JP2010173220A

JP2010173220A - Forgery prevention medium

Info

Publication number: JP2010173220A
Application number: JP2009019483A
Authority: JP
Inventors: Naoki Minamikawa; 直樹南川
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2009-01-30
Filing date: 2009-01-30
Publication date: 2010-08-12

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a forgery prevention medium which keeps a diffraction structure combined with a structure with a collar change effect different from the same, and which can easily discriminate mutual optical effects without being mixed, and especially, without the optical effect by the diffraction structure not buried by the collar change effect. <P>SOLUTION: In the forgery prevention medium wherein at least a diffraction structure forming layer, an intermediate layer and a first reflection layer are laminated in the order on a support, a diffraction structure region is formed on part of the intermediate layer side of the diffraction structure forming layer, and a second reflection layer is further formed on part of the diffraction structure region. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、商品券や株券等の有価証券、或いはクレジットカードや証明書等、真贋判定の必要な物品に貼付して利用する偽造防止媒体に関する。 The present invention relates to an anti-counterfeit medium that is used by being affixed to securities such as gift certificates and stock certificates, credit cards, certificates, and other items that require authenticity determination.

近年、偽造防止手段として、光の干渉や回折や反射等の光学現象を用いて立体画像や特殊な装飾画像を表現するＯＶＤ（Optical variable device）が利用されている。ＯＶＤの例としては、ホログラムや回折構造、あるいは見る角度により色の変化（カラーチェンジ）を生じるインキや光学干渉多層膜等が挙げられる。これらＯＶＤは、高度な製造技術を要する事と、独特な視覚効果を有する事から、偽造防止手段としてクレジットカードや有価証券や証明書類等に貼付して用いられている。 In recent years, an OVD (Optical variable device) that expresses a stereoscopic image or a special decoration image using optical phenomena such as light interference, diffraction, reflection, and the like has been used as a forgery prevention means. Examples of the OVD include a hologram, a diffractive structure, an ink that causes a color change (color change) depending on a viewing angle, an optical interference multilayer film, and the like. These OVDs are used by being affixed to credit cards, securities, certificates, etc. as anti-counterfeiting means because they require advanced manufacturing techniques and have a unique visual effect.

しかし近年では、技術進歩によって、従来のＯＶＤであれば、一目では本物と区別できないような似た物を製造して偽造する事は必ずしも不可能ではなくなってきている。従って、物品の真贋判定や偽造防止という目的を達成するために、ＯＶＤには従来よりも複雑でより微細な加工が施されるようになった。 However, in recent years, due to technological progress, it is not always possible to manufacture and forge a similar product that cannot be distinguished from the real product at a glance with a conventional OVD. Therefore, in order to achieve the objectives of authenticating articles and preventing counterfeiting, OVD has been subjected to more complicated and finer processing than before.

複雑で微細な加工が施されたＯＶＤは、ＯＶＤそのものの偽造を難しくするが、同時に真贋を判定する方法も複雑で高度になってしまう傾向にある。例えば、ＯＶＤが回折構造である場合、運用上は、真偽判定はＯＶＤの目視観察に委ねるのが一般的であるが、複雑で微細な加工が施された回折構造で生成される複雑で微細な画像を、全ての人が肉眼で一様に判別し、正確な真偽判定を行うことは困難である。実際、回折構造によるＯＶＤの真贋判定を行う場合、大部分の人々は、これらにより生成された画像を識別するよりも、回折構造（ＯＶＤ）そのものが存在するか否かで判断する場合が多い。つまり、ＯＶＤ自体に複雑で微細な加工を施す方法では、微細加工自体が有効に利用されていないという意味に於いて、十分な偽造防止効果が達成できていないと言える。 OVD that has been subjected to complicated and fine processing makes it difficult to forge the OVD itself, but at the same time, the method for determining authenticity tends to be complicated and sophisticated. For example, when the OVD has a diffractive structure, it is common to rely on visual observation of the OVD for operation, but it is complicated and fine generated with a diffractive structure that has been subjected to complicated and fine processing. It is difficult for all people to uniformly discriminate images with the naked eye and to perform accurate authenticity determination. In fact, when determining the authenticity of an OVD using a diffractive structure, most people often make a determination based on whether or not the diffractive structure (OVD) itself exists, rather than identifying the image generated by these. That is, it can be said that the method for performing complicated and fine processing on the OVD itself does not achieve a sufficient anti-counterfeit effect in the sense that the fine processing itself is not effectively used.

一方、赤外光や紫外光範囲の不可視光を用いたパターン画像をＯＶＤとして作製し、このパターン画像を、特殊な加工が施されたフィルターや機器を用いて可視化して真贋判定する偽造防止法も存在する（例えば、特許文献１参照）が、これらは、ＯＶＤに対してこれと組になる特別な機器がなくては真贋を判定することができないので利便性に欠けるという問題がある。この点、紙幣等のような、不特定多数の人間が使用する物品に対しての偽造防止手段としては不利である。 On the other hand, a pattern image using invisible light in the infrared light or ultraviolet light range is produced as OVD, and this pattern image is visualized by using a specially processed filter or device to judge authenticity (For example, see Patent Document 1), however, there is a problem in that it is not convenient because authenticity cannot be determined without a special device paired with OVD. In this respect, it is disadvantageous as a forgery prevention means for articles used by an unspecified number of people such as banknotes.

そこで、偽造防止効果が高く、特殊な機器を使用しないで真贋判定が容易に行える偽造防止媒体として、回折構造と、回折構造以外の光学効果を組み合わせた偽造防止媒体が提案されている。 Therefore, a forgery prevention medium that combines a diffraction structure and an optical effect other than the diffraction structure has been proposed as an anti-counterfeit medium that has a high anti-counterfeit effect and can easily determine the authenticity without using a special device.

その一例が、ディメタライズドホログラム等のような、回折構造の反射層をエッチング等で部分的に設ける事で、ホログラムや回折構造による光学効果と、反射層の有無による光学効果を組み合わせた偽造防止媒体である。 An example is a forgery prevention medium such as a demetallized hologram that combines the optical effect of the hologram or the diffractive structure with the optical effect of the presence or absence of the reflective layer by partially providing a reflective layer of the diffractive structure by etching or the like. It is.

また別の例として、回折構造を形成する層に垂直方向で接するように、低屈折率材料と高屈折率材料を交互に積層した多層膜を設け、ホログラムの視認性を改善すると共に、カラーチェンジによる効果を組み合わせた偽造防止媒体（特許文献２参照）とする例や、ホログラムや回折構造等による光学パターンと、色ずれ箔又はインク等との組み合わせからなる独特な視覚効果を有する偽造防止媒体（特許文献３参照）の例が挙げられる。 As another example, a multilayer film in which low-refractive index materials and high-refractive index materials are alternately stacked is provided so as to be in contact with the layer forming the diffractive structure in the vertical direction, thereby improving the visibility of the hologram and color change. Examples of anti-counterfeit media (see Patent Document 2) that combine the effects of, and anti-counterfeit media that have a unique visual effect consisting of a combination of an optical pattern such as a hologram or a diffractive structure, and a color shift foil or ink ( An example is described in Patent Document 3).

特許第３９８８４５８号Japanese Patent No. 3988458 特開平７−１９１５９５号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-191595 特開２００３−５２０９８６号公報JP 2003-520986 A

物理学大辞典第二版丸善「波の干渉」、１１３２〜１１３７ページ、２００５年The Second Physics Dictionary, Maruzen "Wave Interference", pages 1132-1137, 2005

回折構造と別の光学効果を組み合わせた偽造防止媒体の先行技術として、文献２や文献３に記載された構成では、回折構造の形成領域に垂直方向で接するように多層膜や色ずれ箔又はインク等が設けられている。この構成では、垂直方向に積層されていることから回折構造による画像の輝度を高める事ができる一方で、回折構造による光学効果（回折光）と多層膜や色ずれ箔又はインク等によるカラーチェンジ効果が重なる為、一般の人々がこれらを偽造防止媒体の真贋判定に利用する場合、それらの光学効果が識別し難いという問題がある。 As the prior art of the anti-counterfeit medium combining the diffractive structure and another optical effect, in the configurations described in Document 2 and Document 3, the multilayer film, the color misalignment foil, or the ink is in contact with the diffractive structure forming region in the vertical direction. Etc. are provided. In this configuration, the brightness of the image due to the diffractive structure can be increased because it is stacked in the vertical direction, while the optical effect (diffracted light) due to the diffractive structure and the color change effect due to the multilayer film, color misalignment foil or ink, etc. Therefore, when ordinary people use them for authenticating anti-counterfeit media, there is a problem that their optical effects are difficult to identify.

そこで本発明が解決しようとする課題は、回折構造と、これとは異なるカラーチェンジ効果を持つ構造を組み合わせた偽造防止媒体に於いて、互いの光学効果が混合せず、それぞれを独立したものとして容易に判別できる偽造防止媒体を提供することである。 Therefore, the problem to be solved by the present invention is that the anti-counterfeit medium combining the diffractive structure and the structure having a different color change effect does not mix the optical effects of each other, and each of them is independent. It is to provide an anti-counterfeit medium that can be easily discriminated.

上記の課題を解決するための、請求項１に係る発明は、支持体上に、少なくとも、回折構造形成層、中間層及び第一の反射層がこの順に積層された偽造防止媒体において、前記回折構造形成層の中間層側の一部に回折構造領域が形成され、更に前記回折構造領域の一部に第二の反射層が形成されている事を特徴とする偽造防止媒体としたものである。 In order to solve the above problems, the invention according to claim 1 is directed to an anti-counterfeit medium in which at least a diffraction structure forming layer, an intermediate layer, and a first reflective layer are laminated in this order on a support. The anti-counterfeit medium is characterized in that a diffractive structure region is formed on a part of the intermediate layer side of the structure forming layer and a second reflective layer is formed on a part of the diffractive structure region. .

また、請求項２に係る発明は、前記中間層がカラーチェンジ効果を呈する事を特徴とする請求項１に記載の偽造防止媒体としたものである。 The invention according to claim 2 is the anti-counterfeit medium according to claim 1, wherein the intermediate layer exhibits a color change effect.

また、請求項３に係る発明は、前記中間層が可視光透過率５０％以上の誘電体層からなる事を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の偽造防止媒体としたものである。 The invention according to claim 3 is the anti-counterfeit medium according to claim 1 or 2, wherein the intermediate layer is made of a dielectric layer having a visible light transmittance of 50% or more. .

本発明は以上のような構成であるから、下記に示す効果がある。 Since the present invention is configured as described above, the following effects are obtained.

請求項１に記載の発明によれば、第一の反射層とは別のパターン形状を有する第二の反射層を、回折構造領域の一部の領域に、回折構造形成層と中間層の間に挟むようにして設ける事で、回折構造領域による回折光パターンと、回折構造によらない反射光の別パターンを、同一領域内に作製する事ができ、これら２種類のパターンを観察する事による真贋判定が可能となる。 According to the first aspect of the present invention, the second reflective layer having a pattern shape different from that of the first reflective layer is disposed in a part of the diffractive structure region between the diffractive structure forming layer and the intermediate layer. By providing it between the two, a diffracted light pattern by the diffractive structure region and another pattern of reflected light not by the diffractive structure can be produced in the same region, and authenticity judgment by observing these two types of patterns Is possible.

詳細に述べると、一般には、回折構造領域からの回折光は波長分光作用を伴い、少なからず光学的指向性を有するのに対し、反射光は光学的指向性をほとんど有しないので、回折構造領域と反射層が重ねられた媒体を観察する場合、回折光を十分に観察できる光照射方向や観察角度と、回折光をわずかしか観察できないが反射光は観察できる光照射方向や
観察角度が存在する。本発明の偽造防止媒体は、回折構造形成領域内に反射光によるパターンを設け、回折光によるパターンと反射光によるパターンを、観察角度を変化させる事で、観察可能とする。 More specifically, in general, diffracted light from a diffractive structure region is accompanied by wavelength spectroscopy and has a considerable optical directivity, whereas reflected light has almost no optical directivity. When observing a medium on which a reflective layer is superimposed, there are a light irradiation direction and an observation angle at which diffracted light can be sufficiently observed, and a light irradiation direction and an observation angle at which only a small amount of diffracted light can be observed but reflected light can be observed. . In the anti-counterfeit medium of the present invention, a pattern by reflected light is provided in the diffractive structure forming region, and the pattern by diffracted light and the pattern by reflected light can be observed by changing the observation angle.

請求項２に記載の発明によれば、前記反射層を構成する材料と、別のパターン形状を有する反射層を構成する材料を同一とする事で、２つの反射層の材料自体に起因する反射率の差が生じなくなる。その結果、該回折構造による回折光パターンの観察が容易となり、また、反射光による別パターンの観察可能な範囲を制限する事ができるという点で、より真贋判定が容易で偽造防止効果が高い偽造防止媒体とする事が可能となる。 According to the second aspect of the present invention, the material that constitutes the reflective layer is the same as the material that constitutes the reflective layer having a different pattern shape, so that the reflection caused by the materials of the two reflective layers itself. There is no difference in rate. As a result, it is easy to observe the diffracted light pattern by the diffractive structure, and it is possible to limit the range in which another pattern can be observed by reflected light. It can be used as a prevention medium.

請求項３に記載の発明によれば、前記反射層と、別のパターン形状を有する反射層との間に、可視光透過率５０％以上の誘電体層を設ける事で、反射光による別パターンの、反射光強度の濃淡であるコントラストの調節が可能となる。 According to the invention described in claim 3, by providing a dielectric layer having a visible light transmittance of 50% or more between the reflective layer and a reflective layer having another pattern shape, another pattern by reflected light is provided. The contrast, which is the intensity of the reflected light, can be adjusted.

誘電体多層膜の構成を説明する図。The figure explaining the structure of a dielectric multilayer. 本発明による偽造防止媒体を示す断面図。Sectional drawing which shows the forgery prevention medium by this invention. 図２の偽造防止媒体を、垂直方向から観察した平面図。The top view which observed the forgery prevention medium of FIG. 2 from the perpendicular direction. 観察者が偽造防止媒体１１を見た時に図３のような回折光パターンを観察できる時の、回折光と正反射光の経路及び観察者を示す図。The figure which shows the path | route of a diffracted light and a regular reflection light, and an observer when an observer can observe a diffracted light pattern like FIG. 3 when he sees the forgery prevention medium. 図２の偽造防止媒体を、斜め方向から観察した平面図。The top view which observed the forgery prevention medium of FIG. 2 from the diagonal direction. 観察者が偽造防止媒体１１を見た時に図５のような反射光による別パターンを観察できる時の、回折光と正反射光の経路及び観察者を示す図。The figure which shows the path | route of a diffracted light and a regular reflection light, and an observer when another pattern by reflected light like FIG. 5 can be observed when an observer looks at the forgery prevention medium 11. FIG. 本発明による偽造防止媒体を示すもう一つの断面図（式１を満たす誘電体多層膜層を有する）。FIG. 3 is another cross-sectional view showing an anti-counterfeit medium according to the present invention (having a dielectric multilayer film satisfying Formula 1). 図７の偽造防止媒体を、垂直方向から観察した平面図。The top view which observed the forgery prevention medium of FIG. 7 from the perpendicular direction. 図７の偽造防止媒体を、斜め方向から観察した平面図。The top view which observed the forgery prevention medium of FIG. 7 from the diagonal direction. 薄膜による光学干渉現象を、模式的に説明する図。The figure which illustrates typically the optical interference phenomenon by a thin film. 式１と式２が示す光学干渉の波長範囲を模式的に説明する図。The figure which illustrates typically the wavelength range of the optical interference which Formula 1 and Formula 2 show. 本発明による偽造防止媒体をステッカー形状とした断面図。Sectional drawing which made the forgery prevention medium by this invention the sticker shape.

以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図２は本発明による偽造防止媒体を示す断面図である。図２に於いて、偽造防止媒体１１は、支持体２の片面に回折構造形成層３と、部分的に設けられた第二の反射層６３と、誘電体層５と、第一の反射層６３とが、この順に設けられている。回折構造形成層３には、その一部に回折構造領域４が設けられており、また、第二の反射層６２は、第一の反射層６３の領域内に於ける回折構造領域４の内側に、第一の反射層６３とは別の形状で設けられている。ここで、回折構造領域４による回折光は、偽造防止媒体１１を支持体２側より、垂直方向から観察した場合にのみ、回折光によるパターンが観察できる。 FIG. 2 is a sectional view showing a forgery prevention medium according to the present invention. In FIG. 2, the anti-counterfeit medium 11 includes a diffraction structure forming layer 3, a partially provided second reflective layer 63, a dielectric layer 5, and a first reflective layer on one side of a support 2. 63 are provided in this order. The diffractive structure forming layer 3 is provided with a diffractive structure region 4 in a part of the diffractive structure forming layer 3, and the second reflective layer 62 is located inside the diffractive structure region 4 in the region of the first reflective layer 63. In addition, the first reflective layer 63 is provided in a different shape. Here, the diffracted light from the diffractive structure region 4 can be observed only when the anti-counterfeit medium 11 is observed from the vertical direction from the support 2 side.

図３は、図２の偽造防止媒体１１を、支持体２側の垂直方向から観察した平面図である。ここで、図２の断面図は、図３のＡ−Ａ断面に対応する。偽造防止媒体１１を垂直方向から観察すると、図２の回折構造領域４の位置に対応して、回折光によるパターン４１が観察できる。 FIG. 3 is a plan view of the anti-counterfeit medium 11 of FIG. 2 observed from the vertical direction on the support 2 side. Here, the cross-sectional view of FIG. 2 corresponds to the AA cross-section of FIG. When the anti-counterfeit medium 11 is observed from the vertical direction, a pattern 41 by diffracted light can be observed corresponding to the position of the diffractive structure region 4 in FIG.

図４は、観察者が偽造防止媒体１１を見た時に図３のような回折光パターンを観察できる時の、回折光と正反射光の経路及び観察者の視点を示した図である。偽造防止媒体１１を垂直方向から観察すると、観察者７は入射光７１の回折構造領域４に於ける各点からの
回折光４１１が重なり合って形成された回折光パターン４１が観察できる。しかし、別パターン形状を有する第二の反射層６２による正反射光６２１や、第一の反射層６３による正反射光６３１を観察できない。実際には、これらの反射層による拡散反射光の一部も観察者７へ入る事になるが、拡散反射光は回折光４１１の光強度に比べると十分に小さい。 FIG. 4 is a diagram showing the paths of the diffracted light and the specularly reflected light and the viewpoint of the observer when the observer can observe the diffracted light pattern as shown in FIG. 3 when looking at the anti-counterfeit medium 11. When the anti-counterfeit medium 11 is observed from the vertical direction, the observer 7 can observe the diffracted light pattern 41 formed by overlapping the diffracted light 411 from each point in the diffraction structure region 4 of the incident light 71. However, regular reflection light 621 by the second reflection layer 62 having a different pattern shape and regular reflection light 631 by the first reflection layer 63 cannot be observed. Actually, part of the diffusely reflected light from these reflective layers also enters the observer 7, but the diffusely reflected light is sufficiently smaller than the light intensity of the diffracted light 411.

図５は、図２の偽造防止媒体１１を、斜め方向から観察した平面図である。ここで、図２の断面図は、図３のＡ−Ａ断面に対応する。偽造防止媒体１１を斜め方向から観察すると、図１の別パターン形状を有する第二の反射層６３の位置に対応して、反射光による別パターン６１が観察できる。 FIG. 5 is a plan view of the anti-counterfeit medium 11 of FIG. 2 observed from an oblique direction. Here, the cross-sectional view of FIG. 2 corresponds to the AA cross-section of FIG. When the anti-counterfeit medium 11 is observed from an oblique direction, another pattern 61 by reflected light can be observed corresponding to the position of the second reflective layer 63 having another pattern shape shown in FIG.

図６は、観察者が偽造防止媒体１１を見た時に図５のような反射光による別パターンを観察できる時の、回折光と正反射光の経路及び観察者の視点を示した図である。偽造防止媒体１１を斜め方向から観察すると、観察者７は、入射光７１の、別パターン形状を有する第二の反射層６２による正反射光６２１と、第一の反射層６３による正反射光６３１との光強度差による別パターン６１を観察する事ができる。しかし、観察者７は回折光４１１によるパターンを同時に観察する事はできない。 FIG. 6 is a diagram showing the paths of the diffracted light and the specularly reflected light and the observer's viewpoint when the observer can observe another pattern by the reflected light as shown in FIG. 5 when viewing the anti-counterfeit medium 11. . When the anti-counterfeit medium 11 is observed from an oblique direction, the observer 7 observes the regular reflection light 621 of the incident light 71 by the second reflection layer 62 having a different pattern shape and the regular reflection light 631 by the first reflection layer 63. It is possible to observe another pattern 61 due to the difference in light intensity between the first and second patterns. However, the observer 7 cannot observe the pattern by the diffracted light 411 simultaneously.

別パターン６１について詳しく言えば、反射光による別パターン６１は、正反射光６２１と正反射光６３１の光強度の違いによって形成されるが、光強度の違いは、主に、誘電体層５による入射光７１の光学反射や光吸収によって生じる。つまり、誘電体層５内部を経由する正反射光６３１は、誘電体層５と回折構造形成層３との境界に於ける光学反射や誘電体層５中の光吸収等の影響を受け、正反射光６２１よりも光強度が小さくなる事に起因する。 More specifically, the different pattern 61 by the reflected light is formed by the difference in light intensity between the regular reflected light 621 and the regular reflected light 631. The difference in light intensity is mainly due to the dielectric layer 5. This is caused by optical reflection or light absorption of the incident light 71. That is, the specularly reflected light 631 passing through the inside of the dielectric layer 5 is affected by optical reflection at the boundary between the dielectric layer 5 and the diffractive structure forming layer 3 and light absorption in the dielectric layer 5. This is because the light intensity is smaller than that of the reflected light 621.

図７は、本発明による偽造防止媒体の別の例を示す、もう一つの断面図である。図７に於いて、偽造防止媒体１２は、支持体２の片面に回折構造形成層３と、部分的に設けられた第二の反射層６２と、式１を満たす誘電体多層膜層８と、第一の反射層６３とが、この順に設けられている。
回折構造形成層３には、その一部に回折構造領域４が設けられており、また、第二の反射層６２は、第一の反射層６３の領域内に於ける回折構造領域４の内側に、第一の反射層６３とは別の形状で設けられている。ここで、回折構造領域４による回折光は、偽造防止媒体１２を支持体２側より、垂直方向から観察した場合にのみ、回折光によるパターンが観察できる。 FIG. 7 is another cross-sectional view showing another example of the forgery prevention medium according to the present invention. In FIG. 7, the anti-counterfeit medium 12 includes a diffractive structure forming layer 3 on one side of a support 2, a second reflective layer 62 partially provided, and a dielectric multilayer film layer 8 satisfying Formula 1; The first reflective layer 63 is provided in this order.
The diffractive structure forming layer 3 is provided with a diffractive structure region 4 in a part of the diffractive structure forming layer 3, and the second reflective layer 62 is located inside the diffractive structure region 4 in the region of the first reflective layer 63. In addition, the first reflective layer 63 is provided in a different shape. Here, the diffracted light from the diffractive structure region 4 can be observed as a pattern by the diffracted light only when the anti-counterfeit medium 12 is observed from the vertical direction from the support 2 side.

図８は、図７の偽造防止媒体１２を、支持体２側の垂直方向から観察した平面図である。ここで、図７の断面図は、図８のＢ−Ｂ断面に対応する。偽造防止媒体１２を垂直方向から観察すると、図７の回折構造領域４の位置に対応して、光学効果の現れた回折構造領域４１が観察できる。また、図７の回折構造領域４が設けられていない位置に対応した領域８１では、誘電体多層膜層８は透明に見え、その下の第一の反射層６３の色が観察できる。 FIG. 8 is a plan view of the anti-counterfeit medium 12 of FIG. 7 observed from the vertical direction on the support 2 side. Here, the cross-sectional view of FIG. 7 corresponds to the BB cross-section of FIG. When the anti-counterfeit medium 12 is observed from the vertical direction, the diffraction structure region 41 in which the optical effect appears can be observed corresponding to the position of the diffraction structure region 4 in FIG. Moreover, in the area | region 81 corresponding to the position where the diffraction structure area | region 4 of FIG. 7 is not provided, the dielectric multilayer film layer 8 looks transparent, and the color of the 1st reflective layer 63 under it can be observed.

図９は、図７の偽造防止媒体１２を、斜め方向から観察した平面図である。偽造防止媒体１２を斜め方向から観察すると、図７の別パターン形状を有する第二の反射層６３の位置に対応して、反射光による別パターン６１が観察できる。また、図７の別パターン形状を有する第二の反射層６２が設けられていない領域に対応した領域８２では、誘電体多層膜層８の色彩が現れているのが観察できる。 FIG. 9 is a plan view of the anti-counterfeit medium 12 of FIG. 7 observed from an oblique direction. When the anti-counterfeit medium 12 is observed from an oblique direction, another pattern 61 by reflected light can be observed corresponding to the position of the second reflective layer 63 having another pattern shape in FIG. Further, it can be observed that the color of the dielectric multilayer film 8 appears in a region 82 corresponding to a region where the second reflective layer 62 having another pattern shape in FIG. 7 is not provided.

図５と図９を比較した場合、図５では、反射光による別パターン６１が、単純な反射光強度の違いで観察できるのに対し、図９では、別パターン６１が、色彩変化の有無による違いで観察できる事が分かる。 When comparing FIG. 5 and FIG. 9, in FIG. 5, another pattern 61 by reflected light can be observed with a simple difference in reflected light intensity, whereas in FIG. 9, another pattern 61 depends on the presence or absence of a color change. You can see the difference.

次に、図１０と図１１を用いて、式１と式２についての詳細な説明を行う。 Next, with reference to FIG. 10 and FIG.

図１０は、屈折率μ、厚さｄの薄膜に、空気中から入射光角度ｉで波長λの光が入射した場合に発生する光学干渉を、幾何光学を用いて模式的に表したものである。光学干渉は、図１０に於けるABCという経路を通る光と、DCという経路を通る光との光路差が入射光波長λの整数倍となる時に発生する（非特許文献１）。これを式で表すと、
２μｄ・ｃｏｓ（ｒ）＝ｍλ ・・・式３
但し、ｍ＝１，２，３，・・・
また、スネルの法則より、
ｓｉｎ（ｉ）＝μｓｉｎ（ｒ）・・・式４
式３と式４を用いて
λ＝[２μｄ｛１−（ｓｉｎ（ｉ）／μ）^２｝^１／２]／ｍ・・・式５
ここで、入射光の角度ｉの条件より
０°＜ｉ＜９０° ・・・式６
式５と式６から
２μｄ／ｍ＞λ＞[２μｄ｛１−（１／μ）^２｝^１／２]／ｍ・・・式７
が得られる。 FIG. 10 schematically shows optical interference generated when light having a wavelength λ is incident from the air at an incident light angle i on a thin film having a refractive index μ and a thickness d using geometric optics. is there. Optical interference occurs when the optical path difference between the light passing through the path ABC in FIG. 10 and the light passing through the path DC is an integral multiple of the incident light wavelength λ (Non-Patent Document 1). This can be expressed as an expression:
2 μd · cos (r) = mλ Equation 3
However, m = 1, 2, 3,...
From Snell's law,
sin (i) = μsin (r) Equation 4
Using Equations 3 and 4, λ = [2 μd {1- (sin (i) / μ) ² } ^1/2 ] / m Equation 5
Here, from the condition of the angle i of incident light, 0 ° <i <90 ° Equation 6
From Expressions 5 and 6, 2 μd / m>λ> [2 μd {1- (1 / μ) ² } ^1/2 ] / m Expression 7
Is obtained.

図１１は、横軸に光の波長をとり、可視光を４００ｎｍから７６０ｎｍとした場合に、式１もしくは式２を満たす時の光学干渉を起こす波長範囲を、可視光と不可視光をまたぐように設定した事を表したものである。式１が示す光学干渉波長範囲６１１や、式２が示す光学干渉波長範囲６２２と、式７が示す波長範囲との大小関係を考える事で、式１と式２を導く事ができる。 FIG. 11 shows a wavelength range that causes optical interference when the wavelength of light is plotted on the horizontal axis and the visible light is changed from 400 nm to 760 nm so that the optical interference is satisfied when the formula 1 or 2 is satisfied. It represents the setting. By considering the magnitude relationship between the optical interference wavelength range 611 indicated by Equation 1 and the optical interference wavelength range 622 indicated by Equation 2 and the wavelength range indicated by Equation 7, Equation 1 and Equation 2 can be derived.

式１を導くには、まず、式７で表される波長λの取り得る値の範囲が、その最大値が赤外光領域（７６０ｎｍより大きい）で、且つ、その最小値が可視光領域（４００ｎｍ〜７６０ｎｍ）である場合（図９の範囲６１１を参照）を考える。
７６０＜２μｄ／ｍ
４００＜[２μｄ｛１−（ｓｉｎ（ｉ）／μ）^２｝^１／２]／ｍ＜７６０・・・式８但し、ｍ＝１，２，３・・・
よって、
３８０＜Ｙ
２００＜Ｙ[｛１−１／μ^２｝^１／２]＜３８０・・・式１但し、Ｙ＝μｄ／ｍ、ｍ＝１，２，３・・・
が導かれる。 In order to derive Equation 1, first, the range of possible values of the wavelength λ represented by Equation 7 is such that the maximum value is in the infrared light region (greater than 760 nm) and the minimum value is in the visible light region ( 400 nm to 760 nm) (see range 611 in FIG. 9).
760 <2 μd / m
400 <[2 μd {1- (sin (i) / μ) ² } ^1/2 ] / m <760 Equation 8 where m = 1, 2, 3.
Therefore,
380 <Y
200 <Y [{1-1 / μ ² } ^1/2 ] <380 Formula 1 where Y = μd / m, m = 1, 2, 3,.
Is guided.

一方、式５から、屈折率μと厚さｄとｍの値が変化しない場合は、波長λの取り得る範囲は入射角ｉの値に依存して変化する事が分かる。つまり、屈折率μ、厚さｄとｍの値が式１の条件を満たすように決まった場合、薄膜の光学干渉が起こる波長λの取り得る範囲は、入射角ｉの値に依存して変化し、最大値（ｉ＝０°の時）は赤外光領域となり透明に観察でき、最小値（ｉ＝９０°の時）は可視光領域となり色彩を観察できる。 On the other hand, it can be seen from Equation 5 that when the values of the refractive index μ, the thickness d, and m do not change, the possible range of the wavelength λ changes depending on the value of the incident angle i. That is, when the values of the refractive index μ and the thicknesses d and m are determined so as to satisfy the condition of Equation 1, the possible range of the wavelength λ where the optical interference of the thin film occurs depends on the value of the incident angle i. The maximum value (when i = 0 °) becomes an infrared light region and can be observed transparently, and the minimum value (when i = 90 °) becomes a visible light region and colors can be observed.

薄膜が２層３層・・・ｋ層・・・の多層膜となった場合も同様に計算することができる。この場合、ｋ番目の薄膜が満たすべき屈折率μ_ｋ、厚さｄ_ｋは以下になり、同様の形をとる事が分かる。
３８０＜Ｙ
２００＜Ｙ[｛１−１／μ^２｝^１／２]＜３８０・・・式１’但し、Ｙ＝μ_ｋｄ_ｋ／ｍ、ｍ＝１，２，３・・・ The same calculation can be performed when the thin film is a multilayer film of two layers, three layers,..., K layers,. In this case, the refractive index μ _k and the thickness d _k to be satisfied by the kth thin film are as follows, and it can be seen that the same shape is obtained.
380 <Y
200 <Y [{1-1 / μ ² } ^1/2 ] <380 Equation 1 ′ where Y = μ _k d _k / m, m = 1, 2, 3,.

次に、式２を導くには、式７で表される波長λの取り得る値の範囲が、その最大値が可視光領域（４００ｎｍ〜７６０ｎｍ）で、且つ、その最小値が紫外光領域（４００ｎｍ未満）である場合（図８の範囲６２１を参照）を考える。
４００＜２μｄ／ｍ＜７６０
[２μｄ｛１−（１／μ）^２｝^１／２]／ｍ＜４００・・・式９
但し、ｍ＝１，２，３・・・
よって
２００＜Ｙ＜３８０
Ｙ[｛１−１／μ^２｝^１／２]＜２００・・・式２
但し、Ｙ＝μｄ／ｍ、ｍ＝１，２，３・・・
が導かれる。 Next, in order to derive Equation 2, the range of possible values of wavelength λ represented by Equation 7 is such that the maximum value is in the visible light region (400 nm to 760 nm) and the minimum value is in the ultraviolet light region ( (Less than 400 nm) (see range 621 in FIG. 8).
400 <2 μd / m <760
[2 μd {1- (1 / μ) ² } ^1/2 ] / m <400 Equation 9
However, m = 1, 2, 3,...
Therefore, 200 <Y <380
Y [{1-1 / μ ² } ^1/2 ] <200 Equation 2
However, Y = μd / m, m = 1, 2, 3,...
Is guided.

一方、式５から、屈折率μと厚さｄとｍの値が変化しない場合は、波長λの取り得る範囲は入射角ｉの値に依存して変化する事が分かる。つまり、屈折率μ、厚さｄとｍの値が式２の条件を満たすように決まった場合、薄膜の光学干渉が起こる波長λの取り得る範囲は、入射角ｉの値に依存して変化し、その最大値（ｉ＝０°の時）は可視光領域となり色彩を観察でき、最小値（ｉ＝９０°の時）は紫外光領域となり透明に観察できる。 On the other hand, it can be seen from Equation 5 that when the values of the refractive index μ, the thickness d, and m do not change, the possible range of the wavelength λ changes depending on the value of the incident angle i. That is, when the values of the refractive index μ and the thicknesses d and m are determined so as to satisfy the condition of Equation 2, the possible range of the wavelength λ where the optical interference of the thin film occurs depends on the value of the incident angle i. The maximum value (when i = 0 °) becomes the visible light region, and the color can be observed, and the minimum value (when i = 90 °) becomes the ultraviolet light region and can be observed transparently.

薄膜が２層３層・・・ｋ層・・・の多層膜となった場合も同様に計算する事ができる。この場合、ｋ番目の薄膜が満たすべき屈折率μ_ｋ、厚さｄ_ｋは以下になり、同様の形をとる事が分かる。
２００＜Ｙ＜３８０
Ｙ[｛１−１／μ^２｝^１／２]＜２００・・・式２’
但し、Ｙ＝μ_ｋｄ_ｋ／ｍ、ｍ＝１，２，３・・・ The same calculation can be performed when the thin film is a multilayer film of 2 layers, 3 layers,..., K layers,. In this case, the refractive index μ _k and the thickness d _k to be satisfied by the kth thin film are as follows, and it can be seen that the same shape is obtained.
200 <Y <380
^{Y [{1-1 / μ 2}} 1/2] <200 ··· Equation 2 '
However, Y = μ _k d _k / m, m = 1, 2, 3,...

このように、式１または式２の条件を満たす誘電体多層膜を用いる事で、回折光によるパターンを観察する際には誘電体多層膜は透明であるが、反射光による別パターンを観察する際には、誘電体多層膜の色彩出現によって、別パターンの観察が容易となるような設計が可能となる。 As described above, by using the dielectric multilayer film that satisfies the condition of Formula 1 or Formula 2, when observing a pattern by diffracted light, the dielectric multilayer film is transparent, but another pattern by reflected light is observed. In this case, the design that facilitates the observation of another pattern is possible due to the appearance of the color of the dielectric multilayer film.

図１２は、本発明による偽造防止媒体をステッカー構成にした断面図である。図１２に於いて、偽造防止媒体１３は、図２の偽造防止媒体１１に於ける第一の反射層６３の下に接着層９を設けた構成である。接着層９を設ける事で、真贋判定の必要な物品へ、本発明の偽造防止媒体をステッカーとして取り付ける事が可能となる。 FIG. 12 is a cross-sectional view of the anti-counterfeit medium according to the present invention having a sticker structure. 12, the anti-counterfeit medium 13 has a configuration in which an adhesive layer 9 is provided below the first reflective layer 63 in the anti-counterfeit medium 11 of FIG. By providing the adhesive layer 9, the anti-counterfeit medium of the present invention can be attached as a sticker to an article that requires authenticity determination.

以下、各層について詳細に説明する。 Hereinafter, each layer will be described in detail.

（支持体）
支持体２としては厚みが安定しており、且つ耐熱性の高いポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用いるのが一般的であるが、これに限るものではない。その他の材料としては、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム等が耐熱性の高いフィルムとして知られており、同様の目的で使用する事が可能である。また、他のフィルム、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、耐熱塩化ビニル等の材料でも、塗液の塗工条件や乾燥条件によっては使用可能である。また、他の層への影響が無い限りは、支持体２に対し、帯電防止処理やマット加工、エンボス処理等の加工をしても良い。 (Support)
The support 2 is generally a polyethylene terephthalate resin film having a stable thickness and high heat resistance, but is not limited thereto. As other materials, polyethylene naphthalate resin films, polyimide resin films, and the like are known as films having high heat resistance, and can be used for the same purpose. In addition, other films such as polyethylene, polypropylene, and heat-resistant vinyl chloride can be used depending on the coating conditions and the drying conditions of the coating liquid. Further, as long as there is no influence on other layers, the support 2 may be subjected to processing such as antistatic processing, mat processing, embossing processing, or the like.

（回折構造形成層）
回折構造形成層３は、光回折による光学的効果を発現する層である。レリーフ型の回折構造を形成する場合には、その主となる材料は熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線或いは電子線硬化性樹脂のいずれであっても良いが、作製した回折構造による光学効果を目視
で観察する場合は、可視光波長に対する透明性が高い材料を用いるのが望ましい。 (Diffraction structure forming layer)
The diffractive structure forming layer 3 is a layer that exhibits an optical effect by light diffraction. When forming a relief-type diffractive structure, the main material may be any of thermoplastic resin, thermosetting resin, ultraviolet light, or electron beam curable resin. In the case of visually observing, it is desirable to use a material having high transparency with respect to the visible light wavelength.

回折構造形成層３に使用可能な材料は、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートを架橋剤として添加、架橋したウレタン樹脂や、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂等の熱硬化樹脂、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等の紫外線或いは電子線硬化樹脂を、単独もしくはこれらを複合して使用できる。また、前記以外の樹脂であっても、回折構造パターンを形成可能であれば適宜使用できる。 Examples of materials that can be used for the diffraction structure forming layer 3 include polyisocyanates such as thermoplastic resins such as acrylic resins, epoxy resins, cellulose resins, and vinyl resins, acrylic polyols and polyester polyols having reactive hydroxyl groups, and the like. Is added as a crosslinking agent, crosslinked urethane resin, thermosetting resin such as melamine resin and phenolic resin, UV or electron beam curable resin such as epoxy (meth) acryl, urethane (meth) acrylate, etc. Can be used in combination. Moreover, even if it is resin other than the above, if a diffraction structure pattern can be formed, it can be used suitably.

（反射層）
別パターン形状を有する第二の反射層６３と、第一の反射層６３は、反射光による別パターンを形成する為、及び、回折構造領域４の光学効果を高める為に設けられる。用いる材料としては、例えば、光学反射率の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材料等が挙げられる。膜厚は、各材料の反射率や用途によって異なるが、概ね１〜１００ｎｍで形成される。 (Reflective layer)
The second reflective layer 63 having a different pattern shape and the first reflective layer 63 are provided to form another pattern by reflected light and to enhance the optical effect of the diffractive structure region 4. Examples of the material to be used include metal materials such as Al, Sn, Cr, Ni, Cu, and Au having high optical reflectivity. The film thickness varies depending on the reflectivity and application of each material, but is generally 1-100 nm.

別パターン形状を有する第二の反射層６３と、第一の反射層６３は、例えば文字や絵柄等のパターン等で部分的に形成されても良い、この場合、意匠性を向上すると共に加工を複雑にし、より高い偽造防止効果を付与する事ができる。 The second reflective layer 63 having the different pattern shape and the first reflective layer 63 may be partially formed by, for example, a pattern such as a character or a picture. In this case, the design is improved and the processing is performed. It can be complicated and can provide a higher anti-counterfeit effect.

別パターン形状を有する第二の反射層６３と第一の反射層６３を部分的に形成する手法としては、溶解性の樹脂をパターン状に形成した後に金属薄膜を設け、溶解性樹脂とその部分の金属薄膜層を洗浄して除去する方法や、金属薄膜層に耐酸或いは耐アルカリ性樹脂を用いてパターン状に印刷した後、金属薄膜を酸やアルカリでエッチングする方法、或いは光を露光する事によって、溶解する或いは溶解し難くなる樹脂材料を塗布し、所望のパターン状のマスク越しに露光した後、不要部分を洗浄或いはエッチングで除去する方法等が挙げられる。以上は一例であり、これらに限定されるものではなく、公知の部分的に金属薄膜を形成する技術であれば適宜利用可能である。 As a method for partially forming the second reflective layer 63 and the first reflective layer 63 having different pattern shapes, a metal thin film is provided after forming a soluble resin in a pattern, and the soluble resin and its portion By cleaning and removing the metal thin film layer, by printing the metal thin film layer in a pattern using an acid or alkali resistant resin, and then etching the metal thin film with acid or alkali, or by exposing to light There is a method in which a resin material that dissolves or hardly dissolves is applied and exposed through a mask having a desired pattern shape, and then unnecessary portions are removed by washing or etching. The above is an example, and the present invention is not limited to these. Any known technique for partially forming a metal thin film can be used as appropriate.

（誘電体層）
誘電体層５は、反射光による別パターンのコントラストを高める為に設ける層である。 (Dielectric layer)
The dielectric layer 5 is a layer provided to increase the contrast of another pattern by reflected light.

使用可能な材料は、可視光屈折率が高くて透明性のある材料が望ましく、例えば、酸化マグネシウム（波長５５０ｎｍでの屈折率ｎ＝１．７）、二酸化ケイ素（ｎ＝１．５）、フッ化マグネシウム（ｎ＝１．４）、フッ化カルシウム（ｎ＝１．３〜１．４）、フッ化セリウム（ｎ＝１．６）、フッ化アルミニウム（ｎ＝１．３）、酸化アルミニウム（ｎ＝１．６）、二酸化チタン（ｎ＝２．５）、二酸化ジルコニウム（ｎ＝２．０）、硫化亜鉛（ｎ＝２．３）、酸化亜鉛（ｎ＝２．１）、酸化インジウム（ｎ＝２．０）、二酸化セリウム（ｎ＝２．２）、酸化タンタル（ｎ＝２．１）等が挙げられる。 The material that can be used is preferably a transparent material having a high refractive index of visible light, such as magnesium oxide (refractive index n = 1.7 at a wavelength of 550 nm), silicon dioxide (n = 1.5), fluorine. Magnesium fluoride (n = 1.4), calcium fluoride (n = 1.3 to 1.4), cerium fluoride (n = 1.6), aluminum fluoride (n = 1.3), aluminum oxide ( n = 1.6), titanium dioxide (n = 2.5), zirconium dioxide (n = 2.0), zinc sulfide (n = 2.3), zinc oxide (n = 2.1), indium oxide ( n = 2.0), cerium dioxide (n = 2.2), tantalum oxide (n = 2.1) and the like.

誘電体層５を構成する材料の屈折率が高く、膜厚が厚い層であれば、正反射光６２１と正反射光６３１との光強度の違いを大きくする（コントラスト比を上げる）事が可能となるが、その膜厚は１μｍ以下である事が望ましい。１μｍを越えると柔軟性に乏しくなり、クラック等で誘電体層が破壊される可能性がある。 If the refractive index of the material forming the dielectric layer 5 is high and the layer is thick, it is possible to increase the difference in light intensity between the regular reflection light 621 and the regular reflection light 631 (increase the contrast ratio). However, the film thickness is desirably 1 μm or less. If it exceeds 1 μm, the flexibility is poor, and the dielectric layer may be broken by cracks or the like.

（誘電体多層膜）
誘電体多層膜層は、二種類以上の屈折率の異なる誘電体材料を、式１や式２を満たすような膜厚で、複数層積層したものである
使用可能な材料は、例えば、酸化マグネシウム（波長５５０ｎｍでの屈折率ｎ＝１．７
）、二酸化ケイ素（ｎ＝１．５）、フッ化マグネシウム（ｎ＝１．４）、フッ化カルシウム（ｎ＝１．３〜１．４）、フッ化セリウム（ｎ＝１．６）、フッ化アルミニウム（ｎ＝１．３）、酸化アルミニウム（ｎ＝１．６）、二酸化チタン（ｎ＝２．５）、二酸化ジルコニウム（ｎ＝２．０）、硫化亜鉛（ｎ＝２．３）、酸化亜鉛（ｎ＝２．１）、酸化インジウム（ｎ＝２．０）、二酸化セリウム（ｎ＝２．２）、酸化タンタル（ｎ＝２．１）等が挙げられる。 (Dielectric multilayer film)
The dielectric multilayer film layer is formed by laminating two or more kinds of dielectric materials having different refractive indexes and having a film thickness satisfying Equation 1 or Equation 2. Usable materials are, for example, magnesium oxide (Refractive index n = 1.7 at a wavelength of 550 nm)
), Silicon dioxide (n = 1.5), magnesium fluoride (n = 1.4), calcium fluoride (n = 1.3 to 1.4), cerium fluoride (n = 1.6), fluorine Aluminum halide (n = 1.3), aluminum oxide (n = 1.6), titanium dioxide (n = 2.5), zirconium dioxide (n = 2.0), zinc sulfide (n = 2.3), Examples thereof include zinc oxide (n = 2.1), indium oxide (n = 2.0), cerium dioxide (n = 2.2), tantalum oxide (n = 2.1), and the like.

多層膜の合計膜厚は、１μｍ以下が望ましい。１μｍを越えると柔軟性に乏しくなり、クラック等で多層膜構造が破壊される可能性がある。また、誘電体多層膜を作製する際には、例えば、フッ化マグネシウムと硫化亜鉛の組み合わせ等、各層の層間密着が十分である材料の組み合わせである事が望ましい。 The total film thickness of the multilayer film is desirably 1 μm or less. If it exceeds 1 μm, the flexibility is poor, and the multilayer structure may be destroyed by cracks or the like. Moreover, when producing a dielectric multilayer film, it is desirable to use a combination of materials with sufficient interlayer adhesion between layers, such as a combination of magnesium fluoride and zinc sulfide.

誘電体多層膜に於ける各層の膜厚は、多層膜光学干渉を生じさせる為には、誤差精度が数ｎｍ以内である事が望ましく、この精度で膜厚の制御が可能であれば、いかなる成膜方法も用いる事が可能である。中でも薄膜の作製には乾式法が優れており、これには通常の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相析出法やＣＶＤ法のような化学的気相析出法を用いる事ができる。 The film thickness of each layer in the dielectric multilayer film is preferably within an error accuracy of several nanometers in order to cause multilayer optical interference, and any film thickness can be controlled with this accuracy. A film forming method can also be used. In particular, the dry method is excellent for the production of a thin film. For this, a normal vapor deposition method, a physical vapor deposition method such as sputtering, or a chemical vapor deposition method such as a CVD method can be used.

（接着層）
接着層９は、本発明の偽造防止媒体を任意物品へ貼り付け可能とする為に設けられる。接着層９を設ける方法としては、グラビア印刷法やスクリーン印刷法、オフセット印刷法等の公知の手法が適宜用いられる。 (Adhesive layer)
The adhesive layer 9 is provided to enable the forgery prevention medium of the present invention to be attached to an arbitrary article. As a method for providing the adhesive layer 9, a known method such as a gravure printing method, a screen printing method, or an offset printing method is appropriately used.

本発明を、具体的な実施例と比較例を挙げて説明する。 The present invention will be described with reference to specific examples and comparative examples.

＜実施例＞
厚さ２５μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支持体２の片面に、回折構造形成層３として、下記の配合比からなる組成物をグラビア印刷法によって、塗布厚１μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布し、その一部の領域に、回折構造レリーフパターンをロールエンボス加工で形成した。 <Example>
On one side of a support 2 made of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 μm, a composition having the following blending ratio was applied as a diffraction structure forming layer 3 by a gravure printing method at a coating thickness of 1 μm and a drying temperature of 110 ° C. A diffractive structure relief pattern was formed by roll embossing in a part of the region.

（回折構造形成層）
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体とウレタン樹脂の混合物２５部
メチルエチルケトン７０部
トルエン３０部 (Diffraction structure forming layer)
Mixture of vinyl chloride-vinyl acetate copolymer and urethane resin 25 parts methyl ethyl ketone 70 parts toluene 30 parts

次に、回折構造形成層３に於ける回折構造領域４の一部領域に、別パターン形状を有する第二の反射層６３として、真空蒸着法を用いて厚み５０ｎｍのＡｌ層を部分的に設けた。 Next, an Al layer having a thickness of 50 nm is partially provided as a second reflective layer 63 having a different pattern shape in a part of the diffractive structure region 4 in the diffractive structure forming layer 3 by using a vacuum deposition method. It was.

更に、真空蒸着法を用いて、式１を満たす誘電体多層膜８を全面に設けた。誘電体多層膜８は、入射光角度４５°に於いて、可視光と不可視光（赤外光）の境界波長７６０ｎｍの光学干渉が起こるように設けた。このように設ける事で、入射光角度が４５°より小さい場合は不可視光（赤外光）、入射光角度が４５°より大きい場合は可視光（赤色）の光学干渉が起こる。以下に、作製した誘電体多層膜を構成する材料と屈折率、膜厚と計算式を示す。図１に、入射光と反射光の様子及び作製した誘電体多層膜を構成する材料と屈折率、膜厚を示す。 Further, the dielectric multilayer film 8 satisfying the formula 1 was provided on the entire surface by using a vacuum deposition method. The dielectric multilayer film 8 was provided so that optical interference with a boundary wavelength of 760 nm between visible light and invisible light (infrared light) occurred at an incident light angle of 45 °. By providing in this way, optical interference of invisible light (infrared light) occurs when the incident light angle is smaller than 45 °, and visible light (red) when the incident light angle is larger than 45 °. The materials, refractive index, film thickness, and calculation formulas that make up the manufactured dielectric multilayer film are shown below. FIG. 1 shows the state of incident light and reflected light, and the material, refractive index, and film thickness of the fabricated dielectric multilayer film.

（計算式）
（ＳｉＯ_２層）
式５にμ＝μ_Ｓ＝１．５、λ＝７６０（ｎｍ）、ｉ＝４５°、ｍ＝１を代入して、ｄ_Ｓ＝２８７（ｎｍ）を得た。これは、式１にμ＝μ_Ｓ＝１．５、ｍ＝１を代入した時の条件、２５３（ｎｍ）＜ｄ_Ｓ＜３４０（ｎｍ）を満足する。 (a formula)
(SiO ₂ layer)
By substituting μ = μ _S = 1.5, λ = 760 (nm), i = 45 °, and m = 1 into Equation 5, d _S = 287 (nm) was obtained. This satisfies the condition when substituting μ = μ _S = 1.5 and m = 1 into Equation 1, 253 (nm) <d _S <340 (nm).

（ＴｉＯ_２層）
式５にμ＝μ_Ｔ＝２．５、λ＝７６０（ｎｍ）、ｉ＝４５°、ｍ＝１を代入して、ｄ_Ｔ＝１６５（ｎｍ）を得た。これは、式１にμ＝μ_Ｔ＝２．５、ｍ＝１を代入した時の条件、１５２（ｎｍ）＜ｄ_Ｓ＜１６６（ｎｍ）を満足する。 (TiO ₂ layer)
By substituting μ = μ _T = 2.5, λ = 760 (nm), i = 45 °, and m = 1 into Equation 5, d _T = 165 (nm) was obtained. This satisfies the condition 152 (nm) <d _S <166 (nm) when μ = μ _T = 2.5 and m = 1 are substituted into Equation 1.

更に、第一の反射層６３として、真空蒸着法を用いて厚み５０ｎｍのＡｌ層を全面に設けた。 Furthermore, as the first reflective layer 63, an Al layer having a thickness of 50 nm was provided on the entire surface by vacuum evaporation.

最後に接着層９として、下記の配合比からなる組成物をグラビア法によって、塗布厚１０μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布して形成し、ステッカー構成の偽造防止媒体とした。 Finally, the adhesive layer 9 was formed by applying a composition having the following blending ratio by a gravure method at a coating thickness of 10 μm and a drying temperature of 110 ° C., and used as an anti-counterfeit medium having a sticker configuration.

（接着層）
アクリル樹脂２０部
塩化ビニル酢酸ビニル共重合樹脂５部
トルエン５０部
メチルエチルケトン５０部 (Adhesive layer)
Acrylic resin 20 parts Vinyl chloride Vinyl acetate copolymer resin 5 parts Toluene 50 parts Methyl ethyl ketone 50 parts

このステッカー構成の偽造防止媒体を、真贋判定が必要なカードに貼り付け、偽造防止媒体付きカードとした。 The anti-counterfeit medium having this sticker structure was affixed to a card that requires authenticity determination to obtain a card with an anti-counterfeit medium.

＜比較例＞
別パターン形状を有する第二の反射層６３や誘電体多層膜層８を有しない構成
厚さ２５μｍの透明なポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支持体の片面に、回折構造形成層として、下記の配合比からなる組成物をグラビア印刷法によって、塗布厚１μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布し、その一部の領域に、回折構造レリーフパターンをロールエンボス加工で形成した。 <Comparative example>
From the following compounding ratio as a diffractive structure forming layer on one side of a support made of a transparent polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 μm and having no second reflective layer 63 having a different pattern shape or dielectric multilayer film layer 8 The resulting composition was applied by a gravure printing method at a coating thickness of 1 μm and a drying temperature of 110 ° C., and a diffractive structure relief pattern was formed in a part of the region by roll embossing.

次に、反射層として、真空蒸着法を用いて厚み５０ｎｍのＡｌ層を全面に設けた。 Next, as a reflection layer, an Al layer having a thickness of 50 nm was provided on the entire surface by vacuum evaporation.

最後に接着層として、下記の配合比からなる組成物をグラビア法によって、塗布厚１０μｍ、乾燥温度１１０℃で塗布して形成し、ステッカー構成の偽造防止媒体とした。 Finally, as an adhesive layer, a composition having the following blending ratio was formed by applying a gravure method at a coating thickness of 10 μm and a drying temperature of 110 ° C. to obtain a forgery prevention medium having a sticker configuration.

作製した実施例と比較例に於ける偽造防止媒体付きカードの、それぞれの偽造防止媒体の回折構造形成部分へ白色光を照射した時の反射光を観察した。実施例では、偽造防止媒体平面に垂直な方向を角度０°、平行な方向を角度９０°とした場合に於いて、照射光の位置を変化させずに、０°〜４５°から観察した場合は比較例と同様であったのに対し、４５°〜９０°へ傾けて観察した場合、比較例とは異なり、赤色へのカラーチェンジと、回折光によるパターンが観察できない観察角度に於いて、反射光による別パターンの出現が観察できた。 The reflected light when white light was irradiated to the diffraction structure formation part of each forgery prevention medium of the produced forgery prevention medium card in the example and the comparative example was observed. In the embodiment, when the angle perpendicular to the anti-counterfeit medium plane is 0 ° and the parallel direction is 90 °, the observation light is observed from 0 ° to 45 ° without changing the position of the irradiation light. Is the same as that of the comparative example, but when observed at an angle of 45 ° to 90 °, unlike the comparative example, the color change to red and the observation angle at which the pattern by the diffracted light cannot be observed. The appearance of another pattern by reflected light could be observed.

以上、本発明によれば、回折構造と別の光学効果を持つ構造を組み合わせた偽造防止媒体に於いて、互いの光学効果が混合せず、真贋判定が容易で、従来よりも偽造防止効果が高い偽造防止媒体が作製可能である事が分かった。 As described above, according to the present invention, in the anti-counterfeit medium in which the diffraction structure and the structure having another optical effect are combined, the optical effects of each other are not mixed, the authenticity determination is easy, and the anti-counterfeit effect is more than conventional. It was found that a high anti-counterfeit medium can be produced.

１１，１２、１３…本発明による偽造防止媒体
２…支持体
３…回折構造形成層
４…回折構造
４１…回折光によるパターン
４１１…回折構造形成層によって生じた回折光
５…誘電体層
６１…反射光による別パターン
６２…第一の反射層６３とは別のパターン形状を有する反射層
６２１…第一の反射層６３とは別パターン形状を有する反射層による正反射光
６３…第一の反射層
６３１…反射層による正反射光
７…観察者の視点
７１…入射光
８…式１を満たす誘電体多層膜層
８１…誘電体多層膜層８が透明に見える、回折構造の設けられていない領域
８２…誘電体多層膜層８の色彩が現れた、別パターン形状を有する第二の反射層６３の設けられていない領域
８３１…式１が示す光学干渉波長範囲
８３２…式２が示す光学干渉波長範囲
９…接着層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11, 12, 13 ... Anti-counterfeit medium 2 ... Support body 3 ... Diffraction structure formation layer 4 ... Diffraction structure 41 ... Pattern 411 by diffracted light ... Diffraction light 5 produced by diffraction structure formation layer ... Dielectric layer 61 ... Another pattern 62 by reflected light ... Reflective layer 621 having a pattern shape different from the first reflective layer 63 ... Regular reflection light 63 by the reflective layer having a pattern shape different from the first reflective layer 63 ... First reflection Layer 631 ... Specularly reflected light 7 by reflection layer ... Viewer's viewpoint 71 ... Incoming light 8 ... Dielectric multilayer film layer 81 satisfying Equation 1 ... Dielectric multilayer film layer 8 appears to be transparent, and no diffractive structure is provided. Region 82... Color of dielectric multilayer film layer 8 where second reflective layer 63 having another pattern shape is not provided 831. Optical interference wavelength range 832 indicated by Equation 1. Optical interference indicated by Equation 2. Wavelength range 9: Adhesive layer

Claims

支持体上に、少なくとも、回折構造形成層、中間層及び第一の反射層がこの順に積層された偽造防止媒体において、前記回折構造形成層の中間層側の一部に回折構造領域が形成され、更に前記回折構造領域の一部に第二の反射層が形成されている事を特徴とする偽造防止媒体。 In the anti-counterfeit medium in which at least the diffractive structure forming layer, the intermediate layer, and the first reflective layer are laminated in this order on the support, a diffractive structure region is formed in a part on the intermediate layer side of the diffractive structure forming layer. Further, a forgery prevention medium, wherein a second reflective layer is formed in a part of the diffractive structure region.

前記中間層がカラーチェンジ効果を呈する事を特徴とする請求項１に記載の偽造防止媒体。 The forgery prevention medium according to claim 1, wherein the intermediate layer exhibits a color change effect.

前記中間層が可視光透過率５０％以上の誘電体層からなる事を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の偽造防止媒体。 The forgery prevention medium according to claim 1, wherein the intermediate layer is made of a dielectric layer having a visible light transmittance of 50% or more.