JP2010207687A

JP2010207687A - Substrate conveying apparatus

Info

Publication number: JP2010207687A
Application number: JP2009055315A
Authority: JP
Inventors: Soichi Yanagisawa; 聡一柳澤
Original assignee: NAGAOKA SEISAKUSHO KK
Current assignee: NAGAOKA SEISAKUSHO KK
Priority date: 2009-03-09
Filing date: 2009-03-09
Publication date: 2010-09-24
Also published as: CN101829660B; CN101829660A

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus that performs operation of removing dust from both surfaces of a substrate in a shorter period of time than heretofore. <P>SOLUTION: The apparatus 1 includes a conveying means 10 for conveying a substrate 100 and a pair of rotary brushing rollers 21, 31 which are arranged vertically in a manner clamping the substrate 100 conveyed by the conveying means 10 and which are each extended in a direction crossing the conveying direction A of the substrate 100. The conveying means 10 includes a first conveyor 11 which is for conveying the substrate 100 and which is arranged on the upstream side from the pair of rotary brushing rollers 21, 31 and a second conveyor 12 which is for conveying the substrate 100 and which is arranged on the downstream side from the pair of rotary brushing rollers 21, 31. The first and the second conveyors 11, 12 are arranged with a space 13 apart by which the pair of rotary brushing rollers 21, 31 can come in contact with the substrate 100. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、搬送される基板の表面から塵埃を除去するための機能を備えた装置に関するものである。 The present invention relates to an apparatus having a function for removing dust from the surface of a substrate to be transported.

プリント配線板などの基板の製造過程において、その基板の表面に、はんだくずや塵やほこりなどの塵埃が付着していると、その後の工程の処理によっては、塵埃の付着の箇所の電気抵抗値が下がるなどの不具合の要因になるおそれがある。この場合、基板の機能が損なわれる可能性がある。この塵埃の付着による電気抵抗値の低下は、微小電力で動作する近時の半導体装置用の基板の場合に、特に問題となりやすい。したがって、そのような半導体装置用などの基板の組み立て作業においては、通常、その基板に付着している塵埃を除去する工程が組み込まれている。 In the process of manufacturing a printed wiring board or other substrate, if dust such as solder scraps, dust, or dust adheres to the surface of the substrate, the electrical resistance value at the location where the dust adheres depends on the subsequent processing. There is a risk of problems such as lowering. In this case, the function of the substrate may be impaired. The decrease in the electrical resistance value due to the adhesion of dust tends to be a problem particularly in the case of a substrate for a recent semiconductor device that operates with a minute electric power. Therefore, a process for removing dust adhering to the substrate is usually incorporated in the assembly operation of the substrate for such a semiconductor device.

特許文献１に、プリント配線基板などの基板に付着している塵埃を除去するための基板塵埃除去装置が開示されている。この基板塵埃除去装置は、基板搬送用のコンベアと、該コンベア上に搭載されて搬送される基板表面に、基板を横断する方向に向けて押接させる、互いに接近して並ぶ前後２本の回転ブラシローラと、該２本の回転ブラシローラの基板表面に押接させる側のローラ部分が２本の回転ブラシローラ間の内方に向けてそれぞれ回転するように、２本の回転ブラシローラを互いに逆方向に向けて回転させる回転手段と、２本の回転ブラシローラの上部周囲を連続して覆う集塵口を持つ塵埃除去手段であって、その２本の回転ブラシローラの間に浮遊する塵埃及びその２本の回転ブラシローラに付着した塵埃を、集塵口を通して、吸引して、排除する塵埃除去手段とを備えている。 Patent Document 1 discloses a substrate dust removing device for removing dust attached to a substrate such as a printed wiring board. This substrate dust removing device has two conveyors arranged in close proximity to each other, which are in contact with a substrate conveying conveyor and a substrate surface mounted and conveyed on the conveyor in a direction transverse to the substrate. The two rotating brush rollers are mutually connected such that the brush roller and the roller portion of the two rotating brush rollers that are pressed against the substrate surface rotate inwardly between the two rotating brush rollers. Dust removing means having a rotating means for rotating in the opposite direction and a dust collecting port for continuously covering the upper periphery of the two rotating brush rollers, and dust floating between the two rotating brush rollers And dust removing means for sucking and removing dust adhering to the two rotating brush rollers through the dust collection port.

特開２００５−２１８９２３号公報（段落番号０００６）Japanese Patent Laying-Open No. 2005-218923 (paragraph number 0006)

特許文献１に記載の基板塵埃除去装置では、通常、基板の上面などの一方の面の塵埃のみが除去される。したがって、基板の両面から塵埃を除去したい場合には、基板をこの基板塵埃除去装置に２回通す必要がある。また、この際、途中で基板を上下反転させる必要がある。すなわち、１周目に基板の上面となっている一方の面から塵埃を除去し、その後、基板を反転させて他方の面を上面とし、２周目において基板の他方の面から塵埃を除去する。 In the substrate dust removing device described in Patent Document 1, usually only dust on one surface such as the upper surface of the substrate is removed. Therefore, when it is desired to remove dust from both sides of the substrate, it is necessary to pass the substrate through the substrate dust removing device twice. At this time, it is necessary to turn the substrate upside down in the middle. That is, dust is removed from one surface that is the upper surface of the substrate in the first round, and then the substrate is turned over to make the other surface the top surface, and dust is removed from the other surface of the substrate in the second round. .

このように、上記の基板塵埃除去装置においては、上述のような処理が必要であることから、基板の両面から塵埃を除去する際に比較的時間がかかりやすい。このため、基板の両面から塵埃を除去する作業をより短時間で行うことができる装置が求められている。 As described above, the above-described substrate dust removing apparatus requires the processing as described above, and therefore, it takes a relatively long time to remove dust from both surfaces of the substrate. Therefore, there is a demand for an apparatus that can perform the operation of removing dust from both surfaces of the substrate in a shorter time.

本発明の一態様は、搬送される基板の表面から塵埃を除去するための機能を備えた装置である。この装置は、基板を搬送するシステムの一部であってもよく、あるいはシステムの全体であってもよい。この装置は、基板を搬送するための搬送手段と、搬送手段により搬送される基板を挟むように上下に配置された一対の回転ブラシローラであって、基板の搬送方向と交差する方向にそれぞれ延びる一対の回転ブラシローラとを有する。搬送手段は、基板を搬送するための第１のコンベアであって、一対の回転ブラシローラよりも基板の搬送方向の上流側に配置された第１のコンベアと、基板を搬送するための第２のコンベアであって、一対の回転ブラシローラよりも基板の搬送方向の下流側に配置された第２のコンベアとを備える。第１のコンベアと第２のコンベアとは、一対の回転ブラシローラが基板に接触可能な隙間をあけて配置されている。 One embodiment of the present invention is an apparatus including a function for removing dust from the surface of a substrate to be transported. This apparatus may be part of the system for transporting the substrate or the entire system. This apparatus is a pair of rotating brush rollers arranged vertically so as to sandwich a substrate conveyed by the conveyance unit and a substrate conveyed by the conveyance unit, each extending in a direction intersecting the substrate conveyance direction. A pair of rotating brush rollers. The transport means is a first conveyor for transporting the substrate, the first conveyor disposed upstream of the pair of rotating brush rollers in the transport direction of the substrate, and a second conveyor for transporting the substrate. And a second conveyor disposed downstream of the pair of rotating brush rollers in the substrate transport direction. The first conveyor and the second conveyor are arranged with a gap where the pair of rotating brush rollers can contact the substrate.

１回の処理で基板の両面から塵埃を除去するためには、一対の回転ブラシローラを、基板を挟むように上下に配置することが考えられる。しかしながら、基板を搬送しながら、この基板を挟むように上下に配置された一対の回転ブラシローラを用いて、その両面から塵埃を除去する作業を行うためには、上下に配置された一対の回転ブラシローラの近傍において基板をどのように搬送するのかが問題となる。すなわち、基板の下面を支持してこれを搬送するようなコンベアを用いて基板を搬送する場合、基板の下面に回転ブラシを接触させることができない。 In order to remove dust from both surfaces of the substrate in a single process, it is conceivable to arrange a pair of rotating brush rollers vertically so as to sandwich the substrate. However, in order to remove dust from both sides using a pair of rotating brush rollers arranged vertically so as to sandwich the substrate while conveying the substrate, a pair of rotating brushes arranged vertically The problem is how to transport the substrate in the vicinity of the brush roller. That is, when a substrate is transported using a conveyor that supports and transports the lower surface of the substrate, the rotating brush cannot be brought into contact with the lower surface of the substrate.

また、基板を挟むように上下に配置された一対の回転ブラシローラを用いて、その両面から塵埃を除去することを想定した装置では、一対の回転ブラシローラの回転方向（回転ブラシローラと基板とが接触する接触部分における分力の方向）は、基板の搬送方向とは逆方向になることが好ましい。したがって、基板の搬送に寄与する力を回転ブラシローラの回転（動力）から得ることは難しい。さらに、基板の端をつかみ、基板の端を除く領域（典型的には中央部分）から塵埃を除去するということも考えられるが、基板の端をつかむと、つかんだ部分の塵埃を除去できない。 In addition, in an apparatus that is supposed to remove dust from both surfaces using a pair of rotating brush rollers arranged above and below to sandwich the substrate, the rotation direction of the pair of rotating brush rollers (the rotating brush roller and the substrate) It is preferable that the direction of the component force at the contact portion in contact with the substrate is in the direction opposite to the substrate transport direction. Therefore, it is difficult to obtain the force that contributes to the conveyance of the substrate from the rotation (power) of the rotating brush roller. Further, it is conceivable to grasp the edge of the substrate and remove dust from the region excluding the edge of the substrate (typically the central portion). However, if the edge of the substrate is grasped, the dust at the grasped portion cannot be removed.

この装置によれば、独立した第１のコンベアおよび第２のコンベアを、一対の回転ブラシローラの上流および下流（前後）に配置することにより、一対の回転ブラシローラが基板に接触可能な隙間（接触可能な程度の隙間、または、接触可能な範囲に限定した隙間）を第１および第２のコンベアとの間に確保できるようにしている。したがって、搬送手段により搬送される基板を挟むように配置された一対の回転ブラシローラを、その隙間を挟んで対向するように上下に配置することにより、この一対の回転ブラシローラをそれぞれ基板の両側（表裏）の全面に接触可能にすることができる。このため、この装置によれば、一対の回転ブラシローラにより基板の両面から塵埃をそれぞれ並列して除去できる。 According to this apparatus, by arranging the independent first conveyor and the second conveyor upstream and downstream (front and rear) of the pair of rotating brush rollers, a gap (in which the pair of rotating brush rollers can contact the substrate ( A gap that can be contacted or a gap that is limited to a contactable range) can be secured between the first and second conveyors. Accordingly, by arranging the pair of rotating brush rollers arranged so as to sandwich the substrate conveyed by the conveying means so as to face each other with the gap therebetween, the pair of rotating brush rollers are respectively arranged on both sides of the substrate. The entire surface (front and back) can be contacted. Therefore, according to this apparatus, dust can be removed in parallel from both surfaces of the substrate by the pair of rotating brush rollers.

したがって、この装置によれば、１回の処理、すなわち、基板を装置に１回通すことにより、基板の両面から塵埃を除去することができ、より短時間で基板から塵埃を除去できる。 Therefore, according to this apparatus, the dust can be removed from both surfaces of the substrate by performing the process once, that is, the substrate is passed once through the apparatus, and the dust can be removed from the substrate in a shorter time.

この装置においては、一対の回転ブラシローラの位置よりも基板の搬送方向の下流側から基板の搬送方向の上流側に向けてエアーを吹き付ける手段をさらに有することが好ましい。この場合、エアーを吹き付ける手段は、一対の回転ブラシローラの近傍に配置されていることが好ましい。さらに、この装置においては、一対の回転ブラシローラの位置よりも基板の搬送方向の上流側からエアーを吸引する手段をさらに有することが好ましい。この場合、エアーを吸引する手段は、一対の回転ブラシローラの近傍に配置されていることが好ましい。 The apparatus preferably further includes means for blowing air from a position downstream of the pair of rotating brush rollers toward the upstream side of the substrate transport direction from the downstream side of the substrate transport direction. In this case, the means for blowing air is preferably disposed in the vicinity of the pair of rotating brush rollers. Further, this apparatus preferably further includes means for sucking air from the upstream side in the substrate transport direction with respect to the position of the pair of rotating brush rollers. In this case, the means for sucking air is preferably arranged in the vicinity of the pair of rotating brush rollers.

エアーを吹き付ける手段を設けることにより、一対の回転ブラシローラにより基板から除去された塵埃を、一対の回転ブラシローラの下流側から上流側に向けて吹き飛ばし、除去された塵埃が基板に再付着することを抑制できる。また、エアーにより回転ブラシローラでは除去しにくい部分、例えば、その基板の表面に刻設された溝内および／またはその基板に設けられたスルーホール内に付着している塵埃などを除去しやすい。したがって、基板の表面の塵埃をより良好に除去することができる。 By providing means for blowing air, the dust removed from the substrate by the pair of rotating brush rollers is blown from the downstream side to the upstream side of the pair of rotating brush rollers, and the removed dust adheres to the substrate again. Can be suppressed. In addition, it is easy to remove portions that are difficult to remove with air using a rotating brush roller, for example, dust adhered to a groove formed in the surface of the substrate and / or a through hole provided in the substrate. Therefore, the dust on the surface of the substrate can be removed better.

さらに、一対の回転ブラシローラの位置よりも基板の搬送方向の上流側にエアーを吸引する手段を設けることにより、上流側に吹き飛ばされた塵埃を除去できるので、塵埃が除去された後のクリーンな基板に再付着することをさらに抑制できる。 Further, by providing a means for sucking air upstream of the position of the pair of rotating brush rollers in the substrate transport direction, dust blown upstream can be removed, so that clean after the dust is removed. Reattachment to the substrate can be further suppressed.

この装置においては、一対の回転ブラシローラよりも基板の搬送方向の下流側に、基板の上面および下面にそれぞれ面するように配置された、基板に帯電した静電気を除去するための一対の手段をさらに有することが好ましい。回転ブラシローラにより基板の表面を掃いて塵埃を除去する際に発生しやすい静電気を除去し、静電気による塵埃の再付着をさらに抑制できる。また、静電気によるプリント配線板などの基板の中の不具合の発生を抑制できる。 In this apparatus, a pair of means for removing static electricity charged on the substrate is disposed downstream of the pair of rotating brush rollers in the substrate transport direction so as to face the upper surface and the lower surface of the substrate, respectively. Furthermore, it is preferable to have. Static electricity that is easily generated when dust is removed by sweeping the surface of the substrate with a rotating brush roller can be removed, and reattachment of dust due to static electricity can be further suppressed. In addition, it is possible to suppress the occurrence of defects in a substrate such as a printed wiring board due to static electricity.

さらに、この装置においては、第１のコンベアは、一対の回転ブラシローラよりも基板の搬送方向の上流側において基板の両端をそれぞれ押さえるための一対の第１の補助ローラと、一対の第１の補助ローラよりも径の大きい一対の第２の補助ローラとを含むことが好ましい。この際、一対の第２の補助ローラは、一対の第１の補助ローラよりも基板の搬送方向の上流側に配置される。 Furthermore, in this apparatus, the first conveyor includes a pair of first auxiliary rollers for holding both ends of the substrate upstream of the pair of rotating brush rollers, and a pair of first auxiliary rollers. It is preferable to include a pair of second auxiliary rollers having a larger diameter than the auxiliary rollers. At this time, the pair of second auxiliary rollers are arranged upstream of the pair of first auxiliary rollers in the substrate transport direction.

第１のコンベアと第２のコンベアとの隙間（狭間）で、一対の回転ブラシローラが基板の両面にそれぞれ接触する。したがって、基板が回転ブラシローラと接触している部分では基板は回転ブラシローラからのみ力を受ける。このため、特に、一対の回転ブラシローラの間（ニップ）に基板を挿入するときには、塵埃が除去される上記隙間の寸前、すなわち、一対の回転ブラシローラの直前まで、基板の両端を良好に押さえておきたい。したがって、回転ブラシローラの近傍で回転ブラシローラおよびその周辺の機器と干渉しないように基板の両端をそれぞれ押さえるための補助ローラの径は小さいことが好ましい。一方、補助ローラの径を小さくすることは、補助ローラの径の曲率を大きくする（曲率半径を小さくする）ことであり、補助ローラの径の曲率が大きくなると、厚みのある基板を取り込む際に補助ローラと基板との間に比較的大きな抵抗が生じ、場合によっては補助ローラと基板とが干渉して搬送不能になる可能性もある。 A pair of rotating brush rollers are in contact with both surfaces of the substrate in the gap (between the first conveyor and the second conveyor). Therefore, the substrate receives a force only from the rotating brush roller at a portion where the substrate is in contact with the rotating brush roller. For this reason, particularly when inserting a substrate between a pair of rotating brush rollers (nip), both ends of the substrate are pressed well until just before the gap where dust is removed, that is, immediately before the pair of rotating brush rollers. I want to keep it. Therefore, it is preferable that the diameter of the auxiliary roller for pressing the both ends of the substrate in the vicinity of the rotating brush roller so as not to interfere with the rotating brush roller and peripheral devices is small. On the other hand, reducing the diameter of the auxiliary roller means increasing the curvature of the diameter of the auxiliary roller (decreasing the radius of curvature). If the curvature of the diameter of the auxiliary roller increases, A relatively large resistance is generated between the auxiliary roller and the substrate, and in some cases, the auxiliary roller and the substrate may interfere with each other to make conveyance impossible.

この装置には、一対の第１の補助ローラを設けるとともに、一対の第１の補助ローラよりも基板の搬送方向の上流側に一対の第１の補助ローラよりも径の大きい第２の補助ローラを設けている。このため、上流側では、径の曲率の小さい（曲率半径の大きい）一対の第２の補助ローラが先に基板に接触して基板を押さえつけて姿勢を安定させ、下流側では、径の小さい第１の補助ローラにより一対の回転ブラシローラの寸前まで、基板の両端を良好に押さえておくことができる。 The apparatus includes a pair of first auxiliary rollers and a second auxiliary roller having a diameter larger than that of the pair of first auxiliary rollers on the upstream side of the pair of first auxiliary rollers in the substrate transport direction. Is provided. For this reason, on the upstream side, the pair of second auxiliary rollers having a small diameter curvature (large curvature radius) first contacts the substrate and presses the substrate to stabilize the posture, and on the downstream side, the second auxiliary roller having a small diameter. Both ends of the substrate can be satisfactorily pressed down to just before the pair of rotating brush rollers by one auxiliary roller.

また、この装置においては、一対の回転ブラシローラをそれぞれ回転駆動するための一対のモータと、一対のモータのそれぞれの回転数または駆動電流を検出することにより、一対の回転ブラシローラのそれぞれが基板に接触しているか否かを検知するための手段をさらに有することが好ましい。 Further, in this apparatus, each of the pair of rotating brush rollers is configured to detect a pair of motors for rotationally driving the pair of rotating brush rollers, and detecting the rotational speed or driving current of each of the pair of motors. It is preferable to further have a means for detecting whether or not it is touching.

この装置では、回転ブラシローラを基板の表面に接触させて塵埃を掃き取るため、回転ブラシローラが基板との摩擦により磨耗することがある。それにより基板との接触が不良となると、基板の表面の塵埃の除去効率が低下するおそれがある。このような事態を抑制するためには、回転ブラシローラと基板とが良好に接触する状態を常にキープすることが肝要である。ＤＣモータの場合、ブラシローラと基板との接触抵抗による負荷変動を電流で検知できる。ＡＣモータの場合、ブラシローラと基板との接触抵抗による回転数の変化をエンコーダを介して検知できる。 In this apparatus, since the rotating brush roller is brought into contact with the surface of the substrate to sweep out dust, the rotating brush roller may be worn due to friction with the substrate. Accordingly, if the contact with the substrate becomes poor, the dust removal efficiency on the surface of the substrate may be reduced. In order to suppress such a situation, it is important to always keep a state where the rotating brush roller and the substrate are in good contact. In the case of a DC motor, the load fluctuation due to the contact resistance between the brush roller and the substrate can be detected by current. In the case of an AC motor, a change in the rotational speed due to the contact resistance between the brush roller and the substrate can be detected via an encoder.

したがって、この装置によれば、一対の回転ブラシローラのそれぞれが基板に接触しているか否かを検知することができる。すなわち、回転ブラシローラと基板との接触を自動監視できるため、回転ブラシローラを取り外して点検することなく、回転ブラシローラの交換タイミングを知ることができる。したがって、回転ブラシローラと基板とが良好に接触する状態をキープすることができる。 Therefore, according to this apparatus, it is possible to detect whether or not each of the pair of rotating brush rollers is in contact with the substrate. That is, since the contact between the rotating brush roller and the substrate can be automatically monitored, the replacement timing of the rotating brush roller can be known without removing and inspecting the rotating brush roller. Therefore, it is possible to keep the state in which the rotating brush roller and the substrate are in good contact.

本発明の一実施形態にかかる装置の概略構成を正面から見た状態で示す図。The figure which shows the schematic structure of the apparatus concerning one Embodiment of this invention in the state seen from the front. 図１の装置の概略構成を側方から見た状態で示す図。The figure which shows the schematic structure of the apparatus of FIG. 1 in the state seen from the side. 図１の装置の概略構成を側方から見た状態で示す図であって、上側の回転ブラシローラユニットを取り外した状態で示す図。It is a figure which shows the schematic structure of the apparatus of FIG. 1 in the state seen from the side, Comprising: The figure shown in the state which removed the upper rotating brush roller unit. 図１の装置の回転ブラシローラの近傍の概略構成を正面から見た状態で示す図。The figure which shows the schematic structure of the rotation brush roller vicinity of the apparatus of FIG. 1 in the state seen from the front. 図１の装置の回転ブラシローラの近傍の概略構成を上方から見た状態で示す図。The figure which shows the schematic structure of the rotation brush roller vicinity of the apparatus of FIG. 1 in the state seen from upper direction. 図４の一部をさらに拡大して示す図。The figure which further expands and shows a part of FIG.

以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。図１は、本発明の一実施形態にかかる装置の内部の概略構成を、正面（搬送方向に対して横方向）から透かして見た状態で示している。図２は、図１の装置の内部の概略構成を側方（搬送方向の上流側）から透かして見た状態で示している。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows a schematic internal configuration of an apparatus according to an embodiment of the present invention as seen through the front (transverse direction with respect to the conveying direction). FIG. 2 shows the schematic internal configuration of the apparatus of FIG. 1 as seen through the side (upstream in the transport direction).

この装置１は、搬送される基板１００の表面から塵埃を除去するための機能を備えた装置である。本例では、以下、この装置１を基板搬送装置という。この基板搬送装置１は、例えば、プリント配線板などの基板１００の組み立て作業において用いられるものであり、基板１００に付着している塵埃を除去する工程において、基板１００を搬送しながら、その上面１００ａおよび下面１００ｂの塵埃をそれぞれ除去することができるものである。また、この基板搬送装置１を、基板１００を搬送するシステム、たとえばコンベアーシステムに組み込むことにより、搬送するシステムに塵埃を除去する機能を組み込むことができる。 This apparatus 1 is an apparatus having a function for removing dust from the surface of a substrate 100 to be transported. In the present example, this apparatus 1 is hereinafter referred to as a substrate transfer apparatus. The substrate transport apparatus 1 is used, for example, in an assembly operation of the substrate 100 such as a printed wiring board, and the upper surface 100a of the substrate 100 is transported while the substrate 100 is transported in the process of removing dust attached to the substrate 100. And dust on the lower surface 100b can be removed. Further, by incorporating the substrate transport apparatus 1 into a system for transporting the substrate 100, for example, a conveyor system, a function for removing dust can be incorporated into the transport system.

本例の基板搬送装置１は、基板１００の組み立て作業の後または途中において、組み立てられた基板１００または組立中の基板１００から塵埃を除去することを目的とした装置である。すなわち、この基板搬送装置１は、基板塵埃除去装置あるいは基板除塵装置と言うこともできる。 The substrate transfer apparatus 1 of the present example is an apparatus intended to remove dust from the assembled substrate 100 or the substrate 100 being assembled after or during the assembly operation of the substrate 100. That is, the substrate transfer device 1 can also be called a substrate dust removing device or a substrate dust removing device.

図１および図２に示すように、この基板搬送装置１は、基板１００を搬送するための搬送手段である搬送装置１０と、搬送装置１０により搬送される基板１００を挟むように上下に配置された一対の回転ブラシローラユニット２０および３０とを有している。回転ブラシローラユニット２０および３０は、それぞれ、回転ブラシローラ２１および３１を備えている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the substrate transport apparatus 1 is arranged up and down so as to sandwich the transport apparatus 10 that is a transport means for transporting the substrate 100 and the substrate 100 transported by the transport apparatus 10. And a pair of rotating brush roller units 20 and 30. The rotating brush roller units 20 and 30 include rotating brush rollers 21 and 31, respectively.

また、この基板搬送装置１は、一対の回転ブラシローラ２１および３１の位置よりも基板１００の搬送方向Ａの下流側から上流側に向けてエアーを吹き付ける手段であるエアー吹付装置４０と、一対の回転ブラシローラ２１および３１の位置よりも基板１００の搬送方向Ａの上流側からエアーを吸引する手段であるエアー吸引装置５０と、除去された塵埃の一部を集める塵埃受け用のパン６０と、基板１００に帯電した静電気を除去するための一対の手段（除電手段）である一対の静電気除去装置７１および７２と、一対の回転ブラシローラ２１および３１のそれぞれが基板１００に接触しているか否かを検知するための手段である検知装置８０とを有している。 Further, the substrate transport apparatus 1 includes an air spraying device 40 that is a means for spraying air from the downstream side in the transport direction A of the substrate 100 toward the upstream side from the position of the pair of rotating brush rollers 21 and 31, and a pair of An air suction device 50 that is a means for sucking air from the upstream side in the transport direction A of the substrate 100 with respect to the position of the rotating brush rollers 21 and 31, a dust receiving pan 60 that collects a part of the removed dust, Whether or not each of the pair of static eliminating devices 71 and 72 and the pair of rotating brush rollers 21 and 31 as a pair of means (static eliminating means) for removing static electricity charged on the substrate 100 is in contact with the substrate 100. It has the detection apparatus 80 which is a means for detecting this.

なお、図１においては、紙面右側が基板１００の搬送方向Ａの上流側、紙面左側が基板１００の搬送方向Ａの下流側である。また、図２においては、紙面手前側が基板１００の搬送方向Ａの上流側、紙面奥側が基板１００の搬送方向Ａの下流側である。以降において、特に記載しない限り、上流側（上流）および下流側（下流）とは搬送方向Ａに対する方向を意味する。 In FIG. 1, the right side on the paper surface is the upstream side in the transport direction A of the substrate 100, and the left side on the paper surface is the downstream side in the transport direction A of the substrate 100. In FIG. 2, the front side of the paper is the upstream side in the transport direction A of the substrate 100, and the back side of the paper is the downstream side of the transport direction A of the substrate 100. Hereinafter, unless otherwise specified, the upstream side (upstream) and the downstream side (downstream) mean directions with respect to the transport direction A.

図３は、図１の装置１の概略構成を側方から見た状態で示す図であって、上側の回転ブラシローラユニット２０を取り外した状態で示している。図４は、図１の装置１の回転ブラシローラ２１および３１の近傍の概略構成を正面から見た状態で示している。図５は、図１の装置の回転ブラシローラ２１および３１の近傍の概略構成を上方から見た状態で示している。図６は、図４の回転ブラシローラ２１および３１の近傍をさらに拡大した状態で示している。 FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of the apparatus 1 of FIG. 1 as viewed from the side, and shows a state in which the upper rotating brush roller unit 20 is removed. FIG. 4 shows a schematic configuration in the vicinity of the rotating brush rollers 21 and 31 of the apparatus 1 of FIG. 1 as viewed from the front. FIG. 5 shows a schematic configuration in the vicinity of the rotating brush rollers 21 and 31 of the apparatus of FIG. 1 as viewed from above. FIG. 6 shows the vicinity of the rotating brush rollers 21 and 31 in FIG. 4 in a further enlarged state.

搬送装置１０は、基板１００をそれぞれ搬送するための第１のコンベア１１および第２のコンベア１２を備えている。本例の第１および第２のコンベア１１および１２は、それぞれ、ベルトコンベアタイプのコンベアである。第１のコンベア１１は、一対の回転ブラシローラ２１および３１よりも上流側に配置されている。第２のコンベア１２は、一対の回転ブラシローラ２１および３１よりも下流側に配置されている。第１のコンベア１１と第２のコンベア１２とは、一対の回転ブラシローラ２１および３１が基板１００に接触可能な程度の限定された隙間１３をあけて配置されている。隙間１３の幅（間隔）は、回転ブラシローラ２１および３１の直径の１／３から２／３の範囲が望ましく、１／３から１／２の範囲がさらに好ましい。たとえば、回転ブラシローラ２１および３１の直径が２０ｍｍであれば、隙間１３は８〜１０ｍｍ程度であることが望ましい。 The transport apparatus 10 includes a first conveyor 11 and a second conveyor 12 for transporting the substrates 100, respectively. The first and second conveyors 11 and 12 in this example are belt conveyor type conveyors, respectively. The first conveyor 11 is disposed upstream of the pair of rotating brush rollers 21 and 31. The second conveyor 12 is disposed downstream of the pair of rotating brush rollers 21 and 31. The first conveyor 11 and the second conveyor 12 are arranged with a limited gap 13 that allows the pair of rotating brush rollers 21 and 31 to contact the substrate 100. The width (interval) of the gap 13 is preferably in the range of 1/3 to 2/3 of the diameter of the rotating brush rollers 21 and 31, and more preferably in the range of 1/3 to 1/2. For example, if the diameters of the rotating brush rollers 21 and 31 are 20 mm, the gap 13 is preferably about 8 to 10 mm.

第１および第２のコンベア１１および１２は、それぞれ、左右一対のベルト１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄのそれぞれを、一対の基板ガイド部材１５ａ、１５ｂ、１５ｃ、１５ｄの内側を同一方向に同一速度で同期巡回させる構造を有している。そして、その左右一対のベルト１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄの上に搭載された基板１００を、ベルト１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄの巡回方向にベルト１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄと同一速度で搬送する構造を有している。 The first and second conveyors 11 and 12 respectively have a pair of left and right belts 14a, 14b, 14c, and 14d at the same speed in the same direction inside the pair of substrate guide members 15a, 15b, 15c, and 15d. It has a structure for synchronous patrol. Then, the substrate 100 mounted on the pair of left and right belts 14a, 14b, 14c, and 14d is conveyed at the same speed as the belts 14a, 14b, 14c, and 14d in the circulation direction of the belts 14a, 14b, 14c, and 14d. It has a structure.

詳しくは、図４ないし図６に示すように、第１のコンベア１１は、複数のプーリー（モータに繋がった駆動用のプーリーも含む）１６によって基板１００の両端に対応する位置にそれぞれ掛け渡された一対の上流側ベルト（無端ベルト）１４ａおよび１４ｂと、基板１００の両端をそれぞれガイドするように基板１００の搬送経路に沿って設けられた一対の上流側の基板ガイド部材（コンベア枠）１５ａおよび１５ｂと、基板１００の下面１００ｂの両端に対応する位置をそれぞれ支持するように基板１００の搬送経路に沿って設けられた上流側の基板支持部材１７ａおよび１７ｂと、一対の回転ブラシローラ２１および３１よりも上流側において基板１００の両端をそれぞれ押さえるための一対の第１の補助ローラ９１ａおよび９１ｂと、一対の第１の補助ローラ９１ａおよび９１ｂよりも上流側において基板１００の両端をそれぞれ押さえるための一対の第２の補助ローラ９２ａおよび９２ｂとを備えている。なお、図４中符号１９ａは、上流側の基板支持部材１７ａおよび１７ｂが上流側の基板ガイド部材（コンベア枠）１５ａおよび１５ｂから回転ブラシローラ２１および３１の側に突き出た部分を示している。 Specifically, as shown in FIGS. 4 to 6, the first conveyor 11 is spanned to positions corresponding to both ends of the substrate 100 by a plurality of pulleys 16 (including a driving pulley connected to a motor) 16. A pair of upstream belts (endless belts) 14a and 14b, and a pair of upstream substrate guide members (conveyor frames) 15a provided along the transport path of the substrate 100 so as to guide both ends of the substrate 100, respectively. 15b, upstream substrate support members 17a and 17b provided along the transport path of the substrate 100 so as to support positions corresponding to both ends of the lower surface 100b of the substrate 100, and a pair of rotating brush rollers 21 and 31, respectively. A pair of first auxiliary rollers 91a and 91b for respectively holding both ends of the substrate 100 on the upstream side, And a pair of second auxiliary rollers 92a and 92b for pressing the two ends of the substrate 100 respectively on the upstream side of the first auxiliary rollers 91a and 91b of the pair. In FIG. 4, reference numeral 19 a indicates a portion where the upstream substrate support members 17 a and 17 b protrude from the upstream substrate guide members (conveyor frames) 15 a and 15 b toward the rotating brush rollers 21 and 31.

第２の補助ローラ９２ａおよび９２ｂは、それぞれ、その断面径が第１の補助ローラ９１ａおよび９１ｂの断面径より大きい。第１の補助ローラ９１ａおよび９１ｂの断面の直径は、２０ｍｍ未満であることが好ましく、第２の補助ローラ９２ａおよび９２ｂの断面の直径は、２０ｍｍ以上であることが好ましい。第１の補助ローラ９１ａおよび９１ｂの断面の直径は１０〜２０ｍｍ程度が望ましく、１５〜２０ｍｍ程度がさらに好ましい。第２の補助ローラ９２ａおよび９２ｂの断面の直径は、２０〜４０ｍｍ程度が望ましく、２５〜３５ｍｍ程度がさらに望ましい。 The second auxiliary rollers 92a and 92b have a cross-sectional diameter larger than that of the first auxiliary rollers 91a and 91b, respectively. The diameter of the cross section of the first auxiliary rollers 91a and 91b is preferably less than 20 mm, and the diameter of the cross section of the second auxiliary rollers 92a and 92b is preferably 20 mm or more. The diameter of the cross section of the first auxiliary rollers 91a and 91b is preferably about 10 to 20 mm, and more preferably about 15 to 20 mm. The diameter of the cross section of the second auxiliary rollers 92a and 92b is preferably about 20 to 40 mm, and more preferably about 25 to 35 mm.

また、本例では、後述するように、一対の回転ブラシローラ２１および３１が基板１００の幅よりも長く、基板１００の外側まで左右に延びるようになっている。このため、図６に示すように、一対の上流側基板ガイド部材１５ａおよび１５ｂと一対の上流側基板支持部材１７ａおよび１７ｂとは、それぞれ、一対の回転ブラシローラ２１および３１と干渉しにくいように、回転ブラシローラ２１および３１側の先端部分が先細（テーパー）になっている。さらに、基板１００の下側の面１００ｂを支持する基板支持部材１７ａおよび１７ｂの先端１９ａが回転ブラシローラ２１および３１の方向へテーパー状に突き出して、先端１９ａが回転ブラシローラ２１および３１と干渉せず、さらに、基板１００を回転ブラシローラ２１および３１の近傍まで支持できるようになっている。 In this example, as will be described later, the pair of rotating brush rollers 21 and 31 are longer than the width of the substrate 100 and extend left and right to the outside of the substrate 100. Therefore, as shown in FIG. 6, the pair of upstream substrate guide members 15a and 15b and the pair of upstream substrate support members 17a and 17b are less likely to interfere with the pair of rotating brush rollers 21 and 31, respectively. The tip portions of the rotating brush rollers 21 and 31 are tapered (tapered). Further, the tip 19a of the substrate support members 17a and 17b that support the lower surface 100b of the substrate 100 protrudes in a taper direction toward the rotating brush rollers 21 and 31, and the tip 19a interferes with the rotating brush rollers 21 and 31. Furthermore, the substrate 100 can be supported up to the vicinity of the rotating brush rollers 21 and 31.

第２のコンベア１２は、複数のプーリー１６によって基板１００の両端に対応する位置にそれぞれ掛け渡された一対の下流側ベルト（無端ベルト）１４ｃおよび１４ｄと、基板１００の両端をそれぞれガイドするように基板１００の搬送経路に沿って設けられた一対の下流側基板ガイド部材（コンベア枠）１５ｃおよび１５ｄと、基板１００の下面１００ｂの両端に対応する位置をそれぞれ支持するように基板１００の搬送経路に沿って設けられた下流側基板支持部材１７ｃおよび１７ｄと、一対の回転ブラシローラ２１および３１よりも下流側において基板１００の両端をそれぞれ押さえるための一対の第３の補助ローラ９３ａおよび９３ｂとを備えている。 The second conveyor 12 guides both ends of the substrate 100 and a pair of downstream belts (endless belts) 14c and 14d that are respectively spanned to positions corresponding to both ends of the substrate 100 by a plurality of pulleys 16. A pair of downstream substrate guide members (conveyor frames) 15c and 15d provided along the transport path of the substrate 100 and positions corresponding to both ends of the lower surface 100b of the substrate 100 are supported on the transport path of the substrate 100, respectively. And a pair of third auxiliary rollers 93a and 93b for pressing the both ends of the substrate 100 on the downstream side of the pair of rotating brush rollers 21 and 31, respectively. ing.

また、本例では、一対の回転ブラシローラ２１および３１が基板１００の幅よりも長く、基板１００の外側まで左右に延びる。このため、図５および図６に示すように、一対の下流側基板ガイド部材１５ｃおよび１５ｄと一対の下流側基板支持部材１７ｃおよび１７ｄもまた、それぞれ、一対の回転ブラシローラ２１および３１と干渉しにくいように、回転ブラシローラ２１および３１側の先端部分が先細（テーパー）になっている。さらに、基板支持部材１７ｃおよび１７ｄの先端１９ｂが回転ブラシローラ２１および３１の方向へテーパー状に突き出して、先端１９ｂが回転ブラシローラ２１および３１と干渉せず、さらに、基板１００を回転ブラシローラ２１および３１の近傍で支持できるようになっている。 Further, in this example, the pair of rotating brush rollers 21 and 31 are longer than the width of the substrate 100 and extend right and left to the outside of the substrate 100. For this reason, as shown in FIGS. 5 and 6, the pair of downstream substrate guide members 15c and 15d and the pair of downstream substrate support members 17c and 17d also interfere with the pair of rotating brush rollers 21 and 31, respectively. The tip of the rotating brush rollers 21 and 31 is tapered (tapered) so as to be difficult. Further, the tips 19b of the substrate support members 17c and 17d project in a tapered shape in the direction of the rotary brush rollers 21 and 31, and the tip 19b does not interfere with the rotary brush rollers 21 and 31. And 31 can be supported in the vicinity.

図２ないし図６に示すように、回転ブラシローラユニット２０および３０は、それぞれ、回転ブラシローラ２１および３１と、回転ブラシローラ２１および３１を支持する中空のパイプ２３および３３と、回転ブラシローラユニット２０および３０と中空のパイプ２３および３３とをそれぞれ繋ぐとともに回転ブラシローラ２１および３１を覆うカバー２４および３４とを備えている。回転ブラシローラ２１および３１は、それぞれ、回転軸２１ａおよび３１ａの端部に接続される回転機構２２および３２により回転駆動される。パイプ２３および３３は、それぞれ、回転ブラシローラ２１および３１がカバー２４および３４の内部で回転できるように支持している。 As shown in FIGS. 2 to 6, the rotating brush roller units 20 and 30 include rotating brush rollers 21 and 31, hollow pipes 23 and 33 that support the rotating brush rollers 21 and 31, and a rotating brush roller unit, respectively. 20 and 30 and hollow pipes 23 and 33 are connected to each other, and covers 24 and 34 covering the rotating brush rollers 21 and 31 are provided. The rotating brush rollers 21 and 31 are driven to rotate by rotating mechanisms 22 and 32 connected to the ends of the rotating shafts 21a and 31a, respectively. The pipes 23 and 33 support the rotating brush rollers 21 and 31 so that they can rotate inside the covers 24 and 34, respectively.

回転機構２２および３２は、それぞれ、回転ブラシローラ２１および３１を回転駆動するためのモータ２６および３６と、モータ２６および３６の駆動力を回転ブラシローラ２１および３１に伝達するための歯車機構２７および３７とを含んでいる。本例では、回転機構２２および３２は、それぞれ、ギヤ付きの電動ＡＣモータ２６および３６と、このモータ２６および３６の出力軸の回転力を回転ブラシローラ２１および３１の回転軸２１ａおよび３１ａのそれぞれに伝える歯車機構２７および３７とを含んでいる。この例ではモータと伝達機構とを一体で表しているが、これらの機構には公知の種々の構成を採用できる。 Rotating mechanisms 22 and 32 respectively include motors 26 and 36 for rotationally driving the rotating brush rollers 21 and 31, and a gear mechanism 27 for transmitting the driving force of the motors 26 and 36 to the rotating brush rollers 21 and 31. 37. In the present example, the rotating mechanisms 22 and 32 respectively use the electric AC motors 26 and 36 with gears and the rotational force of the output shafts of the motors 26 and 36 respectively on the rotating shafts 21a and 31a of the rotating brush rollers 21 and 31. Gear mechanisms 27 and 37 for transmitting to the In this example, the motor and the transmission mechanism are integrally shown, but various known configurations can be adopted for these mechanisms.

図２中の符号２５および３５は、パイプ２３および３３を支持するリングを示している。回転機構２２および３２とリング２５および３５とは、装置本体に固定されている。回転ブラシローラユニット２０および３０は、パイプ２３および３３をリング２５および３５に支持させた状態で後述する接続部材５２ａおよび５２ｂに接続することにより、装置本体に着脱自在に取り付けられる（図２参照）。また、パイプ２３および３３を接続部材５２ａおよび５２ｂに接続すると、回転ブラシローラ２１および３１も回転機構２２および３２に接続され、回転ブラシローラ２１および３１が回転駆動されるようになる。 Reference numerals 25 and 35 in FIG. 2 denote rings that support the pipes 23 and 33. The rotation mechanisms 22 and 32 and the rings 25 and 35 are fixed to the apparatus main body. The rotating brush roller units 20 and 30 are detachably attached to the apparatus main body by connecting to connecting members 52a and 52b described later with the pipes 23 and 33 supported by the rings 25 and 35 (see FIG. 2). . When the pipes 23 and 33 are connected to the connecting members 52a and 52b, the rotating brush rollers 21 and 31 are also connected to the rotating mechanisms 22 and 32, and the rotating brush rollers 21 and 31 are driven to rotate.

パイプ２３および３３は、それぞれ、装置本体に取り付けることにより、基板１００の搬送方向Ａと交差する方向、本例では、直交する方向（横断する方向）にそれぞれ延びるように配置される。回転ブラシローラ２１および３１は、パイプ２３および３３に沿ってそれぞれ支持される。したがって、パイプ２３および３３を、それぞれ、装置本体に取り付けることにより、回転ブラシローラ２１および３１も基板１００の搬送方向Ａと交差する方向、本例では、直交する方向（横断する方向）に延びるように配置される。回転ブラシローラ２１および３１は塵埃除去の対象となる基板１００の幅よりも長く、基板１００の端から端まで回転ブラシローラ２１および３１が左右に延びるように回転ブラシローラ２１および３１が装置１にセットされる。 Each of the pipes 23 and 33 is disposed so as to extend in a direction intersecting the transport direction A of the substrate 100, in this example, a direction orthogonal to (crossing direction) by attaching to the apparatus main body. The rotating brush rollers 21 and 31 are supported along the pipes 23 and 33, respectively. Therefore, by attaching the pipes 23 and 33 to the apparatus main body, respectively, the rotating brush rollers 21 and 31 also extend in a direction intersecting the transport direction A of the substrate 100, in this example, an orthogonal direction (crossing direction). Placed in. The rotary brush rollers 21 and 31 are longer than the width of the substrate 100 to be dust-removed, and the rotary brush rollers 21 and 31 are attached to the apparatus 1 so that the rotary brush rollers 21 and 31 extend from side to side from side to side. Set.

したがって、回転ブラシローラユニット２０および３０は、パイプ２３および３３により装置１の本体に対して着脱自在であり、回転ブラシローラユニット２０および３０を装置本体に取り付けることにより、一対の回転ブラシローラ２１および３１は、搬送装置１０により搬送される基板１００を挟むように上下に回転自在に配置される。 Therefore, the rotary brush roller units 20 and 30 are detachable from the main body of the apparatus 1 by the pipes 23 and 33. By attaching the rotary brush roller units 20 and 30 to the apparatus main body, the pair of rotary brush roller 21 and 31 is disposed so as to be rotatable up and down so as to sandwich the substrate 100 conveyed by the conveying device 10.

図４に矢印Ａ１およびＡ２で示すように、本例では、回転ブラシローラ２１および３１は、それぞれ、回転方向（回転ブラシローラ２１および３１と基板１００とが接触する接触部分における分力の方向）が基板１００の搬送方向Ａとは逆方向となるように、モータ２６および３６により駆動される。なお、回転ブラシローラ２１および３１の回転方向は、これに限定されるものではない。 As indicated by arrows A1 and A2 in FIG. 4, in this example, the rotating brush rollers 21 and 31 are each in the rotating direction (direction of component force at the contact portion where the rotating brush rollers 21 and 31 and the substrate 100 are in contact). Is driven by the motors 26 and 36 so as to be opposite to the transport direction A of the substrate 100. The rotating direction of the rotating brush rollers 21 and 31 is not limited to this.

中空のパイプ２３および３３には、それぞれ、回転ブラシローラ２１および３１と対応する位置であって、回転ブラシローラ２１および３１の回転軸２１ａおよび３１ａよりも上流側に若干ずれた位置に、パイプおよびブラシローラの長手方向に沿って延びる細長の吸引口（集塵口）２３ａおよび３３ａが形成されている。中空のパイプ２３および３３は、それぞれ、回転ブラシローラ２１および３１の支持部材であるとともに、後述するように、エアー吸引装置５０の一部を兼ねている。 The hollow pipes 23 and 33 are respectively located at positions corresponding to the rotating brush rollers 21 and 31 and slightly shifted to the upstream side of the rotating shafts 21a and 31a of the rotating brush rollers 21 and 31. Elongated suction ports (dust collection ports) 23a and 33a extending along the longitudinal direction of the brush roller are formed. The hollow pipes 23 and 33 are support members for the rotating brush rollers 21 and 31, respectively, and also serve as a part of the air suction device 50, as will be described later.

パイプ２３と回転ブラシローラ２１とを繋ぐカバー２４は、その一端（上端）がパイプ２３の吸引口２３ａに差し込まれている。カバー２４の他端（下端）は、下流側に向かって広がっており、回転ブラシローラ２１を上方から覆っている。また、パイプ３３とブラシローラ３１とを繋ぐカバー３４も、その一端（下端）がパイプ３３の吸引口３３ａに差し込まれている。カバー３４の他端（上端）は、基板１００の下流側に向かって広がっており、回転ブラシローラ３１を下方から覆っている。カバー２４および３４は、それぞれ、後述するように、エアー吸引装置５０の一部を兼ねている。 One end (upper end) of the cover 24 connecting the pipe 23 and the rotating brush roller 21 is inserted into the suction port 23 a of the pipe 23. The other end (lower end) of the cover 24 extends toward the downstream side and covers the rotating brush roller 21 from above. Also, the cover 34 that connects the pipe 33 and the brush roller 31 has one end (lower end) inserted into the suction port 33 a of the pipe 33. The other end (upper end) of the cover 34 extends toward the downstream side of the substrate 100 and covers the rotating brush roller 31 from below. Each of the covers 24 and 34 also serves as a part of the air suction device 50, as will be described later.

エアー吹付装置４０は、一対の回転ブラシローラ２１および３１の近傍に配置され、一対の回転ブラシローラ２１および３１の位置よりも基板１００の下流側から上流側に向けてエアーを吹き付けるものである。図４に示すように、本例のエアー吹付装置４０は、圧縮空気源（例えば、エアーコンプレッサ、図示せず）と一対の回転ブラシローラ２１および３１の下流側近傍とを繋ぐチューブ４１を備えている。チューブ４１の先端には、細長形状のノズル金具４２が取り付けられている。ノズル金具４２は、細長の吹出口４３を形成するものであり、回転ブラシローラ２１の下流側であって、第２のコンベア１２の上流側に、回転ブラシローラ２１の長手方向に沿って設けられている。ノズル金具４２は、その吹出口４３が搬送される基板１００の上面１００ａの近くに配置されるように、チューブ４１の先端に取り付けられている。吹出口４３の幅は、１ｍｍ以下であることが好ましく、１０〜５００μｍであることが望ましい。 The air blowing device 40 is disposed in the vicinity of the pair of rotating brush rollers 21 and 31 and blows air from the downstream side to the upstream side of the substrate 100 with respect to the position of the pair of rotating brush rollers 21 and 31. As shown in FIG. 4, the air blowing device 40 of this example includes a tube 41 that connects a compressed air source (for example, an air compressor, not shown) and the vicinity of the downstream side of the pair of rotating brush rollers 21 and 31. Yes. An elongated nozzle fitting 42 is attached to the tip of the tube 41. The nozzle fitting 42 forms an elongated air outlet 43 and is provided on the downstream side of the rotating brush roller 21 and on the upstream side of the second conveyor 12 along the longitudinal direction of the rotating brush roller 21. ing. The nozzle fitting 42 is attached to the tip of the tube 41 so that the air outlet 43 is disposed near the upper surface 100a of the substrate 100 to be transported. The width of the air outlet 43 is preferably 1 mm or less, and preferably 10 to 500 μm.

この装置１においては、エアー吹付装置４０により圧縮空気が、一対の回転ブラシローラ２１および３１の下流側近傍に位置する吹出口４３から吹き出される。これにより、一対の回転ブラシローラ２１および３１の位置よりも下流側から上流側に向けてエアーが吹き付けられ、一対の回転ブラシローラ２１および３１により基板１００から除去された塵埃を、一対の回転ブラシローラ２１および３１の位置に対し下流側から上流側に向けて吹き飛ばすことができる。また、基板１００の上面１００ａに、レーザなどを用いて溝（図示せず）が刻設されていたり、スルーホール（図示せず）が設けられていたりする場合には、この上面１００ａの溝内および/またはスルーホール内に付着している塵埃を、エアーにより吹き飛ばして除去することができる。 In this apparatus 1, compressed air is blown out from an air outlet 43 located in the vicinity of the downstream side of the pair of rotating brush rollers 21 and 31 by the air blowing device 40. As a result, air is blown from the downstream side to the upstream side with respect to the position of the pair of rotating brush rollers 21 and 31, and the dust removed from the substrate 100 by the pair of rotating brush rollers 21 and 31 is removed from the pair of rotating brush rollers 21 and 31. The rollers 21 and 31 can be blown away from the downstream side toward the upstream side. Further, when a groove (not shown) is engraved on the upper surface 100a of the substrate 100 using a laser or the like, or a through hole (not shown) is provided, the inside of the groove on the upper surface 100a And / or dust adhering in the through hole can be removed by blowing away with air.

エアー吸引装置５０は、一対の回転ブラシローラ２１および３１の近傍に配置され、一対の回転ブラシローラ２１および３１の位置よりも少なくとも上流側からエアーを吸引するものである。図２および図３などに示すように、本例の搬送装置１のエアー吸引装置５０は、ダクト５４により外部の脱塵装置（例えば、真空ポンプを内蔵した吸引装置）５１と接続できるようになっている。エアー吸引装置５０は、上側の回転ブラシローラユニット２０のパイプ２３が着脱自在に取り付けられる中空の第１の接続部材５２ａと、下側の回転ブラシローラユニット３０のパイプ３３が着脱自在に取り付けられる中空の第２の接続部材５２ｂと、第１および第２の接続部材５２ａおよび５２ｂに連通した回収部５３とを有し、回収部５３と脱塵装置５１とがダクト５４により接続される。 The air suction device 50 is disposed in the vicinity of the pair of rotating brush rollers 21 and 31 and sucks air from at least the upstream side of the position of the pair of rotating brush rollers 21 and 31. As shown in FIGS. 2 and 3, the air suction device 50 of the transport device 1 of this example can be connected to an external dust removing device (for example, a suction device incorporating a vacuum pump) 51 through a duct 54. ing. The air suction device 50 includes a hollow first connecting member 52a to which the pipe 23 of the upper rotating brush roller unit 20 is detachably attached and a hollow to which the pipe 33 of the lower rotating brush roller unit 30 is detachably attached. The second connection member 52b and a recovery part 53 communicating with the first and second connection members 52a and 52b are connected, and the recovery part 53 and the dust removing device 51 are connected by a duct 54.

したがって、このエアー吸引装置５０では、脱塵装置５１の真空ポンプを稼動させることにより、パイプ２３および３３の内部を負圧にして回転ブラシローラ２１および３１の近傍に除去された塵埃、および回転ブラシローラ２１および３１に付着した塵埃を、空気とともに、カバー２４および３４を介してパイプ２３および３３に回収でき、回収部５３および／または脱塵装置５１に集めることができる。カバー２４および３４は、回転ブラシローラ２１および３１の位置よりも上流側が広く開いており、回転ブラシローラ２１および３１の上流側から塵埃を回収することにより、塵埃が基板１００に再付着するのを抑制している。 Therefore, in this air suction device 50, the dust removed from the vicinity of the rotating brush rollers 21 and 31 by the negative pressure inside the pipes 23 and 33 by operating the vacuum pump of the dust removing device 51, and the rotating brush The dust adhering to the rollers 21 and 31 can be collected together with the air to the pipes 23 and 33 through the covers 24 and 34 and can be collected in the collecting unit 53 and / or the dust removing device 51. The covers 24 and 34 are wider on the upstream side than the positions of the rotary brush rollers 21 and 31, and the dust is reattached to the substrate 100 by collecting the dust from the upstream side of the rotary brush rollers 21 and 31. Suppressed.

回転ブラシローラ２１および３１は、使用とともに磨耗する。本例では、エアー吸引を行うパイプ２３および３３に回転ブラシローラ２１および３１を支持させ、パイプ２３および３３を接続部材５２ａおよび５２ｂにそれぞれ着脱自在に取り付けて使用するようになっている。このため、回転ブラシローラ２１および３１のメンテナンス（取り換えや清掃など）が容易である。また、パイプ２３および３３の内部に塵埃が溜まることがあるが、パイプ２３および３３（回転ブラシローラユニット２０および３０）は着脱自在であるため、パイプ２３および３３の内部の清掃も容易である。 The rotating brush rollers 21 and 31 wear with use. In this example, the rotary brush rollers 21 and 31 are supported by pipes 23 and 33 that perform air suction, and the pipes 23 and 33 are detachably attached to connection members 52a and 52b, respectively. For this reason, maintenance (replacement, cleaning, etc.) of the rotating brush rollers 21 and 31 is easy. Moreover, although dust may accumulate inside the pipes 23 and 33, the pipes 23 and 33 (the rotating brush roller units 20 and 30) are detachable, so that the inside of the pipes 23 and 33 can be easily cleaned.

図１に示すように、除去された塵埃の一部を集める塵埃受け用のパン６０は、回転ブラシローラ３１の下方に配置されている。パン６０は、着脱可能となっている。基板１００から除去され、下方に落下した塵埃は、このパン６０に回収される。 As shown in FIG. 1, a dust receiving pan 60 that collects a part of the removed dust is disposed below the rotating brush roller 31. The pan 60 is detachable. The dust removed from the substrate 100 and falling downward is collected in the pan 60.

また、図１に示すように、一対の静電気除去装置７１および７２は、基板１００に帯電した静電気を除去するためのものである。一対の静電気除去装置７１および７２は、一対の回転ブラシローラ２１および３１の下流側に、基板１００の上面１００ａおよび下面１００ｂにそれぞれ面するように配置され、上面１００ａおよび下面１００ｂに帯電した静電気を除去することができる。 As shown in FIG. 1, the pair of static electricity removing devices 71 and 72 is for removing static electricity charged on the substrate 100. The pair of static eliminators 71 and 72 are arranged on the downstream side of the pair of rotating brush rollers 21 and 31 so as to face the upper surface 100a and the lower surface 100b of the substrate 100, respectively, and charge the static electricity charged on the upper surface 100a and the lower surface 100b. Can be removed.

この基板搬送装置１では、回転ブラシローラ２１および３１が回転しながら基板１００に高速で接するので基板１００が帯電した状態となることがある。また、エアー吹付装置４０からのエアブローにより、基板１００の表面に静電気が帯電した状態となることもある。一対の静電気除去装置７１および７２により基板１００に帯電した静電気を除去できる。したがって、基板１００に帯電した静電気に吸引されて、基板１００の周辺に浮遊する塵埃が基板１００に再付着することを抑制できる。また、除塵した後の工程において静電気が基板１００に悪影響を与えることを抑制できる。 In this substrate transport apparatus 1, the rotating brush rollers 21 and 31 are in contact with the substrate 100 at a high speed while rotating, so that the substrate 100 may be charged. In addition, static electricity may be charged on the surface of the substrate 100 by air blowing from the air blowing device 40. The pair of static electricity removing devices 71 and 72 can remove static electricity charged on the substrate 100. Therefore, it is possible to suppress the dust that is attracted by the static electricity charged on the substrate 100 and floating around the substrate 100 from reattaching to the substrate 100. In addition, it is possible to prevent static electricity from adversely affecting the substrate 100 in the process after dust removal.

検知装置８０は、一対の回転ブラシローラ２１および３１のそれぞれが基板１００に接触しているか否かを検知するためのものである。検知装置８０により検知された接触の有無（検知結果）は、表示パネル（図１ないし図３参照）８９に表示されるようになっている。本例では、モータ２６および３６がＡＣモータであるため、検知装置８０は、モータ２６および３６のそれぞれに付随するエンコーダを介してモータ２６および３６の回転数を検出する回転数モニタ８１を含んでいる。回転ブラシローラ２１および３１が基板１００と接触するとＡＣモータ２６および３６の回転数が低下する。したがって、回転数が増加したり、基板１００の通過により回転数が所定の値まで低下しないことをモニタ８１により検出し、接触不良（接触していない、あるいは、接触が不十分）を感知できる。その場合、表示パネル８９に接触不良である旨が表示され、警報が鳴るようになっている。なお、接触不良と判断された場合に、回転ブラシローラを基板側に移動させ、押し当て量が自動的に増加するようなシステムとしてもよい。 The detection device 80 is for detecting whether or not each of the pair of rotating brush rollers 21 and 31 is in contact with the substrate 100. The presence / absence (detection result) of contact detected by the detection device 80 is displayed on a display panel 89 (see FIGS. 1 to 3). In this example, since the motors 26 and 36 are AC motors, the detection device 80 includes a rotation speed monitor 81 that detects the rotation speeds of the motors 26 and 36 via encoders associated with the motors 26 and 36, respectively. Yes. When the rotating brush rollers 21 and 31 come into contact with the substrate 100, the rotational speeds of the AC motors 26 and 36 are reduced. Therefore, the monitor 81 detects that the rotational speed does not increase or the rotational speed does not decrease to a predetermined value due to the passage of the substrate 100, and can detect a contact failure (not contacted or insufficiently contacted). In that case, the display panel 89 displays that the contact is poor and an alarm sounds. In addition, when it is determined that the contact is defective, the system may be such that the rotating brush roller is moved to the substrate side and the pressing amount automatically increases.

なお、モータがＤＣモータである場合には、検知装置８０は、回転ブラシローラ２１および３１と基板１００とが接触してＤＣモータの負荷が増加することにより駆動電流が増加することを検出できる。したがって、検知装置８０はそれぞれのモータの駆動電流をモニタし、回転ブラシローラ２１および３１と基板１００との接触不良を検出でき、上記と同様の制御を行える。 In the case where the motor is a DC motor, the detection device 80 can detect that the drive current increases when the rotating brush rollers 21 and 31 and the substrate 100 come into contact with each other and the load of the DC motor increases. Therefore, the detection device 80 can monitor the drive current of each motor, detect a contact failure between the rotating brush rollers 21 and 31 and the substrate 100, and can perform the same control as described above.

この基板搬送装置１によれば、基板１００は、まず、第１のコンベア１１により一対の回転ブラシローラ２１および３１の近傍まで搬送される。一対の回転ブラシローラ２１および３１の上流側において、基板１００は、その両端が、径の曲率の小さい（曲率半径の大きい）一対の第２の補助ローラ９２ａおよび９２ｂに先に接触する。第２の補助ローラ９２ａおよび９２ｂは、基板１００の厚みに対して曲率半径が十分に大きいので、基板１００にスムーズに乗り上げ、基板１００をベルトコンベア（ベルト、コンベアベルト）１４ａおよび１４ｂに押圧しながら下流へ導く。 According to the substrate transport apparatus 1, the substrate 100 is first transported to the vicinity of the pair of rotating brush rollers 21 and 31 by the first conveyor 11. At the upstream side of the pair of rotating brush rollers 21 and 31, both ends of the substrate 100 first come into contact with the pair of second auxiliary rollers 92a and 92b having a small diameter curvature (a large curvature radius). Since the second auxiliary rollers 92a and 92b have a sufficiently large radius of curvature with respect to the thickness of the substrate 100, the second auxiliary rollers 92a and 92b smoothly run on the substrate 100 and press the substrate 100 against the belt conveyors (belts, conveyor belts) 14a and 14b. Lead downstream.

基板１００は、第２の補助ローラ９２ａおよび９２ｂの下流側に配置された径の小さい第１の補助ローラ９１ａおよび９１ｂに送り込まれる。基板１００は第２の補助ローラ９２ａおよび９２ｂによりベルト１４ａおよび１４ｂに押さえつけられているので、小径の第１の補助ローラ９１ａおよび９１ｂもスムーズに、干渉したりすることなく基板１００に乗り上げる。そして、第１の補助ローラ９１ａおよび９１ｂは小径なので、パイプ２３および３３を含む回転ブラシローラユニット２０および３０の近傍に配置しても、回転ブラシローラユニット２０および３０との配置上の干渉を防止できる。したがって、小径の第１の補助ローラ９１ａおよび９１ｂにより、一対の回転ブラシローラ２１および３１の直前まで基板１００をベルト１４ａおよび１４ｂに押圧しながら搬送でき、基板１００を安定した状態で回転ブラシローラ２１および３１の間に押し込むことができる。 The substrate 100 is sent to the first auxiliary rollers 91a and 91b having a small diameter arranged on the downstream side of the second auxiliary rollers 92a and 92b. Since the substrate 100 is pressed against the belts 14a and 14b by the second auxiliary rollers 92a and 92b, the first auxiliary rollers 91a and 91b having small diameters run on the substrate 100 smoothly and without interference. Since the first auxiliary rollers 91a and 91b have a small diameter, even if they are arranged in the vicinity of the rotary brush roller units 20 and 30 including the pipes 23 and 33, interference with the rotary brush roller units 20 and 30 is prevented. it can. Therefore, the first auxiliary rollers 91a and 91b having a small diameter can be conveyed while pressing the substrate 100 against the belts 14a and 14b until just before the pair of rotating brush rollers 21 and 31, and the rotating brush roller 21 is in a stable state. And 31 can be pushed in.

基板１００が第１のコンベア１１と第２のコンベア１２との隙間１３に達すると、基板１００の両面１００ａおよび１００ｂが隙間１３を介してそれぞれ一対の回転ブラシローラ２１および３１に接触し、これら一対の回転ブラシローラ２１および３１により基板１００の両面１００ａおよび１００ｂの塵埃がそれぞれ並列に除去される。すなわち、上側の回転ブラシローラ２１が基板１００の上面１００ａに接触してこの面から塵埃を掃き取る。それとともに、第１のコンベア１１と第２のコンベア１２との隙間１３を介して（通して）、下側の回転ブラシローラ３１が基板１００の下面１００ｂと接触してこの面からも塵埃を掃き取る。 When the substrate 100 reaches the gap 13 between the first conveyor 11 and the second conveyor 12, both surfaces 100a and 100b of the substrate 100 come into contact with the pair of rotating brush rollers 21 and 31 through the gap 13, respectively. The rotary brush rollers 21 and 31 remove dust on both surfaces 100a and 100b of the substrate 100 in parallel. That is, the upper rotating brush roller 21 contacts the upper surface 100a of the substrate 100 and sweeps dust from this surface. At the same time, through the gap 13 between the first conveyor 11 and the second conveyor 12 (through), the lower rotating brush roller 31 comes into contact with the lower surface 100b of the substrate 100 and also sweeps dust from this surface. take.

一対の回転ブラシローラ２１および３１により基板１００から除去された塵埃はエアー吸引装置５０に繋がった吸引用のパイプ２３および３３を通して回収され、基板１００に再付着するのを防止できる。すなわち、上側の回転ブラシローラ２１により除去された塵埃はカバー２４を介して上流側から上側の吸引パイプ２３を通して回収され、下側の回転ブラシローラ３１により除去された塵埃はカバー３４を介して下側の吸引パイプ３３を通して回収される。 The dust removed from the substrate 100 by the pair of rotating brush rollers 21 and 31 is collected through the suction pipes 23 and 33 connected to the air suction device 50 and can be prevented from reattaching to the substrate 100. That is, dust removed by the upper rotating brush roller 21 is collected from the upstream side through the upper suction pipe 23 via the cover 24, and dust removed by the lower rotating brush roller 31 is lowered via the cover 34. It is collected through the suction pipe 33 on the side.

さらに、エアー吹付装置４０により回転ブラシローラ２１の下流側から上流側に向けてエアーが吹きつけられるので、基板１００の上面１００ａに刻設された溝内および／またはスルーホール内に付着している塵埃なども吹き飛ばされ、吸引用のパイプ２３または３３により回収される。 Furthermore, since air is blown from the downstream side to the upstream side of the rotating brush roller 21 by the air blowing device 40, it adheres in the grooves and / or through holes formed in the upper surface 100a of the substrate 100. Dust and the like are also blown away and collected by the suction pipe 23 or 33.

このように、この基板搬送装置１では、塵埃を効率的に基板１００から除去でき、さらに、除去された後のクリーンな基板１００に、除去された塵埃が再び付着するようなことが起こり難いようになっている。 As described above, in this substrate transport apparatus 1, dust can be efficiently removed from the substrate 100, and it is unlikely that the removed dust will adhere to the clean substrate 100 after the removal. It has become.

一対の回転ブラシローラ２１および３１を通過した基板１００は、第２のコンベア１２によりさらに下流側に搬送される。基板１００は、小径の第３の補助ローラ９３ａおよび９３ｂとコンベアベルト１４ｃおよび１４ｄとの間に両端が挟み込まれ下流側に搬送される。第３の補助ローラ９３ａおよび９３ｂも小径なので、上流側の第１の補助ローラ９１ａおよび９１ｂと同様に、回転ブラシローラユニット２０および３０の近傍に配置しても、回転ブラシローラユニット２０および３０との配置上の干渉を防止できる。したがって、小径の第３の補助ローラ９３ａおよび９３ｂにより、一対の回転ブラシローラ２１および３１の直後から基板１００をベルト１４ｃおよび１４ｄに押圧しながら搬送でき、基板１００を安定した状態で回転ブラシローラ２１および３１の間から引き出すことができる。 The substrate 100 that has passed through the pair of rotating brush rollers 21 and 31 is further conveyed downstream by the second conveyor 12. Both ends of the substrate 100 are sandwiched between the third auxiliary rollers 93a and 93b having a small diameter and the conveyor belts 14c and 14d, and are conveyed downstream. Since the third auxiliary rollers 93a and 93b are also small in diameter, even if the third auxiliary rollers 93a and 93b are arranged in the vicinity of the rotary brush roller units 20 and 30 similarly to the first auxiliary rollers 91a and 91b on the upstream side, Interference on the arrangement of the can be prevented. Therefore, the substrate 100 can be conveyed while pressing the belts 14c and 14d immediately after the pair of rotating brush rollers 21 and 31 by the small-diameter third auxiliary rollers 93a and 93b, and the rotating brush roller 21 can be conveyed in a stable state. And 31 can be pulled out.

したがって、回転ブラシローラ２１および３１の前後において、第１のコンベア１１および第２のコンベア１２により基板１００を安定して支持し、搬送できる。このため、回転ブラシローラ２１および３１により、基板１００の両面１００ａおよび１００ｂを物理的に擦りながら塵埃を除去しても基板１００がばたついたり、振動したりすることなく、基板１００の品質を劣化させずに基板１００から塵埃を効率よく除去できる。 Therefore, the substrate 100 can be stably supported and transported by the first conveyor 11 and the second conveyor 12 before and after the rotating brush rollers 21 and 31. For this reason, even if the dust is removed by physically rubbing both surfaces 100a and 100b of the substrate 100 by the rotating brush rollers 21 and 31, the quality of the substrate 100 can be improved without fluttering or vibrating. Dust can be efficiently removed from the substrate 100 without deterioration.

さらに、基板１００は、下流の一対の静電気除去装置７１および７２の近傍において、回転ブラシローラ２１および３１により帯電した静電気が除去される。その後、基板１００は、第２のコンベア１２によりさらに下流に運ばれ、この基板搬送装置１からアンロードされる。 Furthermore, static electricity charged by the rotating brush rollers 21 and 31 is removed from the substrate 100 in the vicinity of the pair of downstream static electricity removing devices 71 and 72. Thereafter, the substrate 100 is transported further downstream by the second conveyor 12 and unloaded from the substrate transport apparatus 1.

なお、この基板搬送装置１においては、一方の回転ブラシローラ２１または３１のみを駆動させることにより、基板１００の一方の面１００ａまたは１００ｂのみの徐塵作業を行うことも可能である。 In the substrate transport apparatus 1, it is possible to perform only a slow dust operation on only one surface 100 a or 100 b of the substrate 100 by driving only one rotating brush roller 21 or 31.

以上のように、この基板搬送装置１は、第１のコンベア１１と第２のコンベア１２との間に隙間１３を設け、その隙間１３に対峙（対向）するように一対の回転ブラシローラ２１および３１を配置している。したがって、隙間１３を介して、基板１００の両面１００ａおよび１００ｂと一対の回転ブラシローラ２１および３１とをそれぞれ同時に接触させることができ、これらの面１００ａおよび１００ｂから塵埃をそれぞれ同時に並列して除去できる。したがって、この基板搬送装置１によれば、１パス（１回の通過）により、基板１００の両面１００ａおよび１００ｂから塵埃を除去できる。このため、この装置１によれば、基板１００の両面１００ａおよび１００ｂから塵埃を除去する作業を短時間で効率的に行うことができる。 As described above, the substrate transport apparatus 1 has the gap 13 between the first conveyor 11 and the second conveyor 12, and the pair of rotating brush rollers 21 and the gap 13 are opposed to (opposed to) the gap 13. 31 is arranged. Therefore, both surfaces 100a and 100b of the substrate 100 and the pair of rotating brush rollers 21 and 31 can be simultaneously brought into contact with each other through the gap 13, and dust can be simultaneously removed in parallel from these surfaces 100a and 100b. . Therefore, according to this board | substrate conveyance apparatus 1, dust can be removed from both surfaces 100a and 100b of the board | substrate 100 by 1 pass (one pass). For this reason, according to this apparatus 1, the operation | work which removes dust from both surfaces 100a and 100b of the board | substrate 100 can be performed efficiently in a short time.

なお、静電気除去装置（除電装置）を設けるとともに、あるいは、これを設ける代わりに、回転ブラシローラとして、帯電防止機能を持つブラシローラを用いてもよい。 Note that a brush roller having an antistatic function may be used as a rotating brush roller in addition to or instead of providing a static eliminating device (static eliminating device).

また、本発明の装置は、一対の回転ブラシローラよりも基板の搬送方向の上流側に、基板の上面および下面にそれぞれ面するように、基板に帯電した静電気を除去するための一対の手段（静電気除去装置）を配置して、基板に帯電している静電気を除塵の前に除去できるようにしてもよい。 Further, the apparatus of the present invention has a pair of means for removing static electricity charged on the substrate so as to face the upper surface and the lower surface of the substrate, respectively, upstream of the pair of rotating brush rollers in the transport direction of the substrate. An electrostatic removal device) may be arranged so that static electricity charged on the substrate can be removed before dust removal.

さらに、本発明の装置は、第１および第２のコンベアの幅を、搬送される基板の幅に合せてそれぞれ広狭に調整する手段（調整手段）をさらに有するようにしてもよい。調整手段は、例えば、左右いずれか一方の基板ガイド部材（コンベア枠）を左右に移動させることが可能なガイドレールなどのガイド手段と、一方の基板ガイド部材をガイド手段の任意の部位に解放可能に固定できるボルトなどの固定手段を備えたものとすることにより実現可能である。この場合、他方の基板ガイド部材（コンベア枠）は、固定した構造とすることが好ましい。 Furthermore, the apparatus of the present invention may further include means (adjustment means) for adjusting the widths of the first and second conveyors in accordance with the width of the substrate to be conveyed. For example, the adjusting means can release a guide means such as a guide rail capable of moving either the left or right substrate guide member (conveyor frame) to the left or right, and one substrate guide member to any part of the guide means. This can be realized by providing a fixing means such as a bolt that can be fixed to the head. In this case, it is preferable that the other substrate guide member (conveyor frame) has a fixed structure.

一方の基板ガイド部材をガイド手段に沿って適宜移動させ、ガイド手段の任意の部位に固定し直すことにより、左右一対の基板ガイド部材の内側に巡回可能に支持された一対のベルトの間の距離を、搬送する基板の幅に合せて広狭に調整することができる。一対のベルトの間の距離を、搬送する基板の幅に合せて広狭に調整することにより、基板をより安定した状態で搬送することが可能となる。 The distance between the pair of belts supported so as to be able to circulate inside the pair of left and right substrate guide members by appropriately moving one of the substrate guide members along the guide means and re-fixing it to an arbitrary part of the guide means Can be adjusted according to the width of the substrate to be conveyed. By adjusting the distance between the pair of belts to be wide or narrow according to the width of the substrate to be conveyed, the substrate can be conveyed in a more stable state.

また、本発明の装置は、回転ブラシローラをそれぞれ上下方向に昇降させる昇降手段をさらに有するようにしてよい。昇降手段は、例えば、回転ブラシローラをそれぞれ回転自在に支持する支持枠と、支持枠を装置本体に対して上下方向に昇降自在に支持するガイド部と、ガイド部に沿って上下方向に適宜昇降させた支持枠をガイド部の任意の部位に解放可能に固定できるボルトなどの固定手段とを備えたものとすることにより、実現可能である。 The apparatus of the present invention may further include lifting means for moving the rotating brush rollers up and down in the vertical direction. The elevating means is, for example, a support frame that rotatably supports the rotating brush rollers, a guide portion that supports the support frame so as to be movable up and down with respect to the apparatus main body, and an appropriate vertical movement along the guide portion. This can be realized by including a fixing means such as a bolt capable of releasably fixing the supported frame to an arbitrary part of the guide portion.

基板の表面に回転ブラシローラをそれぞれ確実に押接させることができるため、回転ブラシローラにより基板の表面に付着している塵埃をより良好に掻き取ることができる。また、搬送される基板の表面に半導体装置などの様々の電子部品が装着されている場合には、その表面に装着された電子部品の高さに合せて、昇降手段を用いて回転ブラシローラを昇降させる（基板と回転ブラシローラとの間隔を調整する）ことが好ましい。基板の表面に装着された電子部品が、回転ブラシローラに突き当たって損傷することを抑制できる。 Since the rotating brush roller can be surely pressed against the surface of the substrate, the dust adhering to the surface of the substrate can be better scraped off by the rotating brush roller. In addition, when various electronic components such as semiconductor devices are mounted on the surface of the substrate to be transported, a rotating brush roller is installed using lifting means according to the height of the electronic components mounted on the surface. It is preferable to raise and lower (adjust the distance between the substrate and the rotating brush roller). It can suppress that the electronic component with which the surface of the board | substrate was mounted | worn hits a rotating brush roller, and is damaged.

本発明の装置により搬送する基板は、プリント配線板に限定されるものではない。本発明の装置は、セラミック基板などを含む様々の基板を搬送および塵埃除去するのに広く有効利用できる。 The board conveyed by the apparatus of the present invention is not limited to a printed wiring board. The apparatus of the present invention can be widely used effectively for transporting and removing dust from various substrates including ceramic substrates.

１装置（基板搬送装置）、１０搬送装置（搬送手段）
１１第１のコンベア、１２第２のコンベア
１３第１のコンベアと第２のコンベアとの間の隙間
２１、３１回転ブラシローラ、２６、３６モータ
４０エアー吹付装置（エアーを吹き付ける手段）
５０エアー吸引装置（エアーを吸引する手段）
７１、７２静電気除去装置（静電気を除去するための手段）
８０検知装置（基板に接触しているか否かを検知するための手段）
９１ａ、９１ｂ第１の補助ローラ
９２ａ、９２ｂ第２の補助ローラ 1 device (substrate transfer device), 10 transfer device (transfer means)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 1st conveyor, 12 2nd conveyor 13 Gap 21, 31 between 1st conveyor and 2nd conveyor Rotating brush roller, 26, 36 Motor 40 Air spraying device (means to blow air)
50 Air suction device (means to suck air)
71, 72 Static eliminator (means for removing static electricity)
80 Detection device (means for detecting whether or not it is in contact with the substrate)
91a, 91b first auxiliary rollers 92a, 92b second auxiliary rollers

Claims

搬送される基板の表面から塵埃を除去するための機能を備えた装置であって、
前記基板を搬送するための搬送手段と、
前記搬送手段により搬送される前記基板を挟むように上下に配置された一対の回転ブラシローラであって、前記基板の搬送方向と交差する方向にそれぞれ延びる一対の回転ブラシローラとを有し、
前記搬送手段は、
前記基板を搬送するための第１のコンベアであって、前記一対の回転ブラシローラよりも前記基板の搬送方向の上流側に配置された第１のコンベアと、
前記基板を搬送するための第２のコンベアであって、前記一対の回転ブラシローラよりも前記基板の搬送方向の下流側に配置された第２のコンベアとを備え、
前記第１のコンベアと前記第２のコンベアとは、前記一対の回転ブラシローラが前記基板に接触可能な隙間をあけて配置されている、装置。 An apparatus having a function for removing dust from the surface of a substrate to be transported,
Transport means for transporting the substrate;
A pair of rotating brush rollers arranged vertically so as to sandwich the substrate conveyed by the conveying means, and a pair of rotating brush rollers extending in a direction intersecting with the conveying direction of the substrate,
The conveying means is
A first conveyor for transporting the substrate, the first conveyor disposed upstream of the pair of rotating brush rollers in the transport direction of the substrate;
A second conveyor for transporting the substrate, the second conveyor disposed downstream of the pair of rotating brush rollers in the transport direction of the substrate,
The first conveyor and the second conveyor are arranged such that the pair of rotating brush rollers are spaced from each other so that they can contact the substrate.

請求項１において、前記一対の回転ブラシローラの近傍に配置され、前記一対の回転ブラシローラの位置よりも前記基板の搬送方向の下流側から上流側に向けてエアーを吹き付ける手段と、
前記一対の回転ブラシローラの近傍に配置され、前記一対の回転ブラシローラの位置よりも前記上流側からエアーを吸引する手段とをさらに有する、装置。 In claim 1, disposed in the vicinity of the pair of rotating brush rollers, and means for blowing air from the downstream side to the upstream side in the transport direction of the substrate from the position of the pair of rotating brush rollers,
The apparatus further includes means for sucking air from the upstream side of the pair of rotating brush rollers, which is disposed in the vicinity of the pair of rotating brush rollers.

請求項１または２において、前記一対の回転ブラシローラよりも前記基板の搬送方向の下流側に、前記基板の上面および下面にそれぞれ面するように配置された、前記基板に帯電した静電気を除去するための一対の手段をさらに有する、装置。 3. The static electricity charged on the substrate, which is arranged to face the upper surface and the lower surface of the substrate, respectively, on the downstream side of the pair of rotating brush rollers in the transport direction of the substrate is removed. An apparatus further comprising a pair of means for.

請求項１ないし３のいずれかにおいて、
前記第１のコンベアは、
前記一対の回転ブラシローラよりも前記基板の搬送方向の上流側において前記基板の両端をそれぞれ押さえるための一対の第１の補助ローラと、
前記一対の第１の補助ローラよりも前記基板の搬送方向の上流側に配置され、前記一対の第１の補助ローラよりも径の大きい一対の第２の補助ローラとを含む、装置。 In any of claims 1 to 3,
The first conveyor is
A pair of first auxiliary rollers for holding both ends of the substrate upstream of the pair of rotating brush rollers in the upstream side of the transport direction of the substrate;
An apparatus comprising: a pair of second auxiliary rollers disposed upstream of the pair of first auxiliary rollers in the transport direction of the substrate and having a larger diameter than the pair of first auxiliary rollers.

請求項１ないし４のいずれかにおいて、前記一対の回転ブラシローラをそれぞれ回転駆動するための一対のモータと、
前記一対のモータのそれぞれの回転数または駆動電流を検出することにより、前記一対の回転ブラシローラのそれぞれが前記基板に接触しているか否かを検知するための手段をさらに有する、装置。 The pair of motors according to any one of claims 1 to 4, wherein each of the pair of rotating brush rollers is rotationally driven.
An apparatus further comprising means for detecting whether or not each of the pair of rotating brush rollers is in contact with the substrate by detecting the rotational speed or driving current of each of the pair of motors.