 10 held by suction, the semiconductor wafer 10 is positioned at a position corresponding to the leftmost street 101 with a predetermined cutting depth HI. At this time, the first cutting blade 463a is positioned above the dicing tape T exposed between the outer peripheral edge of the wafer 10 and the dicing frame F on the extended line of the street 101 as shown by a solid line in FIG. . Further, the second index feeding means 43b is operated to position the second cutting blade 463b of the second spindle unit 46b on the left side of the semiconductor wafer 10 as shown in FIG. Next, the first cutting blade 463a is rotated in the direction indicated by arrow A, and the processing feed means 36 is operated to move the chuck table 34 in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 5A, and in FIG. As shown in FIG. 5B, a cutting groove G1 having a predetermined depth HI is formed along the leftmost street 101 in the drawing of the semiconductor wafer 10 as shown in FIG. Cutting process). Note that the machining feed is performed by the dicing tape T in which the first cutting blade 463a is exposed between the outer peripheral edge of the wafer 10 (right end in FIG. 6) and the dicing frame F as indicated by a two-dot chain line in FIG. The chuck table 34 is moved until it is positioned above. As a result, the test metal pattern (see FIG. 4) formed on the surface of the street 101 is removed. Thus, if the cutting groove G1 is formed along the leftmost street 101 in FIG. 5B of the semiconductor wafer 10, the first cutting unit 45a is operated to operate the first spindle unit 46a. The first cutting blade 463a is moved upward by a predetermined amount, and the first indexing and feeding means 43a is actuated to index and feed rightward in FIG. 5 by an amount corresponding to the street interval. By operating the chuck table 34 in the direction opposite to the direction indicated by the arrow X1 in FIG. 6, the relative position of the first cutting blade 463a and the semiconductor wafer 10 in the direction indicated by the arrow X1 is indicated by a solid line in FIG. Position it at the indicated position. Next, the first cutting feed means 45a is actuated to cut and feed the first cutting blade 463a downward by a predetermined amount, and a predetermined cutting depth HI at a position corresponding to the second street 101 from the left in FIG. Position with. Then, as described above, the first cutting blade 463a is rotated in the direction indicated by the arrow A and the processing feed means 36 is operated to cut and feed the chuck table 34 in the direction indicated by the arrow X1 in FIG. 5, a first cutting groove G1 having a predetermined depth HI is formed along the second street 101 from the left.

上述したように、第1のスピンドルユニット46aの第1の切削ブレード463aにより例えば2本のストリートに沿って第1の切削溝G1を形成したならば、図7の(a)に示すように第1のスピンドルユニット46aの第1の切削ブレード463aを半導体ウエーハ10の図において左から3番目のストリート101に対応した位置に所定の切り込み深さHIをもって位置付けるとともに、第2の割り出し送り手段43bおよび第2の切り込み送り手段45bを作動して第2のスピンドルユニット46bの第2の切削ブレード463bを半導体ウエーハ10の図において最左側の第1の切削溝G1が形成されているストリート101に対応した位置にダイシングテープ12に達する切り込み深さH2をもって位置付ける。従って、第2の切削ブレード463bは、上述したように第1の切削ブレード463aによって形成された第1の切削溝G1の幅方向中心位置に位置付けられる。このとき、第2の切削ブレード463bは、図8において実線で示すように上記ストリート101の延長線上においてウエーハ10の外周縁とダイシングフレームFとの間に露出されたダイシングテープTの上に位置付けられる。なお、第1の切削ブレード463aは、上述したと同様に図6において実線で示すように上記ストリート101の延長線上においてウエーハ10の外周縁とダイシングフレームFとの間に露出するダイシングテープTの上方に位置付けられる。次に、第1の切削ブレード463aを図6において矢印Aで示す方向に回転し第2の切削ブレード463bを図8において矢印Bで示す方向に回転するとともに、加工送り手段36を作動してチャックテーブル34を図7の(a)において紙面に垂直な方向、図8おいて矢印X1で示す方向に加工送りする。この結果、図7の(b)に示すように半導体ウエーハ10の図において最左側のストリート101に形成されている第1の切削溝G1に沿って第1の切削溝G1の底から深さH3の第2の切削溝G2が形成される(第2の切削工程)とともに、図において左から3番目のストリート101に沿って所定深さHIの第1の切削溝G1が形成される。なお、上記切削送りは、第1の切削ブレード463aが図6において2点鎖線で示すように、また、第2の切削ブレード463bが図8において2点鎖線で示すようにウエーハ10の外周縁(図6および図8において右端)とダイシングフレームFとの間に露出するダイシングテープTに達する位置までチャックテーブル34を移動する。以上の操作を繰り返すことにより、半導体ウエーハ10の所定方向に形成されたストリート101に沿って第1の切削溝G1および第2の切削溝G2が形成され、半導体ウエーハ10はストリート101に沿って切断される。   As described above, if the first cutting groove G1 is formed along, for example, two streets by the first cutting blade 463a of the first spindle unit 46a, as shown in FIG. The first cutting blade 463a of one spindle unit 46a is positioned at a position corresponding to the third street 101 from the left in the drawing of the semiconductor wafer 10 with a predetermined cutting depth HI, and the second index feed means 43b and the second The position of the second cutting blade 463b of the second spindle unit 46b corresponding to the street 101 in which the leftmost first cutting groove G1 is formed in the drawing of the semiconductor wafer 10 by operating the second cutting feed means 45b. Is positioned with a cutting depth H2 reaching the dicing tape 12. Therefore, the second cutting blade 463b is positioned at the center position in the width direction of the first cutting groove G1 formed by the first cutting blade 463a as described above. At this time, the second cutting blade 463b is positioned on the dicing tape T exposed between the outer peripheral edge of the wafer 10 and the dicing frame F on the extended line of the street 101 as shown by a solid line in FIG. . As described above, the first cutting blade 463a is located above the dicing tape T exposed between the outer peripheral edge of the wafer 10 and the dicing frame F on the extended line of the street 101 as indicated by a solid line in FIG. Positioned on. Next, the first cutting blade 463a is rotated in the direction indicated by arrow A in FIG. 6 and the second cutting blade 463b is rotated in the direction indicated by arrow B in FIG. The table 34 is processed and fed in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 7A, and in the direction indicated by the arrow X1 in FIG. As a result, as shown in FIG. 7B, the depth H3 from the bottom of the first cutting groove G1 along the first cutting groove G1 formed in the leftmost street 101 in the drawing of the semiconductor wafer 10 is shown. The second cutting groove G2 is formed (second cutting step), and the first cutting groove G1 having a predetermined depth HI is formed along the third street 101 from the left in the drawing. Note that the cutting feed is performed so that the first cutting blade 463a is indicated by a two-dot chain line in FIG. 6 and the second cutting blade 463b is indicated by a two-dot chain line in FIG. The chuck table 34 is moved to a position reaching the dicing tape T exposed between the right end in FIGS. 6 and 8 and the dicing frame F. By repeating the above operation, the first cutting groove G 1 and the second cutting groove G 2 are formed along the street 101 formed in a predetermined direction of the semiconductor wafer 10, and the semiconductor wafer 10 is cut along the street 101. Is done.

上述した切削作業を繰り返し実施し、半導体ウエーハ10の所定方向に形成されたストリート101に沿って上記第1の切削溝G1および第2の切削溝G2を形成したならば、半導体ウエーハ10を吸引保持した吸着チャック34を90度回転させて、上記と同様の切削作業を実行することにより、半導体ウエーハ10に形成された所定方向と直交する方向に形成されたストリート101に沿って上記第1の切削溝G1および第2の切削溝G2を形成する。このようにして半導体ウエーハ10に所定方向に形成されたストリート101および所定方向と直交する方向に形成されたストリート101に沿って上記第1の切削溝G1および第2の切削溝G2を形成することにより、半導体ウエーハ10は個々のデバイスに分割される。なお、個々に分割されたデバイスは、ダイシングテープTに貼着されているのでバラバラにはならず、半導体ウエーハ10の形態が維持されている。   If the above-described cutting operation is repeated and the first cutting groove G1 and the second cutting groove G2 are formed along the street 101 formed in a predetermined direction of the semiconductor wafer 10, the semiconductor wafer 10 is sucked and held. The first cutting is performed along the street 101 formed in the direction orthogonal to the predetermined direction formed on the semiconductor wafer 10 by rotating the suction chuck 34 90 degrees and performing the same cutting operation as described above. A groove G1 and a second cutting groove G2 are formed. In this way, the first cutting groove G1 and the second cutting groove G2 are formed along the street 101 formed in a predetermined direction on the semiconductor wafer 10 and the street 101 formed in a direction orthogonal to the predetermined direction. Thus, the semiconductor wafer 10 is divided into individual devices. In addition, since the device divided | segmented separately is affixed on the dicing tape T, it does not fall apart and the form of the semiconductor wafer 10 is maintained.

上述した切削作業を継続して実施すると、第1の切削ブレード463aおよび第2の切削ブレード463bに目つぶれが生じて切削能力が低下する。そこで、所定枚数の半導体ウエーハ10に対して上記切削作業を実施したならば、第1の切削ブレード463aおよび第2の切削ブレード463bをドレッシングするドレッシング工程を実施する。即ち、加工送り手段36を作動して、第1のドレッシングボード支持テーブル5aに保持された第1のドレッシングボード6aおよび第2のドレッシングボード支持テーブル5bに保持された第2のドレッシングボード6bを図9の(a)に示すように加工領域60に移動する。次に、第1の割り出し送り手段43aを作動して第1のスピンドルユニット46aの第1の切削ブレード463aを第1のドレッシングボード6aと対応する位置に位置付けるとともに、第2の割り出し送り手段43bを作動して第2のスピンドルユニット46bの第2の切削ブレード463bを第2のドレッシングボード6bと対応する位置に位置付ける。そして、第1の切り込み送り手段45aおよび第2の切り込み送り手段45bを作動して、第1の切削ブレード463aおよび第2の切削ブレード463bを第1のドレッシングボード6aおよび第2のドレッシングボード6bの表面から所定の切り込み深さに位置付ける。次に、第1の切削ブレード463aおよび第2の切削ブレード463bをそれぞれ矢印Aで示す方向および矢印Bで示す方向に回転するとともに、加工送り手段36を作動して第1のドレッシングボード支持テーブル5a保持された第1のドレッシングボード6aおよび第2のドレッシングボード6bに保持された第2のドレッシングボード6bを矢印X1で示す方向に移動する。そして、図9の(b)に示すように第1のドレッシングボード6aおよび第2のドレッシングボード6bがそれぞれ第1の切削ブレード463aおよび第2の切削ブレード463bを通過するまで移動することにより、第1の切削ブレード463aおよび第2の切削ブレード463bは第1のドレッシングボード6aおよび第2のドレッシングボード6bを切削し目立てされる。   If the above-described cutting operation is continuously performed, the first cutting blade 463a and the second cutting blade 463b are crushed and the cutting ability is reduced. Therefore, if the above-described cutting operation is performed on the predetermined number of semiconductor wafers 10, a dressing process for dressing the first cutting blade 463a and the second cutting blade 463b is performed. That is, by operating the processing feed means 36, the first dressing board 6a held on the first dressing board support table 5a and the second dressing board 6b held on the second dressing board support table 5b are illustrated. As shown in FIG. Next, the first index feed means 43a is operated to position the first cutting blade 463a of the first spindle unit 46a at a position corresponding to the first dressing board 6a, and the second index feed means 43b is set. It operates to position the second cutting blade 463b of the second spindle unit 46b at a position corresponding to the second dressing board 6b. Then, by operating the first cutting feed means 45a and the second cutting feed means 45b, the first cutting blade 463a and the second cutting blade 463b are moved to the first dressing board 6a and the second dressing board 6b. It is positioned at a predetermined depth of cut from the surface. Next, the first cutting blade 463a and the second cutting blade 463b are rotated in the direction indicated by the arrow A and the direction indicated by the arrow B, respectively, and the processing feed means 36 is operated to operate the first dressing board support table 5a. The first dressing board 6a and the second dressing board 6b held by the second dressing board 6b are moved in the direction indicated by the arrow X1. Then, as shown in FIG. 9 (b), the first dressing board 6a and the second dressing board 6b move until they pass through the first cutting blade 463a and the second cutting blade 463b, respectively. The first cutting blade 463a and the second cutting blade 463b are sharpened by cutting the first dressing board 6a and the second dressing board 6b.

以上のように図示の実施形態における切削装置は、チャックテーブル34に隣接してチャックテーブル34とともに加工送り方向(X軸方向)に移動可能に配設され第1のドレッシングボード6aを保持した第1のドレッシングボード支持テーブル5aおよび第2のドレッシングボード6bを保持した第2のドレッシングボード支持テーブル5bを具備しているので、チャックテーブル34に被加工物が保持されていても第1の切削ブレード463aおよび第2の切削ブレード463bのドレッシングを適宜実施することができる。また、第1の切削ブレード463aおよび第2の切削ブレード463bの種類が異なる場合でも、第1のドレッシングボード支持テーブル5aおよび第2のドレッシングボード6bに第1の切削ブレード463aおよび第2の切削ブレード463bにそれぞれ適したドレッシングボードを保持してドレッシングすることができる。   As described above, the cutting apparatus in the illustrated embodiment is disposed adjacent to the chuck table 34 so as to be movable in the processing feed direction (X-axis direction) together with the chuck table 34 and holds the first dressing board 6a. Since the dressing board support table 5a and the second dressing board support table 5b holding the second dressing board 6b are provided, the first cutting blade 463a can be used even if the workpiece is held on the chuck table 34. And the dressing of the 2nd cutting blade 463b can be implemented suitably. Even when the types of the first cutting blade 463a and the second cutting blade 463b are different, the first cutting blade 463a and the second cutting blade are added to the first dressing board support table 5a and the second dressing board 6b. It is possible to perform dressing while holding dressing boards suitable for 463b.

2:静止基台
3:チャックテーブル機構
32:移動基台
34:チャックテーブル
36:加工送り手段
4:切削機構
42a:第1の基部
42b:第2の基部
43a:第1の割り出し送り手段
43b:第2の割り出し送り手段
44a:第1の懸垂ブラケット
44b:第2の懸垂ブラケット
45a:第1の切り込み送り手段
45b:第2の切り込み送り手段
46a:第1のスピンドルユニット
46b:第2のスピンドルユニット
462a:第1の回転スピンドル
462b:第2の回転スピンドル
463a:第1の切削ブレード
463b:第2の切削ブレード
5a:第1のドレッシングボード支持テーブル
5b:第2のドレッシングボード支持テーブル
6a:第1のドレッシングボード
6b:第2のドレッシングボード
2: stationary base 3: chuck table mechanism 32: moving base 34: chuck table 36: machining feed means 4: cutting mechanism 42a: first base 42b: second base 43a: first index feed means 43b: Second index feed means 44a: first suspension bracket 44b: second suspension bracket 45a: first cut feed means 45b: second cut feed means 46a: first spindle unit 46b: second spindle unit 462a: first rotating spindle 462b: second rotating spindle 463a: first cutting blade 463b: second cutting blade 5a: first dressing board support table 5b: second dressing board support table 6a: first Dressing board 6b: second dressing board

Claims (2)

被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルを加工送り方向に移動せしめる加工送り手段と、該加工送り手段と直交する割り出し送り方向に沿って移動可能に配設された第1の回転スピンドルに装着された第1の切削ブレードを備えた第1の切削手段と、該第1の切削手段を割り出し送り方向に移動せしめる第1の割り出し送り手段と、該第1の回転スピンドルと同一軸線上に配設された第2の回転スピンドルに該第1の切削ブレードと対向して装着された第2の切削ブレードを備えた第2の切削手段と、該第2の切削手段を割り出し送り方向に移動せしめる第2の割り出し送り手段と、を具備する切削装置において、
該チャックテーブルに隣接して該第1の切削手段側に該チャックテーブルとともに加工送り方向に移動可能に配設されドレッシングボードを保持する第1のドレッシングボード支持テーブルと、
該チャックテーブルに隣接して該第2の切削手段側に該チャックテーブルとともに加工送り方向に移動可能に配設されドレッシングボードを保持する第2のドレッシングボード支持テーブルと、を具備している、
ことを特徴とする切削装置。
A chuck table for holding a workpiece, a machining feed means for moving the chuck table in the machining feed direction, and a first rotating spindle movably disposed along an index feed direction orthogonal to the machining feed means A first cutting means provided with a first cutting blade mounted on the first cutting means; a first index feeding means for moving the first cutting means in the index feeding direction; and the same axis as the first rotating spindle A second cutting means provided with a second cutting blade mounted on a second rotary spindle disposed opposite to the first cutting blade, and the second cutting means in the indexing feed direction. A cutting device comprising: a second indexing and feeding means for moving;
A first dressing board support table, which is disposed adjacent to the chuck table on the first cutting means side so as to be movable in the machining feed direction together with the chuck table, and holds a dressing board;
A second dressing board support table that is disposed adjacent to the chuck table on the second cutting means side so as to be movable in the processing feed direction together with the chuck table, and holds a dressing board.
The cutting device characterized by the above-mentioned.
該第1の切削ブレードと第2の切削ブレードは種類が異なり、該第1のドレッシングボード支持テーブルには該第1の切削ブレードに対応した第1のドレッシングボードが保持され、該第2のドレッシングボード支持テーブルには該第2の切削ブレードに対応した第2のドレッシングボードが保持される、請求項1記載の切削装置。   The first cutting blade and the second cutting blade are of different types, and the first dressing board support table holds the first dressing board corresponding to the first cutting blade, and the second dressing board The cutting device according to claim 1, wherein a second dressing board corresponding to the second cutting blade is held on the board support table.
JP2009160861A 2009-07-07 2009-07-07 Cutting equipment Active JP5571331B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009160861A JP5571331B2 (en) 2009-07-07 2009-07-07 Cutting equipment
CN201010220486.1A CN101941248B (en) 2009-07-07 2010-07-01 Cutting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009160861A JP5571331B2 (en) 2009-07-07 2009-07-07 Cutting equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011016175A true JP2011016175A (en) 2011-01-27
JP5571331B2 JP5571331B2 (en) 2014-08-13

Family

ID=43433548

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009160861A Active JP5571331B2 (en) 2009-07-07 2009-07-07 Cutting equipment

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP5571331B2 (en)
CN (1) CN101941248B (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013082021A (en) * 2011-10-06 2013-05-09 Disco Corp Cutting apparatus
JP2013120794A (en) * 2011-12-06 2013-06-17 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing device
JP2013202740A (en) * 2012-03-28 2013-10-07 Disco Corp Cutting device
JP2014205223A (en) * 2013-04-15 2014-10-30 株式会社ディスコ Cutting device
JP2017168575A (en) * 2016-03-15 2017-09-21 株式会社ディスコ Cutting method for work piece
CN107891369A (en) * 2016-10-03 2018-04-10 株式会社迪思科 Topping machanism
KR20190021165A (en) 2017-08-22 2019-03-05 가부시기가이샤 디스코 Dressing board, method of using the same and cutting apparatus
JP2019155589A (en) * 2019-05-13 2019-09-19 株式会社東京精密 Dressing device and dressing method
KR20220156442A (en) 2021-05-18 2022-11-25 가부시기가이샤 디스코 Dresser board

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6144107B2 (en) * 2013-05-09 2017-06-07 株式会社ディスコ Wafer cutting method
CN105751391B (en) * 2015-01-05 2019-11-29 株式会社迪思科 Cutting process and cutting apparatus
JP2016213240A (en) * 2015-04-30 2016-12-15 Towa株式会社 Manufacturing device and manufacturing method
JP2017045202A (en) * 2015-08-25 2017-03-02 株式会社ディスコ Management method of processing apparatus
JP6541546B2 (en) * 2015-10-21 2019-07-10 株式会社ディスコ Cutting device
JP6720043B2 (en) * 2016-10-05 2020-07-08 株式会社ディスコ Processing method
EP3523074B1 (en) * 2016-10-10 2020-12-23 Illinois Tool Works Inc. Sample preparation saw
JP2018122378A (en) * 2017-01-31 2018-08-09 株式会社Kmc Processing device
JP6812079B2 (en) * 2017-03-13 2021-01-13 株式会社ディスコ Processing method of work piece
JP7242129B2 (en) * 2019-01-21 2023-03-20 株式会社ディスコ Cutting device and cutting blade dressing method

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003103462A (en) * 2001-09-27 2003-04-08 Toyoda Mach Works Ltd Truing device in grinder having two wheel spindle stocks
JP2003173986A (en) * 2001-12-04 2003-06-20 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting method in 2-spindle cutter
JP2006159334A (en) * 2004-12-06 2006-06-22 Seiko Epson Corp Dicing dressing table structure and dicer
JP2008300556A (en) * 2007-05-30 2008-12-11 Disco Abrasive Syst Ltd Frame clamp

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5445559A (en) * 1993-06-24 1995-08-29 Texas Instruments Incorporated Wafer-like processing after sawing DMDs
JP2000049120A (en) * 1998-07-27 2000-02-18 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting device
TW522531B (en) * 2000-10-20 2003-03-01 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor device, method of manufacturing the device and mehtod of mounting the device
US6561177B2 (en) * 2000-12-14 2003-05-13 Micron Technology, Inc. Wafer dicing blade consisting of multiple layers
US6756562B1 (en) * 2003-01-10 2004-06-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor wafer dividing apparatus and semiconductor device manufacturing method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003103462A (en) * 2001-09-27 2003-04-08 Toyoda Mach Works Ltd Truing device in grinder having two wheel spindle stocks
JP2003173986A (en) * 2001-12-04 2003-06-20 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting method in 2-spindle cutter
JP2006159334A (en) * 2004-12-06 2006-06-22 Seiko Epson Corp Dicing dressing table structure and dicer
JP2008300556A (en) * 2007-05-30 2008-12-11 Disco Abrasive Syst Ltd Frame clamp

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013082021A (en) * 2011-10-06 2013-05-09 Disco Corp Cutting apparatus
JP2013120794A (en) * 2011-12-06 2013-06-17 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing device
JP2013202740A (en) * 2012-03-28 2013-10-07 Disco Corp Cutting device
JP2014205223A (en) * 2013-04-15 2014-10-30 株式会社ディスコ Cutting device
JP2017168575A (en) * 2016-03-15 2017-09-21 株式会社ディスコ Cutting method for work piece
KR20180037116A (en) 2016-10-03 2018-04-11 가부시기가이샤 디스코 Cutting device
CN107891369A (en) * 2016-10-03 2018-04-10 株式会社迪思科 Topping machanism
JP2018060864A (en) * 2016-10-03 2018-04-12 株式会社ディスコ Cutting device
CN107891369B (en) * 2016-10-03 2021-05-25 株式会社迪思科 Cutting device
KR20190021165A (en) 2017-08-22 2019-03-05 가부시기가이샤 디스코 Dressing board, method of using the same and cutting apparatus
US11850696B2 (en) 2017-08-22 2023-12-26 Disco Corporation Dressing board, use method of dressing board, and cutting apparatus
JP2019155589A (en) * 2019-05-13 2019-09-19 株式会社東京精密 Dressing device and dressing method
KR20220156442A (en) 2021-05-18 2022-11-25 가부시기가이샤 디스코 Dresser board

Also Published As

Publication number Publication date
CN101941248A (en) 2011-01-12
JP5571331B2 (en) 2014-08-13
CN101941248B (en) 2015-07-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5571331B2 (en) Cutting equipment
JP6214901B2 (en) Cutting equipment
CN107186891B (en) Method for cutting workpiece
CN108356706A (en) The application method of finishing board is laminated
JP2007005666A (en) Wafer processing method
CN104167378B (en) Processing unit (plant)
JP5975723B2 (en) Cutting equipment
JP6720043B2 (en) Processing method
CN107030902A (en) Topping machanism
JP2007081101A (en) Cutting device
JP6305867B2 (en) Wafer processing method
JP2011009652A (en) Position-detecting method of cutting blade in cutting apparatus
JP2011014783A (en) Chuck table for cutting device
JP5244548B2 (en) Holding table and processing device
JP4590064B2 (en) Semiconductor wafer dividing method
JP2019005878A (en) Annular grind stone
JP2013058653A (en) Method for dividing plate-like object
JP2010184319A (en) Cutting method
JP2010201580A (en) Shaping method of cutting blade
JP2007081317A (en) Cutting device
JP2019021703A (en) Cutting method of tabular workpiece
JP2019212753A (en) Retention mechanism and retention method of workpiece unit
JP7309280B2 (en) Workpiece, Workpiece Manufacturing Method, and Workpiece Processing Method
JP7144162B2 (en) Wafer cutting device and method
JP7271085B2 (en) Wafer cutting device and method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120625

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130919

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131029

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131226

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140603

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140626

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5571331

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250