JP2010267577A - Organic el display panel, and method of manufacturing the same - Google Patents

Organic el display panel, and method of manufacturing the same Download PDF

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Ryoji Hiuga
亮二 日向
Hidehiro Yoshida
英博 吉田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reliably apply material liquids in hole injection layers all over the surfaces of anode electrodes in openings in all sub-pixels of a display panel. <P>SOLUTION: A scan region is scanned by an integrated head, and nozzle holes discharge droplets of material liquids 104, 104', 104" in the hole injection layers. Thereby, a plurality of the droplets are dropped into bank openings 109, 109', 109" along the major axis of anode electrodes 103 (Fig.4(a)). The dropped material liquids 104, 104', 104" spread over the anode electrodes 103, 103', 103" in the bank openings 109, 109', 109" and are applied to them (Fig.4(b)). The material liquids are dried to form the hole injection layers 111, 111', 111" on the anode electrodes (Fig.4(c)). Since the anode electrodes 103 gradually get smaller in the scanning direction, and their areas are 103>103'>103", the region of the anode electrode 103 per one droplet of the material liquid can be made small and hard to expose, and an organic EL element is prevented from being short-circuited. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an organic EL display panel and a manufacturing method thereof.

有機ＥＬディスプレイパネルとは、有機化合物の電界発光を利用した発光素子を有するディスプレイパネルである。つまり、有機ＥＬディスプレイパネルは、アノード電極およびカソード電極、並びに両電極の間に配置された電界発光する有機ＥＬ層を含む有機ＥＬ素子を有する。電界発光する有機ＥＬ層の材料は、低分子有機化合物の組合せ（ホスト材料とドーパント材料）と、高分子有機化合物とに大別されうる。電界発光する高分子有機化合物の例には、ＰＰＶと称されるポリフェニレンビニレンやその誘導体などが含まれる。   An organic EL display panel is a display panel having a light emitting element utilizing electroluminescence of an organic compound. In other words, the organic EL display panel has an organic EL element including an anode electrode, a cathode electrode, and an organic EL layer that is disposed between both electrodes and emits electroluminescence. Electroluminescent organic EL layer materials can be broadly classified into combinations of low-molecular organic compounds (host material and dopant material) and high-molecular organic compounds. Examples of the polymer organic compound that emits electroluminescence include polyphenylene vinylene called PPV and derivatives thereof.

高分子有機化合物を材料とした有機ＥＬ層は、比較的低電圧で駆動でき、消費電力が少なく、ディスプレイパネルの大画面化に対応し易いことから、現在積極的に研究がなされている。また、高分子有機化合物を材料とした有機ＥＬ層はインクジェット法などの塗布法による製作が可能である。したがって、真空プロセスを使用する低分子有機ＥＬディスプレイパネルよりも、高分子有機ＥＬディスプレイパネルの生産性は顕著に高い。   An organic EL layer made of a polymer organic compound can be driven at a relatively low voltage, consumes little power, and is easy to cope with an increase in the size of a display panel. An organic EL layer made of a high molecular organic compound can be manufactured by a coating method such as an ink jet method. Therefore, the productivity of the polymer organic EL display panel is significantly higher than that of the low molecular organic EL display panel using the vacuum process.

また、高分子有機ＥＬディスプレイパネルは通常、アノード電極からの正孔を有機ＥＬ層に効率よく輸送するために、アノード電極と有機ＥＬ層との間に配置された正孔注入層を有する。正孔注入層の材料としては、塗布法による製作が可能な、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）をドープしたポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳと称される）や、その誘導体（共重合体など）などの水溶性高分子が用いられる。   Moreover, the polymer organic EL display panel usually has a hole injection layer disposed between the anode electrode and the organic EL layer in order to efficiently transport holes from the anode electrode to the organic EL layer. As a material of the hole injection layer, poly (3,4-ethylenedioxythiophene) doped with polystyrene sulfonic acid (PSS) (referred to as PEDOT-PSS), which can be manufactured by a coating method, or a derivative thereof Water-soluble polymers such as (copolymers) are used.

水溶性高分子からなる正孔注入層は、各副画素の開口部内のアノード電極上にこのような材料を含む水溶液を滴下し塗布することで形成されていた。正孔注入層の材料液を滴下する手段の１例にノズルを用いて正孔注入層の材料液を噴射して滴下する噴射式印刷方法がある（特許文献１参照）。   The hole injection layer made of a water-soluble polymer has been formed by dropping and applying an aqueous solution containing such a material on the anode electrode in the opening of each subpixel. One example of means for dropping the material liquid for the hole injection layer is a jet printing method in which the material liquid for the hole injection layer is sprayed and dropped using a nozzle (see Patent Document 1).

図９（ａ），（ｂ）は特許文献１に示された、噴射式印刷方法による正孔注入層の形成方法を示す。図９（ａ），（ｂ）に示される方法では、マトリクス状に配列された各副画素の開口部１８ａを規定するバンク１８を有する基板１０を準備する。開口部１８ａ内にはアノード電極が配置されている。そして、正孔注入層の材料液を吐出するノズルを複数有するノズルヘッド１３０を用いて開口部１８ａを走査し、開口部１８ａ内に正孔注入層の材料液を滴下していく。   FIGS. 9A and 9B show a method for forming a hole injection layer by the jet printing method disclosed in Patent Document 1. FIG. In the method shown in FIGS. 9A and 9B, a substrate 10 having a bank 18 that defines openings 18a of sub-pixels arranged in a matrix is prepared. An anode electrode is disposed in the opening 18a. Then, the opening 18a is scanned using the nozzle head 130 having a plurality of nozzles that discharge the material liquid for the hole injection layer, and the material liquid for the hole injection layer is dropped into the opening 18a.

また、基板１０上に配列された開口部１８ａの列の数は、一般的にノズルヘッド１３０が有するノズルの数よりもはるかに大きいため、通常は、図９（ａ）に示されるように、有機ＥＬディスプレイパネルを複数の開口部１８ａの列を有する領域ごとに分けて、開口部１８ａ内に正孔注入層を形成する。   Moreover, since the number of rows of the openings 18a arranged on the substrate 10 is generally much larger than the number of nozzles of the nozzle head 130, usually, as shown in FIG. The organic EL display panel is divided into regions each having a plurality of openings 18a, and a hole injection layer is formed in the openings 18a.

図９（ａ）は第１領域１４０をノズルヘッド１３０で走査する様子を示し、図９（ｂ）は第１領域１４０の走査後、第２領域１４１をノズルヘッド１３０で走査する様子を示す。   FIG. 9A shows how the first area 140 is scanned by the nozzle head 130, and FIG. 9B shows how the second area 141 is scanned by the nozzle head 130 after scanning the first area 140.

特開２００５−１５２８８４号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2005-15284

前述の図９（ａ），（ｂ）に示す通り、噴射式印刷方法により、基板１０上に配列された開口部１８ａに正孔注入層の材料液を塗布するには、基板１０をノズルヘッド１３０で複数回走査しながら、材料液を塗布していた。ところが、第１領域１４０に含まれる開口部１８ａに正孔注入層の材料液の塗布が終わってから、第２領域１４１に含まれる開口部１８ａを塗布しようとすると、第２領域１４１に含まれる開口部１８ａのうち、第１領域１４０に隣接する開口部１８ａ内のアノード電極に充分に正孔注入層の材料液が塗布できず、アノード電極の一部が露出する場合があることが見出された。   As shown in FIGS. 9A and 9B, in order to apply the material liquid of the hole injection layer to the openings 18a arranged on the substrate 10 by the jet printing method, the substrate 10 is attached to the nozzle head. The material liquid was applied while scanning a plurality of times at 130. However, when the opening 18a included in the second region 141 is applied after the application of the material liquid for the hole injection layer to the opening 18a included in the first region 140 is finished, the hole 18a is included in the second region 141. It is found that the material liquid of the hole injection layer cannot be sufficiently applied to the anode electrode in the opening 18a adjacent to the first region 140 in the opening 18a, and a part of the anode electrode may be exposed. It was done.

図１０（ａ）〜（ｃ）はこの現象をより詳細に示す図である。図１０（ａ）に示すように正孔注入層の材料液１０４は開口部内のアノード電極１０３上に矢印の塗布方向Ａに沿って複数滴下される。複数の滴下された正孔注入層の材料液１０４の液滴のうち、後に滴下された液滴は、図１０（ｂ）に示されるように、前に滴下された液滴に引っ張られて、正孔注入層の材料液１０４がアノード電極１０３全体に濡れ広がることができず、アノード電極１０３の一部が露出することが分かった（図１０（ｃ）参照）。露出したアノード電極１０３には後に設けるカソード電極が接触してしまうことから、有機ＥＬ素子をショートさせ、有機ＥＬディスプレイパネルの品質を著しく劣化させる。   10A to 10C are diagrams showing this phenomenon in more detail. As shown in FIG. 10A, a plurality of material liquids 104 for the hole injection layer are dropped along the coating direction A indicated by the arrow on the anode electrode 103 in the opening. Among the plurality of dropped liquid droplets of the material liquid 104 of the hole injection layer, the droplet dropped later is pulled by the previously dropped droplet, as shown in FIG. It was found that the material liquid 104 of the hole injection layer could not spread over the entire anode electrode 103 and a part of the anode electrode 103 was exposed (see FIG. 10C). Since the cathode electrode provided later comes into contact with the exposed anode electrode 103, the organic EL element is short-circuited, and the quality of the organic EL display panel is remarkably deteriorated.

これは、第１領域１４０の走査によって第１領域１４０に隣接する第２領域１４１が、何らかの影響を受けていることを示す（図９（ｂ）参照）。その影響は、特に限定されず、第１例として、第１領域１４０の走査によって第１領域１４０に滴下された正孔注入層の材料液１０４のうちの一部が、第２領域１４１を汚染し、それが第２領域１４１の開口部内での液滴の濡れ広がりを抑制しているとも考えられる。   This indicates that the second region 141 adjacent to the first region 140 is affected by scanning by the first region 140 (see FIG. 9B). The influence is not particularly limited. As a first example, a part of the material liquid 104 of the hole injection layer dripped onto the first region 140 by scanning the first region 140 contaminates the second region 141. However, it is also considered that this suppresses the wetting and spreading of droplets in the opening of the second region 141.

また、第２例として、第１領域１４０の走査により、バンク１０５を構成する成分の一部が、第２領域１４１を汚染して、それが第２領域１４１の開口部内での液滴の濡れ広がりを抑制しているとも考えられる。   Further, as a second example, a part of the components constituting the bank 105 contaminates the second region 141 by scanning the first region 140, and the droplet wets in the opening of the second region 141. It is thought that the spread is suppressed.

この第２領域１４１を汚染するバンク１０５を構成する成分とは、例えばフッ素を含む成分でありうる。バンク１０５は塗布された機能層の材料液を規定された特定の領域に保持する必要がある。そのため、バンク１０５の濡れ性が低いことが求められる。濡れ性を下げるために、バンク１０５表面をフッ素ガスプラズマで処理したり、バンク材料にフッ素含有材料（例えば、フッ素含有樹脂）を用いたりすることがある。このフッ素を含む成分が、第１領域１４０を走査することにより、第２領域１４１内の開口部を汚染するとも考えられる。   The component constituting the bank 105 that contaminates the second region 141 may be, for example, a component containing fluorine. The bank 105 needs to hold the applied functional layer material liquid in a specified specific area. Therefore, the bank 105 is required to have low wettability. In order to reduce wettability, the surface of the bank 105 may be treated with fluorine gas plasma, or a fluorine-containing material (for example, fluorine-containing resin) may be used as the bank material. It is considered that the component containing fluorine contaminates the opening in the second region 141 by scanning the first region 140.

そのため本件発明者たちは、図１１（ａ）に示すように、１つのノズルヘッド１３０を用いて複数回アノード電極１０３上に塗布するのではなく、図１１（ｂ）に示すように、ノズルヘッド１３０を集積した集積ヘッド２００を用いてアノード電極１０３上に一括に塗布することを検討した。従来例である図１１（ａ）はアノード電極１０３の長軸、つまりディスプレイパネルの短辺方向に平行な向きである塗布方向ＡやＡ’の矢印の方向にノズルヘッド１３０を操作させて塗布を行う。   Therefore, the present inventors do not apply a plurality of times on the anode electrode 103 by using one nozzle head 130 as shown in FIG. 11 (a), but as shown in FIG. 11 (b). Using the integrated head 200 in which 130 is integrated, it was studied that the coating was performed on the anode electrode 103 in a lump. In FIG. 11A, which is a conventional example, coating is performed by operating the nozzle head 130 in the direction of the arrow of the coating direction A or A ′ that is parallel to the long axis of the anode electrode 103, that is, the short side direction of the display panel. Do.

図１１（ｂ）では、アノード電極１３０の短軸側、つまりディスプレイパネルの長辺側に平行な方向である塗布方向Ｂに集積ヘッド２００を走査させて、塗布を行う。この場合、アノード電極１３０の長軸側から一括に塗布できるノズルヘッドより、短軸側から塗ることで、集積ヘッド２００を小さくできるので装置コストが安く済むメリットがある。   In FIG. 11B, application is performed by scanning the integrated head 200 in the application direction B, which is a direction parallel to the short axis side of the anode electrode 130, that is, the long side of the display panel. In this case, since the integrated head 200 can be made smaller by applying from the short axis side than the nozzle head that can be applied collectively from the long axis side of the anode electrode 130, there is an advantage that the apparatus cost can be reduced.

ところが、図１１（ｂ）のように、一括に塗布を行う場合でも開口部内のアノード電極１０３に充分に正孔注入層の材料液が塗布できず、アノード電極１０３の一部が露出する場合があることが見出された。   However, as shown in FIG. 11B, even when coating is performed all at once, the material liquid for the hole injection layer cannot be sufficiently applied to the anode electrode 103 in the opening, and a part of the anode electrode 103 is exposed. It was found that there was.

図１２（ａ）〜（ｃ）にこの現象を詳細に示す。図１２（ａ）に示すように、正孔注入層の材料液１０４は開口部内のアノード電極１０３上に矢印の塗布方向Ｂに沿って複数同時に滴下される。複数の滴下された正孔注入層の材料液１０４の液滴は、下地の濡れ性と液滴の表面張力のバランスにより、図１２（ｂ）のようにアノード電極１０３上を広がる。しかし塗布方向Ｂに対して下流側では正孔注入層１１１の材料液がアノード電極１０３全体に濡れ広がることができず、アノード電極１０３の一部が露出することが分かった（図１２（ｃ）参照）。   FIGS. 12A to 12C show this phenomenon in detail. As shown in FIG. 12A, a plurality of hole injection layer material liquids 104 are simultaneously dropped onto the anode electrode 103 in the opening along the coating direction B indicated by the arrow. A plurality of droplets of the material liquid 104 of the dropped hole injection layer spread on the anode electrode 103 as shown in FIG. 12B due to the balance between the wettability of the base and the surface tension of the droplets. However, it was found that the material liquid of the hole injection layer 111 could not wet and spread throughout the anode electrode 103 on the downstream side with respect to the coating direction B, and a part of the anode electrode 103 was exposed (FIG. 12C). reference).

これは従来例であるアノード電極１０３の長軸方向に塗布する場合と同じく、アノード電極１０３の短軸方向に塗布していく場合でも、先に塗布された正孔注入層の材料液１０４のうちの一部がノズルヘッドの操作により、次に塗布する領域を汚染し、開口部内での液滴の濡れ広がりを抑制していると考えられる。   This is similar to the case where the anode electrode 103 is applied in the major axis direction as in the conventional example, and even when the anode electrode 103 is applied in the minor axis direction, the material liquid 104 of the hole injection layer previously applied It is considered that a part of the sample contaminates the region to be applied next by the operation of the nozzle head and suppresses the wetting and spreading of the droplets in the opening.

また、先に塗布した領域からバンク１０５を構成する成分の一部が塗布されていない領域を汚染することで、開口部内での液滴の濡れ広がりを抑制していると考えられる。なお、図１１（ａ）と図１１（ｂ）では簡略のため画素を区別するバンクを記載していない。   Further, it is considered that the area where the components constituting the bank 105 are not applied from the previously applied area is contaminated to suppress the wetting and spreading of the liquid droplets in the opening. In FIG. 11A and FIG. 11B, a bank for distinguishing pixels is not shown for simplicity.

本発明は、前記従来技術の問題を解決するものであり、ノズルヘッドで基板を走査することにより、全ての副画素の開口部内に正孔注入層の材料液を塗布するときに、全ての開口部のアノード電極全面に確実に正孔注入層の材料液を塗布することができる有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-described problems of the prior art. When the substrate liquid is scanned with a nozzle head, all the openings are formed when the material liquid of the hole injection layer is applied in the openings of all the subpixels. It is an object of the present invention to provide an organic EL display panel and a method for manufacturing the same, which can reliably apply a material liquid for a hole injection layer to the entire anode electrode.

前記の目的を達成するために、本発明に係る請求項１に記載した有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、互いに平行である２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域、開口部を規定するバンク、およびライン領域のライン方向と垂直な短軸を持つ開口部内に配置されたアノード電極を有する基板を準備するステップと、ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液を吐出する２以上の吐出ノズルを有するノズルヘッドを用いて、アノード電極の短軸方向に走査して、水溶液の液滴を複数滴下して、アノード電極上に水溶液を塗布するステップと、を有する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法であって、走査方向下流につれてアノード電極の面積が漸次小さくなることを特徴とする。   In order to achieve the above object, a method of manufacturing an organic EL display panel according to claim 1 according to the present invention includes a plurality of line regions and openings in which two or more openings parallel to each other are arranged in a line. Preparing a substrate having a bank defining a portion and an anode electrode disposed in an opening having a minor axis perpendicular to the line direction of the line region, and two or more discharges discharging an aqueous solution containing polyethylene dioxythiophene A method of manufacturing an organic EL display panel, comprising: using a nozzle head having a nozzle, scanning in the short axis direction of the anode electrode, dropping a plurality of droplets of an aqueous solution, and applying the aqueous solution onto the anode electrode In this case, the area of the anode electrode gradually decreases as it goes downstream in the scanning direction.

また、請求項２に記載した有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、互いに平行である２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域、開口部を規定するバンク、およびライン領域のライン方向に垂直な短軸を持つ開口部内に配置されたアノード電極を有する基板を準備するステップと、ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液を吐出する２以上の吐出ノズルを有するノズルヘッドを用いて、アノード電極の短軸方向に走査して、水溶液の液滴を複数滴下して、アノード電極上に水溶液を塗布するステップと、を有する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法であって、開口部とアノード電極との間で短軸方向に空隙を有し、走査方向下流につれて空隙の面積が漸次大きくなり、かつ水溶液は空隙にも塗布されることを特徴とする。   The method for manufacturing an organic EL display panel according to claim 2 includes a plurality of line regions in which two or more openings that are parallel to each other are arranged in a line, a bank that defines the openings, and a line in the line region Using a nozzle head having a step of preparing a substrate having an anode electrode disposed in an opening having a minor axis perpendicular to the direction, and two or more discharge nozzles for discharging an aqueous solution containing polyethylene dioxythiophene, A method of manufacturing an organic EL display panel having a step of applying a plurality of aqueous solution droplets and applying an aqueous solution onto an anode electrode, the method comprising: There is a gap in the minor axis direction between them, the area of the gap gradually increases toward the downstream in the scanning direction, and the aqueous solution is also applied to the gap. To.

また、請求項３に記載した有機ＥＬディスプレイパネルは、互いに平行である２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域と、開口部を規定するバンクと、ライン領域のライン方向に垂直な短軸を持つ開口部内に配置されたアノード電極と、開口部ごとに独立して、かつアノード電極上に配置された正孔注入層と、正孔注入層上に配置された有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に設けられたカソード電極とを備えた有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、ライン領域のうち、開口部内に配置されたアノード電極の面積が、ライン領域に垂直な一方向に対して漸次小さくなることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, there is provided an organic EL display panel including a plurality of line regions in which two or more openings that are parallel to each other are arranged in a line, a bank that defines the openings, and a line direction of the line regions. An anode electrode disposed in an opening having a vertical short axis, a hole injection layer disposed independently on each anode and on the anode electrode, and an organic EL layer disposed on the hole injection layer In the organic EL display panel including the cathode electrode provided on the organic EL layer, the area of the anode electrode disposed in the opening in the line region is gradually increased in one direction perpendicular to the line region. It is characterized by becoming smaller.

また、請求項４に記載した有機ＥＬディスプレイパネルは、互いに平行である２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域と、開口部を規定するバンクと、ライン領域のライン方向に垂直な短軸を持つ開口部内に配置されたアノード電極と、開口部ごとに独立して、かつアノード電極上に配置された正孔注入層と、正孔注入層上に配置された有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に設けられたカソード電極とを備えた有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、ライン領域のうち、開口部とアノード電極との間で短軸方向に空隙を有し、空隙がライン領域に垂直な一方向に対して漸次大きくなることを特徴とする。   According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an organic EL display panel including a plurality of line regions in which two or more openings that are parallel to each other are arranged in a line, a bank that defines the openings, and a line direction of the line regions. An anode electrode disposed in an opening having a vertical short axis, a hole injection layer disposed independently on each anode and on the anode electrode, and an organic EL layer disposed on the hole injection layer And a cathode electrode provided on the organic EL layer, the line area has a gap in the minor axis direction between the opening and the anode electrode, and the gap is in the line area. It is characterized by gradually increasing in one vertical direction.

前記構成によれば、ディスプレイパネルの全開口部内のアノード電極全面に確実に正孔注入層の材料液を塗布することができる。   According to the said structure, the material liquid of a positive hole injection layer can be reliably apply | coated to the whole anode electrode in all the opening parts of a display panel.

本発明によれば、ノズルヘッドで基板を走査して、全ての副画素の開口部内に正孔注入層の材料液を塗布する場合、全ての開口部内のアノード電極全面に確実に正孔注入層の材料液を塗布することができ、特にアノード電極の短軸側の方向から塗布することで長軸側に比べてノズルヘッドを短くでき、ディスプレイパネルを複数回塗布するのではなく一括に塗布することが可能となり、有機ＥＬ素子のショートを防止して、品質が高く低コストな有機ＥＬディスプレイパネルを提供することができるという効果を奏する。   According to the present invention, when the substrate liquid is scanned with the nozzle head and the material liquid of the hole injection layer is applied in the openings of all the subpixels, the hole injection layer is surely applied to the entire anode electrode in all the openings. In particular, the nozzle head can be shortened compared to the long axis side by applying from the direction of the short axis side of the anode electrode, and the display panel is applied in a batch rather than multiple times. This makes it possible to prevent short-circuiting of the organic EL element and to provide an organic EL display panel with high quality and low cost.

本発明の実施形態１の第１実施例で有機ＥＬディスプレイパネル製造方法に用いる（ａ）は基板、（ｂ）は基板に形成したバンクを示す図(A) used for the organic electroluminescent display panel manufacturing method in 1st Example of Embodiment 1 of this invention is a board | substrate, (b) is a figure which shows the bank formed in the board | substrate. 本第１実施の有機ＥＬディスプレイパネル製造方法に用いるアノード電極の形状（ａ）〜（ｆ）を示す図The figure which shows the shape (a)-(f) of the anode electrode used for the organic electroluminescent display panel manufacturing method of this 1st implementation. 本第１実施例の有機ＥＬディスプレイパネル製造方法で正孔注入層の材料液の塗布過程（ａ），（ｂ）を示す図The figure which shows the coating process (a), (b) of the material liquid of a positive hole injection layer by the organic electroluminescent display panel manufacturing method of a 1st Example. 本第１実施例のアノード電極に正孔注入層の材料液の塗布過程（ａ）〜（ｃ）を示す図The figure which shows the coating process (a)-(c) of the material liquid of a positive hole injection layer to the anode electrode of a 1st Example. 本第１実施例のバンク開口部の回りに設けた無機絶縁膜を示す図The figure which shows the inorganic insulating film provided around the bank opening part of the 1st Example 本実施形態１の第２実施例でバンク開口部内のアノード電極の端とバンク開口部の端との間に設けた（ａ）は空隙、（ｂ）は別の空隙を示す図FIG. 5A is a diagram showing a gap, and FIG. 5B is a diagram showing another gap provided between the end of the anode electrode in the bank opening and the end of the bank opening in the second example of the first embodiment. 本第２実施例のアノード電極に正孔注入層の材料液の塗布過程（ａ）〜（ｄ）を示す図The figure which shows the coating process (a)-(d) of the material liquid of a hole injection layer to the anode electrode of a 2nd Example. 本第２実施例のバンク開口部の回りに設けた無機絶縁膜を示す図The figure which shows the inorganic insulating film provided around the bank opening part of the 2nd Example 従来の有機ＥＬディスプレイパネルで正孔注入層の材料液の塗布過程（ａ），（ｂ）を示す図The figure which shows the application processes (a) and (b) of the material liquid of a hole injection layer with the conventional organic EL display panel 従来のアノード電極に正孔注入層の材料液の塗布過程（ａ）〜（ｃ）を示す図The figure which shows the coating process (a)-(c) of the material liquid of a hole injection layer to the conventional anode electrode 従来のアノード電極に正孔注入層の材料液の塗布方法（ａ），（ｂ）を示す図The figure which shows the coating method (a), (b) of the material liquid of a hole injection layer to the conventional anode electrode 従来のアノード電極に正孔注入層の材料液の塗布過程（ａ）〜（ｃ）を示す図The figure which shows the coating process (a)-(c) of the material liquid of a hole injection layer to the conventional anode electrode

以下、図面を参照して本発明における実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

本発明の実施形態１における有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、マトリクス状に配置された開口部を規定するバンク並びに開口部内に配置された短軸および長軸を有するアノード電極を含む基板を準備する第１ステップ、およびノズルヘッドを用いて、基板上の各開口部内にアノード電極の短軸に沿ってノズルヘッドを走査し、正孔注入層の材料液の液滴を複数滴下して、この材料液をアノード電極に塗布し、正孔注入層を形成する第２ステップ、を有する。   A method for manufacturing an organic EL display panel according to Embodiment 1 of the present invention prepares a substrate including banks that define openings arranged in a matrix, and anode electrodes that have short and long axes arranged in the openings. Using the first step and the nozzle head, the nozzle head is scanned along the short axis of the anode electrode into each opening on the substrate, and a plurality of droplets of the material liquid of the hole injection layer are dropped, and this material And applying a liquid to the anode electrode to form a hole injection layer.

有機ＥＬディスプレイパネルにおける各画素はＲＧＢの３つの「副画素」からなる。すなわちＲＧＢの３つの副画素が１つの画素を構成する。本発明の有機ＥＬディスプレイパネルでは、各副画素の長軸は２２５〜４８０μｍであり、短軸は７５〜１６０μｍである。また、「開口部」とは各副画素内においてバンクによって規定された正孔注入層の材料液が塗布される領域を意味する。以下、バンクによって規定された開口部を「バンク開口部」という。ライン領域とはバンク開口部がライン状に配置された領域を意味する。   Each pixel in the organic EL display panel is composed of three “sub-pixels” of RGB. That is, three subpixels of RGB constitute one pixel. In the organic EL display panel of the present invention, the major axis of each subpixel is 225 to 480 μm, and the minor axis is 75 to 160 μm. In addition, the “opening” means a region where the material liquid of the hole injection layer defined by the bank is applied in each sub-pixel. Hereinafter, the opening defined by the bank is referred to as a “bank opening”. The line area means an area where bank openings are arranged in a line.

本実施形態１の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、好ましい第１実施例および好ましい第２実施例を含む。以下、図面を用いて第１実施例と第２実施例とに分けて本発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法について説明する。   The manufacturing method of the organic EL display panel of Embodiment 1 includes a preferred first example and a preferred second example. Hereinafter, the manufacturing method of the organic EL display panel of the present invention will be described by dividing it into the first embodiment and the second embodiment with reference to the drawings.

Ａ）本実施形態１における有機ＥＬディスプレイパネル製造方法の第１実施例は、基板を準備する第１ステップ、基板上にアノード電極を形成する第２ステップ、バンク開口部を規定するバンクを形成する第３ステップ、および正孔注入層の材料液を吐出するノズルを複数有するノズルヘッドで基板を走査領域ごとに走査する第４ステップを有する。また、第２ステップと第３ステップとの間に絶縁性の無機膜を形成するステップを有していてもよい。   A) In the first example of the organic EL display panel manufacturing method according to the first embodiment, a first step of preparing a substrate, a second step of forming an anode electrode on the substrate, and a bank for defining a bank opening are formed. A third step and a fourth step of scanning the substrate for each scanning region with a nozzle head having a plurality of nozzles that discharge the material liquid of the hole injection layer. In addition, an insulating inorganic film may be formed between the second step and the third step.

１）第１ステップでは、基板１０１を準備する。基板１０１の材料は、有機ＥＬディスプレイパネルがボトムエミッション型か、トップエミッション型かによって異なる。例えば、ボトムエミッション型の場合、基板１０１は、透明であることが求められる。したがってボトムエミッション型の場合、基板１０１の材料の例にはガラスや透明樹脂などが含まれる。一方、トップエミッション型の場合、基板１０１が透明である必要はない。したがってトップエミッション型の場合、基板１０１の材料は絶縁性であれば任意である。   1) In the first step, the substrate 101 is prepared. The material of the substrate 101 differs depending on whether the organic EL display panel is a bottom emission type or a top emission type. For example, in the case of a bottom emission type, the substrate 101 is required to be transparent. Therefore, in the case of the bottom emission type, examples of the material of the substrate 101 include glass and transparent resin. On the other hand, in the case of the top emission type, the substrate 101 does not need to be transparent. Therefore, in the case of the top emission type, the material of the substrate 101 is arbitrary as long as it is insulative.

２）第２ステップ（図１（ａ）参照）では、基板１０１上にアノード電極１０３（厚さ１０〜１００ｎｍ）を配置する。アノード電極１０３は、例えばスパッタリング法などにより、電極材料の膜を基板１０１上に形成し、電極材料の膜をレジストによりマスキングし、エッチングしてパターニングすることにより形成される。   2) In the second step (see FIG. 1A), an anode electrode 103 (thickness 10 to 100 nm) is disposed on the substrate 101. The anode electrode 103 is formed by forming a film of an electrode material on the substrate 101 by, for example, sputtering, masking the electrode material film with a resist, etching, and patterning.

ボトムエミッション型の場合、アノード電極１０３は、透明電極であることが求められることから、アノード電極１０３の材料の例は、ＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）やＩＺＯ（酸化インジウム・亜鉛）、ＺnＯ（酸化亜鉛）などを含む。   In the case of the bottom emission type, since the anode electrode 103 is required to be a transparent electrode, examples of the material of the anode electrode 103 include ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), and ZnO (oxidation). Zinc) and the like.

トップエミッション型の場合、アノード電極１０３に光反射性が求められることから、アノード電極１０３の材料の例は、銀を含む合金、より具体的には銀−パラジウム−銅合金（ＡＰＣとも称する）や銀−ルテニウム−金合金（ＡＲＡとも称する）、ＭoＣr（モリブデンクロム）、ＮiＣr（ニッケルクロム）などを含む。   In the case of the top emission type, since the anode electrode 103 is required to have light reflectivity, an example of the material of the anode electrode 103 is an alloy containing silver, more specifically, a silver-palladium-copper alloy (also referred to as APC), Including silver-ruthenium-gold alloy (also referred to as ARA), MoCr (molybdenum chromium), NiCr (nickel chromium) and the like.

また、後述する正孔注入層の材料液がアノード電極表面によく馴染むよう、アノード電極を覆うＩＴＯ膜を形成してもよい。   In addition, an ITO film covering the anode electrode may be formed so that the material liquid for the hole injection layer described later is well adapted to the anode electrode surface.

３）第３ステップ（図１（ｂ）参照）ではバンクを形成する。バンクには、各副画素のバンク開口部１０９を規定するバンク１０５が含まれ、さらにライン状バンク１０６も含まれうる。ライン状バンク１０６の頂点は、バンク１０５の頂点よりも高い。バンク１０５は、正孔注入層の材料液が塗布されるバンク開口部１０９を規定し、ライン状バンク１０６は、例えば有機ＥＬ層の材料液が塗布されるライン領域１０８を規定することができる。   3) In the third step (see FIG. 1B), a bank is formed. The bank includes a bank 105 that defines a bank opening 109 of each subpixel, and may further include a line bank 106. The vertex of the line bank 106 is higher than the vertex of the bank 105. The bank 105 can define the bank opening 109 where the material liquid for the hole injection layer is applied, and the line bank 106 can define the line region 108 where the material liquid for the organic EL layer is applied, for example.

図１（ｂ）に示されるように基板１０１は、互いに平行な複数のライン領域１０８を有し、かつライン領域１０８のそれぞれには、複数のバンク開口部１０９が列状に配置されている。複数のバンク開口部１０９が列状に配置されたライン領域１０８は、図１（ｂ）に示すようにライン状バンク１０６とそのライン状バンク１０６と直交して上下端を囲むバンク１０７によって区分されていてもよい。図１（ｂ）に示すようにライン状バンク１０６のライン方向は互いに平行である。   As shown in FIG. 1B, the substrate 101 has a plurality of line regions 108 parallel to each other, and a plurality of bank openings 109 are arranged in a row in each of the line regions 108. A line region 108 in which a plurality of bank openings 109 are arranged in a row is divided by a line bank 106 and a bank 107 that is orthogonal to the line bank 106 and surrounds the upper and lower ends as shown in FIG. It may be. As shown in FIG. 1B, the line directions of the line banks 106 are parallel to each other.

バンクとしては、例えばフォトリソグラフィ技術や凹版印刷、凸版印刷などによって形成されうる。バンクの高さは０．５〜１μｍであることが好ましい。バンクの材料は絶縁性であれば任意であるが、絶縁性樹脂（ポリイミドなど）であることが好ましい。さらに、バンクの表面は濡れ性が低い（例えば、撥水性である）ことが好ましい。そのため、バンクの材料をフッ素樹脂を含む絶縁性樹脂としてもよいし、バンクの表面をフッ素系ガスプラズマでフッ素化させてもよい。それにより、濡れ性を低下させることができる。   The bank can be formed by, for example, photolithography, intaglio printing, letterpress printing, or the like. The height of the bank is preferably 0.5 to 1 μm. The material of the bank is arbitrary as long as it is insulative, but is preferably an insulating resin (polyimide or the like). Furthermore, the surface of the bank preferably has low wettability (for example, water repellency). Therefore, the bank material may be an insulating resin containing a fluororesin, or the bank surface may be fluorinated with fluorine-based gas plasma. Thereby, wettability can be reduced.

各バンク開口部１０９内のアノード電極１０３は長軸および短軸を有する。すなわちアノード電極１０３は１方向に長い形状を有し、楕円形であってもよい。アノード電極１０３の長軸はライン領域１０８のライン方向と平行であることが好ましい。バンク開口部１０９内に配置されたアノード電極１０３の長軸の長さは、２０５〜４６０μｍであり、アノード電極１０３の短軸は５５〜１４０μｍであることが好ましい。   The anode electrode 103 in each bank opening 109 has a major axis and a minor axis. That is, the anode electrode 103 has a shape that is long in one direction and may be elliptical. The major axis of the anode electrode 103 is preferably parallel to the line direction of the line region 108. The length of the major axis of the anode electrode 103 disposed in the bank opening 109 is preferably 205 to 460 μm, and the minor axis of the anode electrode 103 is preferably 55 to 140 μm.

本第１実施例の製造方法では、所定のバンク開口部内に配置されたアノード電極の面積がノズルヘッドの走査方向（図２（ａ）〜（ｆ）に示す塗布方向Ｂの矢印の方向）に対して、漸次小さくなることを特徴とする。ここで「面積が小さくなる」とは、
[１]アノード電極１０３の走査方向下流の端部を走査方向上流の端部よりも短軸方向に縮める（図２（ａ），（ｂ）参照）。この場合、所定の各バンク開口部内に配置されたアノード電極１０３’，１０３”を、アノード電極の長軸Ｙの中点を通る短軸Ｘに関して対称とする。
[２]アノード電極１０３を長軸Ｙ方向に縮ませることを含む（図２（ｃ），（ｄ）参照）。この場合、所定の各バンク開口部内に配置されたアノード電極１０３’，１０３”を、アノード電極の長軸Ｙの中点を通る短軸Ｘ、長軸Ｙに関して対称とする。
［３］アノード電極１０３の長軸Ｙ方向および短軸Ｘ方向に縮ませることを含む（図２（ｅ），（ｆ）参照）。この場合、所定の各バンク開口部内に配置されたアノード電極１０３’，１０３”を、アノード電極の長軸Ｙの中点を通る短軸Ｘ、長軸Ｙに関して対称とする。 In the manufacturing method of the first embodiment, the area of the anode electrode arranged in the predetermined bank opening is in the scanning direction of the nozzle head (the direction of the arrow in the coating direction B shown in FIGS. 2A to 2F). On the other hand, it is characterized by becoming gradually smaller. Here, "the area is small"
[1] The downstream end of the anode electrode 103 in the scanning direction is contracted in the minor axis direction than the upstream end of the scanning direction (see FIGS. 2A and 2B). In this case, the anode electrodes 103 ′ and 103 ″ arranged in each predetermined bank opening are symmetric with respect to the minor axis X passing through the midpoint of the major axis Y of the anode electrode.
[2] This includes contracting the anode electrode 103 in the major axis Y direction (see FIGS. 2C and 2D). In this case, the anode electrodes 103 ′ and 103 ″ disposed in each predetermined bank opening are symmetrical with respect to the minor axis X and the major axis Y passing through the midpoint of the major axis Y of the anode electrode.
[3] This includes contraction of the anode electrode 103 in the major axis Y direction and the minor axis X direction (see FIGS. 2E and 2F). In this case, the anode electrodes 103 ′ and 103 ″ disposed in each predetermined bank opening are symmetrical with respect to the minor axis X and the major axis Y passing through the midpoint of the major axis Y of the anode electrode.

このようにアノード電極１０３の面積を、ディスプレイパネルの短辺側の左端から右端までの間で漸次小さくする若しくは大きくするが、アノード電極１０３の面積比で１割に収まることが好ましい。なお、図２（ａ）〜（ｆ）では形状（面積）を変えることを分かり易くするために強調して描いている。   As described above, the area of the anode electrode 103 is gradually decreased or increased from the left end to the right end on the short side of the display panel, but it is preferable that the area ratio of the anode electrode 103 be within 10%. 2A to 2F are drawn with emphasis for easy understanding of changing the shape (area).

本第１実施例の製造方法では、このように走査方向下流に対してアノード電極の面積が漸次小さくなるように形状を変えたアノード電極１０３’，１０３”が、バンク開口部１０９内に順次配置されることを特徴とする。   In the manufacturing method of the first embodiment, the anode electrodes 103 ′ and 103 ″ whose shape is changed so that the area of the anode electrode gradually decreases with respect to the downstream in the scanning direction are sequentially arranged in the bank opening 109. It is characterized by being.

アノード電極１０３の走査方向下流の面積を小さくするには、アノード電極１０３自体をパターニングして図２（ａ）〜（ｆ）に示すアノード電極１０３’やアノード電極１０３”のようにしてもよいし、アノード電極１０３自体は任意の形状にパターニングし、バンク１０５によって、バンク開口部１０９に露出するアノード電極１０３の面積を図２（ａ）〜（ｆ）に示すアノード電極１０３’やアノード電極１０３”のように小さくなるようパターニングしてもよい。   In order to reduce the area downstream of the anode electrode 103 in the scanning direction, the anode electrode 103 itself may be patterned to form the anode electrode 103 ′ and the anode electrode 103 ″ shown in FIGS. The anode electrode 103 itself is patterned into an arbitrary shape, and the area of the anode electrode 103 exposed to the bank opening 109 by the bank 105 is set to the anode electrode 103 ′ and the anode electrode 103 ″ shown in FIGS. Patterning may be performed so as to be smaller.

４）第４ステップは、正孔注入層の材料液を吐出するノズル孔２０１を複数有するノズルヘッド１３０と、これを複数揃えた集積ヘッド２００を用意するステップａ（図３（ａ）参照）、走査領域１１３が有する各バンク開口部１０９内に配置されたアノード電極１０３に、正孔注入層の材料液を塗布するステップｂ（図３（ｂ）参照）を含む。   4) The fourth step is a step a (see FIG. 3A) in which a nozzle head 130 having a plurality of nozzle holes 201 for discharging the material liquid of the hole injection layer and an integrated head 200 in which a plurality of nozzle holes 201 are arranged are prepared. This includes a step b (see FIG. 3B) in which a material liquid for the hole injection layer is applied to the anode electrode 103 disposed in each bank opening 109 of the scanning region 113.

アノード電極１０３は走査方向に対して面積が漸次小さくなるように形成されており、例えば図中の面積は１０３＞１０３’＞１０３”となっている（ただし、図３（ａ）の中では違いが分かるように図示していない。また、１０３”以降もアノード電極の面積が漸次小さくなったアノード電極が配置されている）。   The anode electrode 103 is formed so that the area gradually becomes smaller with respect to the scanning direction. For example, the area in the drawing is 103> 103 ′> 103 ″ (however, the difference is in FIG. 3A). It is not shown in the figure so that the area of the anode electrode gradually decreases after 103 ″.

正孔注入層の材料液は、溶媒としての水および正孔注入材料を含む。正孔注入材料の例には、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）をドープしたポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳと称される）や、その誘導体（共重合体など）が含まれる。図３（ｂ）に示されるように本発明で正孔注入層１１１は、各副画素のバンク開口部１０９ごとに形成される。   The material liquid for the hole injection layer contains water as a solvent and a hole injection material. Examples of the hole injection material include poly (3,4-ethylenedioxythiophene) doped with polystyrene sulfonic acid (PSS) (referred to as PEDOT-PSS) and derivatives thereof (such as copolymers). It is. As shown in FIG. 3B, in the present invention, the hole injection layer 111 is formed for each bank opening 109 of each subpixel.

図４（ａ）〜（ｃ）は、図３（ａ）のバンク開口部１０９内のアノード電極１０３，１０３’，１０３”に正孔注入層の材料液が塗布される様子を示す。以下、図４（ａ）〜（ｃ）を用いて、アノード電極１０３に正孔注入層の材料液を塗布する方法について説明する。   4A to 4C show a state in which the hole injection layer material liquid is applied to the anode electrodes 103, 103 ′, and 103 ″ in the bank opening 109 of FIG. 3A. A method of applying the material liquid for the hole injection layer to the anode electrode 103 will be described with reference to FIGS.

まず、走査領域１１３を集積ヘッド２００で走査すると、ノズル孔２０１が吐出する正孔注入層の材料液１０４，１０４’，１０４”の液滴が、アノード電極１０３の長軸に沿ってバンク開口部１０９，１０９’，１０９”内に複数滴下される（図４（ａ）参照）。図４（ａ）の塗布方向Ｂの矢印で示す集積ヘッド２００の走査方向はアノード電極１０３の短軸と平行であることが好ましい。滴下された正孔注入層の材料液１０４，１０４’，１０４”の液滴は、バンク開口部１０９，１０９’，１０９”内のアノード電極１０３，１０３’，１０３”上に広がり、正孔注入層の材料液１０４，１０４’，１０４”が塗布される（図４（ｂ）参照）。その後、正孔注入層の材料液１０４を乾燥させることでアノード電極上に正孔注入層１１１，１１１’，１１１”が形成される（図４（ｃ）参照）。   First, when the scanning region 113 is scanned with the integrated head 200, the droplets of the material liquids 104, 104 ′, 104 ″ of the hole injection layer discharged from the nozzle holes 201 are formed in the bank openings along the long axis of the anode electrode 103. A plurality of droplets are dropped into 109, 109 ′, 109 ″ (see FIG. 4A). The scanning direction of the integrated head 200 indicated by the arrow in the coating direction B in FIG. 4A is preferably parallel to the minor axis of the anode electrode 103. The dropped liquid droplets 104, 104 ′, 104 ″ of the hole injection layer are spread on the anode electrodes 103, 103 ′, 103 ″ in the bank openings 109, 109 ′, 109 ″, and hole injection is performed. Layer material liquids 104, 104 ′, 104 ″ are applied (see FIG. 4B). Thereafter, the hole injection layer 111, 111 ′, 111 ″ is formed on the anode electrode by drying the material liquid 104 of the hole injection layer (see FIG. 4C).

また、アノード電極の面積を漸次小さくした図２（ａ）〜（ｆ）を用いた場合も同様にアノード電極１０３，１０３’，１０３”上に正孔注入層１１１，１１１’，１１１”が形成される（図示せず）。   2A to 2F in which the area of the anode electrode is gradually reduced, hole injection layers 111, 111 ′, and 111 ″ are similarly formed on the anode electrodes 103, 103 ′, and 103 ″. (Not shown).

従来の有機ＥＬディスプレイパネルでは、ノズルヘッドでライン領域に対して垂直な方向から正孔注入層の材料液１０４を塗布した場合、アノード電極１０３の走査方向の下流で、正孔注入層１１１の材料液が広がらず、アノード電極１０３が露出することがあった（図１２（ｃ）参照）。しかし、本第１実施例の製造方法では、前述したように、各バンク開口部内に配置されたアノード電極の走査方向下流の面積は、走査方向上流の端部よりも小さくなっている。そのため、アノード電極の走査方向下流の端部において、滴下された正孔注入層の材料液の１滴あたりのアノード電極の領域が小さくなる。したがって、正孔注入層の材料液をアノード電極の短軸に沿って複数滴下した場合であっても、アノード電極が露出しにくい。これにより有機ＥＬ素子がショートすることを防ぐことができる。   In the conventional organic EL display panel, when the hole injection layer material liquid 104 is applied from the direction perpendicular to the line region with a nozzle head, the material of the hole injection layer 111 is downstream in the scanning direction of the anode electrode 103. The liquid did not spread, and the anode electrode 103 was sometimes exposed (see FIG. 12C). However, in the manufacturing method of the first embodiment, as described above, the area in the scanning direction downstream of the anode electrode arranged in each bank opening is smaller than the upstream end in the scanning direction. Therefore, the area of the anode electrode per one drop of the dropped material liquid of the hole injection layer is reduced at the downstream end of the anode electrode in the scanning direction. Therefore, even when a plurality of material liquids for the hole injection layer are dropped along the minor axis of the anode electrode, the anode electrode is hardly exposed. This can prevent the organic EL element from being short-circuited.

また、本第１実施例の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、前記ステップに加え、中間層および有機ＥＬ層を形成するステップ、有機ＥＬ層上にカソード電極を形成するステップを有していてもよい。   In addition to the above steps, the method of manufacturing the organic EL display panel of the first embodiment may include a step of forming an intermediate layer and an organic EL layer, and a step of forming a cathode electrode on the organic EL layer. Good.

中間層および有機ＥＬ層は、例えば正孔注入層上にインクジェット法などを用いて、中間層および有機ＥＬ層の材料液を塗布することで形成される。また中間層および有機ＥＬ層は図１（ｂ）のライン領域１０８ごとに形成されてもよい。   The intermediate layer and the organic EL layer are formed, for example, by applying a material liquid for the intermediate layer and the organic EL layer on the hole injection layer using an inkjet method or the like. Further, the intermediate layer and the organic EL layer may be formed for each line region 108 in FIG.

中間層は正孔注入層に電子が輸送されるのをブロックする役割や、有機ＥＬ層に正孔を効率よく運ぶ役割などを有し、例えばポリアニリン系の材料からなる層である。中間層は中間層の材料液（中間層の材料をアニソールやシクロベンゼンなどの有機溶媒に溶解したインク）をバンク開口部に塗布することで形成される。中間層の厚さは、１０〜４０ｎｍであることが好ましい。   The intermediate layer has a role of blocking the transport of electrons to the hole injection layer and a role of efficiently transporting holes to the organic EL layer, and is a layer made of, for example, a polyaniline material. The intermediate layer is formed by applying the material liquid of the intermediate layer (ink in which the material of the intermediate layer is dissolved in an organic solvent such as anisole or cyclobenzene) to the bank opening. The thickness of the intermediate layer is preferably 10 to 40 nm.

また、有機ＥＬ層の材料は高分子有機ＥＬ材料であっても低分子有機ＥＬ材料であってもよい。高分子有機ＥＬ材料を材料とする有機ＥＬ層は、容易にかつ他の材料に損傷を与えることなく形成されることができることから好ましい。   The material of the organic EL layer may be a high molecular organic EL material or a low molecular organic EL material. An organic EL layer made of a polymer organic EL material is preferable because it can be easily formed without damaging other materials.

高分子有機ＥＬ材料の例には、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリアセチレン（Poly acetylene）およびその誘導体、ポリフェニレン（Poly phenylene（ＰＰ））およびその誘導体、ポリパラフェニレンエチレン（Poly para phenylene ethylene）およびその誘導体、ポリ３−ヘキシルチオフェン（Poly 3-hexyl thiophene（Ｐ３ＨＴ））およびその誘導体、ポリフルオレン（Poly fluorene（ＰＦ））およびその誘導体などが含まれる。また、有機ＥＬ層の厚さは約５０〜１００ｎｍであることが好ましい。   Examples of polymeric organic EL materials include polyphenylene vinylene and derivatives thereof, polyacetylene and derivatives thereof, polyphenylene (PP) and derivatives thereof, poly paraphenylene ethylene and derivatives thereof Poly 3-hexyl thiophene (P3HT) and derivatives thereof, polyfluorene (PF) and derivatives thereof, and the like. The thickness of the organic EL layer is preferably about 50 to 100 nm.

カソード電極としては、例えば蒸着法やスパッタリング法を利用して形成すればよい。カソード電極の材料は、ボトムエミッション型か、トップエミッション型かによってその材料が異なる。トップエミッション型の場合には、カソード電極が透明である必要があるのでＩＴＯ電極やＩＺＯ電極などを含む材料で形成することが好ましい。また、Ｂa、Ａl、ＷＯxで構成してもよい。   The cathode electrode may be formed using, for example, a vapor deposition method or a sputtering method. The material of the cathode electrode differs depending on whether it is a bottom emission type or a top emission type. In the case of the top emission type, since the cathode electrode needs to be transparent, it is preferably formed of a material including an ITO electrode or an IZO electrode. Moreover, you may comprise with Ba, Al, and WOx.

また、ボトムエミッション型の場合にはカソード電極が透明である必要はなく、任意の材料でカソード電極を形成すればよい。ボトムエミッション型の場合、カソード電極の材料の例は、ＢaやＢaＯ、Ａlなどを含む。   In the case of the bottom emission type, the cathode electrode does not need to be transparent, and the cathode electrode may be formed of an arbitrary material. In the case of the bottom emission type, examples of the material of the cathode electrode include Ba, BaO, and Al.

カソード電極を形成した面に、さらにカバー材（封止材）を設けて本発明の有機ＥＬディスプレイパネルを封止してもよい。カバー材により水分や酸素の浸入が抑制される。   A cover material (sealing material) may be further provided on the surface on which the cathode electrode is formed to seal the organic EL display panel of the present invention. Intrusion of moisture and oxygen is suppressed by the cover material.

前記した第１実施例の製造方法は、絶縁性の無機膜（以下「無機絶縁膜」という）を形成するステップをさらに有していてもよい。無機絶縁膜は電気絶縁性であることはもちろんであるが、濡れ性が高いことも好ましい。無機絶縁膜の材料の例には、シリコンオキサイド（ＳiＯ２）やシリコンナイトライド（Ｓi３Ｎ４）、シリコンオキシナイトライド（ＳiＯＮ）などが含まれる。無機絶縁膜の厚さは１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましい。 The manufacturing method of the first embodiment described above may further include a step of forming an insulating inorganic film (hereinafter referred to as “inorganic insulating film”). The inorganic insulating film is of course electrically insulating, but it is also preferable that the wettability is high. Examples of the material of the inorganic insulating film include silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), silicon oxynitride (SiON), and the like. The thickness of the inorganic insulating film is preferably 10 nm to 200 nm.

無機絶縁膜は図５に示すようにバンク開口部１０９からバンク１０５まではみ出していることが好ましい。より好ましくは、無機絶縁膜１１０はバンク開口部１０９からバンク１０５まで５〜１０μｍはみ出している。また、無機絶縁膜１１０はアノード電極１０３の縁を覆うように配置されてもよい。無機絶縁膜１１０により正孔注入層の材料液はバンク開口部全体に均一に塗布され、膜厚が均一な機能層を得ることができる。   The inorganic insulating film preferably protrudes from the bank opening 109 to the bank 105 as shown in FIG. More preferably, the inorganic insulating film 110 protrudes from the bank opening 109 to the bank 105 by 5 to 10 μm. The inorganic insulating film 110 may be disposed so as to cover the edge of the anode electrode 103. The material liquid of the hole injection layer is uniformly applied to the entire bank opening by the inorganic insulating film 110, and a functional layer having a uniform film thickness can be obtained.

Ｂ）本実施形態１における有機ＥＬディスプレイパネル製造方法の第２実施例は、基板を準備する第１ステップ、基板上にアノード電極を形成する第２ステップ、バンク開口部を規定するバンクを形成する第３ステップ、および正孔注入層の材料液を吐出するノズルを複数有するノズルヘッドで基板を走査領域ごとに走査する第４ステップを有する。また、第２ステップと第３ステップとの間に絶縁性の無機膜を形成するステップを有していてもよい。   B) In the second example of the organic EL display panel manufacturing method according to the first embodiment, a first step of preparing a substrate, a second step of forming an anode electrode on the substrate, and a bank for defining a bank opening are formed. A third step and a fourth step of scanning the substrate for each scanning region with a nozzle head having a plurality of nozzles that discharge the material liquid of the hole injection layer. In addition, an insulating inorganic film may be formed between the second step and the third step.

１）第１ステップで準備される基板１０１は、前述の第１実施例で準備する基板と同じである。   1) The substrate 101 prepared in the first step is the same as the substrate prepared in the first embodiment described above.

２）第２ステップで形成されるアノード電極の製造方法およびアノード電極の材料はともに、前述の第１実施例で形成されるアノード電極１０３と同じである（図１（ａ）参照）。   2) Both the manufacturing method of the anode electrode formed in the second step and the material of the anode electrode are the same as those of the anode electrode 103 formed in the first embodiment (see FIG. 1A).

３）第３ステップでは、副画素ごとのバンク開口部１０９を規定するバンク１０５を形成する。バンクの形成方法、バンクの材料などは、前述の第１実施例と同様である（図１（ｂ）参照）。そして、第１実施例と同様に、バンク開口部１０９内のアノード電極１０３は長軸および短軸を有する。すなわちアノード電極１０３は１方向に長い形状を有し、楕円形であってもよい。アノード電極１０３の長軸はライン領域１０８のラインと平行であることが好ましい。バンク開口部１０９内に配置したアノード電極１０３の長軸の長さは２０５〜４６０μｍであり、アノード電極１０３の短軸は５５〜１４０μｍであることが好ましい。   3) In the third step, a bank 105 that defines a bank opening 109 for each sub-pixel is formed. The bank formation method, bank material, and the like are the same as those in the first embodiment (see FIG. 1B). As in the first embodiment, the anode electrode 103 in the bank opening 109 has a major axis and a minor axis. That is, the anode electrode 103 has a shape that is long in one direction and may be elliptical. The major axis of the anode electrode 103 is preferably parallel to the line in the line region 108. The length of the major axis of the anode electrode 103 disposed in the bank opening 109 is preferably 205 to 460 μm, and the minor axis of the anode electrode 103 is preferably 55 to 140 μm.

本第２実施例の製造方法では、所定のバンク開口部がアノード電極よりも走査方向下流に位置する程長く形成されている。したがって、所定のバンク開口部は、アノード電極の走査方向下流の端とバンク開口部の走査方向下流の端との間に空隙を有する。ここで、「空隙」とはアノード電極とバンク開口部との間に形成された領域であって、アノード電極の下地層が露出した領域を意味する。   In the manufacturing method of the second embodiment, the predetermined bank opening is formed longer as it is located downstream of the anode electrode in the scanning direction. Therefore, the predetermined bank opening has a gap between the end of the anode electrode in the scanning direction downstream and the end of the bank opening in the scanning direction downstream. Here, the “gap” means a region formed between the anode electrode and the bank opening, and a region where the base layer of the anode electrode is exposed.

図６（ａ）にこの空隙を示す。バンク１０５のバンク開口部１０９’，１０９”はアノード電極１０３’，１０３”との間に空隙１１２’，１１２”を有する。アノード電極１０３’の走査方向下流の端とバンク開口部１０９’の走査方向下流の端との間隔ｄ（図６（ａ）参照）は１０〜２０μｍであることが好ましい。また、アノード電極１０３’，１０３”の短軸方向の両端とバンク開口部１０９’，１０９”の短軸方向の両端との間に空隙１１２’，１１２”が形成されていてもよい（図６（ｂ）参照）。   FIG. 6A shows this gap. The bank openings 109 ′ and 109 ″ of the bank 105 have gaps 112 ′ and 112 ″ between the anode electrodes 103 ′ and 103 ″. The end of the anode electrode 103 ′ in the scanning direction and the bank opening 109 ′ are scanned. The distance d from the downstream end in the direction (see FIG. 6A) is preferably 10 to 20 μm. Further, both ends in the short axis direction of the anode electrodes 103 ′ and 103 ″ and the bank openings 109 ′ and 109 ″. Gaps 112 ′ and 112 ″ may be formed between both ends in the minor axis direction (see FIG. 6B).

このようにアノード電極１０３’とバンク開口部１０９’との間に空隙１１２’を設け、ディスプレイパネルの短辺側の左端から右端までの間でその空隙１１２’を漸次小さくする若しくは大きくする。その空隙１１２’の面積はアノード電極１０３の面積比で１割に収まることが好ましい。なお、図２（ａ）〜（ｆ）、図４（ａ）〜（ｃ）、図６（ａ），（ｂ）ではアノード電極、バンク開口部の形状（面積）を変えることが分かるために強調して描いている。   In this way, the gap 112 ′ is provided between the anode electrode 103 ′ and the bank opening 109 ′, and the gap 112 ′ is gradually reduced or enlarged from the left end to the right end on the short side of the display panel. The area of the gap 112 ′ is preferably within 10% of the area ratio of the anode electrode 103. 2A to 2F, FIGS. 4A to 4C, and FIGS. 6A and 6B, the shape (area) of the anode electrode and the bank opening is changed. I draw with emphasis.

４）第４ステップは、正孔注入層の材料液を吐出するノズル孔２０１を複数有するノズルヘッド１３０と、これを複数揃えた集積ヘッド２００を用意するステップａ（図３（ａ）参照）、走査領域１１３が有する各バンク開口部１０９内に配置されたアノード電極１０３に、正孔注入層の材料液を塗布するステップ（図３（ｂ）参照）を含む。正孔注入層の材料液は、第１実施例で説明した正孔注入層の材料液と同じである。図３（ｂ）に示されるように、本発明で正孔注入層１１１は、各副画素のバンク開口部１０９ごとに形成される。   4) The fourth step is a step a (see FIG. 3A) in which a nozzle head 130 having a plurality of nozzle holes 201 for discharging the material liquid of the hole injection layer and an integrated head 200 in which a plurality of nozzle holes 201 are arranged are prepared. A step of applying a material liquid for the hole injection layer to the anode electrode 103 disposed in each bank opening 109 included in the scanning region 113 (see FIG. 3B) is included. The material liquid for the hole injection layer is the same as the material liquid for the hole injection layer described in the first embodiment. As shown in FIG. 3B, in the present invention, the hole injection layer 111 is formed for each bank opening 109 of each subpixel.

図７（ａ）〜（ｄ）は、図３（ａ）のバンク開口部１０９内のアノード電極１０３，１０３’，１０３”に正孔注入層の材料液が塗布される様子を示す。以下図７（ａ）〜（ｄ）を用いて、アノード電極１０３に正孔注入層の材料液を塗布する方法について説明する。   7A to 7D show a state in which the hole injection layer material liquid is applied to the anode electrodes 103, 103 ′, 103 ″ in the bank opening 109 of FIG. 3A. A method of applying the material liquid of the hole injection layer to the anode electrode 103 will be described using 7 (a) to 7 (d).

まず、走査領域１１３を集積ヘッド２００で走査すると、ノズル孔２０１が吐出する正孔注入層の材料液１０４の液滴が、アノード電極１０３の長軸に沿ってバンク開口部１０９内に複数滴下される（図７（ａ）参照）。図７（ａ）の塗布方向Ｂの矢印で示す集積ヘッド２００の走査方向はアノード電極１０３の短軸と平行であることが好ましい。滴下された正孔注入層の材料液１０４，１０４’，１０４”の液滴は、バンク開口部１０９，１０９’，１０９”内のアノード電極１０３，１０３’，１０３”上に広がる（図７（ｂ）参照）。さらに、アノード電極１０３’，１０３”上から空隙１１２’，１１２”へ正孔注入層の材料液が広がり、正孔注入層の材料液１０４’，１０４”が塗布される（図７（ｃ）参照）。その後、正孔注入層の材料液を乾燥させることでアノード電極１０３，１０３’，１０３”上に正孔注入層１１１，１１１’，１１１”が形成される（図７（ｄ）参照）。   First, when the scanning region 113 is scanned with the integrated head 200, a plurality of droplets of the material liquid 104 of the hole injection layer discharged from the nozzle holes 201 are dropped into the bank opening 109 along the long axis of the anode electrode 103. (See FIG. 7A). The scanning direction of the integrated head 200 indicated by the arrow in the coating direction B in FIG. 7A is preferably parallel to the short axis of the anode electrode 103. The dropped liquid droplets 104, 104 ′, 104 ″ of the hole injection layer are spread on the anode electrodes 103, 103 ′, 103 ″ in the bank openings 109, 109 ′, 109 ″ (FIG. 7 ( b))) Further, the material liquid of the hole injection layer spreads from above the anode electrodes 103 ′ and 103 ″ to the gaps 112 ′ and 112 ″, and the material liquid 104 ′ and 104 ″ of the hole injection layer is applied (see FIG. (Refer FIG.7 (c)). Thereafter, the hole injection layer 111, 111 ′, 111 ″ is formed on the anode electrodes 103, 103 ′, 103 ″ by drying the material liquid for the hole injection layer (see FIG. 7D).

正孔注入層の材料液は空隙１１２’，１１２”にも滴下されることが好ましい。したがって、本第２実施例の製造方法では、バンク開口部１０９’，１０９”に滴下される正孔注入層の材料液の量は、バンク開口部１０９に滴下される正孔注入層の材料液の量よりも多くてもよい。また、アノード電極１０３’，１０３”の短軸方向の両端とバンク開口部１０９’，１０９”の短軸方向の両端との間に空隙１１２’，１１２”が形成されている図６（ｂ）も同様に、アノード電極１０３上に正孔注入層１１１が形成される（図示せず）。   The material liquid of the hole injection layer is preferably dropped also into the gaps 112 ′ and 112 ″. Therefore, in the manufacturing method of the second embodiment, hole injection dropped into the bank openings 109 ′ and 109 ″. The amount of the material liquid for the layer may be larger than the amount of the material liquid for the hole injection layer dropped into the bank opening 109. Further, gaps 112 ′ and 112 ″ are formed between both ends in the short axis direction of the anode electrodes 103 ′ and 103 ″ and both ends in the short axis direction of the bank openings 109 ′ and 109 ″ in FIG. 6B. Similarly, the hole injection layer 111 is formed on the anode electrode 103 (not shown).

このように、本第２実施例の製造方法では、バンク開口部内のアノード電極の走査方向下流の端とバンク開口部の走査方向下流の端との間に空隙１１２’，１１２”を設け、空隙１１２’，１１２”まで正孔注入層１１１’，１１１”の材料液を塗布することで、アノード電極が露出することが防止され（図７（ｄ）参照）、有機ＥＬ素子がショートすることを防ぐことができる。   As described above, in the manufacturing method of the second embodiment, the air gaps 112 ′ and 112 ″ are provided between the end in the scanning direction of the anode electrode in the bank opening and the end in the scanning direction of the bank opening in the scanning direction. By applying the material liquid of the hole injection layers 111 ′ and 111 ″ to 112 ′ and 112 ″, the anode electrode is prevented from being exposed (see FIG. 7D), and the organic EL element is short-circuited. Can be prevented.

図７（ｃ）に示すように本第２実施例の製造方法では、空隙１１２’，１１２”の一部に正孔注入層の材料液を塗布することができず、空隙１１２’，１１２”が露出することがあるが、空隙１１２’，１１２”にはアノード電極が配置されていないことから、空隙１１２’，１１２”が露出しても有機ＥＬ素子がショートする恐れはない。   As shown in FIG. 7C, in the manufacturing method of the second embodiment, the material liquid for the hole injection layer cannot be applied to a part of the gaps 112 ′ and 112 ″, and the gaps 112 ′ and 112 ″. However, since the anode electrode is not disposed in the gaps 112 ′ and 112 ″, there is no possibility that the organic EL element is short-circuited even if the gaps 112 ′ and 112 ″ are exposed.

また、本第２実施例の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、前記ステップに加え、中間層および有機ＥＬ層を形成するステップ、有機ＥＬ層上にカソード電極を形成するステップを有していてもよい。各部材の構成および作製方法は、前述した第１実施例と同じである。   In addition to the steps described above, the method of manufacturing the organic EL display panel according to the second embodiment may include a step of forming an intermediate layer and an organic EL layer, and a step of forming a cathode electrode on the organic EL layer. Good. The configuration and manufacturing method of each member is the same as in the first embodiment described above.

前述した第１実施例と同様に、第２実施例における製造方法でも、絶縁性の無機膜（無機絶縁膜）を形成するステップをさらに有していてもよい。また無機絶縁膜の厚さおよび材料は第１実施例と同じであってよい。   Similar to the first embodiment described above, the manufacturing method in the second embodiment may further include a step of forming an insulating inorganic film (inorganic insulating film). The thickness and material of the inorganic insulating film may be the same as those in the first embodiment.

第１実施例と同様に、図８に示す無機絶縁膜１１０は、バンク開口部１０９からバンク１０５まではみ出していることが好ましい。より好ましくは、無機絶縁膜１１０はバンク開口部１０９からバンク１０５まで５〜１０μｍはみ出している。無機絶縁膜１１０により正孔注入層の材料液はバンク開口部全体に均一に塗布され、膜厚が均一な機能層を得ることができる。   Similar to the first embodiment, the inorganic insulating film 110 shown in FIG. 8 preferably protrudes from the bank opening 109 to the bank 105. More preferably, the inorganic insulating film 110 protrudes from the bank opening 109 to the bank 105 by 5 to 10 μm. The material liquid of the hole injection layer is uniformly applied to the entire bank opening by the inorganic insulating film 110, and a functional layer having a uniform film thickness can be obtained.

また、前述のように、本実施形態１の製造方法である第１実施例および第２実施例では、バンク表面はフッ素系ガスプラズマによってフッ素化されることがある。この場合、走査領域の走査によりフッ素成分によって汚染される恐れがある。フッ素は濡れ性を下げる作用を有することから、フッ素成分によって汚染されたアノード電極は濡れ性が低下し、アノード電極上に正孔注入層の材料液が塗布されにくくなる恐れがある。   Further, as described above, in the first and second examples which are the manufacturing method of the first embodiment, the bank surface may be fluorinated by fluorine-based gas plasma. In this case, there is a risk of contamination with fluorine components due to scanning of the scanning region. Since fluorine has a function of reducing wettability, the wettability of the anode electrode contaminated with the fluorine component is lowered, and it may be difficult to apply the material liquid for the hole injection layer on the anode electrode.

しかし、本実施形態１の製造方法の第１実施例および第２実施例のように、各バンク開口部内のアノード電極を走査方向下流に小さく絞り込んだり、各バンク開口部内のアノード電極の走査方向下流の端とバンク開口部の走査方向下流の端との間に空隙を設け、空隙まで正孔注入層の材料液を塗布したりすることで、例えフッ素成分によって汚染されたとしても、アノード電極全体に正孔注入層の材料液が塗布され、アノード電極が露出することが防止される。   However, as in the first and second examples of the manufacturing method of Embodiment 1, the anode electrode in each bank opening is narrowed down to the downstream in the scanning direction, or the anode electrode in each bank opening is downstream in the scanning direction. Even if it is contaminated by fluorine components, a gap is provided between the end of the bank and the downstream end in the scanning direction of the bank opening, and the material liquid of the hole injection layer is applied to the gap. The material liquid for the hole injection layer is applied to the anode electrode to prevent the anode electrode from being exposed.

したがって、本実施形態１は、バンク表面をフッ素系ガスプラズマによってフッ素化するような場合、特に有効である。   Therefore, the first embodiment is particularly effective when the bank surface is fluorinated by fluorine-based gas plasma.

次に、本発明の実施形態２における有機ＥＬディスプレイパネルは、基板、アノード電極、カソード電極、並びに両電極に挟まれた正孔注入層および有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ素子からなる。本実施形態２の有機ＥＬディスプレイパネルでは、このような有機ＥＬ素子が基板上にマトリクス状に配置され、副画素として機能する。   Next, the organic EL display panel according to Embodiment 2 of the present invention includes a substrate, an anode electrode, a cathode electrode, and an organic EL element having a hole injection layer and an organic EL layer sandwiched between both electrodes. In the organic EL display panel according to Embodiment 2, such organic EL elements are arranged in a matrix on the substrate and function as subpixels.

基板には、アノード電極が形成されている。有機ＥＬディスプレイパネルがパッシブマトリクス型である場合、アノード電極はライン状に、複数本形成される。ライン状のアノード電極は、互いに平行であることが好ましい。有機ＥＬディスプレイパネルがアクティブマトリクス型である場合、アノード電極は基板上に有機ＥＬ素子ごと独立して配置される。   An anode electrode is formed on the substrate. When the organic EL display panel is a passive matrix type, a plurality of anode electrodes are formed in a line shape. The line-like anode electrodes are preferably parallel to each other. When the organic EL display panel is an active matrix type, the anode electrode is independently arranged on the substrate for each organic EL element.

また、正孔注入層はバンクによって規定されたバンク開口部ごとに独立してアノード電極上に配置される。さらに有機ＥＬ層は正孔注入層上に配置され、正孔注入層と有機ＥＬ層との間には中間層が配置されていてもよい。   The hole injection layer is disposed on the anode electrode independently for each bank opening defined by the bank. Furthermore, the organic EL layer may be disposed on the hole injection layer, and an intermediate layer may be disposed between the hole injection layer and the organic EL layer.

本実施形態２の有機ＥＬディスプレイパネルは、有機ＥＬ層上にカソード電極を有する。またカソード電極と有機ＥＬ層との間には電子注入層が配置されていてもよい。   The organic EL display panel of Embodiment 2 has a cathode electrode on the organic EL layer. An electron injection layer may be disposed between the cathode electrode and the organic EL layer.

さらに、カソード電極を形成した面にカバー材（封止材）を設けて有機ＥＬディスプレイパネルを封止してもよい。カバー材により水分や酸素の浸入が抑制される。   Further, a cover material (sealing material) may be provided on the surface on which the cathode electrode is formed to seal the organic EL display panel. Intrusion of moisture and oxygen is suppressed by the cover material.

本実施形態２における有機ＥＬディスプレイパネルの構造は、前述した実施形態１の第１実施例によって製造されるか、第２実施例によって製造されるかによって異なる。以下、本実施形態２における有機ＥＬディスプレイパネルの構造について、第１実施例の製造方法によって製造された場合と、第２実施例の製造方法によって製造された場合とに分けて説明する。   The structure of the organic EL display panel according to the second embodiment differs depending on whether it is manufactured according to the first example of the first embodiment or the second example. Hereinafter, the structure of the organic EL display panel according to Embodiment 2 will be described separately for the case of being manufactured by the manufacturing method of the first example and the case of being manufactured by the manufacturing method of the second example.

（ａ）第１実施例の製造方法によって製造された場合
図３（ｂ），図４（ｃ）は、第１実施例の製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイパネルからカソード電極や有機ＥＬ層を除去して正孔注入層を露出させた状態の平面図である。図４（ｃ）に示されるように、正孔注入層１１１’，１１１”の面積は（走査方向下流につれて）漸次小さくなっている。 (A) When manufactured by the manufacturing method of the first embodiment FIGS. 3B and 4C show the cathode electrode and the organic EL layer from the organic EL display panel manufactured by the manufacturing method of the first embodiment. FIG. 3 is a plan view showing a state in which the hole injection layer is exposed by removing the hole. As shown in FIG. 4 (c), the areas of the hole injection layers 111 ′ and 111 ″ are gradually reduced (as they go downstream in the scanning direction).

また、図２（ａ），図３（ａ）は、有機ＥＬディスプレイパネルから正孔注入層１１１を除去した有機ＥＬディスプレイパネルの平面図である。図２（ａ）に示されるように、アノード電極１０３，１０３’，１０３”の面積は（走査方向下流につれて）漸次小さくなっている。   2A and 3A are plan views of the organic EL display panel in which the hole injection layer 111 is removed from the organic EL display panel. As shown in FIG. 2A, the areas of the anode electrodes 103, 103 ', and 103' 'are gradually decreased (as the downstream in the scanning direction).

このため、各バンク開口部１０９内に配置されたアノード電極１０３の走査方向下流の面積は、走査方向上流の端部よりも小さいため、走査方向下流の端部において、滴下された正孔注入層の材料液の１滴あたりのアノード電極１０３の領域が小さくなり、アノード電極１０３を露出しにくくでき、有機ＥＬ素子がショートすることを防ぐことができる。   For this reason, since the area downstream of the scanning direction of the anode electrode 103 disposed in each bank opening 109 is smaller than the upstream end of the scanning direction, the dropped hole injection layer is dropped at the downstream end of the scanning direction. The area of the anode electrode 103 per droplet of the material liquid becomes smaller, the anode electrode 103 can be hardly exposed, and the organic EL element can be prevented from being short-circuited.

（ｂ）第２実施例の製造方法によって製造された場合
図３（ｂ），図７（ｄ）は、第２実施例の製造方法によって製造された有機ＥＬディスプレイパネルからカソード電極や有機ＥＬ層を除去して正孔注入層を露出させた状態の平面図である。図７（ｄ）に示されるように、正孔注入層１１１，１１１’，１１１”の面積は（走査方向下流につれて）漸次大きくなっている。 (B) When manufactured by the manufacturing method of the second embodiment FIGS. 3B and 7D show the cathode electrode and the organic EL layer from the organic EL display panel manufactured by the manufacturing method of the second embodiment. FIG. 3 is a plan view showing a state in which the hole injection layer is exposed by removing the hole. As shown in FIG. 7D, the areas of the hole injection layers 111, 111 ′, and 111 ″ are gradually increased (as the downstream in the scanning direction).

また、図３（ａ），図６（ａ）に示された有機ＥＬディスプレイパネルから正孔注入層１１１を除去した有機ＥＬディスプレイパネルの平面図である。図６（ａ）に示されるようにアノード電極１０３’，１０３”とバンク開口部１０９’，１０９”との間に空隙１１２’，１１２”を有しており、その面積は（走査方向下流につれて）漸次大きくなっている。   7 is a plan view of the organic EL display panel in which the hole injection layer 111 is removed from the organic EL display panel shown in FIGS. 3 (a) and 6 (a). FIG. As shown in FIG. 6A, gaps 112 ′ and 112 ″ are provided between the anode electrodes 103 ′ and 103 ″ and the bank openings 109 ′ and 109 ″, and the area thereof is (as the downstream in the scanning direction). ) It is getting bigger gradually.

この空隙１１２’，１１２”にはアノード電極１０３の下地層が露出していることから、正孔注入層１１１’，１１１”はアノード電極１０３の下地層と接することとなり、例え空隙１１２’，１１２”の一部に正孔注入層の材料液を塗布できず、空隙１１２’，１１２”が露出することがあっても、空隙１１２’，１１２”にはアノード電極１０３が配置されていないことから、空隙１１２’，１１２”が露出しても有機ＥＬ素子がショートする恐れはない。   Since the underlying layer of the anode electrode 103 is exposed in the gaps 112 ′ and 112 ″, the hole injection layers 111 ′ and 111 ″ are in contact with the underlying layer of the anode electrode 103. The material liquid for the hole injection layer cannot be applied to a part of “and the gaps 112 ′ and 112 ″ may be exposed, but the anode electrode 103 is not disposed in the gaps 112 ′ and 112 ″. Even if the air gaps 112 ′ and 112 ″ are exposed, there is no possibility that the organic EL element is short-circuited.

本発明の有機ＥＬディスプレイパネルおよびその製造方法は、高品質で低コストのディスプレイパネルが得られ、携帯電話機，テレビ，パーソナルコンピュータなどのあらゆる表示装置に利用できる。   The organic EL display panel and the manufacturing method thereof of the present invention can provide a high-quality and low-cost display panel, and can be used for any display device such as a mobile phone, a television, and a personal computer.

１０，１０１ 基板
１８，１０５ バンク
１８ａ 開口部
１０３，１０３’，１０３” アノード電極
１０４，１０４’，１０４” 材料液
１０６ ライン状バンク
１０７ ライン状バンクと直交するバンク
１０８ ライン領域
１０９，１０９’，１０９” バンク開口部
１１０ 無機絶縁膜
１１１，１１１’，１１１” 正孔注入層
１１２’，１１２” 空隙
１１３ 走査領域
１３０ ノズルヘッド
１４０ 第１領域
１４１ 第２領域
２００ 集積ヘッド
２０１ ノズル孔 10, 101 Substrate 18, 105 Bank 18a Openings 103, 103 ', 103 "Anode electrodes 104, 104', 104" Material liquid 106 Line bank 107 Bank 108 orthogonal to the line bank 108 Line regions 109, 109 ', 109 "Bank opening 110 Inorganic insulating film 111, 111 ', 111" Hole injection layer 112', 112 "Air gap 113 Scan region 130 Nozzle head 140 First region 141 Second region 200 Integrated head 201 Nozzle hole

Claims (4)

互いに平行である２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域、前記開口部を規定するバンク、および前記ライン領域のライン方向と垂直な短軸を持つ前記開口部内に配置されたアノード電極を有する基板を準備するステップと、
ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液を吐出する２以上の吐出ノズルを有するノズルヘッドを用いて、前記アノード電極の短軸方向に走査して、前記水溶液の液滴を複数滴下して、前記アノード電極上に前記水溶液を塗布するステップと、を有する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法であって、
前記走査方向下流につれて前記アノード電極の面積が漸次小さくなることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。 Two or more openings that are parallel to each other are arranged in a plurality of line regions arranged in a line, a bank that defines the opening, and the opening having a minor axis perpendicular to the line direction of the line region. Providing a substrate having an anode electrode;
Using a nozzle head having two or more discharge nozzles for discharging an aqueous solution containing polyethylenedioxythiophene, a plurality of droplets of the aqueous solution are dropped on the anode electrode by scanning in the short axis direction of the anode electrode. Applying the aqueous solution to the organic EL display panel,
2. The method of manufacturing an organic EL display panel, wherein the area of the anode electrode gradually decreases as it goes downstream in the scanning direction. 互いに平行である２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域、前記開口部を規定するバンク、および前記ライン領域のライン方向に垂直な短軸を持つ前記開口部内に配置されたアノード電極を有する基板を準備するステップと、
ポリエチレンジオキシチオフェンを含む水溶液を吐出する２以上の吐出ノズルを有するノズルヘッドを用いて、前記アノード電極の短軸方向に走査して、前記水溶液の液滴を複数滴下して、前記アノード電極上に前記水溶液を塗布するステップと、を有する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法であって、
前記開口部と前記アノード電極との間で前記短軸方向に空隙を有し、前記走査方向下流につれて前記空隙の面積が漸次大きくなり、かつ前記水溶液は前記空隙にも塗布されることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。 Two or more openings that are parallel to each other are arranged in a plurality of line regions arranged in a line, a bank that defines the openings, and the openings having a minor axis perpendicular to the line direction of the line regions. Providing a substrate having an anode electrode;
Using a nozzle head having two or more discharge nozzles for discharging an aqueous solution containing polyethylenedioxythiophene, a plurality of droplets of the aqueous solution are dropped on the anode electrode by scanning in the short axis direction of the anode electrode. Applying the aqueous solution to the organic EL display panel,
There is a gap in the minor axis direction between the opening and the anode electrode, the area of the gap gradually increases toward the downstream in the scanning direction, and the aqueous solution is also applied to the gap. A method for manufacturing an organic EL display panel. 互いに平行である２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域と、前記開口部を規定するバンクと、前記ライン領域のライン方向に垂直な短軸を持つ前記開口部内に配置されたアノード電極と、前記開口部ごとに独立して、かつ前記アノード電極上に配置された正孔注入層と、前記正孔注入層上に配置された有機ＥＬ層と、前記有機ＥＬ層上に設けられたカソード電極とを備えた有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、
前記ライン領域のうち、前記開口部内に配置された前記アノード電極の面積が、前記ライン領域に垂直な一方向に対して漸次小さくなることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。 A plurality of line regions in which two or more openings that are parallel to each other are arranged in a line, a bank that defines the openings, and a short axis perpendicular to the line direction of the line regions are arranged in the openings. An anode electrode, a hole injection layer disposed on the anode electrode independently for each opening, an organic EL layer disposed on the hole injection layer, and the organic EL layer In an organic EL display panel provided with a provided cathode electrode,
2. The organic EL display panel according to claim 1, wherein an area of the anode electrode disposed in the opening in the line region is gradually reduced with respect to one direction perpendicular to the line region. 互いに平行である２以上の開口部がライン状に配置された複数のライン領域と、前記開口部を規定するバンクと、前記ライン領域のライン方向に垂直な短軸を持つ前記開口部内に配置されたアノード電極と、前記開口部ごとに独立して、かつ前記アノード電極上に配置された正孔注入層と、前記正孔注入層上に配置された有機ＥＬ層と、前記有機ＥＬ層上に設けられたカソード電極とを備えた有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、
前記ライン領域のうち、前記開口部と前記アノード電極との間で前記短軸方向に空隙を有し、前記空隙が前記ライン領域に垂直な一方向に対して漸次大きくなることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。 A plurality of line regions in which two or more openings that are parallel to each other are arranged in a line, a bank that defines the openings, and a short axis perpendicular to the line direction of the line regions are arranged in the openings. An anode electrode, a hole injection layer disposed on the anode electrode independently for each opening, an organic EL layer disposed on the hole injection layer, and the organic EL layer In an organic EL display panel provided with a provided cathode electrode,
An organic material having a gap in the minor axis direction between the opening and the anode electrode in the line area, and the gap gradually increases in one direction perpendicular to the line area. EL display panel.
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