JP2010181955A - 制御装置 - Google Patents
制御装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010181955A JP2010181955A JP2009022723A JP2009022723A JP2010181955A JP 2010181955 A JP2010181955 A JP 2010181955A JP 2009022723 A JP2009022723 A JP 2009022723A JP 2009022723 A JP2009022723 A JP 2009022723A JP 2010181955 A JP2010181955 A JP 2010181955A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- control
- learning
- filter
- output
- learning filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Programme-control systems
- G05B19/02—Programme-control systems electric
- G05B19/04—Programme control other than numerical control, i.e. in sequence controllers or logic controllers
- G05B19/042—Programme control other than numerical control, i.e. in sequence controllers or logic controllers using digital processors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67276—Production flow monitoring, e.g. for increasing throughput
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Numerical Control (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
【解決手段】 同期誤差が入力される第1学習フィルタ及び第2学習フィルタを含み、第1学習フィルタの出力にもとづいて第1の制御対象に制御入力をフィードフォワードし、第2学習フィルタの出力にもとづいて第2の制御対象に制御入力をフィードフォワードする反復学習制御回路とを備える。さらに、第1学習フィルタは、第1及び第2の制御対象の伝達関数と、第1及び第2の制御回路の制御器の伝達関数を含み、第2学習フィルタは、第1及び第2の制御対象の伝達関数と、第1及び第2の制御回路の制御器の伝達関数を含む。
【選択図】 図1
Description
前記第1学習フィルタは、前記第1及び第2の制御対象の伝達関数と、前記第1及び第2の制御回路の制御器の伝達関数を含み、前記第2学習フィルタは、前記第1及び第2の制御対象の伝達関数と、前記第1及び第2の制御回路の制御器の伝達関数を含むことを特徴とする制御装置。ことを特徴としている。
図1は、半導体露光装置においてウエハステージとレチクルステージの位置を同期制御する制御装置のブロック図である。制御装置は、ウエハステージの位置を制御する制御回路7(第1の制御回路)と、レチクルステージの位置を制御する制御回路8(第2の制御回路)とを備え、両者の制御を同期させるように構成されている。
実施例1がバイラテラル同期制御であったのに対して、実施例2ではマルチラテラル同期制御の例を説明する。 実施例1と同様の箇所については詳細な説明を省略する。
h1=w1−w2 (22)
h2=w2−w3 (23)
h3=w3−w4 (24)
各軸に対してフィードバック制御器を設計し、サーボ帯域がそれぞれ355Hz、306Hz、217Hz、177Hzとなるようにする。安定化フィルタは全てカットオフ周波数300Hzの5次のバタワースフィルタとし、実施例1と同様の手順で3入力4出力の学習フィルタを導出する。
ILC 反復学習制御回路
L,71,72 学習フィルタ
15 算出部
7 第1の制御回路
8 第2の制御回路
QW,QR 安定化フィルタ
16,17 加算部
KW,KR 制御器
PW,PR 制御対象
Claims (8)
- 第1の制御対象の位置を制御する第1の制御回路と、第2の制御対象の位置を制御する第2の制御回路とを備え、前記第1及び第2の制御対象の制御を同期させる制御装置であって、
前記第1の制御対象と前記第2の制御対象の同期誤差を算出する算出部と、
前記同期誤差が入力される第1学習フィルタ及び第2学習フィルタを含み、前記第1学習フィルタの出力にもとづいて前記第1の制御対象に制御入力をフィードフォワードし、前記第2学習フィルタの出力にもとづいて前記第2の制御対象に制御入力をフィードフォワードする反復学習制御回路とを備え、
前記第1学習フィルタは、前記第1及び第2の制御対象の伝達関数と、前記第1及び第2の制御回路の制御器の伝達関数を含み、
前記第2学習フィルタは、前記第1及び第2の制御対象の伝達関数と、前記第1及び第2の制御回路の制御器の伝達関数を含むことを特徴とする制御装置。 - 第1の制御対象の位置を制御する第1の制御回路と、第2の制御対象の位置を制御する第2の制御回路とを備え、前記第1及び第2の制御対象の制御を同期させる制御装置であって、
前記第1の制御対象と前記第2の制御対象の同期誤差を算出する算出部と、
前記同期誤差が入力される第1学習フィルタ及び第2学習フィルタを含み、前記第1学習フィルタの出力にもとづいて前記第1の制御対象に制御入力をフィードフォワードし、前記第2学習フィルタの出力にもとづいて前記第2の制御対象に制御入力をフィードフォワードする反復学習制御回路とを備え、
前記第1学習フィルタが前記第1の制御対象の伝達関数および第1の制御回路の制御器の伝達関数を含み、前記第2学習フィルタが前記第2の制御対象の伝達関数および第1の制御回路の制御器の伝達関数を含み、
前記第1学習フィルタの出力の一部が前記第2学習フィルタの出力に加算または乗算され、
前記第2学習フィルタの出力の一部が前記第1学習フィルタの出力に加算または乗算されることを特徴とする制御装置。 - 前記反復学習制御回路は、前記第1学習フィルタの出力のうち所定の帯域を通過させる第1安定化フィルタと、前記第2学習フィルタの出力のうち所定の帯域を通過させる第2安定化フィルタを備えることを特徴とする請求項1または2に記載の制御装置。
- 前記反復学習制御回路は、前記第1学習フィルタの出力を記憶する第1記憶装置と、前記第2学習フィルタの出力を記憶する第2記憶装置と、を備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の制御装置。
- 複数の制御対象の各々の位置を制御する制御回路を備え、前記複数の制御対象の制御を同期させる制御装置であって、
前記複数の制御対象の同期誤差を算出する算出部と、
前記同期誤差が入力される複数の学習フィルタを有し、各々の学習フィルタの出力にもとづいて各学習フィルタに対応する制御対象に制御入力をフィードフォワードする反復学習制御回路とを備え、
前記複数の学習フィルタはそれぞれ、前記複数の制御対象の各伝達関数と、前記複数の制御回路の制御器の各伝達関数との両方を含むことを特徴とする制御装置。 - 複数の制御対象の位置を制御する制御回路を備え、前記複数の制御対象の制御を同期させる制御装置であって、
前記複数の制御対象の同期誤差を算出する算出部と、
前記同期誤差が入力される複数の学習フィルタを有し、各々の学習フィルタの出力にもとづいて各学習フィルタに対応する制御対象に制御入力をフィードフォワードする反復学習制御回路とを備え、
前記各々の学習フィルタの出力が他の学習フィルタの出力に加算または乗算されることを特徴とする制御装置。 - 原版のパターンを基板に露光する走査型露光装置であって、
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の制御装置を用いて基板を搭載するステージと原版を搭載するステージとを走査時に同期させることを特徴とする走査型露光装置。 - 請求項7に記載の走査型露光装置を用いて基板にパターンを露光する工程と、
露光された基板を現像する工程とを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009022723A JP5235707B2 (ja) | 2009-02-03 | 2009-02-03 | 制御装置 |
TW099102460A TWI425333B (zh) | 2009-02-03 | 2010-01-28 | 用於半導體設備之控制裝置 |
US12/698,014 US8244385B2 (en) | 2009-02-03 | 2010-02-01 | Control device including iterative learning control circuit |
KR1020100009367A KR101290502B1 (ko) | 2009-02-03 | 2010-02-02 | 제어 장치, 주사형 노광 장치, 장치 제조 방법 및 제어 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009022723A JP5235707B2 (ja) | 2009-02-03 | 2009-02-03 | 制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010181955A true JP2010181955A (ja) | 2010-08-19 |
JP5235707B2 JP5235707B2 (ja) | 2013-07-10 |
Family
ID=42398374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009022723A Active JP5235707B2 (ja) | 2009-02-03 | 2009-02-03 | 制御装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8244385B2 (ja) |
JP (1) | JP5235707B2 (ja) |
KR (1) | KR101290502B1 (ja) |
TW (1) | TWI425333B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014174917A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Toyohashi Univ Of Technology | 制御装置および制御方法 |
CN112847340A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-05-28 | 深圳市优必选科技股份有限公司 | 一种控制方法、控制装置及机器人 |
WO2023007596A1 (ja) * | 2021-07-27 | 2023-02-02 | 理化工業株式会社 | 制御装置 |
JP7508325B2 (ja) | 2020-10-02 | 2024-07-01 | キヤノン株式会社 | フィードバック制御装置、リソグラフィ装置、測定装置、加工装置、平坦化装置、物品の製造方法、コンピュータプログラム、およびフィードバック制御方法 |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8401676B2 (en) * | 2010-08-18 | 2013-03-19 | International Business Machines Corporation | Performance improvement of signal transformation schemes for ultra-fast scanning |
US20120319637A1 (en) * | 2011-06-20 | 2012-12-20 | Nikon Corporation | Synchronization control devices and methods |
NL2013842A (en) | 2013-12-20 | 2015-06-26 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
US9927721B2 (en) * | 2014-06-03 | 2018-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Object positioning system, control system, lithographic apparatus, object positioning method and device manufacturing method |
JP6325504B2 (ja) * | 2015-10-28 | 2018-05-16 | ファナック株式会社 | 学習制御器の自動調整を行う機能を有するサーボ制御装置 |
US10250170B2 (en) | 2016-08-24 | 2019-04-02 | Mitsubishi Electric Corporation | Motor control device |
JP7148268B2 (ja) * | 2018-05-01 | 2022-10-05 | キヤノン株式会社 | 制御装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法 |
US11360455B1 (en) | 2021-03-19 | 2022-06-14 | Guangdong Ocean University | Error compensation system and method for numerical control (NC) machine tool based on iterative learning control |
CN113031518B (zh) * | 2021-03-19 | 2021-09-17 | 广东海洋大学 | 基于迭代学习的数控机床快速误差补偿控制***及方法 |
CN113311705B (zh) * | 2021-05-19 | 2022-03-25 | 广州大学 | 针对机器鱼的高阶迭代自学习控制方法、装置及存储介质 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005101606A (ja) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置とデバイス製作方法と製作されたデバイス |
WO2005036620A1 (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-21 | Nikon Corporation | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2005536963A (ja) * | 2002-08-13 | 2005-12-02 | シーラス ロジック,インコーポレイテッド | 過負荷補償のフィードバックステアリングを用いたノイズシェーピング回路および方法ならびにそれを使用するシステム |
JP2006310849A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-09 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、位置量コントローラ及び制御方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08241126A (ja) * | 1995-03-02 | 1996-09-17 | Canon Inc | 同期位置制御方法および装置 |
JP3733174B2 (ja) * | 1996-06-19 | 2006-01-11 | キヤノン株式会社 | 走査型投影露光装置 |
JP3755862B2 (ja) * | 1999-05-26 | 2006-03-15 | キヤノン株式会社 | 同期位置制御装置および方法 |
EP1265104A1 (en) * | 2001-06-06 | 2002-12-11 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
US20050231706A1 (en) * | 2004-04-14 | 2005-10-20 | Nikon Corporation | Feedforward control with reduced learning time for lithographic system to improve throughput and accuracy |
US7630059B2 (en) * | 2006-07-24 | 2009-12-08 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US20100222898A1 (en) * | 2009-01-27 | 2010-09-02 | Nikon Corporation | Stage-control systems and methods including inverse closed loop with adaptive controller |
US8451431B2 (en) * | 2009-01-27 | 2013-05-28 | Nikon Corporation | Control systems and methods applying iterative feedback tuning for feed-forward and synchronization control of microlithography stages and the like |
-
2009
- 2009-02-03 JP JP2009022723A patent/JP5235707B2/ja active Active
-
2010
- 2010-01-28 TW TW099102460A patent/TWI425333B/zh not_active IP Right Cessation
- 2010-02-01 US US12/698,014 patent/US8244385B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2010-02-02 KR KR1020100009367A patent/KR101290502B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005536963A (ja) * | 2002-08-13 | 2005-12-02 | シーラス ロジック,インコーポレイテッド | 過負荷補償のフィードバックステアリングを用いたノイズシェーピング回路および方法ならびにそれを使用するシステム |
JP2005101606A (ja) * | 2003-09-22 | 2005-04-14 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置とデバイス製作方法と製作されたデバイス |
WO2005036620A1 (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-21 | Nikon Corporation | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP2006310849A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-09 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、位置量コントローラ及び制御方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014174917A (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-22 | Toyohashi Univ Of Technology | 制御装置および制御方法 |
JP7508325B2 (ja) | 2020-10-02 | 2024-07-01 | キヤノン株式会社 | フィードバック制御装置、リソグラフィ装置、測定装置、加工装置、平坦化装置、物品の製造方法、コンピュータプログラム、およびフィードバック制御方法 |
CN112847340A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-05-28 | 深圳市优必选科技股份有限公司 | 一种控制方法、控制装置及机器人 |
WO2023007596A1 (ja) * | 2021-07-27 | 2023-02-02 | 理化工業株式会社 | 制御装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI425333B (zh) | 2014-02-01 |
KR20100089771A (ko) | 2010-08-12 |
US8244385B2 (en) | 2012-08-14 |
JP5235707B2 (ja) | 2013-07-10 |
US20100198371A1 (en) | 2010-08-05 |
KR101290502B1 (ko) | 2013-07-26 |
TW201030486A (en) | 2010-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5235707B2 (ja) | 制御装置 | |
JP3755862B2 (ja) | 同期位置制御装置および方法 | |
JP4734298B2 (ja) | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | |
US6903806B2 (en) | Stage control apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
KR100714468B1 (ko) | 리소그래피 장치, 제어 시스템 및 디바이스 제조방법 | |
JP2002222760A (ja) | 露光方法及び露光装置並びにデバイスの製造方法 | |
JP2004342082A (ja) | 特にリソグラフ装置における質量の位置の制御 | |
JP2022188045A (ja) | 制御装置、露光装置及び物品の製造方法 | |
KR100724052B1 (ko) | 리소그래피 투영장치, 위치제어시스템 및 디바이스 제조방법 | |
JP2004031592A (ja) | 位置決め装置及びその制御方法、露光装置、デバイスの製造方法、半導体製造工場、露光装置の保守方法 | |
CN110426919B (zh) | 控制设备、光刻装置和物品的制造方法 | |
JP6760975B2 (ja) | 制御システム、位置決めシステム、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
WO2022124281A1 (ja) | 制御装置、調整方法、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 | |
JP7520656B2 (ja) | 制御装置およびその調整方法、リソグラフィー装置、ならびに、物品製造方法 | |
US7847919B2 (en) | Lithographic apparatus having feedthrough control system | |
TWI745825B (zh) | 投影系統及包含投影系統之微影裝置 | |
JP2024062786A (ja) | 制御方法、制御装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法 | |
KR20230068293A (ko) | 정보처리장치, 리소그래피 장치, 정보처리방법, 물품의 제조 방법, 및 기억 매체 | |
JP2001351844A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JPH09199399A (ja) | 同期制御装置および方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20100630 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120203 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130226 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130326 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160405 Year of fee payment: 3 |