JP2010266711A - Liquid crystal display device and method for manufacturing the same - Google Patents

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JP2010266711A JP2009118339A JP2009118339A JP2010266711A JP 2010266711 A JP2010266711 A JP 2010266711A JP 2009118339 A JP2009118339 A JP 2009118339A JP 2009118339 A JP2009118339 A JP 2009118339A JP 2010266711 A JP2010266711 A JP 2010266711A
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color filter
crystal display
display device
sealing material
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Shinji Ariga
真司 有賀
Kunio Maruyama
邦雄 丸山
Katsuhiro Imai
克浩 今井
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Sony Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device manufactured by an ODF (One Drop Fill) method, in which a sealing material is irradiate with UV light for curing the sealing material, from a color filter substrate side. <P>SOLUTION: The liquid crystal display 10 is provided in which a pair of substrates 11 and 23 opposed to each other are stuck to each other by a sealing material 29 applied in a closed loop shape onto frame regions 32 on the peripheries of display regions 31 of the substrates, a liquid crystal 30 is encapsulated between the pair of substrates 11 and 23 by a liquid crystal dropping method and a light-shielding layer is formed in the frame region 32 of one substrate 23 of the pair of substrates 11 and 23. In the liquid crystal display, the light-shielding layer includes a layer 26a which is formed by layering layers having two or more colors in at least a position overlapping with the sealing material in plan view. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶滴下（One Drop Fill：以下、「ＯＤＦ」という）法を用いて製造され
る液晶表示装置及びその製造方法に関し、特に、カラーフィルター基板側から紫外光を照
射しシール材を硬化させることができる液晶表示装置及びその製造方法に関するものであ
る。 The present invention relates to a liquid crystal display device manufactured using a one drop fill (hereinafter referred to as “ODF”) method and a method for manufacturing the same, and in particular, irradiates ultraviolet light from the color filter substrate side to cure a sealing material. The present invention relates to a liquid crystal display device that can be made and a manufacturing method thereof.

液晶表示装置を製造する際には一対の基板間に液晶を封入する必要があるが、その液晶
の封入方法としては液晶注入法とＯＤＦ法とが知られている。液晶注入法は、各種配線等
が形成された一対の基板、例えばアレイ基板とカラーフィルター基板とを互いに表面が対
向するようにその外周囲をシール材で貼り合わせた後、一対の基板とシール材とに囲まれ
た領域に液晶を封入する方法である。一方、ＯＤＦ法は、各種配線等が形成されたアレイ
基板とカラーフィルター基板とを貼り合わせる前に、下側に配置された基板の外周側に沿
ってシール材を塗布した後、液晶を滴下し、その後、上側の基板を覆い被せてシール材を
硬化させる方法である。 When manufacturing a liquid crystal display device, it is necessary to enclose a liquid crystal between a pair of substrates, and a liquid crystal injection method and an ODF method are known as the encapsulating method of the liquid crystal. In the liquid crystal injection method, a pair of substrates on which various wirings are formed, for example, an array substrate and a color filter substrate are bonded to each other with a sealing material so that the surfaces face each other, and then the pair of substrates and the sealing material In this method, liquid crystal is sealed in a region surrounded by. On the other hand, in the ODF method, before the array substrate on which various wirings are formed and the color filter substrate are bonded together, a sealing material is applied along the outer peripheral side of the substrate disposed on the lower side, and then the liquid crystal is dropped. Then, the sealing material is cured by covering the upper substrate.

現在、液晶表示装置の薄型化及び大型化が進展しているが、液晶注入法を用いて液晶を
封入するとき、液晶表示装置が薄型である場合には液晶注入後の封止が難しく、大型の液
晶表示装置では液晶の注入に多大な時間を要するという問題がある。そのため、近年では
、薄型及び大型の液晶表示装置を製造する方法としてＯＤＦ法が注目されている。 Currently, liquid crystal display devices are becoming thinner and larger, but when liquid crystal is sealed using the liquid crystal injection method, if the liquid crystal display device is thin, sealing after liquid crystal injection is difficult and large. However, this liquid crystal display device has a problem that it takes a long time to inject liquid crystal. Therefore, in recent years, the ODF method has attracted attention as a method for manufacturing thin and large liquid crystal display devices.

しかし、ＯＤＦ法を用いた液晶表示装置の製造工程においては、液晶を注入する際に、
紫外線硬化型のシール材が未硬化状態で液晶と接することとなるため、シール材中の不純
物や構成成分が液晶層に多量に溶出してしまうことがある。これらのシール材中の不純物
や構成成分が液晶中に溶出すると、液晶が変質してしまうため、表示品位を低下させる原
因となる。 However, in the manufacturing process of the liquid crystal display device using the ODF method, when the liquid crystal is injected,
Since the ultraviolet curable sealing material comes into contact with the liquid crystal in an uncured state, a large amount of impurities and constituent components in the sealing material may be eluted into the liquid crystal layer. If impurities or constituent components in these sealing materials are eluted in the liquid crystal, the liquid crystal is deteriorated, which causes a deterioration in display quality.

この課題を解決するために、下記特許文献１には、ＯＤＦ法を採用した液晶表示装置の
製造方法において、未硬化のシール層と液晶の接触を抑止するようにした発明が開示され
ている。すなわち、液晶表示装置の第１及び第２の透明基板のいずれか一方の非表示領域
の外縁にスペーサーを形成し、このスペーサー上にシール層を形成し、ＯＤＦ法によって
液晶を滴下した後、両基板を貼り合わせてシール層を硬化させるという方法である。下記
特許文献１に開示されている液晶表示装置の製造方法によれば、上述のような構成とする
ことで、両基板を貼り合わせる際に広がり行く液晶の流れがスペーサーによって遮られる
ため、未硬化のシール層に液晶が接触することが抑止されるという効果を奏するものであ
る。 In order to solve this problem, Patent Document 1 below discloses an invention in which contact between an uncured seal layer and liquid crystal is suppressed in a method for manufacturing a liquid crystal display device employing an ODF method. That is, a spacer is formed on the outer edge of one of the first and second transparent substrates of the liquid crystal display device, a seal layer is formed on the spacer, and after dropping the liquid crystal by the ODF method, In this method, the substrates are bonded together to cure the seal layer. According to the method for manufacturing a liquid crystal display device disclosed in Patent Document 1 below, the liquid crystal flow that spreads when the two substrates are bonded together is blocked by the spacer by the configuration as described above, and thus is uncured. The liquid crystal is prevented from coming into contact with the sealing layer.

また、液晶注入法及びＯＤＦ法の何れにおいても、従来はシール材を硬化させるための
紫外光の照射はアレイ基板側から行なわれていた。その理由は、カラーフィルター基板側
には、光漏れを抑制するための遮光層が形成されているため、紫外光をシール材に対して
照射することができないからである。また、この遮光層に孔やスリット等の紫外光を透過
させる開口を設けることは、光漏れの要因となるため、通常は採用することができない。 In both the liquid crystal injection method and the ODF method, conventionally, irradiation with ultraviolet light for curing the sealing material has been performed from the array substrate side. This is because a light shielding layer for suppressing light leakage is formed on the color filter substrate side, so that ultraviolet light cannot be applied to the sealing material. In addition, providing an opening for transmitting ultraviolet light, such as a hole or a slit, in the light shielding layer is a factor of light leakage, and thus cannot normally be employed.

そのため、従来からシール材を硬化させるための紫外光の照射はアレイ基板側から行わ
れているが、アレイ基板の非表示領域には光不透過性の金属配線が引き回されている。そ
のため、シール材に対して紫外光が照射されるようにするためには、シール材をこの金属
配線を避けて塗布するか、あるいは、金属配線に紫外光が透過する開口を設ける必要があ
る。 For this reason, conventionally, irradiation with ultraviolet light for curing the sealing material has been performed from the array substrate side, but a light-impermeable metal wiring is routed around a non-display area of the array substrate. For this reason, in order to irradiate the sealing material with ultraviolet light, it is necessary to apply the sealing material while avoiding the metal wiring, or to provide an opening through which the ultraviolet light is transmitted in the metal wiring.

しかしながら、金属配線を避けてシール材を塗布すると、非表示領域を広くとる必要が
あるため、相対的に表示領域が狭くなってしまうという問題点が存在する。また、金属配
線に開口を設けると、金属配線の電気抵抗が増大するため、この金属配線に印加されてい
る電位が変動するので、表示品質が低下するという問題点も存在する。 However, if the sealing material is applied while avoiding the metal wiring, there is a problem that the display area becomes relatively narrow because it is necessary to make a large non-display area. Further, if an opening is provided in the metal wiring, the electric resistance of the metal wiring increases, and the potential applied to the metal wiring fluctuates, so that there is a problem that display quality is deteriorated.

一方、上述のような問題点を解決するために、下記特許文献２には、カラーフィルター
基板の遮光層と平面視でシール材が重畳するように塗布されても、アレイ基板側から効率
よくシール材に紫外光を照射することができる液晶パネルの発明が開示されている。すな
わち、下記特許文献２に開示されている液晶パネルの発明によれば、紫外光をシール材の
形成領域に合わせて効率的に照射できるようにするため、照射が必要な領域には金属配線
幅を狭く形成して必要な量の紫外光を照射できるようにし、それほど照射が必要ではない
領域においては金属配線幅を広くして導電性を確保し、全体的に金属配線の電気抵抗値の
低下を所定範囲内に収めることが可能となるという効果が奏されている。その結果、下記
特許文献２に開示されている液晶パネルによれば、シール材を平面視でカラーフィルター
基板の遮光層と重畳するように形成しても、液晶パネルの周辺部分を有効に活用すること
ができるようになるため、狭額縁化の要請に応えられるとされている。 On the other hand, in order to solve the above-described problems, Patent Document 2 below efficiently seals from the array substrate side even when the sealing material is applied so as to overlap the light shielding layer of the color filter substrate in plan view. An invention of a liquid crystal panel capable of irradiating a material with ultraviolet light is disclosed. That is, according to the invention of the liquid crystal panel disclosed in Patent Document 2 below, in order to efficiently irradiate ultraviolet light in accordance with the region where the sealing material is formed, the metal wiring width is required in the region that needs to be irradiated. In order to irradiate the required amount of ultraviolet light, the metal wiring width is widened in areas where irradiation is not necessary to ensure conductivity, and the overall resistance of the metal wiring is reduced. Can be contained within a predetermined range. As a result, according to the liquid crystal panel disclosed in Patent Document 2 below, even if the sealing material is formed so as to overlap the light shielding layer of the color filter substrate in plan view, the peripheral portion of the liquid crystal panel is effectively utilized. It is said that it will be possible to meet the demand for narrowing the frame.

特開２００８−２３３７２１号公報JP 2008-233721 A 特開２００８−１３９６０４号公報JP 2008-139604 A

しかし、上記特許文献１に開示されている液晶表示装置では、シール材層が形成される
位置にスペーサーが形成されるため、そのスペーサーの厚さの分だけ液晶表示装置の厚み
も増加することになり、液晶表示装置の薄型化が困難となる。 However, in the liquid crystal display device disclosed in Patent Document 1, since the spacer is formed at the position where the sealing material layer is formed, the thickness of the liquid crystal display device is increased by the thickness of the spacer. Therefore, it is difficult to reduce the thickness of the liquid crystal display device.

一方、上記特許文献２に開示された液晶パネルでは、照射が必要な領域には金属配線幅
を狭く形成して紫外光を多く透過させシール材をすばやく硬化させることができ液晶との
接触時間を短くでき、また、他の部分は金属配線を広くし導電性を確保することができる
。しかしながら、金属配線には狭くなる部分があるために電気抵抗の増加は避けられず、
また、金属配線の配置に制限が設けられてしまうので金属配線の配置が複雑になると共に
、自由な配線設計が困難となる。 On the other hand, in the liquid crystal panel disclosed in Patent Document 2, a metal wiring width is narrowed in a region that needs to be irradiated so that a large amount of ultraviolet light can be transmitted and the sealing material can be cured quickly, thereby reducing the contact time with the liquid crystal. The other portions can be shortened, and the metal wiring can be widened in other portions to ensure conductivity. However, an increase in electrical resistance is inevitable due to the narrowed portion of the metal wiring,
In addition, since the arrangement of the metal wiring is limited, the arrangement of the metal wiring becomes complicated, and free wiring design becomes difficult.

本発明者らは、上記のような従来技術の課題を解決すべく種々検討を重ねた結果、見か
け上カラーフィルター基板に形成される遮光部材が可視光に対しては不透明であるが、紫
外光を透過することができるものとすれば、カラーフィルター基板側から紫外光を照射す
ることによりシール材を硬化させることができることを見出し、発明を完成するに至った
ものである。すなわち、本発明は、ＯＤＦ法により製造された液晶表示装置において、カ
ラーフィルター基板側から紫外光を照射することによってシール材を硬化させることがで
きる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。 As a result of various studies to solve the problems of the prior art as described above, the present inventors apparently have a light shielding member formed on the color filter substrate that is opaque to visible light, but has ultraviolet light. As a result, it has been found that the sealing material can be cured by irradiating ultraviolet light from the color filter substrate side, and the invention has been completed. That is, the present invention provides a liquid crystal display device that can be cured by irradiating ultraviolet light from the color filter substrate side in a liquid crystal display device manufactured by the ODF method, and a method for manufacturing the same. .

上記目的を達成するため、本発明の液晶表示装置は、
互いに対向する一対の基板の周辺部が閉ループ状に塗布されたシール材により貼り合わ
され、
前記一対の基板のうち、表示領域にカラーフィルター層が形成されている基板の周辺部
には遮光層が形成されており、
液晶が液晶滴下法により前記一対の基板間に封入されている液晶表示装置において、
前記遮光層は、少なくとも平面視で前記シール材と重畳する位置では、２色以上のカラ
ーフィルター層が積層形成された層からなることを特徴とする。 In order to achieve the above object, the liquid crystal display device of the present invention comprises:
The peripheral parts of a pair of substrates facing each other are pasted together by a sealing material applied in a closed loop shape,
Of the pair of substrates, a light shielding layer is formed in the periphery of the substrate in which the color filter layer is formed in the display region,
In a liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed between the pair of substrates by a liquid crystal dropping method,
The light shielding layer is formed of a layer in which color filter layers of two or more colors are laminated at least at a position overlapping with the sealing material in a plan view.

本発明の液晶表示装置では、表示領域にカラーフィルター層が形成されている基板、す
なわちカラーフィルター基板の周辺部に形成されている遮光層を、少なくとも平面視でシ
ール材と重畳する位置では、２色以上のカラーフィルター層が積層形成された層からなる
ものとしている。すなわち、カラーフィルター層は、そのカラーフィルター層と同色の可
視光を透過してしまうため、本発明の液晶表示装置では少なくとも２色以上のカラーフィ
ルター層が積層されたものを使用し、可視光を遮光して紫外光を透過できるようになして
いる。 In the liquid crystal display device of the present invention, the substrate having the color filter layer formed in the display area, that is, the light shielding layer formed in the peripheral portion of the color filter substrate is at least 2 in a position overlapping the sealing material in plan view. It is assumed that it is composed of a layer in which color filter layers of colors or more are laminated. That is, since the color filter layer transmits visible light of the same color as the color filter layer, the liquid crystal display device of the present invention uses a layer in which at least two or more color filter layers are laminated, and transmits visible light. The light is shielded so that it can transmit ultraviolet light.

人の目は可視光は視認できるが紫外光は視認できないので、紫外光が透過できるが可視
光が透過できない層は遮光層として機能し、また、光源からの紫外光成分が漏れても表示
画質に影響を与えることはない。そのため、本発明で使用する２色以上のカラーフィルタ
ー層は、可視光を実質的に完全に遮光することができれば、紫外光に対しては必ずしも完
全に透明なカラーフィルター層を使用する必要はなく、部分的に紫外光がカラーフィルタ
ー層に吸収されてしまうものであってもよい。このような本発明で使用する２色以上のカ
ラーフィルター層としては、市販のカラーフィルター層を適宜組み合わせて用いることが
できる。 Since the human eye can see visible light but not ultraviolet light, the layer that can transmit ultraviolet light but not visible light functions as a light-shielding layer, and displays image quality even if the ultraviolet light component from the light source leaks. Will not be affected. Therefore, the color filter layer of two or more colors used in the present invention does not necessarily need to be a completely transparent color filter layer for ultraviolet light as long as visible light can be substantially completely blocked. The ultraviolet light may be partially absorbed by the color filter layer. As such two or more color filter layers used in the present invention, commercially available color filter layers can be used in appropriate combination.

しかも、本発明の液晶表示装置では、カラーフィルター基板側から紫外光を照射するこ
とによって一対の基板の周辺部に閉ループ状に塗布されたシール材を硬化させることがで
きるから、従来例のように、シール材を硬化させるための紫外光を透過させるために、ア
レイ基板の周辺部に形成される金属配線に穴や切れ込みを設ける必要がなくなるので、ア
レイ基板の金属配線の電気抵抗の上昇を抑制することができる。さらに、本発明の液晶表
示装置によれば、アレイ基板側の金属配線を自由に形成することができるので、基板設計
の自由度が増す。 In addition, in the liquid crystal display device of the present invention, the sealing material applied in a closed loop shape to the periphery of the pair of substrates can be cured by irradiating ultraviolet light from the color filter substrate side. In order to transmit ultraviolet light for curing the sealing material, it is no longer necessary to provide holes or cuts in the metal wiring formed on the periphery of the array substrate, thus suppressing an increase in electrical resistance of the metal wiring on the array substrate can do. Furthermore, according to the liquid crystal display device of the present invention, the metal wiring on the array substrate side can be freely formed, so that the degree of freedom in substrate design is increased.

また、本発明の液晶表示装置においては、前記２色以上のカラーフィルター層は、前記
表示領域にカラーフィルター層が形成されている基板で用いられているカラーフィルター
層と同色のカラーフィルター層からなることが好ましい。 In the liquid crystal display device of the present invention, the color filter layer of two or more colors is a color filter layer having the same color as the color filter layer used in the substrate on which the color filter layer is formed in the display region. It is preferable.

本発明の液晶表示装置においては、遮光層として機能する前記２色以上のカラーフィル
ター層は、表示領域にカラーフィルター層が形成されている基板、すなわちカラーフィル
ター基板で用いられている複数色のカラーフィルター層と同色のものとしている。そのた
め、本発明の液晶表示装置によれば、遮光層として機能する前記２色以上のカラーフィル
ター層をカラーフィルター基板の表示領域に形成されるカラーフィルター層と同時に形成
することができるので、新たな製造工程及び材料を追加する必要がなく、製造費用を削減
することができるようになる。 In the liquid crystal display device of the present invention, the two or more color filter layers functioning as a light-shielding layer are a plurality of colors used in a substrate having a color filter layer formed in a display region, that is, a color filter substrate. Same color as the filter layer. Therefore, according to the liquid crystal display device of the present invention, the two or more color filter layers functioning as a light shielding layer can be formed simultaneously with the color filter layer formed in the display region of the color filter substrate. There is no need to add manufacturing processes and materials, and manufacturing costs can be reduced.

また、本発明にかかる液晶表示装置においては、前記遮光層は、平面視で前記シール材
と重畳する位置以外は金属膜又は黒色樹脂膜で形成されていることが好ましい。 In the liquid crystal display device according to the present invention, it is preferable that the light shielding layer is formed of a metal film or a black resin film except for a position overlapping the sealing material in a plan view.

本発明の液晶表示装置によれば、シール材と平面視で重畳する位置に少なくとも２色以
上のカラーフィルター層が積層形成された領域からなる遮光層を形成し、他の部分を金属
膜又は黒色樹脂膜で形成されているので、紫外光をカラーフィルター基板側から照射する
ことによってシール材を硬化させることができるとともに、他の部分は光不透過性の金属
膜又は黒色樹脂膜で形成されているので、より遮光性が増し、光漏れによる画像表示に影
響を与えることの少ない液晶表示装置を提供することができる。また、光不透過性の金属
膜及び黒色樹脂膜は従来から遮光部材として普通に使用されている材料であるから、新た
な製造工程及び材料を追加する必要がなくなる。 According to the liquid crystal display device of the present invention, the light-shielding layer composed of the region in which the color filter layers of at least two colors or more are laminated is formed at the position overlapping the sealing material in plan view, and the other part is made of the metal film or black Since it is formed of a resin film, the sealing material can be cured by irradiating ultraviolet light from the color filter substrate side, and the other part is formed of a light-impermeable metal film or a black resin film. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal display device that has a higher light shielding property and less influence on image display due to light leakage. Further, since the light-impermeable metal film and the black resin film are materials that are conventionally used as a light shielding member, it is not necessary to add a new manufacturing process and material.

また、上記目的を達成するため、本発明にかかる液晶表示装置の製造方法は、
液晶表示装置用の一対の基板を用意する工程と、
前記一対の基板の一方の基板の周辺に沿ってシール材を閉ループ状に塗布する工程と、
前記一対の基板のいずれか一方の前記シール材で囲まれた領域内に液晶を滴下する工程
と、
前記一対の基板を貼り合わせる工程と、
前記シール材に対して紫外光を照射することによって硬化させる工程と、
を有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうちのカラーフィルター層が形成されている基板として、周辺部の少
なくとも平面視で前記シール材と重畳する位置に２色以上のカラーフィルター層を積層形
成した層からなる遮光層を形成したものを用い、
前記紫外光を前記カラーフィルター層が形成されている基板側から照射することを特徴
とする。 In order to achieve the above object, a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention includes:
Preparing a pair of substrates for a liquid crystal display device;
Applying a sealing material in a closed loop along the periphery of one of the pair of substrates;
Dropping a liquid crystal in a region surrounded by the sealing material of any one of the pair of substrates;
Bonding the pair of substrates together;
Curing the sealing material by irradiating with ultraviolet light;
A method of manufacturing a liquid crystal display device having
As the substrate on which the color filter layer of the pair of substrates is formed, a light shielding layer comprising a layer in which two or more color filter layers are laminated and formed at a position overlapping at least the sealing material in a plan view of the peripheral portion. Use what you formed,
The ultraviolet light is irradiated from the substrate side on which the color filter layer is formed.

本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、上記効果を奏する液晶表示装置を容易に製
造することができるようになる。 According to the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, a liquid crystal display device having the above-described effects can be easily manufactured.

本発明の実施形態１、２にかかる液晶表示装置の平面図である。It is a top view of the liquid crystal display device concerning Embodiment 1, 2 of this invention. 図１の液晶表示装置のカラーフィルター基板を透過した平面図である。FIG. 2 is a plan view that is transmitted through a color filter substrate of the liquid crystal display device of FIG. 1. １画素領域を拡大して示した拡大平面図である。It is the enlarged plan view which expanded and showed 1 pixel area | region. 図３のIV−IV線で切断した要部断面図である。It is principal part sectional drawing cut | disconnected by the IV-IV line of FIG. 図１のＶ−Ｖ線で切断した要部断面図である。It is principal part sectional drawing cut | disconnected by the VV line | wire of FIG. 図６Ａは可視光の透過を示した概略断面図であり、図６Ｂは紫外光を照射したときの概略断面図である。6A is a schematic cross-sectional view showing transmission of visible light, and FIG. 6B is a schematic cross-sectional view when irradiated with ultraviolet light. 実施形態１の液晶表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。3 is a flowchart illustrating a manufacturing process of the liquid crystal display device of Embodiment 1. 実施形態２の図４に対応する要部断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a main part corresponding to FIG. 4 of the second embodiment.

以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。但し、以下に示す各実施形態は、
本発明の技術思想を具体化するための液晶表示装置及びその製造方法を例示するものであ
って、本発明をこの液晶表示装置及びその製造方法に特定することを意図するものではな
く、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものも等しく適応し得るものである。
なお、この明細書における説明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図
面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示して
おり、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, each embodiment shown below is
The present invention exemplifies a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof for embodying the technical idea of the present invention, and is not intended to specify the present invention to the liquid crystal display device and the manufacturing method thereof. Other embodiments that fall within the scope are equally applicable.
In each drawing used for the description in this specification, each layer and each member are displayed in different scales so that each layer and each member can be recognized on the drawing. However, it is not necessarily displayed in proportion to the actual dimensions.

ちなみに、以下に述べるアレイ基板及びカラーフィルター基板の「表面」とは各種配線
、電極ないしカラーフィルター層が形成されている面を示すものとする。なお、本発明に
おける液晶表示装置は、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＶＡ（Vertical Alignment）
モードあるいはＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）モードで駆動するいわゆる
縦電界方式の液晶表示装置や、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード、ＦＦＳ（Fringe F
ield Switching）モード等の横電界方式の液晶表示装置にも適用可能であるが、以下にお
いてはＴＮモードの液晶表示装置に代表させて各実施形態の液晶表示装置を説明する。ま
た、以下に説明する各基板は、本来マザー基板上に複数個のパネル領域を形成して個々の
パネル領域の基板に分断することにより作製するものであるが、以下の実施形態では、１
個のパネル領域を代表して説明する。 Incidentally, the “surface” of the array substrate and the color filter substrate described below indicates a surface on which various wirings, electrodes, or a color filter layer are formed. The liquid crystal display device according to the present invention has a TN (Twisted Nematic) mode, a VA (Vertical Alignment) mode.
Mode or MVA (Multi-domain Vertical Alignment) mode so-called vertical electric field type liquid crystal display, IPS (In-Plane Switching) mode, FFS (Fringe F)
Although it can be applied to a liquid crystal display device of a horizontal electric field type such as an ield switching mode, the liquid crystal display device of each embodiment will be described below as a representative of a TN mode liquid crystal display device. In addition, each substrate described below is originally manufactured by forming a plurality of panel regions on a mother substrate and dividing them into substrates of individual panel regions.
The panel area will be described as a representative.

［実施形態１］
実施形態１にかかる液晶表示装置１０を図１〜図７を用いて説明する。実施形態１にか
かる液晶表示装置１０は、図１に示すように、アレイ基板１１及びカラーフィルター基板
２３と、アレイ基板１１及びカラーフィルター基板２３を貼り合わせるシール材２９と、
アレイ基板１１、カラーフィルター基板２３及びシール材２９により囲まれた領域に液晶
３０（図４及び図５参照）が封入された構成を備えた、いわゆるＣＯＧ（Chip On Glass
）型の液晶表示装置である。この液晶表示装置１０においては、シール材２９により囲ま
れた領域が表示領域３１を形成しており、この表示領域３１の外周側が額縁領域３２とな
っている。また、実施形態１にかかる液晶表示装置１０はＯＤＦ法で製造されたものであ
るため、液晶注入口は形成されていない。以下、この液晶表示装置１０の各構成を図７に
示した液晶表示装置１０の製造工程のフローチャートとも対応させて説明する。 [Embodiment 1]
A liquid crystal display device 10 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment includes an array substrate 11 and a color filter substrate 23, a seal material 29 that bonds the array substrate 11 and the color filter substrate 23,
A so-called COG (Chip On Glass) having a configuration in which a liquid crystal 30 (see FIGS. 4 and 5) is enclosed in a region surrounded by the array substrate 11, the color filter substrate 23 and the sealing material 29.
) Type liquid crystal display device. In the liquid crystal display device 10, an area surrounded by the sealing material 29 forms a display area 31, and an outer peripheral side of the display area 31 is a frame area 32. Further, since the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment is manufactured by the ODF method, a liquid crystal injection port is not formed. Hereinafter, each configuration of the liquid crystal display device 10 will be described with reference to the flowchart of the manufacturing process of the liquid crystal display device 10 shown in FIG.

アレイ基板１１は、対向する一対の矩形状のガラス基板からなる透明基板１２の表面に
液晶駆動用の各種配線等が形成されたものである。このアレイ基板１１はカラーフィルタ
ー基板２３よりもその長手方向の長さが長く、アレイ基板１１及びカラーフィルター基板
２３を貼り合わせた際に外部に延在する延在部１２ａが形成されるようになっている。こ
の延在部１２ａには駆動信号を出力するＩＣチップあるいはＬＳＩ等からなるドライバー
３４が設けられている。 The array substrate 11 is formed by forming various wirings for driving liquid crystal on the surface of a transparent substrate 12 made of a pair of opposing rectangular glass substrates. The array substrate 11 is longer in the longitudinal direction than the color filter substrate 23, and an extended portion 12a extending to the outside is formed when the array substrate 11 and the color filter substrate 23 are bonded together. ing. The extension portion 12a is provided with a driver 34 made of an IC chip or an LSI that outputs a drive signal.

アレイ基板１１の透明基板１２上の表示領域３１内には、マトリクス状に複数本の走査
線１３及び信号線１４（図３及び図４参照）が形成されている。これらの複数本の走査線
１３及び信号線１４は、図２に示すように、表示領域３１外まで延出され、引き回し配線
１５を経てドライバー３４に接続されている。また、このドライバー３４からは、更にコ
モン配線１６が延在している。（以下、複数本の引き回し配線１５及びコモン配線１６を
総称して金属配線３５ということがある。） In the display area 31 on the transparent substrate 12 of the array substrate 11, a plurality of scanning lines 13 and signal lines 14 (see FIGS. 3 and 4) are formed in a matrix. As shown in FIG. 2, the plurality of scanning lines 13 and signal lines 14 extend to the outside of the display area 31, and are connected to the driver 34 via the lead wiring 15. Further, the common wiring 16 extends from the driver 34. (Hereinafter, the plurality of routing wires 15 and common wires 16 may be collectively referred to as metal wires 35.)

アレイ基板の表示領域３１内には、図３及び図４に示すように、複数本の走査線１３及
び信号線１４に加えて、複数本の走査線１３間にこの走査線１３と平行な複数本の補助容
量線１６ａが設けられている。また、これらの走査線１３、補助容量線１６ａ及び露出し
ている透明基板１２を覆うように酸化ケイ素又は窒化ケイ素等の無機絶縁材料からなるゲ
ート絶縁膜１７が設けられている。そして、ソース電極Ｓ、ゲート電極Ｇ、ドレイン電極
Ｄ、及び半導体層１８からなるスイッチング素子としての薄膜トランジスター（ＴＦＴ：
Thin Film Transistor）１９が走査線１３及び信号線１４の交差部近傍に形成されている
。 In the display area 31 of the array substrate, as shown in FIGS. 3 and 4, in addition to the plurality of scanning lines 13 and the signal lines 14, the plurality of scanning lines 13 are parallel to the scanning lines 13. Two auxiliary capacitance lines 16a are provided. A gate insulating film 17 made of an inorganic insulating material such as silicon oxide or silicon nitride is provided so as to cover the scanning lines 13, the auxiliary capacitance lines 16 a, and the exposed transparent substrate 12. A thin film transistor (TFT) as a switching element including the source electrode S, the gate electrode G, the drain electrode D, and the semiconductor layer 18 is used.
Thin Film Transistor) 19 is formed in the vicinity of the intersection of the scanning line 13 and the signal line 14.

さらに、これらを覆うように表面の安定化のための酸化ケイ素又は窒化ケイ素等の無機
絶縁材料からなるパッシベーション膜２０が成膜され、さらに、アレイ基板１１の表面を
平坦化するための有機絶縁材料からなる層間膜２１が成膜されている。なお、この層間膜
２１及びパッシベーション膜２０の補助容量線１６ａ上に位置する部分には、走査線１３
及び信号線１４によって囲まれた１画素領域ＰＡごとに例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide
）またはＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）からなる画素電極２２が設けられている。この画
素電極２２は、コンタクトホールＣＨを介して、ドレイン電極Ｄと電気的に接続されてい
る。そして、これらの表面には図示省略した配向膜が設けられ、この配向膜に対してラビ
ング処理することにより実施形態１のアレイ基板１１が形成される（ステップＳ１）。な
お、複数本の走査線１３及び信号線１４により囲まれた領域が１サブ画素領域ＰＡとなる
。 Further, a passivation film 20 made of an inorganic insulating material such as silicon oxide or silicon nitride for stabilizing the surface is formed so as to cover them, and further an organic insulating material for flattening the surface of the array substrate 11 An interlayer film 21 made of is formed. Note that a portion of the interlayer film 21 and the passivation film 20 located on the auxiliary capacitance line 16a has a scanning line 13.
For each pixel area PA surrounded by the signal line 14, for example, ITO (Indium Tin Oxide)
) Or IZO (Indium Zinc Oxide). The pixel electrode 22 is electrically connected to the drain electrode D through the contact hole CH. An alignment film (not shown) is provided on these surfaces, and the array substrate 11 of the first embodiment is formed by rubbing the alignment film (step S1). Note that a region surrounded by the plurality of scanning lines 13 and signal lines 14 is one sub-pixel region PA.

また、カラーフィルター基板２３は、図４に示したように、ガラス基板等からなる第２
の透明基板２４の表面に、アレイ基板１１の走査線１３、信号線１４、コンタクトホール
ＣＨ及びＴＦＴ１９に対応する位置を被覆するように金属膜又は黒色樹脂膜からなる遮光
層２５が形成されている。さらに、遮光層２５で囲まれた第２の透明基板２４の表面には
、所定の色、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等のカラーフィルター層２６が形成さ
れている。また、遮光層２５及びカラーフィルター層２６の表面を被覆するようにオーバ
ーコート層２７が形成されている。このオーバーコート層２７は絶縁性の透明な樹脂膜か
らなるものであり、カラーフィルター基板２３の表面をできるだけ平坦にするとともに、
カラーフィルター層２６から不純物が液晶３０内に拡散しないようにするために設けられ
ているものである。そして、オーバーコート層２７の表面にはＩＴＯまたはＩＺＯからな
る共通電極２８が設けられているとともに、この共通電極２８の表面には図示省略した配
向膜が形成され、この配向膜に対してラビング処理することにより実施形態１のカラーフ
ィルター基板２３が完成される（ステップＳ３）。 Further, as shown in FIG. 4, the color filter substrate 23 is a second substrate made of a glass substrate or the like.
A light shielding layer 25 made of a metal film or a black resin film is formed on the surface of the transparent substrate 24 so as to cover the positions corresponding to the scanning lines 13, signal lines 14, contact holes CH, and TFTs 19 of the array substrate 11. . Further, a color filter layer 26 of a predetermined color, for example, red (R), green (G), or blue (B) is formed on the surface of the second transparent substrate 24 surrounded by the light shielding layer 25. . An overcoat layer 27 is formed so as to cover the surfaces of the light shielding layer 25 and the color filter layer 26. The overcoat layer 27 is made of an insulating transparent resin film, and makes the surface of the color filter substrate 23 as flat as possible.
This is provided to prevent impurities from diffusing from the color filter layer 26 into the liquid crystal 30. A common electrode 28 made of ITO or IZO is provided on the surface of the overcoat layer 27, and an alignment film (not shown) is formed on the surface of the common electrode 28. The alignment film is rubbed. Thus, the color filter substrate 23 of Embodiment 1 is completed (Step S3).

なお、従来では、カラーフィルター基板２３の額縁領域３２には、光源としてのバック
ライトからの光漏れを抑制するために金属膜あるいは黒色樹脂膜で形成された遮光層が設
けられるが、本実施形態１では、図５に示すように、遮光層としてＲ、Ｇ、Ｂの三色のカ
ラーフィルター層２６Ｒ、２６Ｇ、２６Ｂが積層形成されている。以下、これらの積層さ
れた３色のカラーフィルター層を纏めて「２６ａ」と表す。この積層されたカラーフィル
ター層２６ａは、カラーフィルター基板２３の表示領域３１に各色のカラーフィルター層
２６を形成するのと同時にフォトリソグラフィー等により一色毎に積層形成されるもので
ある。なお、遮光層として積層されたカラーフィルター層２６ａの積層順序は任意でよく
、表示領域３１のカラーフィルター層２６を形成する順序に合わせて形成することができ
る。なお、この積層されたカラーフィルター層２６ａが、本発明の「２色以上のカラーフ
ィルター層が積層形成」された領域に対応する。 Conventionally, the frame region 32 of the color filter substrate 23 is provided with a light shielding layer formed of a metal film or a black resin film in order to suppress light leakage from a backlight as a light source. In FIG. 1, as shown in FIG. 5, three color filter layers 26R, 26G, and 26B of R, G, and B are stacked as a light shielding layer. Hereinafter, these stacked three color filter layers are collectively represented as “26a”. The stacked color filter layers 26a are formed for each color by photolithography or the like at the same time as the color filter layers 26 of the respective colors are formed in the display region 31 of the color filter substrate 23. Note that the order of stacking the color filter layers 26a stacked as the light shielding layer may be arbitrary, and can be formed in accordance with the order of forming the color filter layers 26 in the display region 31. The laminated color filter layer 26a corresponds to a region where “two or more color filter layers are laminated” in the present invention.

次に、上記のように形成されたアレイ基板１１とカラーフィルター基板２３の貼り合わ
せを行う。このとき、例えばアレイ基板１１の表示領域３１に液晶３０が滴下され（ステ
ップＳ２）、カラーフィルター基板２３の額縁領域３２には紫外光により硬化できる樹脂
等で形成されたシール材が塗布され（ステップＳ４）、両基板が張り合わされる（ステッ
プＳ５）。なお、両基板間には、基板間のセルギャップを一定に維持するために柱状スペ
ーサーが形成されているが、この柱状スペーサーは図示省略した。 Next, the array substrate 11 and the color filter substrate 23 formed as described above are bonded together. At this time, for example, the liquid crystal 30 is dropped on the display area 31 of the array substrate 11 (step S2), and a sealing material formed of a resin that can be cured by ultraviolet light is applied to the frame area 32 of the color filter substrate 23 (step S2). S4) The two substrates are bonded together (step S5). A columnar spacer is formed between the two substrates in order to maintain a constant cell gap between the substrates, but this columnar spacer is not shown.

その後、シール材２９に紫外光３７を照射しシール材２９を硬化させる（ステップＳ６
）。このとき、本実施形態１の液晶表示装置１０では、紫外光３７をカラーフィルター基
板２３側から照射してシール材２９を硬化させる。すなわち、本実施形態１では、カラー
フィルター基板２３の額縁領域３２には、遮光層として機能するＲ、Ｇ、Ｂの三色の積層
されたカラーフィルター層２６ａが形成されている。これらの積層されたカラーフィルタ
ー層２６ａにより、図６Ａに示すように、この部分を可視光３６に対して遮光部材として
機能させることができるので、図示省略したバックライトからの光漏れを抑制することが
できる。一方、一般的にカラーフィルター層２６は、可視光３６の領域における特定の波
長を通過させるだけでなく、紫外光３７を透過させてしまう。図６Ｂに示すように、積層
されたカラーフィルター層２６ａは、各カラーフィルター層２６で、他のカラーフィルタ
ー層２６を通過してしまった光を吸収してしまうが、紫外光３７だけは何れのカラーフィ
ルター層２６を通過してしまう。したがって、カラーフィルター層２６ａは紫外光３７を
透過させることができるため、紫外光３７をカラーフィルター基板２３側から照射しても
、シール材２９を硬化させることができる。なお、積層されたカラーフィルター層２６ａ
は、完全に紫外光に対して透明である必要はなく、紫外光の一部が吸収されるものであっ
てもよい。 Thereafter, the sealing material 29 is cured by irradiating the sealing material 29 with ultraviolet light 37 (step S6).
). At this time, in the liquid crystal display device 10 of Embodiment 1, the sealing material 29 is cured by irradiating the ultraviolet light 37 from the color filter substrate 23 side. That is, in the first embodiment, the frame region 32 of the color filter substrate 23 is formed with a color filter layer 26a in which three colors R, G, and B that function as a light shielding layer are stacked. These laminated color filter layers 26a can function as a light shielding member for visible light 36 as shown in FIG. 6A, so that light leakage from a backlight not shown is suppressed. Can do. On the other hand, in general, the color filter layer 26 transmits not only a specific wavelength in the region of the visible light 36 but also the ultraviolet light 37. As shown in FIG. 6B, the laminated color filter layers 26a absorb the light that has passed through the other color filter layers 26 in each color filter layer 26, but only the ultraviolet light 37 is It passes through the color filter layer 26. Therefore, since the color filter layer 26a can transmit the ultraviolet light 37, the sealing material 29 can be cured even when the ultraviolet light 37 is irradiated from the color filter substrate 23 side. The laminated color filter layer 26a
Does not have to be completely transparent to ultraviolet light, and may absorb part of the ultraviolet light.

その後、マザー基板を個別のパネル領域に分断（ステップＳ７、Ｓ８）し、アレイ基板
１１の延在部１２ａにドライバー３４等を設置し、本実施形態１にかかる液晶表示装置１
０が完成する（ステップＳ９）。 Thereafter, the mother substrate is divided into individual panel regions (steps S7 and S8), and a driver 34 and the like are installed in the extending portion 12a of the array substrate 11, and the liquid crystal display device 1 according to the first embodiment.
0 is completed (step S9).

以上述べたように、実施形態１にかかる液晶表示装置によれば、ＯＤＦ法により製造さ
れる液晶表示装置において、カラーフィルター基板側から紫外光を照射してシール材を硬
化させることができ、しかも、シール材を硬化させた後は、何等の処理を行わなくても、
遮光層部分からの光漏れが生じないようにすることができる。そのため、実施形態１にか
かる液晶表示装置によれば、従来例のように、シール材を硬化させるための紫外光を透過
させるために、アレイ基板の額縁領域に形成される金属配線に穴や切れ込みを設ける必要
がなくなるので、アレイ基板の金属配線の電気抵抗の上昇を抑制することができる。さら
に、本発明の液晶表示装置１０によれば、アレイ基板の金属配線を自由に形成することが
できるので、基板の設計の自由度が増す。また、遮光層として額縁領域に形成されるカラ
ーフィルター層は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３層から形成されているので、表示領域に形成されるカ
ラーフィルター層と同時に形成することができ、新たな製造工程及び材料を追加する必要
がなく、製造費用の削減にもなる。 As described above, according to the liquid crystal display device according to the first embodiment, in the liquid crystal display device manufactured by the ODF method, the sealing material can be cured by irradiating ultraviolet light from the color filter substrate side. After curing the sealing material, no treatment is required.
It is possible to prevent light leakage from the light shielding layer portion. Therefore, according to the liquid crystal display device according to the first embodiment, as in the conventional example, in order to transmit ultraviolet light for curing the sealing material, holes and cuts are formed in the metal wiring formed in the frame region of the array substrate. Therefore, it is possible to suppress an increase in the electrical resistance of the metal wiring of the array substrate. Furthermore, according to the liquid crystal display device 10 of the present invention, the metal wiring of the array substrate can be freely formed, so that the degree of freedom in designing the substrate is increased. Further, since the color filter layer formed in the frame region as the light shielding layer is formed of three layers of R, G, and B, it can be formed simultaneously with the color filter layer formed in the display region. There is no need to add manufacturing processes and materials, and the manufacturing cost can be reduced.

［実施形態２］
次に、図８を参照して、実施形態２にかかる液晶表示装置１０Ａについて説明する。な
お、実施形態２にかかる液晶表示装置１０Ａは、カラーフィルター基板２３に形成される
遮光層の構成が異なること以外は、実施形態１にかかる液晶表示装置１０と共通するので
、実施形態１にかかる液晶表示装置１０と同一の構成については同一の符号を付与し、そ
の詳細な説明は省略する。 [Embodiment 2]
Next, a liquid crystal display device 10A according to Embodiment 2 will be described with reference to FIG. The liquid crystal display device 10A according to the second embodiment is common to the liquid crystal display device 10 according to the first embodiment except that the configuration of the light shielding layer formed on the color filter substrate 23 is different. The same reference numerals are given to the same components as those of the liquid crystal display device 10, and detailed description thereof is omitted.

実施形態２にかかる液晶表示装置１０Ａは、額縁領域３２に遮光層としての３色の積層
されたカラーフィルター層２６ａがシール材２９と平面視で重畳する位置に積層形成され
ているが、それ以外の部分は、表示領域３１の遮光層２５の部分も含めて、金属膜又は黒
色樹脂膜で形成された遮光層２５ａが形成されている。 In the liquid crystal display device 10A according to the second embodiment, the color filter layer 26a in which the three colors as the light-shielding layer are stacked in the frame region 32 is stacked at a position where it overlaps with the sealing material 29 in plan view. In this part, a light shielding layer 25a made of a metal film or a black resin film is formed including the part of the light shielding layer 25 in the display area 31.

このような構成とすることによって、実施形態２の液晶表示装置１０Ａでは、シール材
２９は、上記実施形態１の場合と同様に、カラーフィルター基板２３側から照射される紫
外光３７により硬化させることができるとともに、積層されたカラーフィルター層２６ａ
が可視光を遮光することができるので、バックライトからの光漏れを抑制することができ
る。その結果、実施形態２の液晶表示装置１０Ａでも、アレイ基板に形成される金属配線
は自由に設計、配置させることができるようになる。 With such a configuration, in the liquid crystal display device 10A of the second embodiment, the sealing material 29 is cured by the ultraviolet light 37 irradiated from the color filter substrate 23 side as in the case of the first embodiment. Layered color filter layer 26a
Since it can block visible light, light leakage from the backlight can be suppressed. As a result, even in the liquid crystal display device 10A of the second embodiment, the metal wiring formed on the array substrate can be freely designed and arranged.

さらに、実施形態２の液晶表示装置１０Ａでは、額縁領域３２のカラーフィルター層２
６ａが積層形成されていない部分は光不透過性の金属膜又は黒色樹脂膜で形成された遮光
層２５ａとなっている。そのため、実施形態２の液晶表示装置１０Ａでは、実施形態１の
液晶表示装置１０よりも額縁領域３２の遮光性が向上するので、より光漏れによる画像表
示に悪影響が少ない液晶表示装置１０Ａを提供することができる。なお、遮光層２５ａは
、カラーフィルター基板に形成される遮光層２５と同時に形成することができるので、新
たな製造工程及び材料を追加する必要が無くなる。 Furthermore, in the liquid crystal display device 10A according to the second embodiment, the color filter layer 2 in the frame region 32 is displayed.
The portion where 6a is not laminated is a light shielding layer 25a formed of a light-impermeable metal film or a black resin film. Therefore, in the liquid crystal display device 10A of the second embodiment, since the light shielding property of the frame region 32 is improved as compared with the liquid crystal display device 10 of the first embodiment, the liquid crystal display device 10A having less adverse effects on image display due to light leakage is provided. be able to. Since the light shielding layer 25a can be formed simultaneously with the light shielding layer 25 formed on the color filter substrate, it is not necessary to add a new manufacturing process and material.

またカラーフィルター層２６ａは、上述のように可視光は遮光できるが、紫外光は透過
させてしまう。この時、液晶３０を構成する液晶分子の劣化を低減するためには、液晶分
子への紫外光の照射をできるだけ低減させた方がよい。したがって、実施形態２の構成に
よれば、液晶分子への紫外光の照射を最小限にできるので、液晶分子の劣化を低減させる
ことができる。また液晶３０以外の液晶表示装置１０を構成する他の部材においても、紫
外光の照射を低減できるので、紫外光による部材の劣化を防ぐ上でも実施形態２の構成は
より好ましい。 The color filter layer 26a can block visible light as described above, but transmits ultraviolet light. At this time, in order to reduce deterioration of the liquid crystal molecules constituting the liquid crystal 30, it is preferable to reduce the irradiation of the ultraviolet light to the liquid crystal molecules as much as possible. Therefore, according to the configuration of the second embodiment, it is possible to minimize the irradiation of the liquid crystal molecules with ultraviolet light, so that the deterioration of the liquid crystal molecules can be reduced. Moreover, since irradiation of ultraviolet light can be reduced also in other members constituting the liquid crystal display device 10 other than the liquid crystal 30, the configuration of the second embodiment is more preferable in preventing deterioration of the member due to ultraviolet light.

なお、上記実施形態１、２では、遮光層として機能する積層されたカラーフィルター層
２６ａとして３色のカラーフィルターが積層形成された例を示した。しかしながら、本発
明の液晶表示装置は、これに限らず、個々のカラーフィルター層の光透過特性を考慮の上
でバックライトからの可視光を遮光できるように組み合わせれば、例えば２色のカラーフ
ィルター層を積層形成してもよく、更には、４色以上のカラーフィルター層を積層形成す
ることもできる。 In the first and second embodiments, an example in which three color filters are stacked as the stacked color filter layer 26a functioning as a light shielding layer is shown. However, the liquid crystal display device of the present invention is not limited to this, and, for example, two color filters can be used if they are combined so that visible light from the backlight can be blocked in consideration of the light transmission characteristics of the individual color filter layers. The layers may be laminated, and further, color filter layers of four or more colors may be laminated.

また、上記実施形態１では、額縁領域に形成される遮光層をすべて積層されたカラーフ
ィルター層で形成し、上記実施形態２では、シール材と平面視で重畳する部分のみを積層
されたカラーフィルター層とし、他の部分を金属膜又は黒色樹脂膜からなる遮光層とした
が、金属膜又は黒色樹脂膜からなる遮光層は表示領域と額縁領域との境界部分にのみ形成
されるものとしてもよい。 In the first embodiment, the light shielding layer formed in the frame region is formed by the laminated color filter layer, and in the second embodiment, only the portion that overlaps the sealing material in plan view is laminated. The light shielding layer is made of a metal film or a black resin film, but the light shielding layer made of a metal film or a black resin film may be formed only at the boundary between the display area and the frame area. .

１０、１０Ａ…液晶表示装置 １１…アレイ基板 １２…透明基板 １２ａ…延在部
１３…走査線 １４…信号線 １５…引き回し配線 １６…コモン配線 １６ａ…補助容
量線 １７…ゲート絶縁膜 １８…半導体層 ２０…パッシベーション膜 ２１…層間膜
２２…画素電極 ２３…カラーフィルター基板 ２４…透明基板 ２５、２５ａ…遮光
層 ２６、２６Ｒ、２６Ｇ、２６Ｂ…カラーフィルター層 ２６ａ…積層されたカラーフ
ィルター層 ２７…オーバーコート層 ２８…共通電極 ２９…シール材 ３０…液晶
３１…表示領域 ３２…額縁領域 ３４…ドライバー ３５…金属配線 ３６…可視光
３７…紫外光 ＣＨ…コンタクトホール ＰＡ…サブ画素領域 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10, 10A ... Liquid crystal display device 11 ... Array substrate 12 ... Transparent substrate 12a ... Extension part
DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 ... Scanning line 14 ... Signal line 15 ... Leading wiring 16 ... Common wiring 16a ... Auxiliary capacitance line 17 ... Gate insulating film 18 ... Semiconductor layer 20 ... Passivation film 21 ... Interlayer film 22 ... Pixel electrode 23 ... Color filter substrate 24 ... Transparent Substrate 25, 25a ... Light-shielding layer 26, 26R, 26G, 26B ... Color filter layer 26a ... Laminated color filter layer 27 ... Overcoat layer 28 ... Common electrode 29 ... Sealing material 30 ... Liquid crystal
31 ... Display area 32 ... Frame area 34 ... Driver 35 ... Metal wiring 36 ... Visible light
37 ... UV light CH ... Contact hole PA ... Sub-pixel area

Claims (4)

互いに対向する一対の基板の周辺部が閉ループ状に塗布されたシール材により貼り合わ
され、
前記一対の基板のうち、表示領域にカラーフィルター層が形成されている基板の周辺部
には遮光層が形成されており、
液晶が液晶滴下法により前記一対の基板間に封入されている液晶表示装置において、
前記遮光層は、少なくとも平面視で前記シール材と重畳する位置では、２色以上のカラ
ーフィルター層が積層形成された層からなることを特徴とする液晶表示装置。 The peripheral parts of a pair of substrates facing each other are pasted together by a sealing material applied in a closed loop shape,
Of the pair of substrates, a light shielding layer is formed in the periphery of the substrate in which the color filter layer is formed in the display region,
In a liquid crystal display device in which liquid crystal is sealed between the pair of substrates by a liquid crystal dropping method,
The liquid crystal display device, wherein the light shielding layer is formed of a layer in which two or more color filter layers are laminated at least at a position overlapping with the sealing material in plan view. 前記２色以上のカラーフィルター層は、前記表示領域にカラーフィルター層が形成され
ている基板で用いられているカラーフィルター層と同色のカラーフィルター層からなるこ
とを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 2. The color filter layer of two or more colors comprises a color filter layer having the same color as a color filter layer used in a substrate having a color filter layer formed in the display region. Liquid crystal display device. 前記遮光層は、平面視で前記シール材と重畳する位置以外は金属膜又は黒色樹脂膜で形
成されていることを特徴とする請求項1又は２に記載の液晶表示装置。 3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the light shielding layer is formed of a metal film or a black resin film except for a position overlapping the sealing material in a plan view. 液晶表示装置用の一対の基板を用意する工程と、
前記一対の基板の一方の基板の周辺に沿ってシール材を閉ループ状に塗布する工程と、
前記一対の基板のいずれか一方の前記シール材で囲まれた領域内に液晶を滴下する工程
と、
前記一対の基板を貼り合わせる工程と、
前記シール材に対して紫外光を照射することによって硬化させる工程と、
を有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうちのカラーフィルター層が形成されている基板として、周辺部の少
なくとも平面視で前記シール材と重畳する位置に２色以上のカラーフィルター層を積層形
成した層からなる遮光層を形成したものを用い、
前記紫外光を前記カラーフィルター層が形成されている基板側から照射することを特徴
とする液晶表示装置の製造方法。 Preparing a pair of substrates for a liquid crystal display device;
Applying a sealing material in a closed loop along the periphery of one of the pair of substrates;
Dropping a liquid crystal in a region surrounded by the sealing material of any one of the pair of substrates;
Bonding the pair of substrates together;
Curing the sealing material by irradiating with ultraviolet light;
A method of manufacturing a liquid crystal display device having
As the substrate on which the color filter layer of the pair of substrates is formed, a light shielding layer comprising a layer in which two or more color filter layers are laminated and formed at a position overlapping at least the sealing material in a plan view of the peripheral portion. Use what you formed,
A method of manufacturing a liquid crystal display device, wherein the ultraviolet light is irradiated from a substrate side on which the color filter layer is formed.
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