JP2010515741A - ある種の置換されたアルコールの立体異性体の選択的な合成 - Google Patents
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Abstract
Description
(a)一般式(VIII)のケトンを塩基性条件下でαハロ酸のキラルなエステルと反応させて一般式(VIa)または(VIb)のキラルなエポキシエステル:
(b)一般式(VIa)または(VIb)のそのキラルなエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式(IXa)または(IXb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(c)一般式(IXa)または(IXb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドを、ハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素であり、臭素が好ましい)雰囲気下における塩基(例えばNaOH、KOH)の存在下でのホフマン転移を通じて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物(例えばアルカリ金属の次亜臭素酸塩、次亜塩素酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜ヨウ素酸塩)を用いた処理により、一般式(VIIa)または(VIIb)のキラルな第一級アミン:
(d)一般式(VIIa)または(VIIb)のそのキラルな第一級アミンを還元して一般式(IVa)または(IVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成し:
(e)一般式(IVa)または(IVb)のそのキラルなヒドロキシアミンを塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させて一般式(Ia)または(Ib)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体:
(a)一般式(VIII)のケトンを塩基性条件にてキラルな触媒の存在下でαハロ酸のアミドと反応させて一般式(IXa)または(IXb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(b)一般式(IXa)または(IXb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドを、ハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素であり、臭素が好ましい)雰囲気下における塩基(例えばNaOH、KOH)の存在下でのホフマン転移を通じて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物(例えばアルカリ金属の次亜臭素酸塩、次亜塩素酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜ヨウ素酸塩)を用いた処理により、一般式(VIIa)または(VIIb)のキラルな第一級アミン:
(c)一般式(VIIa)または(VIIb)のそのキラルな第一級アミンを還元して一般式(IVa)または(IVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成し:
(d)一般式(IVa)または(IVb)のそのキラルなヒドロキシアミンを塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させて一般式(Ia)または(Ib)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体:
(a)一般式(VIII)のケトンを塩基性条件下でαハロ酸のキラルなエステルと反応させて一般式(VIa)または(VIb)のキラルなエポキシエステル:
(b)一般式(VIa)または(VIb)のそのキラルなエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式(IXa)または(IXb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(c)一般式(IXa)または(IXb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドを、ハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素であり、臭素が好ましい)雰囲気下における塩基(例えばNaOH、KOH)の存在下でのホフマン転移を通じて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物(例えばアルカリ金属の次亜臭素酸塩、次亜塩素酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜ヨウ素酸塩)を用いた処理により、一般式(VIIa)または(VIIb)のキラルな第一級アミン:
(d)一般式(VIIa)または(VIIb)のそのキラルな第一級アミンを(例えば水性媒体中で)酸性条件にして一般式(Va)または(Vb)のキラルなアルデヒドまたはケトンに変換し:
(e)一般式(Va)または(Vb)のそのキラルなアルデヒドまたはケトンを一般式Q-NH2(またはQ-NHR')の化合物と反応させて一般式(Ia)または(Ib)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体:
(a)一般式(VIII)のケトンを塩基性条件にてキラルな触媒の存在下でαハロ酸のアミドと反応させて一般式(IXa)または(IXb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(b)一般式(IXa)または(IXb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドを、ハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素であり、臭素が好ましい)雰囲気下における塩基(例えばNaOH、KOH)の存在下でのホフマン転移を通じて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物(例えばアルカリ金属の次亜臭素酸塩、次亜塩素酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜ヨウ素酸塩)を用いた処理により、一般式(VIIa)または(VIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(c)一般式(VIIa)または(VIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを(例えば水性媒体中で)酸性条件にして一般式(Va)または(Vb)のキラルなアルデヒドまたはケトンに変換し:
(d)一般式(Va)または(Vb)のそのキラルなアルデヒドまたはケトンを一般式Q-NH2(またはQ-NHR')の化合物と反応させて一般式(Ia)または(Ib)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体:
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステル(例えばBrCH2COOR*であり、ここにR*はキラルな側鎖である)と反応させて一般式(XIa)または(XIb)のキラルなエポキシエステルを形成し:
(b)一般式(XIa)または(XIb)のキラルなそのエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(c)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドを、ハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素であり、臭素が好ましい)雰囲気下における塩基(例えばNaOH、KOH)の存在下でのホフマン転移を通じて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物(例えばアルカリ金属の次亜臭素酸塩、次亜塩素酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜ヨウ素酸塩)を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(d)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成し:
(e)一般式(XIVa)または(XIVb)のそのキラルなヒドロキシアミンを塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物(ただしQはキノリン-5-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており;Xは、そのキノリニル基の5位に結合したハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素)またはトシラート基である)と反応させて一般式(IIa)または(IIb)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体:
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステル(例えばBrCH2COOR*であり、ここにR*はキラルな側鎖である)と反応させて一般式(XIa)または(XIb)のキラルなエポキシエステルを形成し:
(b)一般式(XIa)または(XIb)のキラルなそのエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(c)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドを、ハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素であり、臭素が好ましい)雰囲気下における塩基(例えばNaOH、KOH)の存在下でのホフマン転移を通じて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物(例えばアルカリ金属の次亜臭素酸塩、次亜塩素酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜ヨウ素酸塩)を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(d)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドを形成し:
(e)一般式(XVa)または(XVb)のそのキラルなアルデヒドを塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-NH2またQ-NR'の化合物(ただしQはキノリン-5-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており;R’は、置換されていないC1〜C5直鎖アルキル基、置換されたC1〜C5直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C5分岐鎖アルキル基のいずれかである)と反応させて一般式(IIa)または(IIb)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体:
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミド(例えばBrCH2CONH2またはClCH2CONH2)と反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し:
(b)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドを、ハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素であり、臭素が好ましい)雰囲気下における塩基(例えばNaOH、KOH)の存在下でのホフマン転移を通じて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物(例えばアルカリ金属の次亜臭素酸塩、次亜塩素酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜ヨウ素酸塩)を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(c)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成し:
(d)一般式(XIVa)または(XIVb)のそのキラルなヒドロキシアミンを塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物(ただしQはキノリン-5-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており;Xは、そのキノリニル基の5位に結合したハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素)またはトシラート基である)と反応させて一般式(IIa)または(IIb)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体:
(a)一般式(X)のケトンを、塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミド(例えばBrCH2CONH2またはClCH2CONH2)と反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し:
(b)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドを、ハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素であり、臭素が好ましい)雰囲気下における塩基(例えばNaOH、KOH)の存在下でのホフマン転移を通じて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物(例えばアルカリ金属の次亜臭素酸塩、次亜塩素酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜ヨウ素酸塩)を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(c)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドに変換し:
(d)一般式(XVa)または(XVb)のそのキラルなアルデヒドを一般式Q-NH2またQ-NR'の化合物(ただしQはキノリン-5-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており;R’は、置換されていないC1〜C5直鎖アルキル基、置換されたC1〜C5直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C5分岐鎖アルキル基のいずれかである)と反応させて一般式(IIa)または(IIb)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体:
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステル(例えばBrCH2COOR*であり、ここにR*はキラルな側鎖である)と反応させて一般式(XIa)または(XIb)のキラルなエポキシエステルを形成し:
(b)一般式(XIa)または(XIb)のキラルなそのエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(c)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドを、ハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素であり、臭素が好ましい)雰囲気下における塩基(例えばNaOH、KOH)の存在下でのホフマン転移を通じて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物(例えばアルカリ金属の次亜臭素酸塩、次亜塩素酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜ヨウ素酸塩)を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(d)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成し:
(e)一般式(XIVa)または(XIVb)のそのキラルなヒドロキシアミンを塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で2-メチル-5-ハロ-キノリン(ただしこの置換されたキノリン上の5位のハロ置換基は、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素からなるグループの中から選択される)と反応させて一般式(IIIa)または(IIIb)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体:
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステル(例えばBrCH2COOR*であり、ここにR*はキラルな側鎖である)と反応させて一般式(XIa)または(XIb)のキラルなエポキシエステルを形成し:
(b)一般式(XIa)または(XIb)のキラルなそのエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(c)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドを、ハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素であり、臭素が好ましい)雰囲気下における塩基(例えばNaOH、KOH)の存在下でのホフマン転移を通じて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物(例えばアルカリ金属の次亜臭素酸塩、次亜塩素酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜ヨウ素酸塩)を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(d)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを変換して一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドを形成し:
(e)一般式(XVa)または(XVb)のそのキラルなアルデヒドを2-メチル-5-アミノ-キノリンと反応させて一般式(IIIa)または(IIIb)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体:
(a)一般式(X)のケトンを、塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミド(例えばBrCH2CONH2またはClCH2CONH2)と反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し:
(b)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドを、ハロゲン(例えば臭素、塩素、フッ素、ヨウ素であり、臭素が好ましい)雰囲気下における塩基(例えばNaOH、KOH)の存在下でのホフマン転移を通じて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物(例えばアルカリ金属の次亜臭素酸塩、次亜塩素酸塩、次亜フッ素酸塩、次亜ヨウ素酸塩)を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(c)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドに変換し:
(d)一般式(XVa)または(XVb)のそのキラルなアルデヒドを2-メチル-5-アミノ-キノリンと反応させて一般式(IIIa)または(IIIb)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体:
(a)Aは、場合によっては1〜3個の置換基で独立に置換されたアリール基またはヘテロアリール基であり、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は、場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ;
(b)R1とR2は、それぞれ独立に、水素またはC1〜C5アルキルであり;
(c)R3はトリフルオロメチル基であり;
(d)Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基であり、Bの置換基は、独立に、C1〜C3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、オキソのいずれかであり;
(e)Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基のいずれかを含んでおり;
(f)Eはヒドロキシ基であり;
(g)Qは、場合によっては1〜3個の置換基で独立に置換されたアザインドリル基であり、Qの各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、Qの各置換基は、場合によっては、独立に、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、アミノ、トリフルオロメチルからなるグループの中から選択された1〜3個の置換基で置換されている)の製造方法が提供される。
(a)Aは、場合によっては1〜3個の置換基で独立に置換されたアリール基またはヘテロアリール基であり、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は、場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ;
(b)R1とR2は、それぞれ独立に、水素またはC1〜C5アルキルであるか、R1とR2は、これらの基が共通に結合する炭素原子と合わさってC3〜C8スピロシクロアルキル環を形成し;
(c)Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基であり、メチレン基上の1個または2個の置換基は、C1〜C5アルキル(またはC1〜C3アルキル)、ヒドロキシ、アミノ、オキソのいずれかであり;
(d)R3は、炭素環、複素環、アリール、ヘテロアリール、炭素環-C1〜C8アルキル、アリール-C1〜C8アルキル、アリール-C1〜C8ハロアルキル、ヘテロシクリル-C1〜C8アルキル、ヘテロアリール-C1〜C8アルキル、炭素環-C2〜C8アルケニル、アリール-C2〜C8アルケニル、ヘテロシクリル-C2〜C8アルケニル、ヘテロアリール-C2〜C8アルケニルのいずれかであり、それぞれは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており;
(e)Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基のいずれかを含んでおり;
(f)Eはヒドロキシ基であり;
(g)Qは、メチル化されたベンゾオキサジノンを含んでいる)の製造方法が提供される。
(a)Aは、場合によっては1〜3個の置換基で独立に置換されたアリール基またはヘテロアリール基であり、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は、場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ;
(b)R1とR2は、それぞれ独立に、水素またはC1〜C5アルキルであるか、R1とR2は、これらの基が共通に結合する炭素原子と合わさってC3〜C8スピロシクロアルキル環を形成し;
(c)R3は、C1〜C10アルキル、または置換されたC1〜C10アルキルであり(いくつかの実施態様では、R3は、一部がハロゲン化されたC1〜C10アルキル基、または完全にハロゲン化されたC1〜C10アルキル基であり、別のいくつかの実施態様では、R3はトリフルオロメチル基である);
(d)Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基であり、Bの置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、オキソのいずれかであり;
(e)Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基のいずれかを含んでおり;
(f)Eはヒドロキシ基であり;
(g)Qはアリール基またはヘテロアリール基であり、それぞれは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ、Qの各置換基は、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換され、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、アシル、C1〜C3シラニルオキシ、C1〜C5アルコキシカルボニル、カルボキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、トリフルオロメチルからなるグループの中からなされる)の製造方法が提供される。
(a)Aは、アリール基、ヘテロアリール基、C5〜C15シクロアルキル基のいずれかであり、そのそれぞれは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ;
(b)R1とR2は、それぞれ独立に、水素、C1〜C5アルキル、C5〜C15アリールアルキルのいずれかであるか、R1とR2は、これらの基が共通に結合する炭素原子と合わさってC3〜C8スピロシクロアルキル環を形成し;
(c)R3はトリフルオロメチル基であり;
(d)Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基であり、メチレン基上の1個または2個の置換基は、C1〜C5アルキル(またはC1〜C3アルキル)、ヒドロキシ、アミノ、ハロゲン、オキソのいずれかであり;
(e)Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基のいずれかを含んでおり;
(f)Eはヒドロキシ基であり;
(g)Qは、キノリン、イソキノリン、ピロリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、ピペリジン、1H-ピリジン-4-オン、1H-ピリジン-2-オン、1H-ピリジン-4-イリデンアミン、1H-キノリン-4-イリデンアミン、ピラン、テトラヒドロピラン、1,4-ジアゼパン、2,5-ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,3,4,5-テトラヒドロベンゾ[b][1,4]ジアゼピン、ジヒドロキノリン、テトラヒドロキノリン、5,6,7,8-テトラヒドロ-1H-キノリン-4-オン、テトラヒドロイソキノリン、デカヒドロイソキノリン、2,3-ジヒドロ-1H-イソインドール、2,3-ジヒドロ-1H-インドール、クロマン、1,2,3,4-テトラヒドロキノキサリン、1,2-ジヒドロインダゾル-3-オン、3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[1,4]オキサジン、4H-ベンゾ[1,4]チアジン、3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[1,4]チアジン、1,2-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサジン-4-オン、3,4-ジヒドロベンゾ[1,4]オキサジン-4-オン、3H-キナゾリン-4-オン、3,4-ジヒドロ-1H-キノキサリン-2-オン、1H-キノリン-4-オン、1H-キナゾリン-4-オン、1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、5,6,7,8-テトラヒドロ-1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、2,3-ジヒドロ-1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、1,2-ジヒドロピリド[3,2-d][1,3]オキサジン-4-オン、ピロロ[3,4-c]ピリジン-1,3-ジオン、1,2-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピリジン-3-オン、テトラヒドロ[b][1,4]ジアゼピノンのいずれかを含んでおり、それぞれ、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、Qの各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、Qの各置換基は、場合によっては、独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、C1〜C3アルコキシカルボニル、アシル、アリール、ベンジル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)からなるグループの中からなされる)の製造方法が提供される。
(a)Aは、アリール基、ヘテロアリール基、C5〜C15シクロアルキル基のいずれかであり、そのそれぞれは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ;
(b)R1とR2は、それぞれ独立に、水素またはC1〜C5アルキルであるか、R1とR2は、これらの基が共通に結合する炭素原子と合わさってC3〜C8スピロシクロアルキル環を形成し;
(c)R3はトリフルオロメチル基であり;
(d)Bはメチレン基であり;
(e)Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基のいずれかを含んでおり;
(f)Eはヒドロキシ基であり;
(g)Qは、一般式:
(a)Aはアリール基またはヘテロアリール基であり、そのそれぞれは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ;
(b)R1とR2は、それぞれ独立に、水素またはC1〜C5アルキルであり;
(c)R3は、C1〜C8アルキル、C2〜C8アルケニル、C2〜C8アルキニル、炭素環、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、炭素環-C1〜C8アルキル、アリール-C1〜C8アルキル、アリール-C1〜C8ハロアルキル、ヘテロシクリル-C1〜C8アルキル、ヘテロアリール-C1〜C8アルキル、炭素環-C2〜C8アルケニル、アリール-C2〜C8アルケニル、ヘテロシクリル-C2〜C8アルケニル、ヘテロアリール-C2〜C8アルケニルのいずれかであり、それぞれ、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、R3の各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、フェニル、C1〜C5アルコキシ、フェノキシ、C1〜C5アルカノイル、アロイル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、アミノカルボニル、C1〜C5アルキルアミノカルボニル、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニル、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、オキソ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は、場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、R3はトリフルオロメチルにはなりえず;
(d)Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基であり、メチレン基上の1個または2個の置換基は、C1〜C5アルキル(またはC1〜C3アルキル)、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、オキソのいずれかであり;
(e)Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基のいずれかを含んでおり;
(f)Eはヒドロキシ基であり;
(g)Qは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されたアザインドリル基を含んでおり、Qの各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、Qの各置換基は、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、アミノ、トリフルオロメチルの中からなされる)の製造方法が提供される。
(a)Aは、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基のいずれかであり、そのそれぞれは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ;
(b)R1とR2は、それぞれ独立に、水素またはC1〜C5アルキルであるか、R1とR2は、これらの基が共通に結合する炭素原子と合わさってC3〜C8スピロシクロアルキル環を形成し;
(c)R3はトリフルオロメチル基であり;
(d)Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基であり、メチレン基上の1個または2個の置換基は、C1〜C3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、オキソのいずれかであり;
(e)Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基のいずれかを含んでおり;
(f)Eはヒドロキシ基であり;
(g)Qは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されたヘテロアリール基を含んでおり、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ、Qの各置換基は、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、アシル、C1〜C3シラニルオキシ、C1〜C5アルコキシカルボニル、カルボキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、トリフルオロメチルからなるグループの中からなされる)の製造方法が提供される。
-フルオロ-2-メトキシフェニル)-2-ヒドロキシ-4-メチル-2-トリフルオロメチルペンチルアミノ]-1H-インドール-5-カルボン酸-2-トリメチルシラニルエチルエステル;2-[4-(5-フルオロ-2-メトキシフェニル)-2-ヒドロキシ-4-メチル-2-トリフルオロメチルペンチルアミノ]-1H-インドール-5-カルボン酸;2-[4-(5-フルオロ-2-メトキシフェニル)-2-ヒドロキシ-4-メチル-2-トリフルオロメチルペンチルアミノ]-1H-インドール-5-カルボン酸メチルアミド;2-[4-(5-ブロモ-2,3-ジヒドロベンゾフラン-7-イル)-2-ヒドロキシ-4-メチル-2-トリフルオロメチルペンチルアミノ]-1H-インドール-5-カルボン酸;2-[4-(5-ブロモ-2,3-ジヒドロベンゾフラン-7-イル)-2-ヒドロキシ-4-メチル-2-トリフルオロメチルペンチルアミノ]-1H-インドール-5-カルボン酸アミド;2-[4-(5-ブロモ-2,3-ジヒドロベンゾフラン-7-イル)-2-ヒドロキシ-4-メチル-2-トリフルオロメチルペンチルアミノ]-1H-インドール-5-カルボン酸ジメチルアミド;2-[4-(5-ブロモ-2,3-ジヒドロベンゾフラン-7-イル)-2-ヒドロキシ-4-メチル-2-トリフルオロメチルペンチルアミノ]-1H-インドール-5-カルボン酸シアノメチルアミド;2-[4-(5-クロロ-2,3-ジヒドロベンゾフラン-7-イル)-2-ヒドロキシ-4-メチル-2-トリフルオロメチルペンチルアミノ]-5-メチル-1,5-ジヒドロピロロ[3,2-c]ピリジン-6-オン;4-(5-クロロ-2,3-ジヒドロベンゾフラン-7-イル)-1,1,1-トリフルオロ-2-[(6-メトキシ-5,6-ジヒドロ-1H-ピロロ[3,2-c]ピリジン-2-イルメチル)アミノ]-4-メチルペンタン-2-オール;2-[4-(5-クロロ-2,3-ジヒドロベンゾフラン-7-イル)-2-ヒドロキシ-4-メチル-2-トリフルオロメチルペンチルアミノ]-1,7-ジヒドロピロロ[3,2-c]ピリジン-4,6-ジオン;6-[4-(5-クロロ-2,3-ジヒドロベンゾフラン-7-イル)-2-ヒドロキシ-4-メチル-2-トリフルオロメチルペンチルアミノ]-3-メチル-1,7-ジヒドロピロロ[2,3-d]ピリミジン-2,4-ジオンなどがある。
(a)Aはアリール基またはヘテロアリール基であり、そのそれぞれは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ;
(b)R1とR2は、それぞれ独立に、水素またはC1〜C5アルキルであり;
(c)R3は、水素、C1〜C8アルキル、C2〜C8アルケニル、C2〜C8アルキニル、炭素環、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、炭素環-C1〜C8アルキル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、アリール-C1〜C8アルキル、アリール-C1〜C8ハロアルキル、ヘテロシクリル-C1〜C8アルキル、ヘテロアリール-C1〜C8アルキル、炭素環-C2〜C8アルケニル、アリール-C2〜C8アルケニル、ヘテロシクリル-C2〜C8アルケニル、ヘテロアリール-C2〜C8アルケニルのいずれかであり、それぞれ、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、R3の各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、フェニル、C1〜C5アルコキシ、フェノキシ、C1〜C5アルカノイル、アロイル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、アミノカルボニル、C1〜C5アルキルアミノカルボニル、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニル、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、オキソ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、R3はトリフルオロメチルにはなりえず;
(d)Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基であり、メチレン基上の1個または2個の置換基は、C1〜C3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、オキソのいずれかであり;
(e)Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基のいずれかを含んでおり;
(f)Eはヒドロキシ基であり;
(g)Qは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されたヘテロアリール基を含んでおり、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ、Qの各置換基は、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、アシル、C1〜C3シラニルオキシ、C1〜C5アルコキシカルボニル、カルボキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、トリフルオロメチルからなるグループの中からなされる)の製造方法が提供される。
(a)Aはアリール基またはヘテロアリール基であり、そのそれぞれは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ;
(b)R1とR2は、それぞれ独立にC1〜C5アルキルであり、その一方または両方は、独立に、ヒドロキシ、C1〜C5アルコキシ、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)で置換されており;
(c)R3は、水素、C1〜C8アルキル(C1〜C5アルキルが好ましく、C1〜C3アルキルがより好ましい)、C2〜C8アルケニル(C1〜C5アルケニルが好ましく、C1〜C3アルケニルがより好ましい)、C2〜C8アルキニル(C1〜C5アルキニルが好ましく、C1〜C3アルキニルがより好ましい)、炭素環、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、炭素環-C1〜C8アルキル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、アリール-C1〜C8アルキル、アリール-C1〜C8ハロアルキル、ヘテロシクリル-C1〜C8アルキル、ヘテロアリール-C1〜C8アルキル、炭素環-C2〜C8アルケニル、アリール-C2〜C8アルケニル、ヘテロシクリル-C2〜C8アルケニル、ヘテロアリール-C2〜C8アルケニルのいずれかであり、それぞれ、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、R3の各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、フェニル、C1〜C5アルコキシ、フェノキシ、C1〜C5アルカノイル、アロイル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、アミノカルボニル、C1〜C5アルキルアミノカルボニル、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニル、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、オキソ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり;
(d)Bはメチレンであり;
(e)Dは-NH-基であり;
(f)Eはヒドロキシ基であり;
(g)Qは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されたヘテロアリール基を含んでおり、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ、Qの各置換基は、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、アシル、C1〜C3シラニルオキシ、C1〜C5アルコキシカルボニル、カルボキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、トリフルオロメチルからなるグループの中からなされる)の製造方法が提供される。
(a)Aは、アリール基、ヘテロアリール基、ヘテロシクリル基、C3〜C8シクロアルキル基のいずれかであり、それぞれ、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ;
(b)R1とR2は、それぞれ独立に水素またはC1〜C5アルキルであり;
(c)R3はトリフルオロメチル基であり;
(d)Bは、C1〜C5アルキレン、C2〜C5アルケニレン、C2〜C5アルキニレンのいずれかであり、それぞれ、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、Bの各置換基は、独立に、C1〜C3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、オキソのいずれかであり;
(e)Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基のいずれかを含んでおり;
(f)Eはヒドロキシ基であり;
(g)Qは、場合によっては1〜3個の置換基で置換されたインドリル基を含んでおり、Qの各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、Qの各置換基は、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、アミノ、トリフルオロメチルからなるグループの中からなされる)の製造方法が提供される。
(a)Aはアリール基またはヘテロアリール基であり、そのそれぞれは、場合によっては独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C1〜C3アルカノイル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、アロイル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルまたはアリールで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)からなるグループの中からなされ;
(b)R1とR2は、それぞれ独立に、水素またはC1〜C5アルキルであるか、R1とR2は、これらの基が共通に結合する炭素原子と合わさってC3〜C8スピロシクロアルキル環を形成し;
(c)R3は、炭素環、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、炭素環-C1〜C8アルキル、カルボキシ、アルコキシカルボニル、アリール-C1〜C8アルキル、アリール-C1〜C8ハロアルキル、ヘテロシクリル-C1〜C8アルキル、ヘテロアリール-C1〜C8アルキル、炭素環-C2〜C8アルケニル、アリール-C2〜C8アルケニル、ヘテロシクリル-C2〜C8アルケニル、ヘテロアリール-C2〜C8アルケニルのいずれかであり、それぞれ、場合によっては、独立に1〜3個の置換基で置換されており、R3の各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、フェニル、C1〜C5アルコキシ、フェノキシ、C1〜C5アルカノイル、アロイル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、アミノカルボニル、C1〜C5アルキルアミノカルボニル、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニル、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、オキソ、トリフルオロメチル、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり;
(d)Bは、メチレン基であるか、C1〜C3アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、オキソからなるグループの中から選択した1個または2個の置換基を持つ置換されたメチレン基であり;
(e)Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15(またはC1〜C10、またはC1〜C5、またはC1〜C3)分岐鎖アルキル基のいずれかを含んでおり;
(f)Eはヒドロキシ基であり;
(g)Qは、
Claims (49)
- 置換されたアルコールの立体異性体で一般式(Ia)または(Ib):
AとQの選択は、独立に、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基、置換されていないシクロアルキル基、置換されたシクロアルキル基、置換されていないヘテロシクロアルキル基、置換されたヘテロシクロアルキル基、置換されていないシクロアルケニル基、置換されたシクロアルケニル基、置換されていないヘテロシクロアルケニル基、置換されたヘテロシクロアルケニル基、置換されていないシクロアルキニル基、置換されたシクロアルキニル基、置換されていないヘテロシクロアルキニル基、置換されたヘテロシクロアルキニル基、置換されていない複素環基、置換された複素環基からなるグループの中からなされ;R1とR2の選択は、独立に、水素、置換されていないC1〜C15直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C15シクロアルキル基、置換されたC3〜C15シクロアルキル基からなるグループの中からなされるか;R1とR2は合わさって、置換されていないC3〜C15シクロアルキル基、または置換されたC3〜C15シクロアルキル基を形成し;R3の選択は、水素、置換されていないC1〜C15直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C15シクロアルキル基、置換されていないC3〜C15ヘテロシクロアルキル基、置換されたC3〜C15シクロアルキル基、置換されたC3〜C15ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、複素環基からなるグループの中からなされ;Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基(ただしメチレン基上の1個または2個の置換基は、独立に、C1〜C5アルキル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、アミノ基、オキソ基のいずれかである)を含んでおり;Eはヒドロキシであり;Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換もしくは無置換C1〜C15直鎖アルキル基、または置換もしくは無置換C1〜C15分岐鎖アルキル基を含んでいる)を選択的に製造する方法であって、
(a)一般式(VIa)または(VIb)のキラルなエポキシエステルまたはエポキシカルボキサミドを、ハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式(VIIa)または(VIIb)のキラルな第一級エポキシアミンに変換し:
(b)一般式(VIIa)または(VIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して対応する一般式(IVa)または(IVb)のキラルな第一級アミン:
(c)一般式(IVa)または(IVb)のそのキラルな第一級アミンを塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-X(ただしXはハロゲンである)の化合物と反応させて一般式(Ia)または(Ib)の化合物を選択的に製造する操作を含む方法。 - R1とR2の選択は、独立に、水素、置換されていないC1〜C5直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C5直鎖アルキル基、置換されたC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C5シクロアルキル基、置換されたC3〜C5シクロアルキル基からなるグループの中からなされるか;R1とR2は合わさって、置換されていないC3〜C5シクロアルキル基、または置換されたC3〜C5シクロアルキル基を形成し;R3の選択は、水素、置換されていないC1〜C5直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C5直鎖アルキル基、置換されたC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C5シクロアルキル基、置換されていないC3〜C5ヘテロシクロアルキル基、置換されたC3〜C5シクロアルキル基からなるグループの中からなされ;Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基(ただしメチレン基上の1個または2個の置換基は、独立にC1〜C3アルキル基である)を含んでおり;Eはヒドロキシであり;Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換もしくは無置換C1〜C5直鎖アルキル基、または置換もしくは無置換C1〜C5分岐鎖アルキル基を含んでいる、請求項1に記載の方法。
- 一般式(Ia)または(Ib):
(a)一般式(VIII)のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステルと反応させて一般式(VIa)または(VIb)のキラルなエポキシエステルを形成し:
(b)一般式(VIa)または(VIb)のそのキラルなエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式(IXa)または(IXb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(c)一般式(IXa)または(IXb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式(VIIa)または(VIIb)のキラルな第一級アミン:
(d)(i)一般式(VIIa)または(VIIb)のそのキラルな第一級アミンを還元して一般式(IVa)または(IVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成する:
(ii)一般式(VIIa)または(VIIb)のそのキラルな第一級アミンを酸性条件下で変換して一般式(Va)または(Vb)のキラルなアルデヒドまたはケトンにする:
(e)(1)ステップ(d)(i)を実施するときには、一般式(IVa)または(IVb)のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させ;(2)ステップ(d)(ii)を実施するときには、一般式(Va)または(Vb)のキラルなアルデヒドまたはケトンを一般式Q-NH2またはQ-NHR’の化合物と反応させ、一般式(Ia)または(Ib)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法(ただし、
AとQの選択は、独立に、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基、置換されていないシクロアルキル基、置換されたシクロアルキル基、置換されていないヘテロシクロアルキル基、置換されたヘテロシクロアルキル基、置換されていないシクロアルケニル基、置換されたシクロアルケニル基、置換されていないヘテロシクロアルケニル基、置換されたヘテロシクロアルケニル基、置換されていないシクロアルキニル基、置換されたシクロアルキニル基、置換されていないヘテロシクロアルキニル基、置換されたヘテロシクロアルキニル基、置換されていない複素環基、置換された複素環基からなるグループの中からなされ;R1とR2の選択は、独立に、水素、置換されていないC1〜C15直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C15シクロアルキル基、置換されたC3〜C15シクロアルキル基からなるグループの中からなされるか;R1とR2は合わさって、置換されていないC3〜C15シクロアルキル基、または置換されたC3〜C15シクロアルキル基を形成し;R3の選択は、水素、置換されていないC1〜C15直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C15シクロアルキル基、置換されていないC3〜C15ヘテロシクロアルキル基、置換されたC3〜C15シクロアルキル基、置換されたC3〜C15ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、複素環基からなるグループの中からなされ;Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基(ただしメチレン基上の置換基は、C1〜C5アルキル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、アミノ基のいずれかである)を含んでおり;Eはヒドロキシであり;Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換もしくは無置換C1〜C15直鎖アルキル基、または置換もしくは無置換C1〜C15分岐鎖アルキル基を含んでおり;Xはハロゲンまたはトシラート基である)。 - R1とR2の選択は、独立に、水素、置換されていないC1〜C5直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C5直鎖アルキル基、置換されたC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C5シクロアルキル基、置換されたC3〜C5シクロアルキル基からなるグループの中からなされるか;R1とR2は合わさって、置換されていないC3〜C5シクロアルキル基、または置換されたC3〜C5シクロアルキル基を形成し;R3の選択は、水素、置換されていないC1〜C5直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C5直鎖アルキル基、置換されたC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C5シクロアルキル基、置換されていないC3〜C5ヘテロシクロアルキル基、置換されたC3〜C5シクロアルキル基からなるグループの中からなされ;Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基(ただしメチレン基上の1個または2個の置換基は、独立にC1〜C3アルキル基である)を含んでおり;Eはヒドロキシであり;Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換もしくは無置換C1〜C5直鎖アルキル基、または置換もしくは無置換C1〜C5分岐鎖アルキル基を含んでいる、請求項3に記載の方法。
- 一般式(Ia)または(Ib):
(a)一般式(VIII)のケトンを塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミドと反応させて一般式(IXa)または(IXb)のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し:
(b)一般式(IXa)または(IXb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式(VIIa)または(VIIb)のキラルな第一級アミン:
(c)(i)一般式(VIIa)または(VIIb)のそのキラルな第一級アミンを還元して一般式(IVa)または(IVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成する:
(ii)一般式(VIIa)または(VIIb)のそのキラルな第一級アミンを酸性条件下で変換して一般式(Va)または(Vb)のキラルなアルデヒドまたはケトンにする:
(d)(1)ステップ(c)(i)を実施するときには、一般式(IVa)または(IVb)のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させ;(2)ステップ(c)(ii)を実施するときには、一般式(Va)または(Vb)のキラルなアルデヒドまたはケトンを一般式Q-NH2またはQ-NHR’の化合物と反応させ、一般式(Ia)または(Ib)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法(ただし、
AとQの選択は、独立に、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基、置換されていないシクロアルキル基、置換されたシクロアルキル基、置換されていないヘテロシクロアルキル基、置換されたヘテロシクロアルキル基、置換されていないシクロアルケニル基、置換されたシクロアルケニル基、置換されていないヘテロシクロアルケニル基、置換されたヘテロシクロアルケニル基、置換されていないシクロアルキニル基、置換されたシクロアルキニル基、置換されていないヘテロシクロアルキニル基、置換されたヘテロシクロアルキニル基、置換されていない複素環基、置換された複素環基からなるグループの中からなされ;R1とR2の選択は、独立に、水素、置換されていないC1〜C15直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C15シクロアルキル基、置換されたC3〜C15シクロアルキル基からなるグループの中からなされるか;R1とR2は合わさって、置換されていないC3〜C15シクロアルキル基、または置換されたC3〜C15シクロアルキル基を形成し;R3の選択は、水素、置換されていないC1〜C15直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C15直鎖アルキル基、置換されたC1〜C15分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C15シクロアルキル基、置換されていないC3〜C15ヘテロシクロアルキル基、置換されたC3〜C15シクロアルキル基、置換されたC3〜C15ヘテロシクロアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、複素環基からなるグループの中からなされ;Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基(ただしメチレン基上の置換基は、C1〜C5アルキル基、ヒドロキシ基、ハロゲン基、アミノ基のいずれかである)を含んでおり;Eはヒドロキシであり;Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換もしくは無置換C1〜C15直鎖アルキル基、または置換もしくは無置換C1〜C15分岐鎖アルキル基を含んでおり;Xはハロゲンまたはトシラート基である)。 - R1とR2の選択は、独立に、水素、置換されていないC1〜C5直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C5直鎖アルキル基、置換されたC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C5シクロアルキル基、置換されたC3〜C5シクロアルキル基からなるグループの中からなされるか;R1とR2は合わさって、置換されていないC3〜C5シクロアルキル基、または置換されたC3〜C5シクロアルキル基を形成し;R3の選択は、水素、置換されていないC1〜C5直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C5直鎖アルキル基、置換されたC1〜C5分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C5シクロアルキル基、置換されていないC3〜C5ヘテロシクロアルキル基、置換されたC3〜C5シクロアルキル基からなるグループの中からなされ;Bは、メチレン基、または置換されたメチレン基(ただしメチレン基上の1個または2個の置換基は、独立にC1〜C3アルキル基である)を含んでおり;Eはヒドロキシであり;Dは、-NH-または-NR'-であり、ここにR'は、置換もしくは無置換C1〜C5直鎖アルキル基、または置換もしくは無置換C1〜C5分岐鎖アルキル基を含んでいる、請求項5に記載の方法。
- AとQの選択は、独立に、置換されていないアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたアリール基、置換されたヘテロアリール基、置換されていない複素環基、置換された複素環基からなるグループの中からなされる、請求項2に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、置換されていないアザインドリル基、または置換されたアザインドリル基である、請求項2に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、メチル化されたベンゾオキサジノン基である、請求項2に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、キノリン、イソキノリン、ピロリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、ピペリジン、1H-ピリジン-4-オン、1H-ピリジン-2-オン、1H-ピリジン-4-イリデンアミン、1H-キノリン-4-イリデンアミン、ピラン、テトラヒドロピラン、1,4-ジアゼパン、2,5-ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,3,4,5-テトラヒドロベンゾ[b][1,4]ジアゼピン、ジヒドロキノリン、テトラヒドロキノリン、5,6,7,8-テトラヒドロ-1H-キノリン-4-オン、テトラヒドロイソキノリン、デカヒドロイソキノリン、2,3-ジヒドロ-1H-イソインドール、2,3-ジヒドロ-1H-インドール、クロマン、1,2,3,4-テトラヒドロキノキサリン、1,2-ジヒドロインダゾル-3-オン、3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[1,4]オキサジン、4H-ベンゾ[1,4]チアジン、3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[1,4]チアジン、1,2-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサジン-4-オン、3,4-ジヒドロベンゾ[1,4]オキサジン-4-オン、3H-キナゾリン-4-オン、3,4-ジヒドロ-1H-キノキサリン-2-オン、1H-キノリン-4-オン、1H-キナゾリン-4-オン、1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、5,6,7,8-テトラヒドロ-1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、2,3-ジヒドロ-1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、1,2-ジヒドロピリド[3,2-d][1,3]オキサジン-4-オン、ピロロ[3,4-c]ピリジン-1,3-ジオン、1,2-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピリジン-3-オン、テトラヒドロ[b][1,4]ジアゼピノンのいずれかを含んでおり、それぞれ、置換されていないか、独立に1〜3個の置換基で置換されており、Qの各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、置換されていないか、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、置換されていないか、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、Qの各置換基は、置換されていないか、独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、C1〜C3アルコキシカルボニル、アシル、アリール、ベンジル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)の中からなされる、請求項2に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、一般式:
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり;Qは、置換されていないインドリル基、または1〜3個の置換基で置換されたインドリル基を含んでおり、Qの各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、Qの各置換基は、置換されていないか、独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、アミノ、トリフルオロメチルからなるグループの中からなされる、請求項2に記載の方法。
- AとQの選択は、独立に、置換されていないアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたアリール基、置換されたヘテロアリール基、置換されていない複素環基、置換された複素環基からなるグループの中からなされる、請求項4に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、置換されていないアザインドリル基、または置換されたアザインドリル基である、請求項4に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、メチル化されたベンゾオキサジノン基である、請求項4に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、キノリン、イソキノリン、ピロリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、ピペリジン、1H-ピリジン-4-オン、1H-ピリジン-2-オン、1H-ピリジン-4-イリデンアミン、1H-キノリン-4-イリデンアミン、ピラン、テトラヒドロピラン、1,4-ジアゼパン、2,5-ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,3,4,5-テトラヒドロベンゾ[b][1,4]ジアゼピン、ジヒドロキノリン、テトラヒドロキノリン、5,6,7,8-テトラヒドロ-1H-キノリン-4-オン、テトラヒドロイソキノリン、デカヒドロイソキノリン、2,3-ジヒドロ-1H-イソインドール、2,3-ジヒドロ-1H-インドール、クロマン、1,2,3,4-テトラヒドロキノキサリン、1,2-ジヒドロインダゾル-3-オン、3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[1,4]オキサジン、4H-ベンゾ[1,4]チアジン、3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[1,4]チアジン、1,2-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサジン-4-オン、3,4-ジヒドロベンゾ[1,4]オキサジン-4-オン、3H-キナゾリン-4-オン、3,4-ジヒドロ-1H-キノキサリン-2-オン、1H-キノリン-4-オン、1H-キナゾリン-4-オン、1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、5,6,7,8-テトラヒドロ-1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、2,3-ジヒドロ-1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、1,2-ジヒドロピリド[3,2-d][1,3]オキサジン-4-オン、ピロロ[3,4-c]ピリジン-1,3-ジオン、1,2-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピリジン-3-オン、テトラヒドロ[b][1,4]ジアゼピノンのいずれかを含んでおり、それぞれ、置換されていないか、独立に1〜3個の置換基で置換されており、Qの各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、置換されていないか、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、置換されていないか、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、Qの各置換基は、置換されていないか、独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、C1〜C3アルコキシカルボニル、アシル、アリール、ベンジル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)の中からなされる、請求項4に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、一般式:
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり;Qは、置換されていないインドリル基、または1〜3個の置換基で置換されたインドリル基を含んでおり、Qの各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、Qの各置換基は、置換されていないか、独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、アミノ、トリフルオロメチルからなるグループの中からなされる、請求項4に記載の方法。
- AとQの選択は、独立に、置換されていないアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたアリール基、置換されたヘテロアリール基、置換されていない複素環基、置換された複素環基からなるグループの中からなされる、請求項6に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、置換されていないアザインドリル基、または置換されたアザインドリル基である、請求項6に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、メチル化されたベンゾオキサジノン基である、請求項6に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、キノリン、イソキノリン、ピロリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、ピペリジン、1H-ピリジン-4-オン、1H-ピリジン-2-オン、1H-ピリジン-4-イリデンアミン、1H-キノリン-4-イリデンアミン、ピラン、テトラヒドロピラン、1,4-ジアゼパン、2,5-ジアザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,3,4,5-テトラヒドロベンゾ[b][1,4]ジアゼピン、ジヒドロキノリン、テトラヒドロキノリン、5,6,7,8-テトラヒドロ-1H-キノリン-4-オン、テトラヒドロイソキノリン、デカヒドロイソキノリン、2,3-ジヒドロ-1H-イソインドール、2,3-ジヒドロ-1H-インドール、クロマン、1,2,3,4-テトラヒドロキノキサリン、1,2-ジヒドロインダゾル-3-オン、3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[1,4]オキサジン、4H-ベンゾ[1,4]チアジン、3,4-ジヒドロ-2H-ベンゾ[1,4]チアジン、1,2-ジヒドロベンゾ[d][1,3]オキサジン-4-オン、3,4-ジヒドロベンゾ[1,4]オキサジン-4-オン、3H-キナゾリン-4-オン、3,4-ジヒドロ-1H-キノキサリン-2-オン、1H-キノリン-4-オン、1H-キナゾリン-4-オン、1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、5,6,7,8-テトラヒドロ-1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、2,3-ジヒドロ-1H-[1,5]ナフチリジン-4-オン、1,2-ジヒドロピリド[3,2-d][1,3]オキサジン-4-オン、ピロロ[3,4-c]ピリジン-1,3-ジオン、1,2-ジヒドロピロロ[3,4-c]ピリジン-3-オン、テトラヒドロ[b][1,4]ジアゼピノンのいずれかを含んでおり、それぞれ、置換されていないか、独立に1〜3個の置換基で置換されており、Qの各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、置換されていないか、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、置換されていないか、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、Qの各置換基は、置換されていないか、独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、C1〜C3アルコキシカルボニル、アシル、アリール、ベンジル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)の中からなされる、請求項6に記載の方法。
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり、Qは、一般式:
- Aは、置換されていないアリール基、置換されたアリール基、置換されていないヘテロアリール基、置換されたヘテロアリール基のいずれかであり;Qは、置換されていないインドリル基、または1〜3個の置換基で置換されたインドリル基を含んでおり、Qの各置換基は、独立に、C1〜C5アルキル、C2〜C5アルケニル、C2〜C5アルキニル、C3〜C8シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール、ヘテロアリール、C1〜C5アルコキシ、C2〜C5アルケニルオキシ、C2〜C5アルキニルオキシ、アリールオキシ、アシル、C1〜C5アルコキシカルボニル、C1〜C5アルカノイルオキシ、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、アミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5ジアルキルアミノカルボニルオキシ、C1〜C5アルカノイルアミノ、C1〜C5アルコキシカルボニルアミノ、C1〜C5アルキルスルホニルアミノ、アミノスルホニル、C1〜C5アルキルアミノスルホニル、C1〜C5ジアルキルアミノスルホニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ニトロ、アミノ(ただし窒素原子は、場合によっては独立にC1〜C5アルキルで一置換または二置換されている)、ウレイド(ただしいずれかの窒素原子は、場合によっては、独立にC1〜C5アルキルで置換されている)、C1〜C5アルキルチオ(ただしイオウ原子は場合によっては酸化されてスルホキシドまたはスルホンになっている)のいずれかであり、Qの各置換基は、置換されていないか、独立に1〜3個の置換基で置換されており、その置換基の選択は、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、オキソ、シアノ、アミノ、トリフルオロメチルからなるグループの中からなされる、請求項6に記載の方法。
- 一般式(IIa)または(IIb):
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステルと反応させて一般式(XIa)または(XIb)のキラルなエポキシエステルを形成し:
(b)一般式(XIa)または(XIb)のそのキラルなエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(c)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(d)(i)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成する:
(ii)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドにする:
(e)(1)ステップ(d)(i)を実施するときには、一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させ;(2)ステップ(d)(ii)を実施するときには、一般式(Va)または(Vb)のキラルなアルデヒドまたはケトンを一般式Q-NH2またはQ-NHR’の化合物と反応させ、一般式(IIa)または(IIb)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法(ただし、
Qはキノリン-5-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており;Xは、そのキノリニル基の5位に結合したハロゲンまたはトシラート基であり;R4とR5の選択は、独立に、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、C1〜C10アルコキシ基、置換されていないC1〜C10直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C10直鎖アルキル基、置換されたC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C10シクロアルキル基、置換されたC3〜C10シクロアルキル基からなるグループの中からなされる)。 - 一般式(IIc)または(IId):
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステルと反応させて一般式(XIa)または(XIb)のキラルなエポキシエステルを形成し:
(b)一般式(XIa)または(XIb)のそのキラルなエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(c)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(d)(i)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成する:
(ii)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドにする:
(e)(1)ステップ(d)(i)を実施するときには、一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させ;(2)ステップ(d)(ii)を実施するときには、一般式(Va)または(Vb)のキラルなアルデヒドまたはケトンを一般式Q-NH2の化合物と反応させ、一般式(IIc)または(IId)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法(ただし、
Qはキノリン-4-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており;Xは、そのキノリニル基の4位に結合したハロゲンまたはトシラート基であり;R4とR5の選択は、独立に、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、C1〜C10アルコキシ基、置換されていないC1〜C10直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C10直鎖アルキル基、置換されたC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C10シクロアルキル基、置換されたC3〜C10シクロアルキル基からなるグループの中からなされる)。 - 一般式(IIa)または(IIb):
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミドと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し:
(b)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(c)(i)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成する:
(ii)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドにする:
(d)(1)ステップ(c)(i)を実施するときには、一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させ;(2)ステップ(c)(ii)を実施するときには、一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドを一般式Q-NH2の化合物と反応させ、一般式(IIa)または(IIb)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法(ただし、
Qはキノリン-5-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており;Xは、そのキノリニル基の5位に結合したハロゲンまたはトシラート基であり;R4とR5の選択は、独立に、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、C1〜C10アルコキシ基、置換されていないC1〜C10直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C10直鎖アルキル基、置換されたC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C10シクロアルキル基、置換されたC3〜C10シクロアルキル基からなるグループの中からなされる)。 - 一般式(IIc)または(IId):
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミドと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し:
(b)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(c)(i)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成する:
(ii)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドにする:
(d)(1)ステップ(c)(i)を実施するときには、一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で一般式Q-Xの化合物と反応させ;(2)ステップ(c)(ii)を実施するときには、一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドを一般式Q-NH2の化合物と反応させ、一般式(IIc)または(IId)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法(ただし、
Qはキノリン-4-イル基であり、置換されていないか、2位、3位、4位、6位、7位、8位のうちの1ヶ所以上が置換されており;Xは、そのキノリニル基の4位に結合したハロゲンまたはトシラート基であり;R4とR5の選択は、独立に、水素、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、C1〜C10アルコキシ基、置換されていないC1〜C10直鎖アルキル基、置換されていないC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されたC1〜C10直鎖アルキル基、置換されたC1〜C10分岐鎖アルキル基、置換されていないC3〜C10シクロアルキル基、置換されたC3〜C10シクロアルキル基からなるグループの中からなされる)。 - 一般式(IIIa)または(IIIb):
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステルと反応させて一般式(XIa)または(XIb)のキラルなエポキシエステルを形成し:
(b)一般式(XIa)または(XIb)のそのキラルなエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(c)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(d)(i)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成する:
(ii)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドにする:
(e)(1)ステップ(d)(i)を実施するときには、一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で5-ハロ-2-メチル-キノリン(ただし、置換されたこのキノリンの5位のハロ置換基の選択は、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素からなるグループの中からなされる)と反応させ;(2)ステップ(d)(ii)を実施するときには、一般式(Va)または(Vb)のキラルなアルデヒドを5-アミノ-2-メチル-キノリンと反応させ、一般式(IIIa)または(IIIb)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法。 - 一般式(IIIc)または(IIId):
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でα-ハロ酸のキラルなエステルと反応させて一般式(XIa)または(XIb)のキラルなエポキシエステルを形成し:
(b)一般式(XIa)または(XIb)のそのキラルなエポキシエステルをアンモニアまたはアミンと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミド:
(c)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(d)(i)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成する:
(ii)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドにする:
(e)(1)ステップ(d)(i)を実施するときには、一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で4-ハロ-2-メチル-イソキノリン(ただし、置換されたこのイソキノリンの4位のハロゲン置換基は、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素からなるグループの中から選択される)と反応させ;(2)ステップ(d)(ii)を実施するときには、一般式(Va)または(Vb)のキラルなアルデヒドまたはケトンを4-アミノ-2-メチル-イソキノリンと反応させ、一般式(IIIc)または(IIId)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法。 - 一般式(IIIa)または(IIIb):
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミドと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し:
(b)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(c)(i)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成する:
(ii)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドにする:
(d)(1)ステップ(c)(i)を実施するときには、一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で5-ハロ-2-メチル-キノリン(ただし、置換されたこのキノリンの5位のハロ置換基の選択は、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素からなるグループの中からなされる)と反応させ;(2)ステップ(c)(ii)を実施するときには、一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドを5-アミノ-キノリンと反応させ、一般式(IIIa)または(IIIb)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法。 - 一般式(IIIc)または(IIId):
(a)一般式(X)のケトンを塩基性条件下でキラルな触媒の存在下にてα-ハロ酸のアミドと反応させて一般式(XIIa)または(XIIb)のキラルなエポキシカルボキサミドを形成し:
(b)一般式(XIIa)または(XIIb)のそのキラルなエポキシカルボキサミドをハロゲン雰囲気下で塩基の存在下にて、またはアルカリ金属の次亜ハロゲン化物を用いた処理により、一般式(XIIIa)または(XIIIb)のキラルな第一級エポキシアミン:
(c)(i)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを還元して一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを形成する:
(ii)一般式(XIIIa)または(XIIIb)のそのキラルな第一級エポキシアミンを酸性条件下で変換して一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドにする:
(d)(1)ステップ(c)(i)を実施するときには、一般式(XIVa)または(XIVb)のキラルなヒドロキシアミンを、塩基性触媒条件下または遷移金属触媒下で4-ハロ-2-メチル-イソキノリン(ただし、置換されたそのイソキノリンの4位のハロ置換基の選択は、臭素、塩素、フッ素、ヨウ素からなるグループの中からなされる)と反応させ;(2)ステップ(c)(ii)を実施するときには、一般式(XVa)または(XVb)のキラルなアルデヒドを4-アミノ-イソキノリンと反応させ、一般式(IIIc)または(IIId)を持つ置換されたアルコールの1つの立体異性体を製造する操作を含む方法。 - 請求項1に記載の方法によって製造される一般式(Ia)または(Ib)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項2に記載の方法によって製造される一般式(Ia)または(Ib)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項3に記載の方法によって製造される一般式(Ia)または(Ib)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項4に記載の方法によって製造される一般式(Ia)または(Ib)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項5に記載の方法によって製造される一般式(Ia)または(Ib)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項6に記載の方法によって製造される一般式(Ia)または(Ib)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項28に記載の方法によって製造される一般式(IIa)または(IIb)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項29に記載の方法によって製造される一般式(IIc)または(IId)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項30に記載の方法によって製造される一般式(IIa)または(IIb)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項31に記載の方法によって製造される一般式(IIc)または(IId)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項32に記載の方法によって製造される一般式(IIIa)または(IIIb)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項33に記載の方法によって製造される一般式(IIIc)または(IIId)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項34に記載の方法によって製造される一般式(IIIa)または(IIIb)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
- 請求項35に記載の方法によって製造される一般式(IIIc)または(IIId)を持つ1つの立体異性体であって、他の立体異性体を実質的に含まない立体異性体。
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