JP2010219435A - Substrate processing apparatus, and substrate processing method - Google Patents
Substrate processing apparatus, and substrate processing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010219435A JP2010219435A JP2009066809A JP2009066809A JP2010219435A JP 2010219435 A JP2010219435 A JP 2010219435A JP 2009066809 A JP2009066809 A JP 2009066809A JP 2009066809 A JP2009066809 A JP 2009066809A JP 2010219435 A JP2010219435 A JP 2010219435A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- unit
- processing
- back surface
- cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
本発明は、基板の処理を行う基板処理装置および基板処理方法に関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method for processing a substrate.
半導体基板、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板等の各種基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられている。 In order to perform various processes on various substrates such as a semiconductor substrate, a liquid crystal display substrate, a plasma display substrate, an optical disk substrate, a magnetic disk substrate, a magneto-optical disk substrate, and a photomask substrate, It is used.
このような基板処理装置では、一般に、一枚の基板に対して複数の異なる処理が連続的に行われる。特許文献1に記載された基板処理装置は、インデクサブロック、反射防止膜用処理ブロック、レジスト膜用処理ブロック、現像処理ブロックおよびインターフェイスブロックにより構成される。インターフェイスブロックに隣接するように、基板処理装置とは別体の外部装置である露光装置が配置される。
In such a substrate processing apparatus, generally, a plurality of different processes are continuously performed on a single substrate. The substrate processing apparatus described in
上記の基板処理装置においては、インデクサブロックから搬入される基板は、反射防止膜用処理ブロックおよびレジスト膜用処理ブロックにおいて反射防止膜の形成およびレジスト膜の塗布処理が行われた後、インターフェイスブロックを介して露光装置へと搬送される。露光装置において基板上のレジスト膜に露光処理が行われた後、基板はインターフェイスブロックを介して現像処理ブロックへ搬送される。現像処理ブロックにおいて基板上のレジスト膜に現像処理が行われることによりレジストパターンが形成された後、基板はインデクサブロックへと搬送される。 In the substrate processing apparatus described above, the substrate carried in from the indexer block is configured such that after the formation of the antireflection film and the coating process of the resist film are performed in the antireflection film processing block and the resist film processing block, the interface block is To the exposure apparatus. After the exposure process is performed on the resist film on the substrate in the exposure apparatus, the substrate is transported to the development processing block via the interface block. After a resist pattern is formed by performing development processing on the resist film on the substrate in the development processing block, the substrate is transported to the indexer block.
近年、デバイスの高密度化および高集積化に伴い、レジストパターンの微細化が重要な課題となっている。従来の一般的な露光装置においては、レクチルのパターンを投影レンズを介して基板上に縮小投影することによって露光処理が行われていた。しかし、このような従来の露光装置においては、露光パターンの線幅は露光装置の光源の波長によって決まるため、レジストパターンの微細化に限界があった。 In recent years, miniaturization of resist patterns has become an important issue as the density and integration of devices increase. In a conventional general exposure apparatus, exposure processing is performed by reducing and projecting a reticle pattern onto a substrate through a projection lens. However, in such a conventional exposure apparatus, since the line width of the exposure pattern is determined by the wavelength of the light source of the exposure apparatus, there is a limit to the miniaturization of the resist pattern.
そこで、露光パターンのさらなる微細化を可能にする投影露光方法として、液浸法が提案されている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2の投影露光装置においては、投影光学系と基板との間に液体が満たされており、基板表面における露光光を短波長化することができる。それにより、露光パターンのさらなる微細化が可能となる。
Accordingly, a liquid immersion method has been proposed as a projection exposure method that enables further miniaturization of the exposure pattern (see, for example, Patent Document 2). In the projection exposure apparatus of
露光処理前においては、基板に対して種々の成膜処理が施される。この成膜処理の過程で、基板の裏面が汚染する場合がある。その場合、汚染物質により基板の裏面に凹凸が生じて、基板が不安定な状態となる。そのため、液体を用いない一般的な方法により露光処理を行うと、露光装置のレンズの焦点が基板上のレジスト膜の表面から外れるデフォーカスが発生することがある。その結果、露光パターンの寸法不良および形状不良が発生するおそれがある。 Prior to the exposure process, various film forming processes are performed on the substrate. During the film forming process, the back surface of the substrate may be contaminated. In that case, unevenness occurs on the back surface of the substrate due to the contaminant, and the substrate becomes unstable. Therefore, when the exposure process is performed by a general method that does not use a liquid, defocusing may occur in which the focus of the lens of the exposure apparatus deviates from the surface of the resist film on the substrate. As a result, there is a possibility that a dimensional defect and a shape defect of the exposure pattern may occur.
一方、上記特許文献2に記載されているような液浸法を用いて基板の露光処理を行う場合においては、基板の裏面が汚染していると、基板の裏面に付着した汚染物質が露光装置内の液体に混入する。それにより、露光装置のレンズが汚染され、露光パターンの寸法不良および形状不良が発生するおそれがある。
On the other hand, in the case of performing exposure processing of a substrate using the immersion method as described in
そこで、特許文献3には、露光処理前の基板の裏面を洗浄する基板処理装置が開示されている。この基板処理装置によれば、露光処理前の基板の裏面が裏面洗浄ユニットにより洗浄されるので、露光処理前の基板の裏面に付着した汚染物質を取り除くことができる。 Therefore, Patent Document 3 discloses a substrate processing apparatus for cleaning the back surface of a substrate before exposure processing. According to this substrate processing apparatus, the back surface of the substrate before the exposure processing is cleaned by the back surface cleaning unit, so that contaminants attached to the back surface of the substrate before the exposure processing can be removed.
しかしながら、実際には、洗浄処理後の基板の裏面に液滴が残留する場合がある。この場合、洗浄処理後の基板が裏面洗浄ユニットから露光装置まで搬送される間に、外部雰囲気中のパーティクルが基板の裏面の液滴に付着する。そのため、基板の裏面の汚染に起因する露光装置内の汚染が十分に防止できない場合がある。 However, in reality, there are cases where droplets remain on the back surface of the substrate after the cleaning process. In this case, particles in the external atmosphere adhere to droplets on the back surface of the substrate while the substrate after the cleaning process is transported from the back surface cleaning unit to the exposure apparatus. For this reason, there are cases where contamination within the exposure apparatus due to contamination of the back surface of the substrate cannot be sufficiently prevented.
本発明の目的は、基板の裏面の汚染に起因するパターン不良を十分に防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method capable of sufficiently preventing pattern defects caused by contamination of the back surface of a substrate.
(1)第1の発明に係る基板処理装置は、露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、基板に処理を行うための処理部と、処理部の一端部に隣接するように設けられ、処理部と露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、処理部は、露光装置による露光処理前に基板の表面に膜を形成する膜形成ユニットと、膜形成ユニットによる膜の形成前に基板の表面に密着強化処理を行う密着強化ユニットとを含み、処理部および受け渡し部の少なくとも一方は、膜形成ユニットによる膜の形成後で露光装置による露光処理前に基板の裏面を洗浄する第1の洗浄ユニットを含み、密着強化ユニットは、基板が載置される上面を有するとともに上面に開口する通路を有する基板載置台と、基板の裏面と基板載置台の上面との間に隙間が形成されるように基板の裏面を支持する支持部材と、基板載置台に載置された基板の表面に密着強化剤を供給する密着強化剤供給部と、密着強化剤供給部により基板の表面に供給される密着強化剤が隙間に進入しないように、通路を通して隙間内の圧力を調整する圧力調整機構とを備えるものである。 (1) A substrate processing apparatus according to a first invention is a substrate processing apparatus disposed so as to be adjacent to an exposure apparatus, and is adjacent to a processing unit for processing a substrate and one end of the processing unit. A transfer unit for transferring the substrate between the processing unit and the exposure apparatus, and the processing unit includes a film forming unit that forms a film on the surface of the substrate before the exposure process by the exposure apparatus; An adhesion strengthening unit that performs an adhesion strengthening process on the surface of the substrate before the film is formed by the film forming unit, and at least one of the processing unit and the transfer unit is an exposure process performed by an exposure apparatus after the film is formed by the film forming unit. The adhesion strengthening unit includes a substrate mounting table including a first cleaning unit that previously cleans the back surface of the substrate, the adhesion enhancing unit having a top surface on which the substrate is mounted and having a passage opening on the top surface, and the back surface of the substrate and the substrate mounting table A support member that supports the back surface of the substrate so that a gap is formed between the top surface, an adhesion reinforcing agent supply unit that supplies an adhesion reinforcing agent to the surface of the substrate mounted on the substrate mounting table, and an adhesion reinforcing agent And a pressure adjusting mechanism that adjusts the pressure in the gap through the passage so that the adhesion reinforcing agent supplied to the surface of the substrate by the supply section does not enter the gap.
この基板処理装置においては、処理部による処理後の基板が受け渡し部により受け取られ、露光装置に渡される。露光装置では、処理部による処理済の基板に露光処理が施される。露光処理後の基板は、受け渡し部により受け取られ、処理部に渡される。 In this substrate processing apparatus, the substrate after processing by the processing unit is received by the transfer unit and transferred to the exposure apparatus. In the exposure apparatus, an exposure process is performed on the substrate that has been processed by the processing unit. The substrate after the exposure processing is received by the transfer unit and transferred to the processing unit.
処理部の密着強化ユニットにおいては、基板が基板載置台に載置されることにより基板の裏面が支持部材により支持され、基板の裏面と基板載置台の上面との間に隙間が形成される。 In the adhesion strengthening unit of the processing unit, the back surface of the substrate is supported by the support member by placing the substrate on the substrate mounting table, and a gap is formed between the back surface of the substrate and the upper surface of the substrate mounting table.
この状態で、密着強化剤供給部により基板の表面に密着強化剤が供給される。また、圧力調整機構により、基板載置台に形成された通路を通して基板の裏面と基板載置台の上面との間の隙間内の圧力が調整され、基板の表面に供給される密着強化剤がその隙間に進入することが防止される。これにより、基板の裏面が密着強化剤により親水性から疎水性に改質されることが防止される。 In this state, the adhesion reinforcing agent is supplied to the surface of the substrate by the adhesion reinforcing agent supply unit. In addition, the pressure adjusting mechanism adjusts the pressure in the gap between the back surface of the substrate and the upper surface of the substrate mounting table through a passage formed in the substrate mounting table, and the adhesion reinforcing agent supplied to the surface of the substrate is in the gap. It is prevented from entering. This prevents the back surface of the substrate from being modified from hydrophilic to hydrophobic by the adhesion enhancer.
密着強化ユニットによる密着強化処理後の基板の表面には、膜形成ユニットにより膜が形成される。その後、露光装置による露光処理前に基板の裏面が第1の洗浄ユニットにより洗浄される。 A film is formed on the surface of the substrate after the adhesion strengthening process by the adhesion strengthening unit by the film forming unit. Thereafter, the back surface of the substrate is cleaned by the first cleaning unit before the exposure processing by the exposure apparatus.
この場合、基板の裏面が疎水性を有さないので、基板の裏面の洗浄時に基板の裏面に微小な液滴が付着してもその液滴を容易に取り除くことができる。したがって、微小な液滴が基板の裏面に残留することが十分に低減される。 In this case, since the back surface of the substrate does not have hydrophobicity, even if a minute droplet adheres to the back surface of the substrate during cleaning of the back surface of the substrate, the droplet can be easily removed. Therefore, it is sufficiently reduced that minute droplets remain on the back surface of the substrate.
これにより、第1の洗浄ユニットによる洗浄後の基板が受け渡し部により露光装置へ搬送される間に、基板の裏面が汚染されることが防止される。その結果、基板の裏面の汚染に起因する露光装置内の汚染が防止され、基板の裏面の汚染に起因するパターン不良が防止される。 This prevents the back surface of the substrate from being contaminated while the substrate cleaned by the first cleaning unit is transported to the exposure apparatus by the transfer unit. As a result, contamination in the exposure apparatus due to contamination of the back surface of the substrate is prevented, and pattern defects due to contamination of the back surface of the substrate are prevented.
(2)支持部材は、基板の裏面の周縁部に当接することにより隙間の外周部を閉塞する環状部材を含み、圧力調整機構は、基板載置台の通路を通して隙間内の雰囲気を排気することにより隙間内の圧力を調整する排気装置を含んでもよい。 (2) The support member includes an annular member that closes the outer peripheral portion of the gap by contacting the peripheral edge of the back surface of the substrate, and the pressure adjusting mechanism exhausts the atmosphere in the gap through the passage of the substrate mounting table. An exhaust device that adjusts the pressure in the gap may be included.
この場合、密着強化ユニットにおいては、基板が基板載置台に載置されることにより基板の裏面の周縁部が環状部材に当接し、基板の裏面と基板載置台の上面との間に隙間が形成されるとともに、隙間の外周部が閉塞される。 In this case, in the adhesion strengthening unit, the periphery of the back surface of the substrate contacts the annular member by placing the substrate on the substrate mounting table, and a gap is formed between the back surface of the substrate and the upper surface of the substrate mounting table. In addition, the outer periphery of the gap is closed.
この状態で、排気装置により基板載置台の通路を通して隙間内の雰囲気が排気され、隙間内の圧力が基板の上側の空間に対して陰圧となるように調整される。これにより、基板の周縁部と環状部材とが密着し、隙間が密閉空間となる。その結果、基板の表面に供給される密着強化剤がその隙間に進入することが防止され、基板の裏面が親水性から疎水性に改質されることが確実に防止される。 In this state, the atmosphere in the gap is exhausted through the passage of the substrate mounting table by the exhaust device, and the pressure in the gap is adjusted to be negative with respect to the space above the substrate. Thereby, the peripheral part of a board | substrate and an annular member closely_contact | adhere, and a clearance gap becomes a sealed space. As a result, the adhesion reinforcing agent supplied to the surface of the substrate is prevented from entering the gap, and the back surface of the substrate is reliably prevented from being modified from hydrophilic to hydrophobic.
(3)支持部材は、環状部材の内側に分散的に配置されて基板の裏面を支持する複数の支持体を含んでもよい。 (3) The support member may include a plurality of support bodies that are dispersedly arranged inside the annular member and support the back surface of the substrate.
この場合、基板が基板載置台に載置されることにより基板の裏面の周縁部を除く領域が複数の支持体により支持される。これにより、隙間内の圧力が基板の上側の空間に対して陰圧となった場合に基板の中央部が変形することが防止される。 In this case, the area | region except the peripheral part of the back surface of a board | substrate is supported by a some support body by mounting a board | substrate on a board | substrate mounting base. This prevents the central portion of the substrate from being deformed when the pressure in the gap becomes negative with respect to the space above the substrate.
(4)支持部材は、隙間の外周部の少なくとも一部が開放状態となるように基板の裏面を支持する複数の支持体を含み、圧力調整機構は、基板載置台の通路を通して隙間内に不活性ガスを供給することにより隙間内の圧力を調整する不活性ガス供給装置を備えてもよい。 (4) The support member includes a plurality of supports that support the back surface of the substrate so that at least a part of the outer periphery of the gap is open, and the pressure adjustment mechanism is not inserted into the gap through the passage of the substrate mounting table. You may provide the inert gas supply apparatus which adjusts the pressure in a clearance gap by supplying active gas.
この場合、密着強化ユニットにおいては、基板が基板載置台に載置された状態で、不活性ガス供給装置により基板載置台の通路を通して隙間内に不活性ガスが供給され、隙間内の圧力が基板の上側の空間に対して陽圧となるように調整される。これにより、隙間内に供給された不活性ガスが開放状態となっている外周部から外方に流出する。その結果、基板の表面に供給される密着強化剤がその隙間に進入することが防止され、基板の裏面が親水性から疎水性に改質されることが確実に防止される。 In this case, in the adhesion strengthening unit, the inert gas is supplied into the gap through the passage of the substrate mounting table by the inert gas supply device in a state where the substrate is mounted on the substrate mounting table, and the pressure in the gap is changed to the substrate. It adjusts so that it may become a positive pressure with respect to the space above. Thereby, the inert gas supplied in the gap flows out from the outer peripheral portion in the open state. As a result, the adhesion reinforcing agent supplied to the surface of the substrate is prevented from entering the gap, and the back surface of the substrate is reliably prevented from being modified from hydrophilic to hydrophobic.
(5)圧力調整機構は、基板載置台の上面に設けられる環状の流路形成部材をさらに備え、流路形成部材は、基板載置台に載置された基板の外周端部に間隙をおいて対向する内周面を有してもよい。 (5) The pressure adjusting mechanism further includes an annular flow path forming member provided on the upper surface of the substrate mounting table, and the flow path forming member has a gap at an outer peripheral end portion of the substrate mounted on the substrate mounting table. You may have an inner peripheral surface which opposes.
この場合、不活性ガス供給装置により基板載置台の通路を通して隙間内に不活性ガスが供給されると、隙間内に供給された不活性ガスが基板の外周端部と流路形成部材の内周面との間から上方へ流出する。その結果、基板の表面に供給される密着強化剤が基板の外周端部と流路形成部材の内周面との間の空間、および基板の裏面と基板載置台の上面との間の隙間に進入することが防止され、基板の裏面および外周端部が親水性から疎水性に改質されることが確実に防止される。 In this case, when the inert gas is supplied into the gap through the passage of the substrate mounting table by the inert gas supply device, the inert gas supplied into the gap is changed between the outer peripheral edge of the substrate and the inner periphery of the flow path forming member. It flows out from between the surfaces. As a result, the adhesion enhancing agent supplied to the surface of the substrate is in the space between the outer peripheral edge of the substrate and the inner peripheral surface of the flow path forming member, and the gap between the back surface of the substrate and the upper surface of the substrate mounting table. Intrusion is prevented, and the back surface and outer peripheral edge of the substrate are reliably prevented from being modified from hydrophilic to hydrophobic.
この場合、基板の裏面の洗浄時に基板の裏面および外周端部に微小な液滴が付着してもその液滴を容易に取り除くことができる。したがって、微小な液滴が基板の裏面および外周端部に残留することが十分に低減される。 In this case, even when fine droplets adhere to the back surface and the outer peripheral edge of the substrate when cleaning the back surface of the substrate, the droplets can be easily removed. Therefore, it is sufficiently reduced that minute droplets remain on the back surface and the outer peripheral edge of the substrate.
これにより、第1の洗浄ユニットによる洗浄後の基板が受け渡し部により露光装置へ搬送される間に、基板の裏面および外周端部が汚染されることが防止される。その結果、基板の裏面および外周端部の汚染に起因する露光装置内の汚染が防止され、基板の裏面および外周端部の汚染に起因するパターン不良が防止される。 This prevents the back surface and the outer peripheral edge of the substrate from being contaminated while the substrate cleaned by the first cleaning unit is transported to the exposure apparatus by the transfer unit. As a result, contamination in the exposure apparatus due to contamination of the back surface and outer peripheral edge of the substrate is prevented, and pattern defects due to contamination of the back surface and outer peripheral edge of the substrate are prevented.
(6)第1の洗浄ユニットは、基板の裏面とともに基板の外周端部を洗浄してもよい。 (6) The first cleaning unit may clean the outer peripheral edge of the substrate together with the back surface of the substrate.
この場合、第1の洗浄ユニットにおいては、基板の裏面とともに外周端部が洗浄される。これにより、露光処理前の基板の外周端部が清浄に保たれる。また、基板の外周端部が親水性から疎水性に改質されないので、基板の外周端部の洗浄時に基板の外周端部に微小な液滴が付着してもその液滴を容易に取り除くことができる。 In this case, in the first cleaning unit, the outer peripheral edge is cleaned together with the back surface of the substrate. As a result, the outer peripheral edge of the substrate before the exposure process is kept clean. In addition, since the outer peripheral edge of the substrate is not modified from hydrophilic to hydrophobic, even if a minute droplet adheres to the outer peripheral edge of the substrate during cleaning of the outer peripheral edge of the substrate, the liquid droplet can be easily removed. Can do.
(7)第1の洗浄ユニットは、基板を略水平に保持する基板保持手段と、基板保持手段により保持された基板をその基板に垂直な軸の周りで回転させる回転駆動手段と、基板保持手段に保持された基板の表面上に処理液を供給する処理液供給手段と、処理液供給手段により基板の表面上に処理液が供給された後に、基板の表面上に供給された処理液が基板の中心部から外方へ移動することにより基板の表面上から排除されるように不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段とを備えてもよい。 (7) The first cleaning unit includes a substrate holding unit that holds the substrate substantially horizontally, a rotation driving unit that rotates the substrate held by the substrate holding unit around an axis perpendicular to the substrate, and a substrate holding unit. A processing liquid supply means for supplying the processing liquid onto the surface of the substrate held by the substrate, and the processing liquid supplied on the surface of the substrate after the processing liquid is supplied onto the surface of the substrate by the processing liquid supply means. And an inert gas supply means for supplying an inert gas so as to be removed from the surface of the substrate by moving outward from the center of the substrate.
第1の洗浄ユニットにおいては、基板保持手段により基板が略水平に保持され、回転駆動手段により基板がその基板に垂直な軸の周りで回転される。また、処理液供給手段により基板の表面上に処理液が供給される。そして、不活性ガス供給手段により、基板の表面上に供給された処理液が基板の表面上の中心部から外方へ移動することにより基板上から排除されるように不活性ガスが供給される。 In the first cleaning unit, the substrate is held substantially horizontally by the substrate holding means, and the substrate is rotated around an axis perpendicular to the substrate by the rotation driving means. Further, the processing liquid is supplied onto the surface of the substrate by the processing liquid supply means. Then, the inert gas is supplied by the inert gas supply means so that the processing liquid supplied onto the surface of the substrate is removed from the substrate by moving outward from the central portion on the surface of the substrate. .
これにより、基板の表面上の処理液を一体的に基板の外方へ移動させることができるので、基板の表面が疎水性を有する場合でも、基板の表面に微細な液滴が残留することが防止される。その結果、基板の表面の汚染に起因する露光装置内の汚染が防止され、基板の表面の汚染に起因するパターン不良が防止される。 As a result, the processing liquid on the surface of the substrate can be integrally moved to the outside of the substrate, so that even when the surface of the substrate is hydrophobic, fine droplets may remain on the surface of the substrate. Is prevented. As a result, contamination in the exposure apparatus due to contamination of the substrate surface is prevented, and pattern defects due to contamination of the substrate surface are prevented.
(8)処理部および受け渡し部の少なくとも一方は、露光装置による露光処理後に基板の裏面を洗浄する第2の洗浄ユニットをさらに含んでもよい。 (8) At least one of the processing unit and the transfer unit may further include a second cleaning unit that cleans the back surface of the substrate after the exposure processing by the exposure apparatus.
この場合、処理部および受け渡し部の少なくとも一方において、露光装置による露光処理後に、第2の洗浄ユニットにより基板の裏面が洗浄される。 In this case, the back surface of the substrate is cleaned by the second cleaning unit after the exposure processing by the exposure apparatus in at least one of the processing unit and the transfer unit.
この場合においても、基板の裏面が疎水性を有さないので、基板の裏面の洗浄時に基板の裏面に微小な液滴が付着してもその液滴を容易に取り除くことができる。したがって、微小な液滴が基板の裏面に残留することが十分に低減される。 Even in this case, since the back surface of the substrate does not have hydrophobicity, even if a minute droplet adheres to the back surface of the substrate during cleaning of the back surface of the substrate, the droplet can be easily removed. Therefore, it is sufficiently reduced that minute droplets remain on the back surface of the substrate.
これにより、第2の洗浄ユニットによる洗浄後の基板が搬送される間に、基板の裏面が汚染されることが防止される。その結果、基板の裏面の汚染に起因する処理部内の汚染が防止される。 This prevents the back surface of the substrate from being contaminated while the substrate cleaned by the second cleaning unit is being transported. As a result, contamination in the processing unit due to contamination of the back surface of the substrate is prevented.
(9)膜形成ユニットは、露光装置による露光処理前に基板の表面に感光性膜を形成する感光性膜形成ユニットと、密着強化ユニットによる密着強化処理後かつ感光性膜形成ユニットによる感光性膜の形成前に基板の表面に反射防止膜を形成する反射防止膜形成ユニットとを含んでもよい。 (9) The film forming unit includes a photosensitive film forming unit that forms a photosensitive film on the surface of the substrate before the exposure processing by the exposure apparatus; An antireflection film forming unit that forms an antireflection film on the surface of the substrate before the formation of the film may be included.
この場合、密着強化ユニットによる密着強化処理後の基板の表面に、反射防止膜形成ユニットにより反射防止膜が形成される。これにより、基板の表面に対する反射防止膜の密着力が向上する。また、反射防止膜形成ユニットにより反射防止膜が形成された基板の表面に、感光性膜形成ユニットにより感光性膜が形成される。これにより、露光装置による露光処理時に発生する定在波およびハレーションが抑制される。 In this case, an antireflection film is formed by the antireflection film forming unit on the surface of the substrate after the adhesion reinforcement processing by the adhesion reinforcement unit. This improves the adhesion of the antireflection film to the surface of the substrate. A photosensitive film is formed on the surface of the substrate on which the antireflection film is formed by the antireflection film forming unit. As a result, standing waves and halation that occur during exposure processing by the exposure apparatus are suppressed.
(10)第2の発明に係る基板処理方法は、露光装置に隣接するように配置され、密着強化ユニット、膜形成ユニットおよび洗浄ユニットを備えた基板処理装置において基板を処理する基板処理方法であって、露光装置による露光処理前に密着強化ユニットにより基板の表面に密着強化処理を行う工程と密着強化ユニットによる密着強化処理後で露光装置による露光処理前に膜形成ユニットにより基板の表面に膜を形成する工程と、膜形成ユニットによる膜の形成後で露光装置による露光処理前に洗浄ユニットにより基板の裏面を洗浄する工程と、洗浄ユニットによる洗浄後の基板を露光装置に搬送する工程とを備え、密着強化処理を行う工程は、基板が載置される上面を有するとともに上面に開口する通路を有する基板載置台に、基板の裏面と基板載置台の上面との間に隙間が形成されるように基板を載置する工程と、基板載置台に載置された基板の表面に密着強化剤を供給する工程と、基板の表面に供給される密着強化剤が隙間に進入しないように、通路を通して隙間内の圧力を調整する工程とを備えるものである。 (10) A substrate processing method according to a second aspect of the present invention is a substrate processing method for processing a substrate in a substrate processing apparatus that is disposed adjacent to an exposure apparatus and includes an adhesion strengthening unit, a film forming unit, and a cleaning unit. A step of performing an adhesion strengthening process on the surface of the substrate by the adhesion enhancing unit before the exposure process by the exposure apparatus, and a film forming unit on the surface of the substrate by the film forming unit after the exposure enhancing process by the exposure apparatus after the adhesion strengthening process by the exposure apparatus. And a step of cleaning the back surface of the substrate by a cleaning unit after film formation by the film forming unit and before exposure processing by the exposure device, and a step of transporting the substrate cleaned by the cleaning unit to the exposure device. The step of performing the adhesion strengthening process is performed on the substrate mounting table having a top surface on which the substrate is placed and a passage opening on the top surface. A step of placing the substrate such that a gap is formed between the substrate and the upper surface of the substrate mounting table, a step of supplying an adhesion reinforcing agent to the surface of the substrate placed on the substrate mounting table, and a surface of the substrate. And a step of adjusting the pressure in the gap through the passage so that the supplied adhesion reinforcing agent does not enter the gap.
この基板処理方法においては、露光装置による露光処理前に密着強化ユニットにより基板の表面に密着強化処理が行われ、密着強化ユニットによる密着強化処理後で露光装置による露光処理前に膜形成ユニットにより基板の表面に膜が形成され、膜形成ユニットによる膜の形成後で露光装置による露光処理前に洗浄ユニットにより基板の裏面が洗浄される。洗浄ユニットによる洗浄後の基板は、露光装置に搬送され、露光装置により露光処理が施される。 In this substrate processing method, the adhesion strengthening process is performed on the surface of the substrate by the adhesion enhancing unit before the exposure process by the exposure apparatus, and the substrate is formed by the film forming unit after the adhesion enhancing process by the adhesion enhancing unit and before the exposure process by the exposure apparatus. A film is formed on the surface of the substrate, and the back surface of the substrate is cleaned by the cleaning unit after the film formation by the film forming unit and before the exposure processing by the exposure apparatus. The substrate cleaned by the cleaning unit is transported to the exposure apparatus and subjected to exposure processing by the exposure apparatus.
密着強化処理を行う工程においては、基板が載置される上面を有するとともに上面に開口する通路を有する基板載置台に、基板の裏面と基板載置台の上面との間に隙間が形成されるように基板が載置される。 In the step of performing the adhesion strengthening process, a gap is formed between the back surface of the substrate and the upper surface of the substrate mounting table on the substrate mounting table having a top surface on which the substrate is mounted and a passage opening on the upper surface. A substrate is placed on the substrate.
この状態で、密着強化剤供給部により基板の表面に密着強化剤が供給される。そして、基板載置台に形成された通路を通して基板の裏面と基板載置台の上面との間の隙間内の圧力が調整され、基板の表面に供給される密着強化剤がその隙間に進入することが防止される。これにより、基板の裏面が密着強化剤により親水性から疎水性に改質されることが防止される。 In this state, the adhesion reinforcing agent is supplied to the surface of the substrate by the adhesion reinforcing agent supply unit. Then, the pressure in the gap between the back surface of the substrate and the upper surface of the substrate mounting table is adjusted through the passage formed in the substrate mounting table, and the adhesion reinforcing agent supplied to the surface of the substrate may enter the clearance. Is prevented. This prevents the back surface of the substrate from being modified from hydrophilic to hydrophobic by the adhesion enhancer.
これにより、基板の裏面が疎水性を有さないので、洗浄ユニットによる基板の裏面の洗浄時に基板の裏面に微小な液滴が付着してもその液滴を容易に取り除くことができる。したがって、微小な液滴が基板の裏面に残留することが十分に低減される。 Thereby, since the back surface of the substrate does not have hydrophobicity, even when a minute droplet adheres to the back surface of the substrate when the back surface of the substrate is cleaned by the cleaning unit, the droplet can be easily removed. Therefore, it is sufficiently reduced that minute droplets remain on the back surface of the substrate.
それにより、洗浄ユニットによる洗浄後の基板が露光装置へ搬送される間に、基板の裏面が汚染されることが防止される。その結果、基板の裏面の汚染に起因する露光装置内の汚染が防止され、基板の裏面の汚染に起因するパターン不良が防止される。 This prevents the back surface of the substrate from being contaminated while the substrate cleaned by the cleaning unit is transported to the exposure apparatus. As a result, contamination in the exposure apparatus due to contamination of the back surface of the substrate is prevented, and pattern defects due to contamination of the back surface of the substrate are prevented.
本発明においては、基板の表面の密着強化処理時に、密着強化剤が基板の裏面に回り込むことが防止される。これにより、基板の裏面が密着強化剤により親水性から疎水性に改質されることが防止される。 In the present invention, it is possible to prevent the adhesion reinforcing agent from entering the back surface of the substrate during the adhesion reinforcement processing on the surface of the substrate. This prevents the back surface of the substrate from being modified from hydrophilic to hydrophobic by the adhesion enhancer.
密着強化処理後の基板の表面には膜が形成される。その後、露光装置による露光処理前に基板の裏面が洗浄される。この場合、基板の裏面が疎水性を有さないので、基板の裏面の洗浄時に基板の裏面に微小な液滴が付着してもその液滴を容易に取り除くことができる。したがって、微小な液滴が基板の裏面に残留することが十分に低減される。 A film is formed on the surface of the substrate after the adhesion strengthening treatment. Thereafter, the back surface of the substrate is cleaned before the exposure processing by the exposure apparatus. In this case, since the back surface of the substrate does not have hydrophobicity, even if a minute droplet adheres to the back surface of the substrate during cleaning of the back surface of the substrate, the droplet can be easily removed. Therefore, it is sufficiently reduced that minute droplets remain on the back surface of the substrate.
これにより、洗浄後の基板が露光装置へ搬送される間に、基板の裏面が汚染されることが防止される。その結果、基板の裏面の汚染に起因する露光装置内の汚染が防止され、基板の裏面の汚染に起因するパターン不良が防止される。 This prevents the back surface of the substrate from being contaminated while the cleaned substrate is transported to the exposure apparatus. As a result, contamination in the exposure apparatus due to contamination of the back surface of the substrate is prevented, and pattern defects due to contamination of the back surface of the substrate are prevented.
以下、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置および基板処理方法について図面を参照しつつ説明する。以下の説明において、基板とは、半導体基板、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板等をいう。 Hereinafter, a substrate processing apparatus and a substrate processing method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the substrate refers to a semiconductor substrate, a liquid crystal display substrate, a plasma display substrate, a photomask glass substrate, an optical disk substrate, a magnetic disk substrate, a magneto-optical disk substrate, a photomask substrate, and the like. Say.
また、以下の説明では、回路パターン等の各種パターンが形成される基板の面を表面と称し、その反対側の面を裏面と称する。 In the following description, the surface of the substrate on which various patterns such as circuit patterns are formed is referred to as the front surface, and the opposite surface is referred to as the back surface.
(1)基板処理装置の構成
図1は、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。なお、図1ならびに後述する図2〜図4には、位置関係を明確にするために互いに直交するX方向、Y方向およびZ方向を示す矢印を付している。X方向およびY方向は水平面内で互いに直交し、Z方向は鉛直方向に相当する。なお、各方向において矢印が向かう方向を+方向、その反対の方向を−方向とする。また、Z方向を中心とする回転方向をθ方向としている。
(1) Configuration of Substrate Processing Apparatus FIG. 1 is a plan view of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. In addition, in FIG. 1 and FIGS. 2 to 4 to be described later, in order to clarify the positional relationship, arrows indicating the X direction, the Y direction, and the Z direction orthogonal to each other are attached. The X direction and the Y direction are orthogonal to each other in the horizontal plane, and the Z direction corresponds to the vertical direction. In each direction, the direction in which the arrow points is the + direction, and the opposite direction is the-direction. Further, the rotation direction around the Z direction is defined as the θ direction.
図1に示すように、基板処理装置500は、インデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14およびインターフェースブロック15を含む。また、インターフェースブロック15に隣接するように露光装置16が配置される。露光装置16においては、液浸法により基板Wに露光処理が行われる。
As shown in FIG. 1, the
本実施の形態に係る基板処理装置500においては、Y方向に沿ってインデクサブロック9、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、現像処理ブロック12、レジストカバー膜用処理ブロック13、レジストカバー膜除去ブロック14およびインターフェースブロック15がこの順で並設されている。以下、各処理ブロック9〜15について説明する。
In the
インデクサブロック9は、各処理ブロック9〜15の動作を制御するメインコントローラ(制御部)30、複数のキャリア載置台40およびインデクサロボットIRを含む。インデクサロボットIRには、基板Wを受け渡すためのハンドIRHが設けられる。
The
反射防止膜用処理ブロック10は、反射防止膜用熱処理部100,101、反射防止膜用塗布処理部50および第1のセンターロボットCR1を含む。反射防止膜用塗布処理部50は、第1のセンターロボットCR1を挟んで反射防止膜用熱処理部100,101に対向して設けられる。第1のセンターロボットCR1には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH1,CRH2が上下に設けられる。
The antireflection
インデクサブロック9と反射防止膜用処理ブロック10との間には、雰囲気遮断用の隔壁17が設けられる。この隔壁17には、インデクサブロック9と反射防止膜用処理ブロック10との間で基板Wの受け渡しを行うための基板載置部PASS1,PASS2が上下に近接して設けられる。上側の基板載置部PASS1は、基板Wをインデクサブロック9から反射防止膜用処理ブロック10へ搬送する際に用いられ、下側の基板載置部PASS2は、基板Wを反射防止膜用処理ブロック10からインデクサブロック9へ搬送する際に用いられる。
A
また、基板載置部PASS1,PASS2には、基板Wの有無を検出する光学式のセンサ(図示せず)が設けられている。それにより、基板載置部PASS1,PASS2において基板Wが載置されているか否かの判定を行うことが可能となる。また、基板載置部PASS1,PASS2には、固定設置された複数本の支持ピンが設けられている。なお、上記の光学式のセンサおよび支持ピンは、後述する基板載置部PASS3〜PASS13および載置兼冷却ユニットPASS−CPにも同様に設けられる。 The substrate platforms PASS1, PASS2 are provided with optical sensors (not shown) that detect the presence or absence of the substrate W. Thereby, it is possible to determine whether or not the substrate W is placed on the substrate platforms PASS1 and PASS2. The substrate platforms PASS1, PASS2 are provided with a plurality of support pins fixedly installed. The optical sensors and the support pins are also provided in the same manner on the substrate platforms PASS3 to PASS13 and the placement / cooling unit PASS-CP, which will be described later.
レジスト膜用処理ブロック11は、レジスト膜用熱処理部110,111、レジスト膜用塗布処理部60および第2のセンターロボットCR2を含む。レジスト膜用塗布処理部60は、第2のセンターロボットCR2を挟んでレジスト膜用熱処理部110,111に対向して設けられる。第2のセンターロボットCR2には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH3,CRH4が上下に設けられる。
The resist
反射防止膜用処理ブロック10とレジスト膜用処理ブロック11との間には、雰囲気遮断用の隔壁18が設けられる。この隔壁18には、反射防止膜用処理ブロック10とレジスト膜用処理ブロック11との間で基板Wの受け渡しを行うための基板載置部PASS3,PASS4が上下に近接して設けられる。上側の基板載置部PASS3は、基板Wを反射防止膜用処理ブロック10からレジスト膜用処理ブロック11へ搬送する際に用いられ、下側の基板載置部PASS4は、基板Wをレジスト膜用処理ブロック11から反射防止膜用処理ブロック10へ搬送する際に用いられる。
A
現像処理ブロック12は、現像用熱処理部120,121、現像処理部70および第3のセンターロボットCR3を含む。現像処理部70は、第3のセンターロボットCR3を挟んで現像用熱処理部120,121に対向して設けられる。第3のセンターロボットCR3には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH5,CRH6が上下に設けられる。
The
レジスト膜用処理ブロック11と現像処理ブロック12との間には、雰囲気遮断用の隔壁19が設けられる。この隔壁19には、レジスト膜用処理ブロック11と現像処理ブロック12との間で基板Wの受け渡しを行うための基板載置部PASS5,PASS6が上下に近接して設けられる。上側の基板載置部PASS5は、基板Wをレジスト膜用処理ブロック11から現像処理ブロック12へ搬送する際に用いられ、下側の基板載置部PASS6は、基板Wを現像処理ブロック12からレジスト膜用処理ブロック11へ搬送する際に用いられる。
A
レジストカバー膜用処理ブロック13は、レジストカバー膜用熱処理部130,131、レジストカバー膜用塗布処理部80および第4のセンターロボットCR4を含む。レジストカバー膜用塗布処理部80は、第4のセンターロボットCR4を挟んでレジストカバー膜用熱処理部130,131に対向して設けられる。第4のセンターロボットCR4には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH7,CRH8が上下に設けられる。
The resist cover
現像処理ブロック12とレジストカバー膜用処理ブロック13との間には、雰囲気遮断用の隔壁20が設けられる。この隔壁20には、現像処理ブロック12とレジストカバー膜用処理ブロック13との間で基板Wの受け渡しを行うための基板載置部PASS7,PASS8が上下に近接して設けられる。上側の基板載置部PASS7は、基板Wを現像処理ブロック12からレジストカバー膜用処理ブロック13へ搬送する際に用いられ、下側の基板載置部PASS8は、基板Wをレジストカバー膜用処理ブロック13から現像処理ブロック12へ搬送する際に用いられる。
A
レジストカバー膜除去ブロック14は、露光後ベーク用熱処理部140,141、レジストカバー膜除去用処理部90および第5のセンターロボットCR5を含む。露光後ベーク用熱処理部141はインターフェースブロック15に隣接し、後述するように、基板載置部PASS11,PASS12を備える。レジストカバー膜除去用処理部90は、第5のセンターロボットCR5を挟んで露光後ベーク用熱処理部140,141に対向して設けられる。第5のセンターロボットCR5には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH9,CRH10が上下に設けられる。
The resist cover
レジストカバー膜用処理ブロック13とレジストカバー膜除去ブロック14との間には、雰囲気遮断用の隔壁21が設けられる。この隔壁21には、レジストカバー膜用処理ブロック13とレジストカバー膜除去ブロック14との間で基板Wの受け渡しを行うための基板載置部PASS9,PASS10が上下に近接して設けられる。上側の基板載置部PASS9は、基板Wをレジストカバー膜用処理ブロック13からレジストカバー膜除去ブロック14へ搬送する際に用いられ、下側の基板載置部PASS10は、基板Wをレジストカバー膜除去ブロック14からレジストカバー膜用処理ブロック13へ搬送する際に用いられる。
A
インターフェースブロック15は、送りバッファ部SBF、洗浄/乾燥処理ユニットSD1、第6のセンターロボットCR6、エッジ露光部EEW、戻りバッファ部RBF、載置兼冷却ユニットPASS−CP(以下、P−CPと略記する)、基板載置部PASS13、インターフェース用搬送機構IFRおよび洗浄/乾燥処理ユニットSD2を含む。洗浄/乾燥処理ユニットSD1は、露光処理前の基板Wの洗浄および乾燥処理を行い、洗浄/乾燥処理ユニットSD2は、露光処理後の基板Wの洗浄および乾燥処理を行う。洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2の詳細は後述する。
The
また、第6のセンターロボットCR6には、基板Wを受け渡すためのハンドCRH11,CRH12(図4参照)が上下に設けられ、インターフェース用搬送機構IFRには、基板Wを受け渡すためのハンドH1,H2(図4参照)が上下に設けられる。インターフェースブロック15の詳細については後述する。
The sixth central robot CR6 is provided with hands CRH11 and CRH12 (see FIG. 4) for delivering the substrate W up and down, and a hand H1 for delivering the substrate W to the interface transport mechanism IFR. , H2 (see FIG. 4) are provided above and below. Details of the
図2は図1の基板処理装置500の一方の側面図であり、図3は図1の基板処理装置500の他方の側面図である。なお、図2においては、基板処理装置500の+X側に設けられるものを主に示し、図3においては、基板処理装置500の−X側に設けられるものを主に示している。
2 is a side view of one side of the
まず、図2を用いて、基板処理装置500の+X側の構成について説明する。図2に示すように、反射防止膜用処理ブロック10の反射防止膜用塗布処理部50(図1参照)には、3個の塗布ユニットBARCが上下に積層配置されている。各塗布ユニットBARCは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック51およびスピンチャック51上に保持された基板Wに反射防止膜の塗布液を供給する供給ノズル52を備える。
First, the configuration on the + X side of the
レジスト膜用処理ブロック11のレジスト膜用塗布処理部60(図1参照)には、3個の塗布ユニットRESが上下に積層配置されている。各塗布ユニットRESは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック61およびスピンチャック61上に保持された基板Wにレジスト膜の塗布液を供給する供給ノズル62を備える。
In the resist film coating processing section 60 (see FIG. 1) of the resist
現像処理ブロック12の現像処理部70には、5個の現像処理ユニットDEVが上下に積層配置されている。各現像処理ユニットDEVは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック71およびスピンチャック71上に保持された基板Wに現像液を供給する供給ノズル72を備える。
In the
レジストカバー膜用処理ブロック13のレジストカバー膜用塗布処理部80(図1参照)には、3個の塗布ユニットCOVが上下に積層配置されている。各塗布ユニットCOVは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック81およびスピンチャック81上に保持された基板Wにレジストカバー膜の塗布液を供給する供給ノズル82を備える。レジストカバー膜の塗布液としては、レジストおよび水との親和力が低い材料(レジストおよび水との反応性が低い材料)を用いることができる。例えば、フッ素樹脂である。塗布ユニットCOVは、基板Wを回転させながら基板W上に塗布液を塗布することにより、基板W上に形成されたレジスト膜上にレジストカバー膜を形成する。
In the resist cover film coating processing section 80 (see FIG. 1) of the resist cover
レジストカバー膜除去ブロック14のレジストカバー膜除去用処理部90(図1参照)には、3個の除去ユニットREMが上下に積層配置されている。各除去ユニットREMは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック91およびスピンチャック91上に保持された基板Wに剥離液(例えばフッ素樹脂)を供給する供給ノズル92を備える。除去ユニットREMは、基板Wを回転させながら基板W上に剥離液を塗布することにより、基板W上に形成されたレジストカバー膜を除去する。
In the resist cover film removal processing section 90 (see FIG. 1) of the resist cover
なお、除去ユニットREMにおけるレジストカバー膜の除去方法は上記の例に限定されない。例えば、基板Wの上方においてスリットノズルを移動させつつ基板W上に剥離液を供給することによりレジストカバー膜を除去してもよい。 The method for removing the resist cover film in the removal unit REM is not limited to the above example. For example, the resist cover film may be removed by supplying a stripping solution onto the substrate W while moving the slit nozzle above the substrate W.
インターフェースブロック15内の+X側には、エッジ露光部EEWおよび3個の洗浄/乾燥処理ユニットSD2が上下に積層配置される。エッジ露光部EEWは、基板Wを水平姿勢で吸着保持して回転するスピンチャック98およびスピンチャック98上に保持された基板Wの周縁を露光する光照射器99を備える。
On the + X side in the
次に、図3を用いて、基板処理装置500の−X側の構成について説明する。図3に示すように、反射防止膜用処理ブロック10の反射防止膜用熱処理部100,101には、2個の密着強化ユニットAHL、2個の加熱ユニット(ホットプレート)HPおよび2個の冷却ユニット(クーリングプレート)CPがそれぞれ積層配置される。また、反射防止膜用熱処理部100,101には、最上部に密着強化ユニットAHL、加熱ユニットHPおよび冷却ユニットCPの温度を制御するローカルコントローラLCが各々配置される。
Next, the configuration on the −X side of the
レジスト膜用処理ブロック11のレジスト膜用熱処理部110,111には、2個の加熱ユニットHPおよび2個の冷却ユニットCPがそれぞれ積層配置される。また、レジスト膜用熱処理部110,111には、最上部に加熱ユニットHPおよび冷却ユニットCPの温度を制御するローカルコントローラLCが各々配置される。
Two heating units HP and two cooling units CP are stacked in the resist film
現像処理ブロック12の現像用熱処理部120,121には、2個の加熱ユニットHPおよび2個の冷却ユニットCPがそれぞれ積層配置される。また、現像用熱処理部120,121には、最上部に加熱ユニットHPおよび冷却ユニットCPの温度を制御するローカルコントローラLCが各々配置される。
In the development
レジストカバー膜用処理ブロック13のレジストカバー膜用熱処理部130,131には、2個の加熱ユニットHPおよび2個の冷却ユニットCPがそれぞれ積層配置される。また、レジストカバー膜用熱処理部130,131には、最上部に加熱ユニットHPおよび冷却ユニットCPの温度を制御するローカルコントローラLCが各々配置される。
In the resist cover film
レジストカバー膜除去ブロック14の露光後ベーク用熱処理部140には、2個の加熱ユニットHPおよび2個の冷却ユニットCPが上下に積層配置され、露光後ベーク用熱処理部141には2個の加熱ユニットHP、2個の冷却ユニットCPおよび基板載置部PASS11,PASS12が上下に積層配置される。また、露光後ベーク用熱処理部140,141には、最上部に加熱ユニットHPおよび冷却ユニットCPの温度を制御するローカルコントローラLCが各々配置される。
In the post-exposure baking
次に、図4を用いてインターフェースブロック15について詳細に説明する。
Next, the
図4は、インターフェースブロック15を露光装置16側から見た概略側面図である。図4に示すように、インターフェースブロック15内において、−X側には、送りバッファ部SBFおよび3個の洗浄/乾燥処理ユニットSD1が積層配置される。また、インターフェースブロック15内において、+X側の上部には、エッジ露光部EEWが配置される。
FIG. 4 is a schematic side view of the
エッジ露光部EEWの下方において、インターフェースブロック15内の略中央部には、戻りバッファ部RBF、2個の載置兼冷却ユニットP−CPおよび基板載置部PASS13が上下に積層配置される。エッジ露光部EEWの下方において、インターフェースブロック15内の+X側には、3個の洗浄/乾燥処理ユニットSD2が上下に積層配置される。
Below the edge exposure unit EEW, a return buffer unit RBF, two placement / cooling units P-CP, and a substrate platform PASS13 are stacked in a vertical direction at a substantially central portion in the
また、インターフェースブロック15内の下部には、第6のセンターロボットCR6およびインターフェース用搬送機構IFRが設けられている。第6のセンターロボットCR6は、送りバッファ部SBFおよび洗浄/乾燥処理ユニットSD1と、エッジ露光部EEW、戻りバッファ部RBF、載置兼冷却ユニットP−CPおよび基板載置部PASS13との間で上下動可能かつ回動可能に設けられている。インターフェース用搬送機構IFRは、戻りバッファ部RBF、載置兼冷却ユニットP−CPおよび基板載置部PASS13と、洗浄/乾燥処理ユニットSD2との間で上下動可能かつ回動可能に設けられている。
A sixth center robot CR6 and an interface transport mechanism IFR are provided in the lower part of the
(2)基板処理装置の動作
次に、本実施の形態に係る基板処理装置500の動作について図1〜図4を参照しながら説明する。
(2) Operation of Substrate Processing Apparatus Next, the operation of the
(2−1)インデクサブロック〜レジストカバー膜除去ブロックの動作
まず、インデクサブロック9〜レジストカバー膜除去ブロック14の動作について簡単に説明する。
(2-1) Operation of Indexer Block to Resist Cover Film Removal Block First, the operation of the
インデクサブロック9のキャリア載置台40の上には、複数枚の基板Wを多段に収納するキャリアCが搬入される。インデクサロボットIRは、ハンドIRHを用いてキャリアC内に収納された未処理の基板Wを取り出す。なお、本実施の形態において、未処理の基板Wは、その表面、裏面および外周端部が親水性を有する。
On the carrier mounting table 40 of the
その後、インデクサロボットIRは±X方向に移動しつつ±θ方向に回転移動し、未処理の基板Wを基板載置部PASS1に載置する。 Thereafter, the indexer robot IR rotates in the ± θ direction while moving in the ± X direction, and places the unprocessed substrate W on the substrate platform PASS1.
本実施の形態においては、キャリアCとしてFOUP(front opening unified pod)を採用しているが、これに限定されず、SMIF(Standard Mechanical Inter Face)ポッドや収納基板Wを外気に曝すOC(open cassette)等を用いてもよい。 In the present embodiment, a front opening unified pod (FOUP) is adopted as the carrier C. However, the present invention is not limited to this, and an OC (open cassette) that exposes the standard mechanical interface (SMIF) pod and the storage substrate W to the outside air. ) Etc. may be used.
さらに、インデクサロボットIR、第1〜第6のセンターロボットCR1〜CR6およびインターフェース用搬送機構IFRには、それぞれ基板Wに対して直線的にスライドさせてハンドの進退動作を行う直動型搬送ロボットを用いているが、これに限定されず、関節を動かすことにより直線的にハンドの進退動作を行う多関節型搬送ロボットを用いてもよい。 Further, the indexer robot IR, the first to sixth center robots CR1 to CR6, and the interface transport mechanism IFR are each provided with a direct-acting transport robot that slides linearly with respect to the substrate W and moves the hand back and forth. Although it is used, the present invention is not limited to this, and an articulated transfer robot that linearly moves the hand forward and backward by moving the joint may be used.
基板載置部PASS1に載置された未処理の基板Wは、反射防止膜用処理ブロック10の第1のセンターロボットCR1により受け取られる。第1のセンターロボットCR1は、その基板Wを反射防止膜用熱処理部100,101に搬入する。反射防止膜用熱処理部100,101の密着強化ユニットAHL(図3)では、基板Wの表面に密着強化剤が供給される(密着強化処理)。密着強化ユニットAHLの詳細な構成および密着強化処理については後述する。
The unprocessed substrate W placed on the substrate platform PASS1 is received by the first central robot CR1 of the antireflection
その後、第1のセンターロボットCR1は、反射防止膜用熱処理部100,101から密着強化処理済みの基板Wを取り出し、その基板Wを反射防止膜用塗布処理部50に搬入する。この反射防止膜用塗布処理部50では、露光時に発生する低在波やハレーションを減少させるために、塗布ユニットBARCにより基板W上に反射防止膜が塗布形成される。
Thereafter, the first central robot CR1 takes out the substrate W that has been subjected to the adhesion strengthening process from the antireflection film
次に、第1のセンターロボットCR1は、反射防止膜用塗布処理部50から塗布処理済みの基板Wを取り出し、その基板Wを反射防止膜用熱処理部100,101に搬入する。その後、第1のセンターロボットCR1は、反射防止膜用熱処理部100,101から熱処理済みの基板Wを取り出し、その基板Wを基板載置部PASS3に載置する。
Next, the first central robot CR1 takes out the coated substrate W from the antireflection film
基板載置部PASS3に載置された基板Wは、レジスト膜用処理ブロック11の第2のセンターロボットCR2により受け取られる。第2のセンターロボットCR2は、その基板Wをレジスト膜用熱処理部110,111に搬入する。
The substrate W placed on the substrate platform PASS3 is received by the second central robot CR2 of the resist
その後、第2のセンターロボットCR2は、レジスト膜用熱処理部110,111から熱処理済みの基板Wを取り出し、その基板Wをレジスト膜用塗布処理部60に搬入する。このレジスト膜用塗布処理部60では、塗布ユニットRESにより反射防止膜が塗布形成された基板W上にレジスト膜が塗布形成される。
Thereafter, the second central robot CR2 takes out the heat-treated substrate W from the resist film
次に、第2のセンターロボットCR2は、レジスト膜用塗布処理部60から塗布処理済みの基板Wを取り出し、その基板Wをレジスト膜用熱処理部110,111に搬入する。その後、第2のセンターロボットCR2は、レジスト膜用熱処理部110,111から熱処理済みの基板Wを取り出し、その基板Wを基板載置部PASS5に載置する。
Next, the second central robot CR2 takes out the coated substrate W from the resist film
基板載置部PASS5に載置された基板Wは、現像処理ブロック12の第3のセンターロボットCR3により受け取られる。第3のセンターロボットCR3は、その基板Wを基板載置部PASS7に載置する。
The substrate W placed on the substrate platform PASS5 is received by the third central robot CR3 of the
基板載置部PASS7に載置された基板Wは、レジストカバー膜用処理ブロック13の第4のセンターロボットCR4により受け取られる。第4のセンターロボットCR4は、その基板Wをレジストカバー膜用塗布処理部80に搬入する。このレジストカバー膜用塗布処理部80では、塗布ユニットCOVによりレジスト膜が塗布形成された基板W上にレジストカバー膜が塗布形成される。レジストカバー膜が形成されることにより、露光装置16において基板Wが液体と接触しても、レジスト膜が液体と接触することが防止され、レジストの成分が液体中に溶出することが防止される。
The substrate W placed on the substrate platform PASS7 is received by the fourth central robot CR4 of the resist cover
次に、第4のセンターロボットCR4は、レジストカバー膜用塗布処理部80から塗布処理済みの基板Wを取り出し、その基板Wをレジストカバー膜用熱処理部130,131に搬入する。その後、第4のセンターロボットCR4は、レジストカバー膜用熱処理部130,131から熱処理済みの基板Wを取り出し、その基板Wを基板載置部PASS9に載置する。
Next, the fourth central robot CR4 takes out the coated substrate W from the resist cover film
基板載置部PASS9に載置された基板Wは、レジストカバー膜除去ブロック14の第5のセンターロボットCR5により受け取られる。第5のセンターロボットCR5は、その基板Wを基板載置部PASS11に載置する。
The substrate W placed on the substrate platform PASS9 is received by the fifth central robot CR5 of the resist cover
基板載置部PASS11に載置された基板Wは、インターフェースブロック15の第6のセンターロボットCR6により受け取られ、後述するように、インターフェースブロック15および露光装置16において所定の処理が施される。インターフェースブロック15および露光装置16において基板Wに所定の処理が施された後、その基板Wは、第6のセンターロボットCR6によりレジストカバー膜除去ブロック14の露光後ベーク用熱処理部141に搬入される。
The substrate W placed on the substrate platform PASS11 is received by the sixth central robot CR6 of the
露光後ベーク用熱処理部141においては、基板Wに対して露光後ベーク(PEB)が行われる。その後、第6のセンターロボットCR6は、露光後ベーク用熱処理部141から基板Wを取り出し、その基板Wを基板載置部PASS12に載置する。
In the post-exposure baking
なお、本実施の形態においては露光後ベーク用熱処理部141により露光後ベークを行っているが、露光後ベーク用熱処理部140により露光後ベークを行ってもよい。
In this embodiment, post-exposure bake
基板載置部PASS12に載置された基板Wは、レジストカバー膜除去ブロック14の第5のセンターロボットCR5により受け取られる。第5のセンターロボットCR5は、その基板Wをレジストカバー膜除去用処理部90に搬入する。レジストカバー膜除去用処理部90においては、レジストカバー膜が除去される。
The substrate W placed on the substrate platform PASS12 is received by the fifth central robot CR5 of the resist cover
次に、第5のセンターロボットCR5は、レジストカバー膜除去用処理部90から処理済みの基板Wを取り出し、その基板Wを基板載置部PASS10に載置する。
Next, the fifth central robot CR5 takes out the processed substrate W from the resist cover film
基板載置部PASS10に載置された基板Wは、レジストカバー膜用処理ブロック13の第4のセンターロボットCR4により基板載置部PASS8に載置される。
The substrate W placed on the substrate platform PASS10 is placed on the substrate platform PASS8 by the fourth central robot CR4 of the resist cover
基板載置部PASS8に載置された基板Wは、現像処理ブロック12の第3のセンターロボットCR3により受け取られる。第3のセンターロボットCR3は、その基板Wを現像処理部70に搬入する。現像処理部70においては、露光された基板Wに対して現像処理が施される。
The substrate W placed on the substrate platform PASS8 is received by the third central robot CR3 of the
次に、第3のセンターロボットCR3は、現像処理部70から現像処理済みの基板Wを取り出し、その基板Wを現像用熱処理部120,121に搬入する。その後、第3のセンターロボットCR3は、現像用熱処理部120,121から熱処理後の基板Wを取り出し、その基板Wを基板載置部PASS6に載置する。
Next, the third central robot CR3 takes out the development-processed substrate W from the
基板載置部PASS6に載置された基板Wは、レジスト膜用処理ブロック11の第2のセンターロボットCR2により基板載置部PASS4に載置される。基板載置部PASS4に載置された基板Wは反射防止膜用処理ブロック10の第1のセンターロボットCR1により基板載置部PASS2に載置される。
The substrate W placed on the substrate platform PASS6 is placed on the substrate platform PASS4 by the second central robot CR2 of the resist
基板載置部PASS2に載置された基板Wは、インデクサブロック9のインデクサロボットIRによりキャリアC内に収納される。これにより、基板処理装置500における基板Wの各処理が終了する。
The substrate W placed on the
(2−2)インターフェースブロックの動作
次に、インターフェースブロック15の動作について詳細に説明する。
(2-2) Operation of Interface Block Next, the operation of the
上述したように、インデクサブロック9に搬入された基板Wは、所定の処理を施された後、レジストカバー膜除去ブロック14(図1)の基板載置部PASS11に載置される。
As described above, the substrate W carried into the
基板載置部PASS11に載置された基板Wは、インターフェースブロック15の第6のセンターロボットCR6により受け取られる。第6のセンターロボットCR6は、その基板Wをエッジ露光部EEW(図4)に搬入する。このエッジ露光部EEWにおいては、基板Wの周縁部に露光処理が施される。
The substrate W placed on the substrate platform PASS11 is received by the sixth central robot CR6 of the
次に、第6のセンターロボットCR6は、エッジ露光部EEWからエッジ露光済みの基板Wを取り出し、その基板Wを複数の洗浄/乾燥処理ユニットSD1のいずれかに搬入する。洗浄/乾燥処理ユニットSD1においては、上述したように露光処理前の基板Wの洗浄および乾燥処理が行われる。 Next, the sixth central robot CR6 takes out the edge-exposed substrate W from the edge exposure unit EEW and carries the substrate W into any of the plurality of cleaning / drying processing units SD1. In the cleaning / drying processing unit SD1, cleaning and drying processing of the substrate W before the exposure processing is performed as described above.
ここで、露光装置16による露光処理の時間は、通常、他の処理工程および搬送工程よりも長い。その結果、露光装置16が後の基板Wの受け入れをできない場合が多い。この場合、基板Wは送りバッファ部SBF(図4)に一時的に収納保管される。本実施の形態では、第6のセンターロボットCR6は、洗浄/乾燥処理ユニットSD1から洗浄および乾燥処理済みの基板Wを取り出し、その基板Wを送りバッファ部SBFに搬送する。
Here, the time of the exposure process by the
次に、第6のセンターロボットCR6は、送りバッファ部SBFに収納保管されている基板Wを取り出し、その基板Wを載置兼冷却ユニットP−CPに搬入する。載置兼冷却ユニットP−CPに搬入された基板Wは、露光装置16内と同じ温度(例えば、23℃)に維持される。
Next, the sixth central robot CR6 takes out the substrate W stored and stored in the sending buffer unit SBF and carries the substrate W into the placement / cooling unit P-CP. The substrate W carried into the placement / cooling unit P-CP is maintained at the same temperature (for example, 23 ° C.) as that in the
なお、露光装置16が十分な処理速度を有する場合には、送りバッファ部SBFに基板Wを収納保管せずに、洗浄/乾燥処理ユニットSD1から載置兼冷却ユニットP−CPに基板Wを搬送してもよい。
If the
続いて、載置兼冷却ユニットP−CPで上記所定温度に維持された基板Wが、インターフェース用搬送機構IFRの上側のハンドH1(図4)により受け取られ、露光装置16内の基板搬入部16a(図1)に搬入される。
Subsequently, the substrate W maintained at the predetermined temperature by the placement / cooling unit P-CP is received by the upper hand H1 (FIG. 4) of the interface transport mechanism IFR, and the substrate carry-in
露光装置16において露光処理が施された基板Wは、インターフェース用搬送機構IFRの下側のハンドH2(図4)により基板搬出部16b(図1)から搬出される。インターフェース用搬送機構IFRは、ハンドH2により、その基板Wを洗浄/乾燥処理ユニットSD2のいずれかに搬入する。洗浄/乾燥処理ユニットSD2においては、上述したように露光処理後の基板Wの洗浄および乾燥処理が行われる。
The substrate W that has been subjected to the exposure processing in the
洗浄/乾燥処理ユニットSD2において洗浄および乾燥処理が施された基板Wは、インターフェース用搬送機構IFRのハンドH1(図4)により取り出される。インターフェース用搬送機構IFRは、ハンドH1により、その基板Wを基板載置部PASS13に載置する。 The substrate W that has been subjected to the cleaning and drying processing in the cleaning / drying processing unit SD2 is taken out by the hand H1 (FIG. 4) of the interface transport mechanism IFR. The interface transport mechanism IFR places the substrate W on the substrate platform PASS13 with the hand H1.
基板載置部PASS13に載置された基板Wは、第6のセンターロボットCR6により受け取られる。第6のセンターロボットCR6は、その基板Wをレジストカバー膜除去ブロック14(図1)の露光後ベーク用熱処理部141に搬送する。
The substrate W placed on the substrate platform PASS13 is received by the sixth central robot CR6. The sixth central robot CR6 transports the substrate W to the post-exposure bake
なお、除去ユニットREM(図2)の故障等により、レジストカバー膜除去ブロック14が一時的に基板Wの受け入れをできないときは、戻りバッファ部RBFに露光処理後の基板Wを一時的に収納保管することができる。
When the resist cover
(3)密着強化ユニット
上述のように、図3の密着強化ユニットAHLでは、基板Wの表面に密着強化処理が施される。これにより、基板Wの表面が親水性から疎水性に改質される。それにより、基板Wの表面と反射防止膜との密着性が向上する。以下、密着強化ユニットAHLの構成および動作について詳細を説明する。
(3) Adhesion Strengthening Unit As described above, in the adhesion strengthening unit AHL of FIG. As a result, the surface of the substrate W is modified from hydrophilic to hydrophobic. Thereby, the adhesion between the surface of the substrate W and the antireflection film is improved. Hereinafter, the configuration and operation of the adhesion reinforcement unit AHL will be described in detail.
(3−1)密着強化ユニットの構成
密着強化ユニットAHLの構成について図面を用いて詳細に説明する。図5は密着強化ユニットAHLの一構成例を示す模式的断面図である。
(3-1) Configuration of Adhesion Strengthening Unit The configuration of the adhesion strengthening unit AHL will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a configuration example of the adhesion strengthening unit AHL.
図5に示すように、密着強化ユニットAHLは、密着強化剤気化装置910および密着強化剤供給装置920を有する。密着強化剤気化装置910および密着強化剤供給装置920は、配管911を介して接続されている。配管911には、バルブ912が介挿されている。
As shown in FIG. 5, the adhesion reinforcing unit AHL includes an adhesion reinforcing
密着強化剤気化装置910は、貯留容器および加熱装置を備える。この貯留容器には、密着強化剤が貯留される。加熱装置は、貯留容器内に貯留された密着強化剤を加熱する。これにより、加熱装置により加熱された密着強化剤が気化される。
The
本実施の形態において、密着強化剤としては、基板Wの表面を疎水化処理する疎水性材料が用いられる。このような疎水性材料として、例えばHMDS(ヘキサメチルジシラサン)または低分子材料等を用いることができる。 In the present embodiment, a hydrophobic material that hydrophobizes the surface of the substrate W is used as the adhesion enhancer. As such a hydrophobic material, for example, HMDS (hexamethyldisilazane) or a low-molecular material can be used.
密着強化剤供給装置920は処理室921を有する。処理室921の一側面には、基板Wの搬入および搬出を行うための搬入搬出口922が形成されている。処理室921の一側面の内側には、搬入搬出口922を開閉するためのシャッター923が設けられている。シャッター923は、シャッター駆動機構924により上下方向に昇降し、搬入搬出口922を開閉する。
The adhesion reinforcing
処理室921内の略中央に基板載置機構930が設けられている。基板載置機構930は、複数の支持柱931cにより支持された基板載置プレート931を備える。基板載置プレート931は、上面に載置された基板Wを所定の温度に加熱する。なお、基板載置プレート931には、表面が上側を向くように基板Wが載置される。
A
基板載置プレート931を鉛直方向に貫通するように複数の昇降ピンPIが設けられている。複数の昇降ピンPIはピン支持部材932により直立姿勢で支持され、ピン支持部材932はピン駆動装置934により昇降可能に保持されている。
A plurality of lifting pins PI are provided so as to penetrate the
基板載置プレート931には、鉛直方向に貫通する複数の貫通孔931aが形成されている。これらの貫通孔931aに配管991の一端が接続されている。配管991の他端は、第1の排気装置990に接続されている。
A plurality of through-
処理室921の天井面には、筒状の支持部材940が昇降可能に設けられている。支持部材940の上端には配管911が接続され、支持部材940の下端には蓋体941が設けられている。蓋体941の内部空間は支持部材940の内部空間に連通している。これにより、配管911に介挿されたバルブ912が開状態である場合には、蓋体941の内部空間が、支持部材940および配管911を通して密着強化剤気化装置910の貯留容器に連通する。
A
蓋体941の内部には、全面に複数の細孔を有する整流板942が取り付けられている。整流板942は、基板載置プレート931上に載置された基板Wに対向するように配置される。
Inside the
処理室921の底面には、排気口929が形成されている。この排気口929に配管981の一端が接続されている。配管981の他端は、第2の排気装置980に接続されている。第2の排気装置980が動作することにより、処理室921内の雰囲気が排気される。
An
ここで、基板載置プレート931およびその周辺部材の構造について詳細を説明する。図6(a)は図5の基板載置プレート931の模式的縦断面図であり、図6(b)は図5の基板載置プレート931を上方から見た平面図である。
Here, the structure of the
図6(a)および図6(b)に示すように、基板載置プレート931の上面の周縁部を除く領域には、複数(本例では10個)の球体PUが分散的に配置されている。より具体的には、複数の球体PUは、基板載置プレート931の上面に形成された複数の凹部に嵌め込まれている。
As shown in FIGS. 6A and 6B, a plurality (10 in this example) of spherical PUs are dispersedly arranged in the region excluding the peripheral edge on the upper surface of the
また、基板載置プレート931には、鉛直方向に貫通する複数(本例では3つ)の貫通孔931aと鉛直方向に貫通する複数(本例では3つ)のピン孔931bとが形成されている。
The
基板載置プレート931の上面の周縁部に環状部材935が取り付けられている。さらに、環状部材935の上面に、台形状の縦断面を有する円環状の規制片936が取り付けられている。
An
環状部材935および規制片936の外径は、ともに基板載置プレート931の外径に等しい。一方、環状部材935の内径は、規制片936の内径よりも小さい。これにより、図6(b)に示すように、環状部材935の上面の内側の領域が露出する。
The outer diameters of the
環状部材935の厚みは、基板載置プレート931の上面を基準とした場合の複数の球体PUの高さ(微小高さmt)にほぼ等しい。これにより、基板載置プレート931上に基板Wが載置される際には、基板Wの裏面の周縁部が全周に渡って環状部材935の上面における露出する領域に当接する。また、基板Wの裏面の周縁部を除く領域が、複数の球体PUに当接する。それにより、基板Wの裏面が環状部材935および複数の球体PUにより支持される。この状態で、基板Wの裏面と基板載置プレート931の上面との間には、微小高さmt分の隙間空間BSが形成される。
The thickness of the
上述のように、基板載置プレート931の複数の貫通孔931aには、配管991を介して第1の排気装置990が接続されている。本実施の形態において、密着強化ユニットAHLによる基板Wの密着強化処理時には第1の排気装置990により、隙間空間BSの雰囲気が外部に排気される。
As described above, the
図7は、図5の密着強化ユニットAHLによる基板Wの密着強化処理時の隙間空間BSの状態を示す模式図である。図7に一点鎖線の矢印で示すように、密着強化処理時には、隙間空間BSの雰囲気が貫通孔931aおよび配管991を通して第1の排気装置990により排気される。これにより、隙間空間BSの圧力が基板Wの上側の空間に対して陰圧となるように調整され、環状部材935の上面に接触する基板Wの裏面の周縁部が環状部材935に密着する。
FIG. 7 is a schematic diagram showing a state of the gap space BS during the adhesion strengthening process of the substrate W by the adhesion strengthening unit AHL of FIG. As indicated by the one-dot chain line arrow in FIG. 7, during the adhesion strengthening process, the atmosphere of the gap space BS is exhausted by the
本実施の形態において、上記の環状部材935および規制片936の材料としては、例えば耐熱性および弾性を有するポリイミド樹脂または四フッ化エチレン樹脂等を用いることができる。
In the present embodiment, as the material for the
(3−2)密着強化ユニットの動作
上記構成を有する密着強化ユニットAHLの動作について図5〜図7を参照しつつ説明する。なお、以下に説明する密着強化ユニットAHLの各構成要素の動作は、図1のメインコントローラ30または図3の反射防止膜用熱処理部100,101に設けられるローカルコントローラLCにより制御される。
(3-2) Operation of Adhesion Strengthening Unit The operation of the adhesion strengthening unit AHL having the above configuration will be described with reference to FIGS. The operation of each component of the adhesion strengthening unit AHL described below is controlled by the
初めに、基板Wが密着強化ユニットAHLに搬入される際には、図5の支持部材940および蓋体941が上昇するとともに、ピン駆動装置934がピン支持部材932を上昇させる。これにより、複数の昇降ピンPIの上端部が基板載置プレート931の上面から上方に突出する。また、図5のシャッター駆動機構924によりシャッター923が下降し、搬入搬出口922が開かれる。
First, when the substrate W is carried into the adhesion strengthening unit AHL, the
この状態で、図1の第1のセンターロボットCR1により処理室921内に基板Wが搬入される。第1のセンターロボットCR1のハンドCRH1により保持された基板は、複数の昇降ピンPI上に載置される。
In this state, the substrate W is carried into the
次に、ピン駆動装置934がピン支持部材932を下降させる。これにより、複数の昇降ピンPIが下降し、複数の昇降ピンPIの上端部が基板載置プレート931の内部に収容される。それにより、基板Wが基板載置プレート931上に載置される。このとき、基板Wの外周端部が規制片936の内側の側面に沿って下降する。これにより、基板載置プレート931上で基板Wの位置合わせが行われる。また、ハンドCRH1が処理室921内から退出すると、シャッター923が上昇し、搬入搬出口922が閉じられる。
Next, the
続いて、基板載置プレート931上に基板Wが載置された状態で、図5〜図7の第1の排気装置990が基板Wと基板載置プレート931との間の隙間空間BSの雰囲気を排気する。これにより、隙間空間BSの圧力が基板Wの上側の空間の圧力に比べて陰圧となるように調整される。また、支持部材940および蓋体941が下降する。この状態で、基板載置プレート931上の基板Wが所定の温度に加熱される。
Subsequently, in a state where the substrate W is placed on the
次に、図5の配管911に介挿されたバルブ912が開かれる。それにより、図5の密着強化剤気化装置910により気化された密着強化剤が密着強化剤供給装置920の支持部材940に送られる。そして、蓋体941に設けられた整流板942の複数の細孔を通して基板Wの表面に密着強化剤が供給され、基板Wの表面に疎水化処理が施される(密着強化処理)。また、密着強化処理時には、図5の第2の排気装置980が動作する。これにより、蓋体941から供給された密着強化剤が、排気口929および配管981を通して外部に排気される。
Next, the
密着強化処理の終了時には、バルブ912が閉じられるとともに、支持部材940および蓋体941が上昇する。そして、第1の排気装置990の動作が停止する。
At the end of the adhesion strengthening process, the
続いて、ピン駆動装置934がピン支持部材932を上昇させる。これにより、複数の昇降ピンPIにより密着強化処理済の基板Wが持ち上げられる。また、シャッター駆動機構924によりシャッター923が下降し、処理室921の搬入搬出口922が開かれる。その後、図1の第1のセンターロボットCR1により基板Wが密着強化ユニットAHLから搬出される。
Subsequently, the
上記の密着強化ユニットAHLにおいて、基板Wに密着強化処理が施される際には、基板Wの裏面が複数の球体PUにより支持されるとともに、基板Wの裏面の周縁部が環状部材935により支持される。そして、基板Wの裏面と基板載置プレート931の上面との間の隙間空間BSの雰囲気が第1の排気装置990により排気される。これにより、隙間空間BSの圧力が基板Wの上側の空間に対して陰圧となるように調整され、環状部材935の上面に基板Wの裏面の周縁部が密着する。
In the adhesion strengthening unit AHL, when the adhesion strengthening process is performed on the substrate W, the back surface of the substrate W is supported by a plurality of spherical bodies PU, and the peripheral portion of the back surface of the substrate W is supported by the
それにより、蓋体941から基板Wに密着強化剤が供給される際に、密着強化剤が基板Wの裏面側に回り込むことが防止される。その結果、基板Wの裏面が親水性から疎水性に改質されることが防止される。
Thereby, when the adhesion reinforcing agent is supplied from the
(4)洗浄/乾燥処理ユニット
次に、洗浄/乾燥処理ユニットSD1について図面を用いて詳細に説明する。図8および図9は、洗浄/乾燥処理ユニットSD1の構成を示す側面図および概略平面図である。なお、図9には、洗浄/乾燥処理ユニットSD1の一部の構成要素が模式的に示される。洗浄/乾燥処理ユニットSD2は、洗浄/乾燥処理ユニットSD1と同様の構成を有する。
(4) Cleaning / Drying Processing Unit Next, the cleaning / drying processing unit SD1 will be described in detail with reference to the drawings. 8 and 9 are a side view and a schematic plan view showing the configuration of the cleaning / drying processing unit SD1. FIG. 9 schematically shows some components of the cleaning / drying processing unit SD1. The cleaning / drying processing unit SD2 has the same configuration as the cleaning / drying processing unit SD1.
なお、本実施の形態において、洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2は、図示しない筐体を備え、その筐体の内部に以下の構成要素が設けられる。 In the present embodiment, the cleaning / drying processing units SD1 and SD2 include a casing (not shown), and the following components are provided inside the casing.
図8および図9に示すように、洗浄/乾燥処理ユニットSD1は、基板Wを水平に保持して回転させるスピンチャック600を備える。スピンチャック600は、スピンモータ200、回転軸210、円板状のスピンプレート520、プレート支持部材510、マグネットプレート614a,614bおよび複数のチャックピン615を含む。
As shown in FIGS. 8 and 9, the cleaning / drying processing unit SD1 includes a
洗浄/乾燥処理ユニットSD1の上部にスピンモータ200が設けられている。スピンモータ200は、モータ支持部材200sによって支持されている。モータ支持部材200sは、鉛直方向に延びる貫通孔200hを有し、モータ固定部290に取り付けられている。モータ固定部290は、図示しない洗浄/乾燥処理ユニットSD1の筐体に取り付けられている。
A
スピンモータ200の内部から下方に延びるように円筒形状を有する回転軸210が設けられている。回転軸210はスピンモータ200の出力軸として機能し、約20mmの内径を有する。
A
回転軸210の下端部にはプレート支持部材510が取り付けられている。後述するように、プレート支持部材510は円筒形状を有する。プレート支持部材510によりスピンプレート520が水平に支持されている。スピンモータ200によって回転軸210が回転することにより、プレート支持部材510とともにスピンプレート520が鉛直軸の周りで回転する。
A
モータ支持部材200sの貫通孔200h、スピンモータ200の回転軸210の内部、およびプレート支持部材510の内部には、流体供給管400が挿通されている。流体供給管400を通して、スピンチャック600により保持される基板W上に洗浄液および気体を供給することができる。流体供給管400およびその周辺部材の構造の詳細は後述する。
A
スピンプレート520の周縁部には、複数(本例では5つ)のチャックピン615が回転軸210に関して等角度間隔で設けられている。チャックピン615の個数は、5つ以上であることが望ましい。その理由については後述する。
A plurality (five in this example) of chuck pins 615 are provided at equiangular intervals with respect to the
各チャックピン615は、軸部615a、ピン支持部615b、保持部615cおよびマグネット616を含む。スピンプレート520を貫通するように軸部615aが設けられ、軸部615aの下端部に水平方向に延びるピン支持部615bが接続されている。ピン支持部615bの先端部から下方に突出するように保持部615cが設けられている。また、スピンプレート520の上面側において、軸部615aの上端部にマグネット616が取り付けられている。
Each
各チャックピン615は、軸部615aを中心に鉛直軸の周りで回転可能であり、保持部615cが基板Wの外周端部に当接する閉状態と、保持部615cが基板Wの外周端部から離間する開状態とに切替可能である。なお、本例では、マグネット616のN極が内側にある場合に各チャックピン615が閉状態となり、マグネット616のS極が内側にある場合に各チャックピン615が開状態となる。
Each
スピンプレート520の上方には、回転軸210を中心とする周方向に沿ってマグネットプレート614a,614bが配置される。マグネットプレート614a,614bは、外側にS極を有し、内側にN極を有する。マグネットプレート614a,614bは、マグネット昇降機構617a,617bによってそれぞれ独立に昇降し、チャックピン615のマグネット616よりも高い上方位置とチャックピン615のマグネット616とほぼ等しい高さの下方位置との間で移動する。
マグネットプレート614a,614bの昇降により、各チャックピン615が開状態と閉状態とに切り替えられる。マグネットプレート614a,614bおよびチャックピン615の動作の詳細については後述する。
Each
スピンチャック600の外方には、基板Wから飛散する洗浄液を受け止めるためのガード618が設けられている。ガード618は、スピンチャック600の回転軸210に関して回転対称な形状を有する。また、ガード618は、ガード昇降機構618aにより昇降する。ガード618により受け止められた洗浄液は、図示しない排液装置または回収装置により排液または回収される。
A
ガード618の外方には、3つ以上(本例では3つ)の基板受け渡し機構620がスピンチャック600の回転軸210を中心として等角度間隔で配置されている。各基板受け渡し機構620は、昇降回転駆動部621、回転軸622、アーム623および保持ピン624を含む。昇降回転駆動部621から上方に延びるように回転軸622が設けられ、回転軸622の上端部から水平方向に延びるようにアーム623が連結されている。アーム623の先端部に、基板Wの外周端部を保持するための保持ピン624が設けられている。
Outside the
昇降回転駆動部621により、回転軸622が昇降動作および回転動作を行う。それにより、保持ピン624が水平方向および上下方向に移動する。
The
また、洗浄/乾燥処理ユニットSD1の下部には、スピンチャック600により保持される基板Wの外周端部および裏面を洗浄するための洗浄ブラシ630が設けられている。洗浄ブラシ630は略円柱形状を有し、外周面には断面V字状の溝635が形成されている。洗浄ブラシ630はブラシ保持部材631により保持されている。ブラシ保持部材631がブラシ移動機構632によって駆動されことにより、洗浄ブラシ630が水平方向および鉛直方向に移動する。
A cleaning
洗浄ブラシ630の近傍におけるブラシ保持部材631の部分には洗浄ノズル633が取り付けられている。洗浄ノズル633には洗浄液が供給される液供給管(図示せず)が接続されている。洗浄ノズル633の吐出口は洗浄ブラシ630周辺に向けられており、吐出口から洗浄ブラシ630周辺に向けて洗浄液が吐出される。なお、本例では洗浄水として例えば純水が用いられる。
A cleaning
(5)流体供給管の詳細
図8の流体供給管400およびその周辺部材の構造の詳細を図10および図11を参照しつつ説明する。図10は主として図8の流体供給管400の構造を示す縦断面図である。図11(a)は図8の流体供給管400の先端部近傍の構造を示す拡大縦断面図であり、図11(b)は図11(a)の矢印YAから見た流体供給管400の先端部の平面図である。
(5) Details of Fluid Supply Pipe Details of the structure of the
上述のように、流体供給管400は、モータ支持部材200s、スピンモータ200、回転軸210およびプレート支持部材510に挿通されている。
As described above, the
図10に示すように、流体供給管400は、モータ支持部材200sの上方で湾曲し、水平方向に延びている。以下の説明において、鉛直方向に延びる直管部の端部を先端部と呼び、水平方向に延びる直管部の端部を後端部と呼ぶ。
As shown in FIG. 10, the
流体供給管400において、鉛直方向に延びる直管部の湾曲部近傍には、第1フランジFR1が一体形成されている。また、後端部には第2フランジFR2が一体形成されている。
In the
第1フランジFR1がモータ支持部材200sに固定され、第2フランジFR2が管固定部280に固定される。管固定部280は、図示しない洗浄/乾燥処理ユニットSD1の筐体に取り付けられる。
The first flange FR1 is fixed to the
これにより、流体供給管400は、管固定部280、モータ支持部材200sおよびモータ固定部290により、洗浄/乾燥処理ユニットSD1の筐体に固定される。
Thereby, the
上述のように、スピンモータ200は、モータ支持部材200sにより支持されている。これにより、流体供給管400がモータ支持部材200sに取り付けられることにより、スピンモータ200が動作する場合でも、流体供給管400とスピンモータ200との位置関係が保たれる。したがって、流体供給管400に位置ずれが発生することが防止される。
As described above, the
図11(a)および図11(b)に示すように、流体供給管400は、ガイド管410の内部に1本の気体供給管420および複数本(本例では6本)の洗浄液供給管430が収容された構造を有する。気体供給管420は基板Wに気体(本例ではN2ガス)を供給するために用いられる。洗浄液供給管430は基板Wに洗浄液(本例では純水)を供給するために用いられる。
As shown in FIGS. 11A and 11B, the
本実施の形態において、ガイド管410はステンレス鋼からなり、約18mmの外径を有する。気体供給管420および洗浄液供給管430はPTFE(四フッ化エチレン樹脂)およびPFA(四フッ化エチレン・パーフルオロアルコキシエチレン共重合体)等のフッ素樹脂からなり、それぞれ約6mmおよび約5mmの外径を有する。
In the present embodiment, the
ガイド管410の内部において、1本の気体供給管420は、6本の洗浄液供給管430に取り囲まれた状態で、その軸心がガイド管410の軸心に沿うように配置される。ここで、ガイド管410の内径は、気体供給管420の外径と洗浄液供給管430の外径を2倍した値との合計にほぼ等しい。この場合、複数の洗浄液供給管430は、それぞれ気体供給管420の外周面およびガイド管410の内周面に当接する。
Inside the
この場合、流体供給管400の製造時に、1本の気体供給管420および6本の洗浄液供給管430をガイド管410に挿入することにより、ガイド管410内部の中心部に気体供給管420が容易かつ正確に位置決めされる。
In this case, when the
図11(a)に示すように、洗浄液供給管430および気体供給管420の先端部は、ガイド管410の先端部から突出している。これにより、例えば洗浄液供給管430から基板Wに洗浄液が供給される際に、洗浄液供給管430から吐出された洗浄液がガイド管410に付着することが防止される。それにより、金属製のガイド管410に付着した洗浄液が基板Wの表面に落下して基板Wに金属汚染(メタルコンタミネーション)が発生することが防止される。
As shown in FIG. 11A, the distal ends of the cleaning
流体供給管400の先端部の周辺部材について説明する。上述のように、本例では、回転軸210は約20mmの内径を有し、ガイド管410は約18mmの外径を有する。これにより、流体供給管400が図10のモータ支持部材200sおよび管固定部280に取り付けられた状態で、回転軸210とガイド管410との間に約1mmのギャップGAが形成される。
The peripheral members at the tip of the
流体供給管400の先端部近傍において、回転軸210には、略円筒形状を有するプレート支持部材510が取り付けられている。プレート支持部材510の内周面510hは、軸心に沿って階段状に形成されている。
A
プレート支持部材510を回転軸210に取り付ける際には、プレート支持部材510の内周面510hと回転軸210の外周面との間の隙間に円筒形状のパッド固定片512を嵌め込み、パッド固定片512をプレート支持部材510のねじ受け部511にネジ止めする。これにより、プレート支持部材510が回転軸210の先端部に確実に固定される。
When the
プレート支持部材510の下端部近傍には、フランジ510Fが形成されている。フランジ510Fとスピンプレート520とがネジ止めされることにより、スピンプレート520が回転軸210に固定される。
A
図10に戻り、流体供給管400の後端部には、上述のように第2フランジFR2が形成されている。そして、第2フランジFR2は管固定部280に固定される。
Returning to FIG. 10, the second flange FR2 is formed at the rear end of the
ここで、流体供給管400の後端部近傍には、1本の気体供給管420および6本の洗浄液供給管430を互いに固定するとともにガイド管410に固定する供給管固定部490が設けられる。
Here, in the vicinity of the rear end portion of the
供給管固定部490においては、例えば気体供給管420および洗浄液供給管430が互いに融着加工または接着剤により固定される。また、気体供給管420および洗浄液供給管430は粘着シート等を用いてガイド管410に固定される。
In the supply
供給管固定部490によりガイド管410、気体供給管420および洗浄液供給管430の位置関係が固定される。これにより、流体供給管400の先端部近傍における各供給管430,420の位置精度が向上する。
The positional relationship among the
ガイド管410内部に挿入される1本の気体供給管420および6本の洗浄液供給管430は、それぞれガイド管410の後端部から外部に延びている。ガイド管410の後端部から延びる気体供給管420の後端部は、図示しない気体供給装置に接続される。また、ガイド管410の後端部から延びる洗浄液供給管430の後端部は、図示しない洗浄液供給装置に接続される。
One
気体供給装置から気体供給管420にN2ガスが供給されることにより、基板WにN2ガスが供給される。また、洗浄液供給装置から洗浄液供給管430に純水が供給されることにより、基板Wに純水が供給される。
By N 2 gas is supplied to the
(6)基板の保持動作
スピンチャック600による基板Wの保持動作について説明する。図12および図13は、スピンチャック600による基板Wの保持動作を説明するための図である。
(6) Substrate Holding Operation The substrate W holding operation by the
まず、図12(a)に示すように、ガード618がチャックピン615よりも低い位置に移動する。そして、複数の基板受け渡し機構620(図8)の保持ピン624がガード618の上方を通ってスピンプレート520の下方に移動する。複数の保持ピン624上に第6のセンターロボットCR6(図1)により基板Wが載置される。
First, as shown in FIG. 12A, the
このとき、マグネットプレート614a,614bは上方位置にある。この場合、マグネットプレート614a,614bの磁力線Bは、チャックピン615のマグネット616の高さにおいて内側から外側に向かう。それにより、各チャックピン615のマグネット616のS極が内側に吸引される。したがって、各チャックピン615は開状態となる。
At this time, the
続いて、図12(b)に示すように、複数の保持ピン624が基板Wを保持した状態で上昇する。これにより、基板Wが複数のチャックピン615の保持部615cの間に移動する。
Subsequently, as shown in FIG. 12B, the plurality of holding
続いて、図13(c)に示すように、マグネットプレート614a,614bが下方位置に移動する。この場合、各チャックピン615のマグネット616のN極が内側に吸引される。それにより、各チャックピン615が閉状態となり、各チャックピン615の保持部615cによって基板Wの外周端部が保持される。なお、各チャックピン615は、隣接する保持ピン624間で基板Wの外周端部を保持する。そのため、チャックピン615と保持ピン624とは互いに干渉しない。その後、複数の保持ピン624がガード618の外方に移動する。
Subsequently, as shown in FIG. 13C, the
続いて、図13(d)に示すように、ガード618がチャックピン615により保持される基板Wを取り囲む高さに移動する。そして、基板Wの洗浄処理および乾燥処理が順に行われる。
Subsequently, as shown in FIG. 13D, the
(7)洗浄処理および乾燥処理
洗浄/乾燥処理ユニットSD1に基板Wが搬送される際には、基板Wの表面が上側を向いている。洗浄/乾燥処理ユニットSD1においては、表面が上側を向いた状態の基板Wに対して洗浄処理および乾燥処理が施される。
(7) Cleaning Process and Drying Process When the substrate W is transported to the cleaning / drying processing unit SD1, the surface of the substrate W faces upward. In the cleaning / drying processing unit SD1, cleaning processing and drying processing are performed on the substrate W whose surface is directed upward.
具体的には、洗浄/乾燥処理ユニットSD1においては、洗浄処理として基板Wの表面(上面)を洗浄する表面洗浄処理、基板の裏面(下面)を洗浄する裏面洗浄処理、および基板Wの外周端部(ベベル部)を洗浄するベベル洗浄処理が行われ、その後、基板Wの乾燥処理が行われる。 Specifically, in the cleaning / drying processing unit SD1, as the cleaning process, a front surface cleaning process for cleaning the front surface (upper surface) of the substrate W, a back surface cleaning process for cleaning the back surface (lower surface) of the substrate, and an outer peripheral edge of the substrate W A bevel cleaning process for cleaning the part (bevel part) is performed, and then a drying process for the substrate W is performed.
図14は基板Wの表面洗浄処理および裏面洗浄処理について説明するための側面図であり、図15は基板Wのベベル洗浄処理について説明するための側面図および平面図である。 FIG. 14 is a side view for explaining the front surface cleaning process and the back surface cleaning process for the substrate W, and FIG. 15 is a side view and a plan view for explaining the bevel cleaning process for the substrate W.
基板Wの表面洗浄処理時には、図14(a)に示すように、スピンチャック600により基板Wが回転する状態で、流体供給管400を通して基板Wの表面に純水DIWが供給される。純水DIWは遠心力によって基板Wの表面の全体に広がり、外方に飛散する。これにより、基板Wの表面に付着する塵埃等が洗い流される。また、基板W上のレジストカバー膜の成分の一部が純水DIW中に溶出し、洗い流される。
In the surface cleaning process of the substrate W, pure water DIW is supplied to the surface of the substrate W through the
基板Wの裏面洗浄処理時には、図14(b)に示すように、スピンチャック600により基板Wが回転する状態で、洗浄ブラシ630が基板Wの下方に移動する。そして、洗浄ブラシ630の上面と基板Wの裏面とが接触する状態で、洗浄ブラシ630が基板Wの中心部下方と周縁部下方との間で移動する。基板Wと洗浄ブラシ630との接触部分には、洗浄ノズル633から純水が供給される。これにより、基板Wの裏面の全体が洗浄ブラシ630により洗浄され、基板Wの裏面に付着する汚染物が取り除かれる。
In the back surface cleaning process of the substrate W, the cleaning
基板Wのベベル洗浄処理時には、図15(a)および図15(b)に示すように、マグネットプレート614aが下方位置に配置され、マグネットプレート614bが上方位置に配置される。その状態で、スピンチャック600により基板Wが回転する。
During the bevel cleaning process for the substrate W, as shown in FIGS. 15A and 15B, the
この場合、マグネットプレート614aの外方領域R1(図15(b)参照)においては各チャックピン615が閉状態となり、マグネットプレート614bの外方領域R2(図15(b)参照)においては各チャックピン615が開状態となる。すなわち、各チャックピン615の保持部615cは、マグネットプレート614aの外方領域R1を通過する際に基板Wの外周端部に接触した状態で維持され、マグネットプレート614bの外方領域R2を通過する際に基板Wの外周端部から離間する。
In this case, each
本例では、5つのチャックピン615のうちの少なくとも4つのチャックピン615がマグネットプレート614aの外方領域R1に位置する。この場合、少なくとも4つのチャックピン615により基板Wが保持される。それにより、基板Wの安定性が確保される。
In this example, at least four of the five
その状態で、洗浄ブラシ630が、外方領域R2においてチャックピン615の保持部615cと基板Wの外周端部との間に移動する。そして、洗浄ブラシ630の溝635が、基板Wの外周端部に押し当てられる。洗浄ブラシ630と基板Wとの接触部分には、洗浄ノズル633(図8)から純水が供給される。これにより、基板Wの外周端部の全体が洗浄され、基板Wの外周端部に付着する汚染物が取り除かれる。
In this state, the cleaning
なお、ベベル洗浄処理時に図8の洗浄液供給管430を通して基板Wの表面に純水を供給してもよい。その場合、ベベル洗浄処理と表面洗浄処理とを同時に行うことができる。また、基板Wの裏面を洗浄する裏面洗浄ブラシを洗浄ブラシ630と別個に設け、ベベル洗浄処理時に裏面洗浄ブラシを基板Wの裏面に接触させてもよい。その場合、ベベル洗浄処理と裏面洗浄処理とを同時に行うことができる。あるいは、ベベル洗浄処理、表面洗浄処理および裏面洗浄処理を同時に行ってもよい。
Note that pure water may be supplied to the surface of the substrate W through the cleaning
上記の表面洗浄処理、裏面洗浄処理およびベベル洗浄処理の後には、基板Wの乾燥処理が行われる。この場合、マグネットプレート614a,615bが下方位置に配置され、全てのチャックピン615により基板Wが保持される。その状態で、スピンチャック600により基板Wが高速で回転する。それにより、基板Wに付着する純水が振り切られ、基板Wが乾燥する(振り切り乾燥)。
After the front surface cleaning process, the back surface cleaning process, and the bevel cleaning process, a drying process of the substrate W is performed. In this case, the
ここで、上述のように、図8の洗浄/乾燥処理ユニットSD1においては、流体供給管400から基板Wの表面に純水を供給することが可能であるとともに、N2ガスを供給することが可能である。
Here, as described above, in the cleaning / drying processing unit SD1 of FIG. 8, it is possible to supply pure water to the surface of the substrate W from the
そこで、上記の洗浄/乾燥処理ユニットSD1においては、以下のように基板Wの表面の洗浄処理および乾燥処理を行ってもよい。 Therefore, in the cleaning / drying processing unit SD1, the surface of the substrate W may be cleaned and dried as follows.
図16は、図8の洗浄/乾燥処理ユニットSD1による基板W表面の洗浄処理および乾燥処理の一例を示す図である。 FIG. 16 is a diagram illustrating an example of the cleaning process and the drying process on the surface of the substrate W by the cleaning / drying processing unit SD1 of FIG.
ここで、本例では、図10の洗浄液供給管430が、薬液およびリンス液を供給可能な図示しない洗浄液供給装置に接続されているものとする。なお、本例において薬液とは、例えばBHF(バッファードフッ酸)、DHF(希フッ酸)、フッ酸、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢酸、シュウ酸、過酸化水素水もしくはアンモニア等の水溶液、またはそれらの混合溶液をいう。また、リンス液とは、例えば純水、炭酸水、オゾン水、磁気水、還元水(水素水)もしくはイオン水、またはIPA(イソプロピルアルコール)等の有機溶剤をいう。
Here, in this example, it is assumed that the cleaning
図14(a)の例で説明したように、初めにスピンチャック600により基板Wが回転する状態で、流体供給管400を通して基板Wの表面に薬液を供給する。この場合、薬液は遠心力によって基板Wの表面の全体に広がり、外方に飛散する。これにより、基板Wの表面全体が薬液により洗い流される。
As described in the example of FIG. 14A, first, the chemical solution is supplied to the surface of the substrate W through the
所定時間経過後、基板Wへの薬液の供給を停止し、流体供給管400から基板Wにリンス液を供給する。これにより、基板W上の薬液が洗い流される。
After a predetermined time has elapsed, the supply of the chemical liquid to the substrate W is stopped, and the rinse liquid is supplied from the
その後、基板Wの回転速度を低下させる。これにより、基板Wの回転により振り切られるリンス液の量が減少し、図16(a)に示すように、基板Wの表面全体にリンス液RINの液層Lが形成される。なお、基板Wの回転を停止させて基板Wの表面全体に液層Lを形成してもよい。 Thereafter, the rotation speed of the substrate W is decreased. As a result, the amount of the rinsing liquid shaken off by the rotation of the substrate W is reduced, and the liquid layer L of the rinsing liquid RIN is formed on the entire surface of the substrate W as shown in FIG. The liquid layer L may be formed on the entire surface of the substrate W by stopping the rotation of the substrate W.
その後、図16(b)に示すように、流体供給管400からN2ガスを吐出させる。これにより、図16(c)に示すように、基板Wの中心部のリンス液RINが基板Wの周縁部に移動し、基板Wの周縁部のみに液層Lが存在する状態になる。
Thereafter, as shown in FIG. 16B, N 2 gas is discharged from the
次に、基板Wの回転数を上昇させることにより、基板W上の液層Lに大きな遠心力が作用する。それにより、基板W上の液層Lを確実に取り除くことができる。 Next, by increasing the rotation speed of the substrate W, a large centrifugal force acts on the liquid layer L on the substrate W. Thereby, the liquid layer L on the substrate W can be reliably removed.
(8)効果
(8−1)
基板Wの裏面洗浄処理時に基板Wの裏面に微小な液滴が付着すると、遠心力を利用した振り切り乾燥を行っても、付着した液滴を振り切ることができない場合がある。微小な液滴にはその質量に応じた小さな遠心力しか働かないためである。この現象は、特に基板Wの裏面が疎水性である場合に発生しやすい。したがって、基板Wの裏面を洗浄する場合、基板Wの裏面は親水性を有することが好ましい。
(8) Effects (8-1)
If minute droplets adhere to the back surface of the substrate W during the back surface cleaning process of the substrate W, the adhered droplets may not be able to be shaken out even by performing shake-off drying using centrifugal force. This is because only a small centrifugal force corresponding to the mass of a minute droplet works. This phenomenon is likely to occur particularly when the back surface of the substrate W is hydrophobic. Therefore, when cleaning the back surface of the substrate W, the back surface of the substrate W preferably has hydrophilicity.
そこで、図5の密着強化ユニットAHLにおいては、蓋体941から基板Wに密着強化剤が供給される際に、密着強化剤が基板Wの裏面側に回り込むことが防止される。これにより、基板Wの裏面が親水性から疎水性に改質されることが防止される。
Therefore, in the adhesion strengthening unit AHL of FIG. 5, when the adhesion reinforcing agent is supplied from the
そのため、図8の洗浄/乾燥処理ユニットSD1においては、基板Wの裏面洗浄処理時に基板Wの裏面に微小な液滴が付着しても、振り切り乾燥時に微小な液滴が基板Wの裏面に残留することが十分に低減される。 Therefore, in the cleaning / drying processing unit SD1 of FIG. 8, even if a minute droplet adheres to the back surface of the substrate W during the back surface cleaning process of the substrate W, the minute droplet remains on the back surface of the substrate W during the swing-off drying. Is sufficiently reduced.
これにより、洗浄処理後の基板Wが洗浄/乾燥処理ユニットSD1から露光装置16に搬送される間に、基板Wの裏面が外部雰囲気中のパーティクルにより汚染されることが防止される。その結果、基板Wの裏面の汚染に起因する露光装置16内の汚染が防止され、基板Wの裏面の汚染に起因するパターン不良が防止される。
This prevents the back surface of the substrate W from being contaminated with particles in the external atmosphere while the substrate W after the cleaning process is transported from the cleaning / drying processing unit SD1 to the
(8−2)
図16(a)〜図16(c)に示したように、洗浄/乾燥処理ユニットSD1は、基板Wの回転を停止させて基板Wの表面全体にリンス液RINの液層Lを形成した後、基板Wの中央部に流体供給管400からN2ガスを吐出しつつ基板Wの回転速度を上昇させることにより基板Wの表面の乾燥処理を行うことが可能である。
(8-2)
As shown in FIGS. 16A to 16C, the cleaning / drying processing unit SD1 stops the rotation of the substrate W and forms the liquid layer L of the rinse liquid RIN on the entire surface of the substrate W. The surface of the substrate W can be dried by increasing the rotational speed of the substrate W while discharging N 2 gas from the
この場合、基板Wの表面に形成された液層Lを一体的に基板Wの外方へ移動させることができるので、基板Wの表面が疎水性を有する場合でも、基板Wの表面に微細な液滴が残留することが防止される。その結果、基板Wの表面の汚染に起因する露光装置16内の汚染が防止され、基板Wの表面の汚染に起因するパターン不良が防止される。
In this case, since the liquid layer L formed on the surface of the substrate W can be integrally moved to the outside of the substrate W, even if the surface of the substrate W has hydrophobicity, a minute amount is formed on the surface of the substrate W. The droplets are prevented from remaining. As a result, contamination in the
(8−3)
上記のように、図5の密着強化ユニットAHLにおいては、基板Wの裏面が親水性から疎水性に改質されることが防止される。
(8-3)
As described above, in the adhesion enhancing unit AHL of FIG. 5, the rear surface of the substrate W is prevented from being modified from hydrophilic to hydrophobic.
これにより、露光装置16による露光処理後の基板Wに洗浄/乾燥処理ユニットSD2により裏面洗浄処理が行われる場合でも、振り切り乾燥時に微小な液滴が基板Wの裏面に残留することが十分に低減される。
Thereby, even when the back surface cleaning process is performed on the substrate W after the exposure processing by the
それにより、洗浄処理後の基板Wが洗浄/乾燥処理ユニットSD2から図1の現像処理ブロック12に搬送される間に、基板Wの裏面が外部雰囲気中のパーティクルにより汚染されることが防止される。その結果、基板Wの裏面の汚染に起因する現像不良が防止される。
This prevents the back surface of the substrate W from being contaminated by particles in the external atmosphere while the substrate W after the cleaning processing is transported from the cleaning / drying processing unit SD2 to the
(9)変形例
(9−1)
上記の実施の形態において、密着強化ユニットAHLは、図5〜図7の構成に代えて以下の構成を有してもよい。以下、変形例に係る密着強化ユニットAHLの構成について、図5〜図7の密着強化ユニットAHLと異なる点を説明する。
(9) Modification (9-1)
In said embodiment, contact | adherence reinforcement | strengthening unit AHL may have the following structures instead of the structure of FIGS. Hereinafter, the configuration of the adhesion strengthening unit AHL according to the modified example will be described while referring to differences from the adhesion enhancing unit AHL of FIGS.
本例の密着強化ユニットAHLにおいても、基板載置プレート931は、図5の処理室921内に収容される。
Also in the adhesion strengthening unit AHL of this example, the
基板載置プレート931およびその周辺部材の構造について詳細を説明する。図17(a)は変形例に係る基板載置プレート931の模式的縦断面図であり、図17(b)は変形例に係る基板載置プレート931を上方から見た平面図である。
Details of the structure of the
図17(a)および図17(b)に示すように、基板載置プレート931の上面の周縁部を除く領域には、複数(本例では10個)の球体PUが分散的に配置されている。より具体的には、複数の球体PUは、基板載置プレート931の上面に形成された複数の凹部に嵌め込まれている。
As shown in FIGS. 17A and 17B, a plurality (10 in this example) of spherical PUs are dispersedly arranged in the region excluding the peripheral edge on the upper surface of the
また、基板載置プレート931には、鉛直方向に貫通する複数(本例では3つ)の貫通孔931aと鉛直方向に貫通する複数(本例では3つ)のピン孔931bとが形成されている。
The
基板載置プレート931の上面の周縁部に円環状の流路形成部材938が取り付けられている。流路形成部材938の外径は基板載置プレート931の外径と等しく、流路形成部材938の厚み(高さ)は基板載置プレート931の上面を基準とする球体PUの高さと基板Wの厚みとの合計値よりも大きくなるように設定されている。
An annular flow
さらに、基板載置プレート931の上面においては、流路形成部材938の内側で流路形成部材938の内周面に近接するように、複数(本例では3つ)のガイドピン937が設けられている。ガイドピン937は略円錐形状を有し、基板載置プレート931上に基板Wを載置する際に基板Wの位置合わせを行うために用いられる。ガイドピン937の厚み(高さ)は基板載置プレート931の上面を基準とする球体PUの高さと基板Wの厚みとの合計値よりも大きくなるように設定されている。
Further, a plurality of (three in this example) guide pins 937 are provided on the upper surface of the
また、変形例に係る密着強化ユニットAHLにおいては、図5〜図7の第1の排気装置990に代えて不活性ガス供給装置990Xが用いられる。基板載置プレート931の貫通孔931aに接続された配管991の他端は、不活性ガス供給装置990Xに接続される。
Further, in the adhesion strengthening unit AHL according to the modification, an inert
上記の密着強化ユニットAHLにおいて、基板載置プレート931上に基板Wが載置される際には、基板Wの裏面が複数の球体PUにより支持される。それにより、基板Wの裏面と基板載置プレート931の上面との間に、微小高さmt分の隙間空間BSが形成される。
In the adhesion enhancing unit AHL, when the substrate W is placed on the
このとき、基板Wの外周端部の一部(本例では3箇所)がガイドピン937に当接する。また、基板Wの外周端部のうちガイドピン937に当接しない部分は、流路形成部材938の内周面から離間するとともに流路形成部材938の内周面に対向する。これにより、基板Wの外周端部とガイドピン937の内周面との間に、気体流路FSが形成される。
At this time, a part (three places in this example) of the outer peripheral edge of the substrate W comes into contact with the guide pins 937. Further, a portion of the outer peripheral end portion of the substrate W that does not contact the
本変形例において、密着強化ユニットAHLによる基板Wの密着強化処理時には不活性ガス供給装置990Xにより、隙間空間BSにN2ガス等の不活性ガスが供給される。
In this modification, an inert gas such as N 2 gas is supplied to the gap space BS by the inert
図18は、変形例の密着強化ユニットAHLによる基板Wの密着強化処理時の隙間空間BSの状態を示す模式図である。図18に一点鎖線の矢印で示すように、密着強化処理時には、不活性ガス供給装置990Xにより、貫通孔931aおよび配管991を通して隙間空間BSに不活性ガスが供給される。
FIG. 18 is a schematic diagram showing a state of the gap space BS during the adhesion strengthening process of the substrate W by the adhesion strengthening unit AHL of the modified example. As indicated by the one-dot chain line arrow in FIG. 18, during the adhesion strengthening process, the inert
隙間空間BS内に供給された不活性ガスは、基板Wの外周端部に回り込み、気体流路FSを通して基板Wの上方に流れ出る。これにより、隙間空間BSの圧力が基板Wの上側の空間に対して陽圧となるように調整され、基板Wの外周端部から基板Wの上方の空間に向かって不活性ガスが放出される。 The inert gas supplied into the gap space BS flows around the outer peripheral end of the substrate W and flows out above the substrate W through the gas flow path FS. As a result, the pressure in the gap space BS is adjusted to be positive with respect to the space above the substrate W, and the inert gas is released from the outer peripheral end of the substrate W toward the space above the substrate W. .
上記より、本例の密着強化ユニットAHLにおいては、蓋体941から基板Wに密着強化剤が供給される際に、密着強化剤が基板Wの裏面側に回り込むことが防止される。これにより、基板Wの裏面が親水性から疎水性に改質されることが防止される。
From the above, in the adhesion enhancing unit AHL of this example, the adhesion enhancing agent is prevented from wrapping around the back side of the substrate W when the adhesion enhancing agent is supplied from the
さらに、密着強化処理中に、不活性ガスが基板Wの外周端部と流路形成部材938とで形成される気体流路FSを流れるので、密着強化剤が基板Wの外周端部に付着することも防止される。これにより、基板Wの外周端部が親水性から疎水性に改質されることが防止される。
Further, since the inert gas flows through the gas flow path FS formed by the outer peripheral end of the substrate W and the flow
これらより、洗浄/乾燥処理ユニットSD1による洗浄処理後の基板Wの裏面および外周端部に液滴が残留することが十分に低減される。その結果、基板Wの裏面および外周端部の汚染に起因する露光装置16内の汚染が防止され、基板の裏面および外周端部の汚染に起因するパターン不良が防止される。
As a result, the remaining of the droplets on the back surface and the outer peripheral edge of the substrate W after the cleaning processing by the cleaning / drying processing unit SD1 is sufficiently reduced. As a result, contamination in the
本変形例に係る密着強化ユニットAHLにおいては、必ずしも基板載置プレート931上に流路形成部材938を設ける必要はない。この場合、不活性ガス供給装置990Xにより隙間空間BSに供給される不活性ガスは、基板Wの外周端部と基板載置プレート931の上面との間から基板Wの外方の空間に流れ出る。これにより、蓋体941から基板Wに密着強化剤が供給される際に、密着強化剤が基板Wの裏面側に回り込むことが防止される。それにより、基板Wの裏面が親水性から疎水性に改質されることが防止される。
In the adhesion strengthening unit AHL according to this modification, the flow
なお、本例において、上記の流路形成部材938およびガイドピン937としては、例えば耐熱性および弾性を有するポリイミド樹脂または四フッ化エチレン樹脂等を用いることができる。
In this example, as the flow
(9−2)
基板Wの表面にはレジスト膜が直接形成されてもよい。この場合、レジスト膜用塗布処理部60によるレジスト膜の形成前に、上記の密着強化ユニットAHLにより基板Wの表面に密着強化処理を行う。これにより、基板Wの表面とレジスト膜との密着性が向上する。
(9-2)
A resist film may be directly formed on the surface of the substrate W. In this case, before the resist film is formed by the resist
(9−3)
洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2においては、基板Wの裏面および外周端部が洗浄ブラシ630により洗浄されるが、基板Wの裏面および外周端部の洗浄は液体および気体の混合流体を吐出する二流体ノズルを用いて行ってもよい。また、基板Wの裏面および外周端部の洗浄は、高周波振動子を内蔵する超音波ノズルを用いて行ってもよい。超音波ノズルを用いる場合、超音波振動状態となった洗浄液が基板Wの裏面および外周端部に供給される。
(9-3)
In the cleaning / drying processing units SD1 and SD2, the back surface and the outer peripheral edge of the substrate W are cleaned by the cleaning
(9−4)
洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2、塗布ユニットBARC,RES,COV、現像処理ユニットDEV、除去ユニットREM、加熱ユニットHP、冷却ユニットCPおよび載置兼冷却ユニットP−CPの個数は、各処理ブロックの処理速度に合わせて適宜変更してもよい。
(9-4)
The number of cleaning / drying processing units SD1, SD2, coating units BARC, RES, COV, development processing unit DEV, removal unit REM, heating unit HP, cooling unit CP and mounting / cooling unit P-CP is the number of each processing block. You may change suitably according to a processing speed.
また、上記第1の実施の形態では、洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2がインターフェースブロック15内に配置されるが、洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2の少なくとも一方が図1に示すレジストカバー膜除去ブロック14内に配置されてもよい。あるいは、洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2の少なくとも一方を含む洗浄/乾燥処理ブロックを図1に示すレジストカバー膜除去ブロック14とインターフェースブロック15との間に設けてもよい。
In the first embodiment, the cleaning / drying processing units SD1 and SD2 are arranged in the
また、上記実施の形態では、液浸法により基板Wの露光処理を行う露光装置16を基板処理装置500の外部装置として設ける場合について説明したが、これに限定されず、液体を用いずに基板Wの露光処理を行う露光装置を基板処理装置500の外部装置として設けてもよい。
In the above-described embodiment, the case where the
(9−5)
上記では、洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2を基板処理装置500に設ける場合について説明したが、これに限らず、洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2を他の基板処理装置に設けてもよく、または洗浄/乾燥処理ユニットSD1,SD2を単独で用いてもよい。
(9-5)
In the above description, the cleaning / drying processing units SD1 and SD2 are provided in the
(9−6)
上記では、基板載置プレート931の上面に10個の球体PUが分散的に配置される例を説明した。これに関して、基板載置プレート931の上面に設けられる球体PUの数は10個に限定されない。例えば、複数の球体PUの個数は、9個であってもよいし、8個であってもよい。
(9-6)
In the above description, an example in which ten spherical PUs are distributed on the upper surface of the
(10)請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
(10) Correspondence between each constituent element of claim and each element of the embodiment Hereinafter, an example of correspondence between each constituent element of the claim and each element of the embodiment will be described. It is not limited to.
上記実施の形態では、処理ブロック10〜14が処理部の例であり、インターフェースブロック15が受け渡し部の例であり、反射防止膜用塗布処理部50、レジスト膜用塗布処理部60およびレジストカバー膜用塗布処理部80が膜形成ユニットの例である。
In the above embodiment, the processing blocks 10 to 14 are examples of processing units, the
また、基板載置プレート931が基板載置台の例であり、複数の貫通孔931aが通路の例であり、隙間空間BSが隙間の例であり、複数の球体PUおよび環状部材935が支持部材の例であり、密着強化剤気化装置910、配管911、支持部材940、蓋体941および整流板942が密着強化剤供給部の例である。
Further, the
さらに、第1の排気装置990および不活性ガス供給装置990Xが圧力調整機構の例であり、複数の球体PUが複数の支持体の例であり、第1の排気装置990が排気装置の例であり、洗浄/乾燥処理ユニットSD1が第1の洗浄ユニットおよび洗浄ユニットの例である。
Further, the
また、スピンモータ200が回転駆動手段の例であり、回転軸210、円板状のスピンプレート520、プレート支持部材510、マグネットプレート614a,614bおよび複数のチャックピン615が基板保持手段の例であり、気体供給管420が不活性ガス供給手段の例であり、洗浄液供給管430が処理液供給手段の例であり、洗浄/乾燥処理ユニットSD2が第2の洗浄ユニットの例である。さらに、洗浄液、薬液およびリンス液が処理液の例である。
Further, the
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。 As each constituent element in the claims, various other elements having configurations or functions described in the claims can be used.
本発明は、種々の基板の処理等に利用することができる。 The present invention can be used for processing various substrates.
9 インデクサブロック
10 反射防止膜用処理ブロック
11 レジスト膜用処理ブロック
12 現像処理ブロック
13 レジストカバー膜用処理ブロック
14 レジストカバー膜除去ブロック
15 インターフェースブロック
16 露光装置
50 反射防止膜用塗布処理部
60 レジスト膜用塗布処理部
80 レジストカバー膜用塗布処理部
200 スピンモータ
210 回転軸
420 気体供給管
430 洗浄液供給管
500 基板処理装置
510 プレート支持部材
520 スピンプレート
614a,614b マグネットプレート
615 チャックピン
910 密着強化剤気化装置
911 配管
931 基板載置プレート
931a 貫通孔
935 環状部材
938 流路形成部材
940 支持部材
941 蓋体
942 整流板
990 第1の排気装置
990X 不活性ガス供給装置
AHL 密着強化ユニット
BS 隙間空間
PU 球体
SD1,SD2 洗浄/乾燥処理ユニット
DESCRIPTION OF
Claims (10)
基板に処理を行うための処理部と、
前記処理部の一端部に隣接するように設けられ、前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、
前記処理部は、前記露光装置による露光処理前に基板の表面に膜を形成する膜形成ユニットと、前記膜形成ユニットによる前記膜の形成前に基板の表面に密着強化処理を行う密着強化ユニットとを含み、
前記処理部および前記受け渡し部の少なくとも一方は、前記膜形成ユニットによる前記膜の形成後で前記露光装置による露光処理前に基板の裏面を洗浄する第1の洗浄ユニットを含み、
前記密着強化ユニットは、
基板が載置される上面を有するとともに前記上面に開口する通路を有する基板載置台と、
基板の裏面と前記基板載置台の前記上面との間に隙間が形成されるように基板の裏面を支持する支持部材と、
前記基板載置台に載置された基板の表面に密着強化剤を供給する密着強化剤供給部と、
前記密着強化剤供給部により基板の表面に供給される密着強化剤が前記隙間に進入しないように、前記通路を通して前記隙間内の圧力を調整する圧力調整機構とを備えることを特徴とする基板処理装置。 A substrate processing apparatus disposed adjacent to an exposure apparatus,
A processing unit for processing the substrate;
Provided adjacent to one end of the processing unit, and a transfer unit for transferring the substrate between the processing unit and the exposure apparatus,
The processing unit includes: a film forming unit that forms a film on the surface of the substrate before the exposure process by the exposure apparatus; and an adhesion strengthening unit that performs an adhesion strengthening process on the surface of the substrate before the film formation by the film forming unit. Including
At least one of the processing section and the transfer section includes a first cleaning unit that cleans the back surface of the substrate after the film formation by the film formation unit and before the exposure processing by the exposure apparatus,
The adhesion strengthening unit is
A substrate mounting table having a top surface on which the substrate is mounted and having a passage opening in the upper surface;
A support member that supports the back surface of the substrate so that a gap is formed between the back surface of the substrate and the top surface of the substrate mounting table;
An adhesion reinforcing agent supply unit for supplying an adhesion reinforcing agent to the surface of the substrate placed on the substrate placing table;
A substrate processing comprising: a pressure adjusting mechanism that adjusts the pressure in the gap through the passage so that the adhesion reinforcing agent supplied to the surface of the substrate by the adhesion reinforcing agent supply unit does not enter the gap. apparatus.
前記圧力調整機構は、前記基板載置台の前記通路を通して前記隙間内の雰囲気を排気することにより前記隙間内の圧力を調整する排気装置を含むことを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 The support member includes an annular member that closes the outer periphery of the gap by contacting the peripheral edge of the back surface of the substrate,
The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the pressure adjustment mechanism includes an exhaust device that adjusts the pressure in the gap by exhausting the atmosphere in the gap through the passage of the substrate mounting table.
前記圧力調整機構は、前記基板載置台の前記通路を通して前記隙間内に不活性ガスを供給することにより前記隙間内の圧力を調整する不活性ガス供給装置を備えることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。 The support member includes a plurality of supports that support the back surface of the substrate so that at least a part of the outer peripheral portion of the gap is in an open state;
The said pressure adjustment mechanism is provided with the inert gas supply apparatus which adjusts the pressure in the said clearance gap by supplying an inert gas in the said clearance gap through the said channel | path of the said substrate mounting base. Substrate processing equipment.
前記流路形成部材は、前記基板載置台に載置された基板の外周端部に間隙をおいて対向する内周面を有することを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。 The pressure adjusting mechanism further includes an annular flow path forming member provided on the upper surface of the substrate mounting table,
5. The substrate processing apparatus according to claim 4, wherein the flow path forming member has an inner peripheral surface facing the outer peripheral end of the substrate mounted on the substrate mounting table with a gap.
基板を略水平に保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段により保持された基板をその基板に垂直な軸の周りで回転させる回転駆動手段と、
前記基板保持手段に保持された基板の表面上に処理液を供給する処理液供給手段と、
前記処理液供給手段により基板の表面上に処理液が供給された後に、基板の表面上に供給された処理液が基板の中心部から外方へ移動することにより基板の表面上から排除されるように不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段とを備えることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の基板処理装置。 The first cleaning unit includes
Substrate holding means for holding the substrate substantially horizontally;
A rotation driving means for rotating the substrate held by the substrate holding means around an axis perpendicular to the substrate;
Treatment liquid supply means for supplying a treatment liquid onto the surface of the substrate held by the substrate holding means;
After the processing liquid is supplied onto the surface of the substrate by the processing liquid supply means, the processing liquid supplied onto the surface of the substrate is removed from the surface of the substrate by moving outward from the center of the substrate. The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising an inert gas supply unit configured to supply an inert gas.
前記露光装置による露光処理前に基板の表面に前記感光性膜を形成する感光性膜形成ユニットと、
前記密着強化ユニットによる密着強化処理後かつ前記感光性膜形成ユニットによる感光性膜の形成前に基板の表面に反射防止膜を形成する反射防止膜形成ユニットとを含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の基板処理装置。 The film forming unit includes:
A photosensitive film forming unit for forming the photosensitive film on the surface of the substrate before the exposure processing by the exposure apparatus;
2. An antireflection film forming unit that forms an antireflection film on the surface of the substrate after the adhesion strengthening process by the adhesion strengthening unit and before the formation of the photosensitive film by the photosensitive film forming unit. The substrate processing apparatus in any one of -8.
前記露光装置による露光処理前に前記密着強化ユニットにより基板の表面に密着強化処理を行う工程と
前記密着強化ユニットによる密着強化処理後で前記露光装置による露光処理前に前記膜形成ユニットにより基板の表面に膜を形成する工程と、
前記膜形成ユニットによる膜の形成後で前記露光装置による露光処理前に前記洗浄ユニットにより基板の裏面を洗浄する工程と、
前記洗浄ユニットによる洗浄後の基板を前記露光装置に搬送する工程とを備え、
前記密着強化処理を行う工程は、
基板が載置される上面を有するとともに前記上面に開口する通路を有する基板載置台に、基板の裏面と前記基板載置台の前記上面との間に隙間が形成されるように基板を載置する工程と、
前記基板載置台に載置された基板の表面に密着強化剤を供給する工程と、
基板の表面に供給される密着強化剤が前記隙間に進入しないように、前記通路を通して前記隙間内の圧力を調整する工程とを備えることを特徴とする基板処理方法。 A substrate processing method for processing a substrate in a substrate processing apparatus that is disposed adjacent to an exposure apparatus and includes an adhesion strengthening unit, a film forming unit, and a cleaning unit,
A step of performing an adhesion strengthening process on the surface of the substrate by the adhesion strengthening unit before the exposure process by the exposure apparatus; and a surface of the substrate by the film forming unit after the adhesion strengthening process by the adhesion strengthening unit and before the exposure process by the exposure apparatus. Forming a film on
Cleaning the back surface of the substrate by the cleaning unit after the film formation by the film formation unit and before the exposure processing by the exposure apparatus;
A step of transporting the substrate after cleaning by the cleaning unit to the exposure apparatus,
The step of performing the adhesion strengthening process includes:
The substrate is placed on the substrate platform having an upper surface on which the substrate is placed and having a passage opening on the upper surface so that a gap is formed between the back surface of the substrate and the upper surface of the substrate platform. Process,
Supplying an adhesion enhancing agent to the surface of the substrate mounted on the substrate mounting table;
And a step of adjusting the pressure in the gap through the passage so that the adhesion enhancing agent supplied to the surface of the substrate does not enter the gap.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009066809A JP2010219435A (en) | 2009-03-18 | 2009-03-18 | Substrate processing apparatus, and substrate processing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009066809A JP2010219435A (en) | 2009-03-18 | 2009-03-18 | Substrate processing apparatus, and substrate processing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010219435A true JP2010219435A (en) | 2010-09-30 |
Family
ID=42977922
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009066809A Pending JP2010219435A (en) | 2009-03-18 | 2009-03-18 | Substrate processing apparatus, and substrate processing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010219435A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116631923A (en) * | 2022-02-18 | 2023-08-22 | 株式会社斯库林集团 | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
-
2009
- 2009-03-18 JP JP2009066809A patent/JP2010219435A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116631923A (en) * | 2022-02-18 | 2023-08-22 | 株式会社斯库林集团 | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
JP2023120864A (en) * | 2022-02-18 | 2023-08-30 | 株式会社Screenホールディングス | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
JP7405884B2 (en) | 2022-02-18 | 2023-12-26 | 株式会社Screenホールディングス | Substrate processing equipment |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101012554B1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP4832201B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP4522329B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP5154007B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP5154008B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP4926433B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP5008268B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP5008280B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
JP5166802B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
US7722267B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
JP2009032889A (en) | Substrate cleaning apparatus and substrate processing system equipped with the same | |
JP2006310724A (en) | Substrate processing equipment and method | |
JP4794232B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP6001896B2 (en) | Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus having the same | |
JP2006310730A (en) | Substrate processing equipment | |
KR101178973B1 (en) | Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus | |
JP2007214365A (en) | Substrate processor | |
JP2007201078A (en) | Substrate processing apparatus | |
JP5091687B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP2010219435A (en) | Substrate processing apparatus, and substrate processing method | |
JP2007189139A (en) | Substrate-treating device | |
JP2007208021A (en) | Substrate treatment device and substrate treatment method | |
JP2009231553A (en) | Substrate cleaning apparatus, and substrate processing apparatus having the same | |
KR101068754B1 (en) | Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus | |
JP2009032888A (en) | Substrate-treating device |