JP2010197080A - 誘導結合プラズマ分析装置 - Google Patents

誘導結合プラズマ分析装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2010197080A
JP2010197080A JP2009039342A JP2009039342A JP2010197080A JP 2010197080 A JP2010197080 A JP 2010197080A JP 2009039342 A JP2009039342 A JP 2009039342A JP 2009039342 A JP2009039342 A JP 2009039342A JP 2010197080 A JP2010197080 A JP 2010197080A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plasma
induction coil
plasma torch
inductively coupled
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2009039342A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidenori Tanabe
英規 田邉
Osamu Matsuzawa
修 松澤
Satoru Yabe
悟 矢部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Science Corp
Original Assignee
SII NanoTechnology Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SII NanoTechnology Inc filed Critical SII NanoTechnology Inc
Priority to JP2009039342A priority Critical patent/JP2010197080A/ja
Publication of JP2010197080A publication Critical patent/JP2010197080A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Abstract

【課題】 プラズマトーチと高周波誘導コイルとの相対位置を所定位置に固定して、プラズマを安定化して発生すること。
【解決手段】 誘導結合プラズマ分析装置であって、プラズマ用ガスと霧滴化した試料が導入されるプラズマトーチ4と、プラズマトーチ4に高周波電圧を印加する誘導コイル6とを備え、この誘導コイル6は、プラズマトーチ4を通す空洞を備えた誘導コイル押さえ11で固定する。
【選択図】 図1

Description

本発明は、誘導結合プラズマ発光分光分析装置(ICP−AES)、誘導結合プラズマ質量分析装置(ICP−MS)などの誘導結合プラズマ分析装置(以下、ICP装置と称する)に関し、特にICP装置のプラズマ生成部に関するものである。
図2に、従来のICP装置のプラズマ生成部の概略構成図の一例を示す。プラズマ生成部1は、誘導結合プラズマを生じさせるプラズマトーチ4、そのプラズマトーチ4の最外管を着脱自在に固定するためのプラズマトーチ押さえ部材5、プラズマトーチ4に高周波電圧を印加する誘導コイル6、プラズマトーチ4の取り付け位置を位置決めするための位置決め凸部19とからなっている。
そして、位置決め凸部19は、プラズマトーチ4の所定位置に外嵌されてプラズマトーチ4と一体化された管状部材であって、プラズマトーチ4が所定位置に位置決めする時に、位置決め凸部19が、プラズマトーチ押さえ5に当接されて固定されている。
そして、誘導コイル6に高周波電圧を印加することより形成される高周波電磁界が、プラズマトーチ4内に流されるアルゴンガスからなるプラズマ用ガスを励起してプラズマAを形成する。
そして、別の導入口からアルゴンガスからなるキャリアガスと共にプラズマトーチ4内に噴出された試料は、このプラズマAにより励起して原子化され発光する。(例えば、特許文献1を参照)
このプラズマの発光スペクトルを分光器により分光したり、質量分析器により質量分離したりすることで、試料中の元素の定性定量測定がなされていた。
特開平11−40100号公報
しかしながら、上述した従来のICP装置では、以下の課題が生じていた。
即ち、従来技術ではプラズマトーチ押さえに対するプラズマトーチの相対位置を容易に位置決めすることができるので、簡便且つ精度良くプラズマトーチを所定位置に取り付けることができるが、誘導コイルとプラズマトーチの相対位置が安定して位置決めができないので、プラズマが点火し難いかまたは点火しない、またはプラズマ点火しても不安定になるという問題点があった。
本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、その目的は、簡便にプラズマトーチと誘導コイルとの相対位置を所定位置に取り付けることができるようにすることで、常にプラズマ点火やプラズマ状態安定化が可能なICP装置を提供することをも目的とする。
上記の目的を達成するために、この発明は以下の手段を提供している。
本発明に係るICP装置は、プラズマ用ガスと霧滴化した試料が導入される管状のプラズマトーチと、プラズマトーチに高周波電圧を印加する誘導コイルと、誘導コイルの高周波電圧で発生させるプラズマにより試料を励起して発光させ、その発光の検出する検出器と、検出した発光のスペクトルを分析する分析処理部を備え、この誘導コイルは前記プラズマトーチを通す中空筒状の空洞を備えた誘導コイル押さえで固定するようにした。
または、誘導コイル押さえの空洞の形状は、プラズマトーチの外周形状とほぼ同じにすることにより、プラズマトーチの管状の断面(短軸)方向に対して、プラズマトーチ外周と誘導コイルとの相対的な位置関係が固定できるようになる。
または、プラズマが放出される側のプラズマトーチ先端部と誘導コイル押さえの空洞の一方の面とが、ほぼ同一面上となる配置になるようにプラズマトーチを固定することにより、プラズマトーチの長軸方向に対して、プラズマトーチと誘導コイルの相対的な位置関係が固定できるようになる。
さらに、誘導コイル押さえは、押出ポリスチレンなどの比誘電率が空気と同程度の材料を用いるようにした。
本発明に係るICP装置によれば、プラズマトーチと高周波誘導コイルとの相対位置を簡便に所定位置に取り付けることができるので、プラズマの点火が安定化することができるという効果が得られる。
本発明に係るICP装置の第1実施形態を示す構成図である。 従来に係るICP装置のプラズマトーチ周辺部分の一例を示す構成図である。
以下、本発明に係るICP(誘導結合プラズマ分析装置)装置の第1実施形態を、図1を参照して説明する。
図1は、本実施形態のICP装置の概略構成図の一例を示す。
本実施形態のICP装置は、大別すると試料導入部2、プラズマ生成部1、検出部3から構成されている。試料導入部2では、ネブライザ9でキャリアガスとなるアルゴンガスを流すことにより試料容器7内の液体試料が吸引される。そして、ネブライザ9に吸引された試料はスプレーチャンバー10に放出されて霧滴化される。そして、プラズマ生成部1では、プラズマトーチ4にアルゴンなどのプラズマ用ガスと霧滴化した試料とキャリアガスを流し、プラズマトーチ4の周りに設けた誘導コイル6に高周波電圧をかけることにことで、プラズマを発生させて試料を励起して電離化する。そして、検出部3では、プラズマ生成部1のプラズマトーチ4の試料導入部2側と反対側に生成された電離化した試料を含むプラズマ発光を、分光器や質量分析器など検出器で検出し、その検出された波長や質量から分析制御部15で試料の元素などの定性定量分析をするものである。
プラズマトーチ4は、石英からなる同心円筒状の三重管構造になっており、その中心にアルゴン(Ar)ガスなどのキャリアガスと共に導入される試料のための試料ガス管(インナーチューブ)12が位置し、その周囲にプラズマの上下位置を制御するための補助ガス管(ミドルチューブ)13が、さらにその周りにプラズマ用のガスを流すためのプラズマ用ガス管(アウターチューブ)14が取り囲むという構成からなっている。このプラズマトーチ4は、プラズマトーチ押さえ5に当接されて固定されている。
さらに、プラズマ用ガス管14の外側に、誘導コイル押さえ11によって固定されて誘導コイル6が3ターン巻き付けられている。
誘導コイル押さえ11は、比誘電率が空気に近い材料を用いるのが望ましく、例えば押出ポリスチレンの一つである、比誘電率が空気に近くかつ耐熱性も高いスチロフォーム(登録商標)からなり、所定の位置に誘導コイル6を取り囲みプラズマ用ガス管14の外形とほぼ同一形状の中空筒状の形状を有して一体型成型したものを用いている。
さらに、プラズマトーチ4の出口側の誘導コイル押さえ11の面と、プラズマ用ガス管14の出口側の面を同一平面となる位置で固定することで、誘導コイル6とプラズマトーチ4の相対的な位置が所定の位置に固定できるようになる。
そして、誘導コイル6により形成される高周波電磁界が、プラズマ用ガス管14に流されるアルゴンガスを電離して、プラズマを形成する。
ネブライザ9にキャリアガスが流されると、液体試料を入れた試料容器7からチューブ8を介して、霧吹きの原理によって試料が吸い上げられ、霧滴化してスプレーチャンバー10に吹き込まれる。そして、この霧滴化した試料がキャリアガスと共に試料ガス管12を通って試料ガス管12の先端部からプラズマ用ガス管14内に噴出される。
そして、試料ガス管12の先端部から噴出した試料は、このプラズマにより励起して発光する。
この励起した試料を含むプラズマ発光を、検出器16であるシーケンシャル型分光器により分光され、試料中の元素の定性・定量測定がなされる。
シーケンシャル型分光器は、モノクロメータと呼ばれるタイプであり、光電子増倍管(PMT ;Photo Multiplier Tube) を用い、回折格子をステッピングモータで回転させ、元素の波長位置を次々に移動しながら測定をする。
そして、分析制御部15では、分光器16からのデータからマススペクトルを作成して、試料中の元素の定性・定量分析をして、その結果をディスプレイ(図示せず)にマススペクトルや数値で表示するようにしている。
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、本実施形態では、検出器としてシーケンシャル型分光器を用いたが、マルチ型分光器や質量分析計を用いても構わない。マルチチャンネル型分光器は、ポリクロメータとよばれる分光系と電荷結合素子(CCD;Charge Coupled Device)などの二次元検出素子を用いて、多波長を同時測定します。また、質量分析計は、電離化した試料を質量電荷比ごとに分離することにより測定する。
また、実施形態では、ファッセル形の三重管トーチを用いているが、これに限定されるものではなく四重管トーチでも構わない。
尚、本実施形態では、プラズマトーチ4の外周を配置された誘導コイル6の全体を取り囲むように誘導コイル押さえ11で固定しているが、それには限定はされない。例えば、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素樹脂の材料を用いて、誘導コイル6のターン部の一部を固定し、かつプラズマトーチ4の外形の一部を支持する形状にしてもよい。
また、誘導コイル押さえ11とプラズマトーチ4の間に、放電防止用のシールドとなる石英などからなるボンネットを設けてもよい。この場合に、プラズマトーチ4の出口側の誘導コイル押さえ11の面をボンネットの位置に合わせても良い。
尚、誘導コイル押さえ11と誘導コイル6の間の放電を防ぐために、その間に石英などの絶縁層を設けても良い。
1 プラズマ生成部
2 試料導入部
3 検出部
4 プラズマトーチ
5 プラズマトーチ押さえ
6 誘導コイル
7 試料容器
8 チューブ
9 ネブライザ
10 スプレーチャンバー
11 誘導コイル押さえ
12 試料ガス管
13 補助ガス管
14 プラズマ用ガス管
15 分析制御部
16 検出器

Claims (5)

  1. プラズマ用ガスと霧滴化した試料が導入されるプラズマトーチと、
    前記プラズマトーチに高周波電圧を印加する誘導コイルと、
    誘導コイルの高周波電圧で発生させるプラズマにより試料を電離して、
    その電離した試料を試料中の元素の測定する検出器と、
    を備えた誘導結合プラズマ分析装置において、
    前記誘導コイルは、前記プラズマトーチを通す空洞を備えた誘導コイル押さえで固定されていることを特徴とする誘導結合プラズマ分析装置。
  2. 請求項1に記載の誘導結合プラズマ分析装置において、
    前記プラズマトーチは、円筒形であって、
    前記誘導コイル押さえの空洞の形状は、前記円筒形プラズマトーチの外周とほぼ同じであることを特徴とする誘導結合プラズマ分析装置。
  3. 請求項2に記載の誘導結合プラズマ分析装置において、
    前記プラズマトーチの先端部と前記誘導コイル押さえの空洞の一方の出口側とが、ほぼ同一面上になるような配置で、前記プラズマトーチを固定することを特徴とする誘導結合プラズマ分析装置。
  4. 請求項1に記載の誘導結合プラズマ分析装置において、
    前記誘導コイル押さえは、比誘電率が空気と同程度の材料からなることを特徴とする誘導結合プラズマ分析装置。
  5. 請求項4に記載の誘導結合プラズマ分析装置において、
    前記誘導コイル押さえは、押出ポリスチレンからなることを特徴とする誘導結合プラズマ分析装置。
JP2009039342A 2009-02-23 2009-02-23 誘導結合プラズマ分析装置 Pending JP2010197080A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009039342A JP2010197080A (ja) 2009-02-23 2009-02-23 誘導結合プラズマ分析装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009039342A JP2010197080A (ja) 2009-02-23 2009-02-23 誘導結合プラズマ分析装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010197080A true JP2010197080A (ja) 2010-09-09

Family

ID=42821966

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009039342A Pending JP2010197080A (ja) 2009-02-23 2009-02-23 誘導結合プラズマ分析装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010197080A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103515184A (zh) * 2012-06-27 2014-01-15 日本株式会社日立高新技术科学 感应耦合等离子体装置、分光分析装置以及质量分析装置
CN103630527A (zh) * 2012-08-27 2014-03-12 北京瑞利分析仪器有限公司 用于原子荧光的氩氢火焰低温自动点燃装置
RU2571619C2 (ru) * 2014-04-29 2015-12-20 Объединенный Институт Ядерных Исследований Анализатор состава вещества
RU2633657C2 (ru) * 2016-02-24 2017-10-16 Объединенный Институт Ядерных Исследований Устройство для эмиссионного и массового спектрального анализа органических веществ

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS64699A (en) * 1987-03-06 1989-01-05 Perkin Elmer Corp:The Induced plasma generator and its method
JPH01265500A (ja) * 1988-04-18 1989-10-23 Sansha Electric Mfg Co Ltd インダクションプラズマ装置
JPH028853U (ja) * 1988-07-01 1990-01-19
JPH0279449U (ja) * 1988-12-06 1990-06-19
JPH10162991A (ja) * 1996-11-28 1998-06-19 Fuji Electric Co Ltd 誘導結合プラズマ装置
JP2005505906A (ja) * 2001-10-05 2005-02-24 ユニヴェルシテ・ドゥ・シャーブルック 固体電源のためのマルチコイル型誘導プラズマトーチ
JP2006514463A (ja) * 2003-01-31 2006-04-27 イーエムエス テクノロジーズ インコーポレイテッド 適合層状アンテナアレイ
JP2007048742A (ja) * 2005-08-10 2007-02-22 Thermo Fisher Scientific Inc 誘導結合プラズマ整列装置及び方法
JP2007205897A (ja) * 2006-02-02 2007-08-16 Shimadzu Corp Icp用高周波電源装置
JP2008016936A (ja) * 2006-07-03 2008-01-24 Nippon Antenna Co Ltd アンテナおよびアンテナ装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS64699A (en) * 1987-03-06 1989-01-05 Perkin Elmer Corp:The Induced plasma generator and its method
JPH01265500A (ja) * 1988-04-18 1989-10-23 Sansha Electric Mfg Co Ltd インダクションプラズマ装置
JPH028853U (ja) * 1988-07-01 1990-01-19
JPH0279449U (ja) * 1988-12-06 1990-06-19
JPH10162991A (ja) * 1996-11-28 1998-06-19 Fuji Electric Co Ltd 誘導結合プラズマ装置
JP2005505906A (ja) * 2001-10-05 2005-02-24 ユニヴェルシテ・ドゥ・シャーブルック 固体電源のためのマルチコイル型誘導プラズマトーチ
JP2006514463A (ja) * 2003-01-31 2006-04-27 イーエムエス テクノロジーズ インコーポレイテッド 適合層状アンテナアレイ
JP2007048742A (ja) * 2005-08-10 2007-02-22 Thermo Fisher Scientific Inc 誘導結合プラズマ整列装置及び方法
JP2007205897A (ja) * 2006-02-02 2007-08-16 Shimadzu Corp Icp用高周波電源装置
JP2008016936A (ja) * 2006-07-03 2008-01-24 Nippon Antenna Co Ltd アンテナおよびアンテナ装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103515184A (zh) * 2012-06-27 2014-01-15 日本株式会社日立高新技术科学 感应耦合等离子体装置、分光分析装置以及质量分析装置
CN103515184B (zh) * 2012-06-27 2017-06-16 日本株式会社日立高新技术科学 感应耦合等离子体装置、分光分析装置以及质量分析装置
CN103630527A (zh) * 2012-08-27 2014-03-12 北京瑞利分析仪器有限公司 用于原子荧光的氩氢火焰低温自动点燃装置
CN103630527B (zh) * 2012-08-27 2015-11-18 北京瑞利分析仪器有限公司 用于原子荧光的氩氢火焰低温自动点燃装置
RU2571619C2 (ru) * 2014-04-29 2015-12-20 Объединенный Институт Ядерных Исследований Анализатор состава вещества
RU2633657C2 (ru) * 2016-02-24 2017-10-16 Объединенный Институт Ядерных Исследований Устройство для эмиссионного и массового спектрального анализа органических веществ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Jankowski et al. Microwave induced plasma analytical spectrometry
Chan et al. Spectroscopic plasma diagnostics on a low-temperature plasma probe for ambient mass spectrometry
JP5934185B2 (ja) プラズマトーチ
RU2426983C2 (ru) Способ и приспособление для выработки положительно и/или отрицательно ионизированных анализируемых газов для анализа газов
US20100224322A1 (en) Endpoint detection for a reactor chamber using a remote plasma chamber
Schwartz et al. New inductively coupled plasma for atomic spectrometry: the microwave-sustained, inductively coupled, atmospheric-pressure plasma (MICAP)
US8822948B1 (en) Method and apparatus for control of a plasma for spectrometry
US8920610B2 (en) Method and apparatus for detecting ionisable gases in particular organic molecules, preferably hydrocarbons
Leins et al. Spectroscopic Investigation of a Microwave‐Generated Atmospheric Pressure Plasma Torch
JPH1090184A (ja) 揮発性物質の検出方法および装置
US10212798B2 (en) Torch for inductively coupled plasma
JP4290161B2 (ja) Icp−oes及びicp−ms誘導電流
JP2010197080A (ja) 誘導結合プラズマ分析装置
JP2013536936A (ja) 発光分光分析のための改良型放電箱
Guchardi et al. A capacitively coupled microplasma in a fused silica capillary
US20180332697A1 (en) Torches and systems and methods using them
US9165751B1 (en) Sample atomization with reduced clogging for analytical instruments
JP2010025869A (ja) 物質分析装置
US20200300769A1 (en) Spark emission spectometer and method for operating same
US6122050A (en) Optical interface for a radially viewed inductively coupled argon plasma-Optical emission spectrometer
Arai et al. Emission spectrometric analysis using an okamoto-cavity microwave-induced plasma with nitrogen-oxygen mixed gas
JP2010197207A (ja) 発光分光分析方法及び発光分光分析装置
US5731872A (en) Plasma manipulator
JP2016061574A (ja) Icp分析装置
JP4731359B2 (ja) 分析装置用試料気化装置及びicp分析装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20111205

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Effective date: 20121122

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130118

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130122

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130521