JP2010231864A - 垂直磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】垂直磁気記録に用いる磁気記録媒体であって、基板上に、少なくとも軟磁性層と下地層と磁気記録層とを備える垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記軟磁性層を成膜した後、該軟磁性層の上に他の層を介さずに直接、バイアスを印加しながらルテニウム(Ru)又はその化合物からなる下地層を成膜する。
【選択図】図1
Description
垂直磁気記録に用いる磁気記録媒体であって、基板上に、少なくとも軟磁性層と下地層と磁気記録層とを備える垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記軟磁性層を成膜した後、該軟磁性層の上に他の層を介さずに直接、バイアスを印加しながらルテニウム(Ru)又はその化合物からなる下地層を成膜することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
前記下地層を複数層で構成し、このうちの少なくとも前記軟磁性層側のルテニウム(Ru)又はその化合物からなる下地層をバイアスを印加しながら成膜することを特徴とする構成1に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
前記ルテニウム(Ru)又はその化合物からなる下地層の成膜時に、基板に−50V以上のバイアスを印加することを特徴とする構成1又は2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
前記磁気記録層は、コバルト(Co)を主体とする結晶粒子と、酸化物を主体とする粒界部を有するグラニュラー構造の強磁性層を含むことを特徴とする構成1乃至3のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
前記磁気記録層上に炭素系保護層を形成することを特徴とする構成1乃至4のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
本発明は、構成1にあるように、垂直磁気記録に用いる磁気記録媒体であって、基板上に、少なくとも軟磁性層と下地層と磁気記録層とを備える垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記軟磁性層を成膜した後、該軟磁性層の上に他の層を介さずに直接、バイアスを印加しながらルテニウム(Ru)又はその化合物からなる下地層を成膜すること特徴とするものである。
上記垂直磁気記録媒体の層構成の一実施の形態としては、具体的には、基板に近い側から、例えば付着層、軟磁性層、下地層、磁気記録層(垂直磁気記録層)、保護層、潤滑層などを積層したものである。
上記強磁性層を構成するCo系磁性材料としては、特にCoPt系又はCoPtCr系磁性材料が好ましい。CoPt系又はCoPtCr系磁性材料は、保磁力Hcが高く、磁化反転生成磁界Hnをゼロ未満の小さな値とすることができるので熱揺らぎに対する耐性を向上させることができ、高いS/N比が得られるので好適である。CoPt系又はCoPtCr系磁性材料に珪素(Si)、Ti等の元素やその酸化物を含有させることにより、磁性結晶粒子の粒界部分にSi、Ti等やその酸化物を偏析させることができるので、磁性結晶粒子間の交換相互作用を低減して媒体ノイズを低減させると共に高記録密度時のS/N比を向上させることができる。この強磁性層の膜厚は、例えば20nm以下であることが好ましい。
(実施例1)
アモルファスのアルミノシリケートガラスをダイレクトプレスで円盤状に成型し、ガラスディスクを作成した。このガラスディスクに研削、研磨、化学強化を順次施し、化学強化ガラスディスクからなる平滑な非磁性ガラス基板を得た。ディスク直径は65mmである。このガラス基板の主表面の表面粗さをAFM(原子間力顕微鏡)で測定したところ、Rmaxが4.8nm、Raが0.42nmという平滑な表面形状であった。なお、Rmax及びRaは、日本工業規格(JIS)に従う。
次に、第一軟磁性層として、FeCoTaZrを25nm、非磁性スペーサー層として、Ru層を0.7nm、さらに第二軟磁性層として、FeCoTaZrを25nm成膜した。
第二下地層の上に、オンセット層として、CoCrを2nm以下で成膜した。
実施例1における第一下地層の成膜時の印加バイアスを、−300Vとしたこと以外は、実施例1とまったく同様にして、実施例2の垂直磁気記録媒体を作製した。
実施例1における第一下地層の成膜時の印加バイアスを、−100Vとしたこと以外は、実施例1とまったく同様にして、実施例3の垂直磁気記録媒体を作製した。
実施例1における第一下地層の成膜時にバイアスを印加せずに成膜したこと以外は、実施例1とまったく同様にして、本比較例の垂直磁気記録媒体を作製した。
[結晶配向度評価]
各垂直磁気記録媒体における第一下地層のRu結晶配向度をX線回折装置により測定し、その結果を図2に示した。
Claims (5)
- 垂直磁気記録に用いる磁気記録媒体であって、
基板上に、少なくとも軟磁性層と下地層と磁気記録層とを備える垂直磁気記録媒体の製造方法において、
前記軟磁性層を成膜した後、該軟磁性層の上に他の層を介さずに直接、バイアスを印加しながらルテニウム(Ru)又はその化合物からなる下地層を成膜することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。 - 前記下地層を複数層で構成し、このうちの少なくとも前記軟磁性層側のルテニウム(Ru)又はその化合物からなる下地層をバイアスを印加しながら成膜することを特徴とする請求項1に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記ルテニウム(Ru)又はその化合物からなる下地層の成膜時に、基板に−50V以上のバイアスを印加することを特徴とする請求項1又は2に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記磁気記録層は、コバルト(Co)を主体とする結晶粒子と、酸化物を主体とする粒界部を有するグラニュラー構造の強磁性層を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
- 前記磁気記録層上に炭素系保護層を形成することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
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