JP2010531445A - 光分解反応及び電気化学分解反応を検出するため光学特性値を判定する測定装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1a
Description
a)少なくとも1つの被検基板のための載置装置と、
b)基板活性化のための少なくとも1つの活性化用放射線源と、
c)基板上で散乱光を発生させるため、及び/又は基板の蛍光励起のための、少なくとも1つの測定用放射線源と、
d)散乱光及び/又は蛍光を定量化するための少なくとも1つの検出器と、を備える。
・1台の装置で異なる光触媒測定法(散乱光測定と蛍光分析)を組み合わせることができるため、照射される試料の迅速、精密かつ定量的な分析が可能となる。
・試料の活性化はUV光(200nm<λ<400nm)と可視スペクトル光(λ>400nm)による照射で行う。
・ただし相互影響を排除するため、試料活性化のための照射と散乱光又は蛍光励起による試料測定のための照明は、波長範囲が異なる個別の光源により一斉に行う。
・試料の光学的測定は反射で行われるため、ガラスやプラスチック材のほかに、セラミック、木、鋼鉄等、表面の形態、粗さが異なる不透明材の試料も検出できる。
・測定段階は自動的に行われる。実施形態によれば、測定は同じ試料に対し両方法により同時に、連続的に、あるいは個別に実施できる。
・照射強度が既知の場合、測定される試料の光触媒効率は両方法により迅速且つ確実に判定できる。
・温度と空気湿度の変動を回避するため、必要に応じ空調環境内で測定を実施できる。
a)被検基板の少なくとも1つの表面は、光分解反応及び/又は電気化学分解反応により分解する物質で被覆され、
b)物質で被覆された表面は、活性化用放射線源を用いた照射により活性化され、
c)ステップb)の前に、同時に、及び/又はその後に、物質で被覆された基板の表面には、測定用放射線源から発せられる光が少なくとも1回は照射され、且つ
d)基板の表面により発せられる測定用放射線源の散乱光により、及び/又は蛍光により、物質の経時分解が測定される。
2 フォトセンサ
3 載置装置
4 試料
5 光源
6 フィルタ
7 放射線源
8 リフレクタ
9 光ファイバ
10 フォトダイオード
Claims (34)
- 光触媒活性基板の表面で起こる光分解反応及び/又は電気化学分解反応を検出するための、光学特性値を定量的に判定する測定装置であって、1つの筐体内に組み込まれた構成要素、すなわち、
a)少なくとも1つの被検基板のための載置装置と、
b)基板活性化のための少なくとも1つの活性化用放射線源と、
c)基板上で散乱光を発生させるため、及び/又は基板蛍光励起のための、少なくとも1つの測定用放射線源と、
d)散乱光及び/又は蛍光を定量化するための少なくとも1つの検出器と、
を備えること、
を特徴とする測定装置。 - 前記載置装置が試料カローセルであること、を特徴とする請求項1に記載の測定装置。
- 前記少なくとも1つの活性化用放射線源が、200から450nmの間、好ましくは320から400nmの間の波長により放射線を発すること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記少なくとも1つの活性化用放射線源が、ブラックライト管、ハロゲンランプ、昼光ランプ、水銀蒸気ランプ、レーザ、及び/又はレーザLEDからなる群より選ばれること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記少なくとも1つの活性化用放射線源は、それにより発せられる前記放射線が基本的に前記載置装置に垂直に当たるよう配置されること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記活性化用放射線源は不均一な放射線を発し、前記載置装置から離れて配置される少なくとも1つの活性化用放射線源の側には、前記載置装置の方向に前記少なくとも1つの活性化用放射線源により発せられる前記放射線を均一化するため、少なくとも1つの反射素子が設けられること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記少なくとも1つの活性化用放射線源が、等距離に配置された数個の活性化用放射線源からなる配列として構成されること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記測定用放射線源が、450から850nmの間、好ましくは450から650nmの間、さらに好ましくは470から532nmの間の波長により放射線を発すること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記測定用放射線源は単色放射線源であり、好ましくはレーザ及び/又はレーザLED、又は広帯域放射線源の狭帯域フィルタ済み放射線からなる群より選ばれること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記測定用放射線源は、前記筐体にて、それにより発せられる前記放射線が前記基板表面に対する垂線に対し45°±40°の角度で前記基板の前記表面に当たるよう配置されること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記少なくとも1つの検出器が、散乱光を検出するフォトダイオードであること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記少なくとも1つの検出器が、前記基板の前記表面に対し、基本的に前記測定用放射線源と同じ角度及び間隔で配置され、且つ前記測定用放射線源に対向する位置にあること、を特徴とする先行する請求項に記載の測定装置。
- 前記少なくとも1つの検出器が、前記基板表面に対する垂線に対し45°±40°の角度で配置されること、を特徴とする先行する2つの請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記基板の前記蛍光を検出するため少なくとも1つの更なる検出器が存在すること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記検出器が、CCDセンサ及び分光計、具体的には分光蛍光計からなる群より選ばれること、を特徴とする先行する請求項に記載の測定装置。
- 前記少なくとも1つの更なる検出器が、基本的に前記基板表面に対し垂直に配置されること、を特徴とする先行する請求項に記載の測定装置。
- 少なくとも1つの光フィルタが存在し、それにより活性化用放射線源と測定用放射線源とで少なくとも1nmの、好ましくは少なくとも10nmの、波長範囲分離が達成されること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記基板に当たる前記放射線の強度を測定するフォトセンサが存在すること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記活性化用放射線源の前記フォトセンサが、基本的に前記基板と同じ間隔で取り付けられること、を特徴とする先行する請求項に記載の測定装置。
- 前記フォトセンサが前記載置装置に組み込まれること、を特徴とする先行する請求項に記載の測定装置。
- 前記筐体の内部を空調する装置が存在すること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 前記基板を観察するためのカメラが存在すること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 測定持続時間を制御するためのタイマーが組み込まれること、を特徴とする先行する請求項のいずれか一項に記載の測定装置。
- 光触媒活性基板の表面で起こる光分解反応及び/又は電気化学分解反応を検出するため、光学特性値を定量的に判定する方法であって、
a)被検基板の少なくとも1つの表面が、光分解反応及び/又は電気化学分解反応により分解する物質で被覆されることと、
b)前記物質で被覆された前記表面が、活性化用放射線源を用いた照射により活性化されることと、
c)ステップb)の前に、又は同時に、及び/又はその後に、前記物質で被覆された前記基板の前記表面に、測定用放射線源から発せられる光が少なくとも1回は照射されることと、
d)前記基板の前記表面より発せられる前記測定用放射線源の前記散乱光により、及び/又は前記蛍光により、前記物質の経時分解が測定されることと、
を特徴とする方法。 - 前記分解性物質は、揮発性有機物、有機着色剤、有機脂肪酸、及びそれらの派生物、好ましくはステアリン酸、及び/又はステアリン酸メチル、及び/又は着色剤含有藻類、及び/又は細菌株からなる群より選ばれること、を特徴とする先行する請求項に記載の方法。
- 前記物質が、前記基板上に蒸着される、噴霧される、押し付けられる、ドクターナイフにより塗布される、及び/又は前記物質の溶液に前記基板を浸漬させることにより塗布されること、を特徴とする請求項24から25のいずれか一項に記載の方法。
- 前記物質が、1から1,000nmの厚みで、好ましくは5から100nmの厚みで、塗布されること、を特徴とする請求項24から26のいずれか一項に記載の方法。
- ステップb)及び/又はステップc)で行われる前記基板の前記照射が、1分間から12時間にわたり、好ましくは5分間から1時間にわたり、さらに好ましくは5分間から30分にわたり、行われること、を特徴とする請求項24から27のいずれか一項に記載の方法。
- ステップb)にて、前記基板の前記表面に対し0.1mW/cm2から10mW/cm2以内の強度により、好ましくは0.5mW/cm2から5mW/cm2以内の強度により、さらに好ましくは0.8mW/cm2から1.5mW/cm2までの強度により、前記基板の前記照射が行われること、を特徴とする請求項24から28のいずれか一項に記載の方法。
- ステップc)で使用される前記放射線が、ステップb)で使用される放射線より長波であること、を特徴とする請求項24から29のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1から23のいずれか一項に記載の装置を使用すること、を特徴とする請求項24から30のいずれか一項に記載の方法。
- 基板の光触媒活性を定量化するための、請求項1から23のいずれか一項に記載の測定装置の使用。
- 金属酸化物、具体的には酸化チタン、酸化ニオブ、酸化バナジウム、又は酸化亜鉛により被覆されたキャリア構造、金属酸化物、具体的には酸化チタン、酸化ニオブ、酸化バナジウム、又は酸化亜鉛と遷移金属部分、又はC、F、N、又はSをドーパントとするドープ金属酸化物を含有する金属錯体、ガラス、セラミック、金属、プラスチック材、木、及び/又は紙からなる群より前記基板が選ばれること、を特徴とする先行する請求項に記載の使用。
- 酸化及び/又は結晶化等の化学反応による有機層の光学的変化の分析的観察を行うための、請求項1から23のいずれか一項に記載の測定装置の使用。
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