JP2010139621A - 波長分波光学素子およびカプラー - Google Patents
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Abstract
【解決手段】波長分波光学素子は、導波層20と、トップ層10とが積層されてなり、トップ層の表面に複数の凸条を備えた波長分波光学素子であって、上記複数の凸条が、条幅の異なる二種類の凸条パターンAおよび凸条パターンBからなり、凸条の離間距離である距離PAと距離PBとの和が、上記周期Pを形成しており、凸状パターンAの条幅A1と凸状パターンBの条幅B1が、次式(I)を満たし、B1=K1×A1・・・(I)(0.3<K1<0.90);かつ上記距離PAおよび距離PBが、次式PA=K2a×P・・・(II)およびPB=K2b×P・・・(III)を満たす(0.35<K2a<0.65かつ0.35<K2b<0.65であって、K2a≠K2b)。
【選択図】図1
Description
後その情報伝送量はますます増大すると予測されている。
ここで採用されているWDM方式とは、波長の異なる複数の光を用いて、例えば、音声、画像、映像などの独立情報を、それぞれの波長の光に割り当て独立情報の数に対応した波長の数の光を多重化して光信号として光束伝送させる光通信システムである。
光も同じ方向に出射する。一般に次数が高くなるに伴って回折光の強度は低下するものの、2次光は無視できない程度に大きな強度を有していることが多い。
方向に延伸し溝周期がD/4である第2の格子溝を重ねて刻して成ることを特徴とする回折格子。」の発明(図14参照)が記載されており、第1の格子溝110における回折条件は上記と同様であるが、第2の格子溝12の回折条件を考えると、第1の格子溝110と同様に、法線Pとの成す角度θ1で以て入射した光が法線Pとの成す角度θ2で以て回折したとき、隣り合う格子溝12における光束の光路差ΔL2は次の(C)式で与えられる。
光、波長がλA/8である2次光、波長がλA/12である3次光、・・・を強め合うことが分かる。他方、逆に弱め合う条件は、次の(E)式を満足するときである。
折光として出て来る筈であるが、溝周期D/4である第2の格子溝120では この波長
λA/2の光は1次光として弱め合うことになるから、結果として、この回折格子からの
波長λA/2の回折光の出射は抑制されることになる。このようにして、所望の波長λAの1次回折光の2次光を軽減することができるとされている。
上記複数の凸条が、条幅の異なる二種類の凸条パターンAおよび凸条パターンBからなり、上記凸条パターンAと上記凸条パターンBとは、交互に隣接するとともに、それぞれ独立に周期Pをもって繰り返し配置されており、
上記凸条パターンAおよび凸条パターンBが、該凸条パターンAの縦断面の中心を通って凸条上面から導波層に向かって直角に垂下する仮想中心線aと、これに隣接する該凸条
パターンBの縦断面の中心を通って凸条上面から導波層に向かって直角に垂下する仮想中心線bとが、相互に異なる距離PAおよび距離PBの幅で離間して繰り返すように形成されているとともに、該凸条の離間距離である距離PAと距離PBとの和が、上記周期Pを形成しており、
そして、
上記凸状パターンAの条幅A1と上記凸状パターンBの条幅B1が、下記式(I)を満たし、
またさらに、上記波長分波光学素子を構成するトップ層の屈折率が、導波層の屈折率よりも0.03〜0.25高いことが好ましい。
さらに、上記凸条パターンBの条幅B1は、20nm〜400nmであることが好ましい。
また、上記の周期Pは、250nm〜1200nmであることが好ましい。
本発明の波長分波光学素子は、概略トップ層の表面に周期が同一であって位相の異なる二条の凸条が形成されている。すなわち、本発明の波長分波光学素子の表面には、位相の異なる二条の凸条が、それぞれ独立に、周期Pで繰り返し形成されている。換言すれば、周期Pの一条の凸条ピークの間に、もう一つの凸条ピークが同一の周期Pで立設されており、しかもこの二条の凸条ピークは、近接して形成されている。しかも、これらの凸条ピークは等間隔に設けられているのではなく、所定の規則性をもってトップ層表面に配置されているので、入射光角度を変えることでより高い精度で入射光から任意の光を分波することができ、特に本発明の波長分波光学素子によれば、サイドバンドの発生が少なくなる。また共鳴に起因する意図しない波長の分波も極めて少なくすることができる。
図1は、図2に示す本発明の波長分波光学素子の一例におけるY-Y断面を示す断面図
である。図2は、本発明の波長分波光学素子のトップ層の平面を示す平面図である。
2.0μmの範囲内にある。基板30の厚さは、通常は80〜1200μm、好ましくは500〜1000μmの範囲内にある。
分に小さい厚みであり、通常は数十nm以下、好ましくは25nm以下である。
屈折率を(n2)としたときに、トップ層10の屈折率(n2)と導波層20の屈折率(n1)との差(n2−n1)が、0.03以上になり、好ましくは0.06〜0.25の範囲
内になるように形成素材を選定する。このようにトップ層10と導波層20との屈折率に差を設けることにより、より効率よく波長分波を行うことができる。
本発明の波長分波光学素子のトップ層10の表面に立設されている凸条パターンAの条幅A1は、通常は40〜600nm、好ましくは45〜500nmの範囲内にある。また、もう一方の凸条パターンBの条幅B1は、通常は20〜400nm、好ましくは20〜330nmの範囲内にある。本発明において、凸条パターンAの条幅A1と凸条パターンBの条幅B1との比((B1/A1=K1))が、0.3より大きく、0.90未満の範囲内にあ
り、さらに0.35〜0.65の範囲内にあることが好ましい。凸条パターンAの条幅A1と、凸条パターンBの条幅B1との比率を上記のように設定することにより、サイドバンドが形成されにくくなる。つまり、本発明においてはこれらの条幅は、同一でなく、図1に示すように、凸条パターンAの条幅A1が凸条パターンBの条幅B1よりも太く形成されている。
このときの凸条パターンAおよび凸条パターンBの配置位置を表すために、本発明では、図2に示されるような波長分波分光素子におけるY−Y線における縦断面を切り出し、この縦断面における仮想線を想定して凸条パターンAおよび凸条パターンBの位置を特定
する。
ンBの縦断面の中心を通る仮想線を仮想線bとする。
ーンAと凸条パターンBとの距離は、距離PAである。また、この凸条パターンBの右側
には上記距離PAと異なる間隙を形成して凸条パターンAが配置されている。この凸条パ
ターンBと凸条パターンAとの距離は、仮想線bと仮想線aとの距離として、距離PBで
表わされている。このように、凸条パターンAと凸条パターンBとは、距離PA、距離PBの間隔を形成して繰り返し配置されている。
おいては、周期Pで形成された多数の凸条パターンAに対して、位相をPAだけずらして
周期Pで多数の凸条パターンBが形成されているとみることができる。ここで、周期Pは、通常は250nm〜1200nmである。
向の中心に仮想される仮想中心線bとしたときの、仮想中心線aから仮想中心線bまでの
距離PAおよび仮想中心線bから仮想中心線aまでの距離PBが、下記式(II)および(III)を満たす。
本発明の波長分波光学素子には、上記のように分光手段である凸条パターンが二個対になって規則的に配置された複数の突起対が形成している。
例えば、本発明の波長分波光学素子は、所望の波長の光を高い選択率で取り出すことができるため、カプラーとして使用することができる。本発明のカプラーは、上記のような波長分波光学素子と、該波長分波光学素子への入射光の入射角度を変更自在にする入射光
角度変更手段とを備えている。このカプラーにおいて、入射光角度変更手段として、光の入射角を変更する可動性鏡体、波長分波光学素子の入射光に対する角度を変更する可動性ステージよりなる群から選ばれるいずれかの入射光角度変更手段を単独であるいは組み合わせて組み込まれていることが好ましい。
本発明の波長分波光学素子を有するカプラーは、本発明の波長分波光学素子が入射光の角度を変更することにより異なる波長の光を選択的に取り出すことができ、しかもこの取り出された光がサイドバンドを伴うことがないことから、より高い精度で単独波長の光を取り出すことができる。汎用性の高い光学部材となる。
<トップ層の製造方法>
温度計と窒素導入管とを装着した容量1リットルの四つ口フラスコに、スチレン(St
)100重量部と、ブチルパーオキサイド0.45重量部と、水130重量部と、ドデシルベンゼンスルホン酸アンモニウム0.004重量部と、第三リン酸カルシウム10重量部とを添加し、1000rpm攪拌下に乳化させた後、充分に窒素パージさせて、77〜80℃で3.5時間反応させ、次いで89〜91℃で1.5時間反応させ、さらに96〜97℃で1時間反応させた。
このようにして調製されたエマルジョンの重合率は約100%であり、GPC法で用いて測定したポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)は20万で、分子量分布係数は2.3であった。また、このように調製されたPSt樹脂(L1−1)の1540nmにおける屈折率(n2)は1.565であった。
温度計と窒素導入管とを装着した、容量1リットルの四つ口フラスコに、t−ブチルメチルメタクリレート(tBMA)100重量部、ブチルパーオキサイド0.5重量部、ポリビニルアルコール(PVA)1重量部、水道水200重量部を添加し、回転3000rpmで3分間よく乳化したのち、窒素パージを30分間行った。その後72℃まで昇温し1.5時間保持したのち、90℃で1時間保持し、エマルションを調製した。
、重量平均分子量は108万であった。その後、重合したエマルションをイソプロピルアルコール(IPA)で洗浄し、90℃乾燥させ、粉体化した。
ルメタクリレート(PBMA)層を成膜した。膜厚計測は、FILMETRICS製薄膜測定装置 F20を用いて行った。
上記のようにして塗工したPSt樹脂(L1-1)の表面に、予め矩形の2種類の凸条を形
成可能なモールドを形成して加熱下に押し当ててトップ層表面に表1に記載の凸条パターンAおよび凸条パターンBの凸条対を転写した。ここで、表に示す通り、凸条パターンAの条幅A1は、360nm、凸条パターンBの条幅B1は、180nmであり、次式(I)で表わされるK1は0.5である。
に転写し、60℃まで冷却した後、脱型を行って、本発明の波長分波光学素子を得た。
上記のようにして製造した波長分波光学素子を用いて、入射光角度変更手段を有するカプラーを作成した。アジレント株式会社製86143B−002を用いて、波長1000〜1600nmのレーザー光をトップ層表面に対し、入射光の角度が11.53°および15.72°となるようにカプラーをそれぞれ調整し、光を照射し、反射される光をアジレント株式会社製86143B上の光パワーセンサーユニットにより検出した。
反射光は、角度11.53°の入射光に対し1490nmおよび角度15.72°の入射光に対し1550nmの2種類の波長で、それぞれの反射率がいずれも99%で検出され、それぞれの反射光のサイドバンド反射率がいずれも5%未満だった。
実施例1において、周期Pを870nm、凸状パターンAの条幅を300nm、凸状パターンBの条幅を150nmに変え、K2a=0.483、K2b=0.517となるように凸条の間隔を変えた以外は実施例1と同様にして波長分波光学素子を製造した。
結果を表1に示す。また反射光の強度を図5および図6に示す。
反射光は、角度12.78°の入射光に対し1490nmおよび角度17.04°の入射光に対し1550nmの2種類の波長で、それぞれの反射率がいすれも99%で検出され、それぞれの反射光のサイドバンド反射率がいずれも5%未満だった。
実施例1において、周期Pを970nm、K1=0.92となるように凸状パターンBの条幅を330nmに変え、K2a=0.443、K2b=0.556となるように凸条の間隔を変えた以外は、実施例1と同様にして波長分波光学素子を製造した。
結果を表1に示す。また反射光の強度を図7および図8に示す。
反射光は、角度11.53°の入射光に対し1490nmおよび角度15.72°の入射光に対し1550nmの2種類の波長で、1490nmの反射光の反射率は55%、1550nmの反射光の反射率は25%で検出され、それぞれの反射光のサイドバンド反射率はいずれも7%だった。
実施例1において、周期Pを790nmに変え、K2a=0.545、K2b=0.455となるように凸条の間隔を変えた以外は、さらに凸条Bの条幅を90nmに変えた以外は、実施例1と同様にして波長分波光学素子を製造した。
結果を表1に示す。また反射光の強度を図9および図10に示す。
反射光は、角度11.53°の入射光に対し1490nmおよび角度15.72°の入射光に対し1550nmの2種類の波長で、それぞれ反射率がいずれも99%で検出され、1490nmの反射光のサイドバンド反射率は15%、1550nmの反射光のサイドバンド反射率は25%だった。
実施例1において、Ka=0.682、Kb=0.318となるように凸条の間隔を変えた以外は実施例1と同様にして波長分波光学素子を製造した。
結果を表1に示す。また反射光の強度を図11および図12に示す。
反射光は、角度11.53°の入射光に対し1490nmおよび角度15.72°の入射光に対し1550nmの2種類の波長で、それぞれ反射率99%で検出され、1490nmの反射光のサイドバンド反射率は30%、1550nmの反射光のサイドバンド反射率は45%だった。
で形成されていることにより、サイドバンドの発生がなく、反射率の高い、非常に高性能の波長分波分光素子である。また、本発明の波長分波分光素子は、たとえば、形成しようとするパターンとは逆のパターンをモールドに形成し、このモールドを用いて、トップ層の表面にパターンを転写することにより製造することができ、その製造が極めて容易である大量生産に適していることから、高性能の波長分波分光素子を安価に供給することができる。
20・・・導波層
30・・・基板
40・・・面矩形角柱
Claims (9)
- 少なくとも、導波層と、該導波層の屈折率よりも0.03以上高い屈折率を有するトップ層とが積層されてなり、該トップ層の表面にその一辺から対辺に至る平行に形成された複数の凸条を備えた波長分波光学素子であって、
上記複数の凸条が、条幅の異なる二種類の凸条パターンAおよび凸条パターンBからなり、上記凸条パターンAと上記凸条パターンBとは、交互に隣接するとともに、それぞれ独立に周期Pをもって繰り返し配置されており、
上記凸条パターンAおよび凸条パターンBが、該凸条パターンAの縦断面の中心を通って凸条上面から導波層に向かって直角に垂下する仮想中心線aと、これに隣接する該凸条
パターンBの縦断面の中心を通って凸条上面から導波層に向かって直角に垂下する仮想中心線bとが、相互に異なる距離PAおよび距離PBの幅で離間して繰り返すように形成されているとともに、該凸条の離間距離である距離PAと距離PBとの和が、上記周期Pを形成しており、
そして、
上記凸状パターンAの条幅A1と上記凸状パターンBの条幅B1が、下記式(I)を満たし、
かつ上記距離PAおよび距離PBが、下記式(II)および(III)を満たすことを特徴とする波長分波光学素子;
- 上記トップ層表面からの凸条上面までの高さが、100〜600nmの範囲内にあることを特徴とする請求項第1項に記載の波長分波光学素子。
- 上記波長分波光学素子を構成するトップ層の屈折率が、導波層の屈折率よりも0.03〜0.25高いことを特徴とする請求項第1項記載の波長分波光学素子。
- 上記凸条パターンAの条幅A1が40nm〜600nmであることを特徴とする請求項第1項記載の波長分波光学素子。
- 上記凸条パターンBの条幅B1が20nm〜400nmであることを特徴とする請求項第1項記載の波長分波光学素子。
- 上記周期Pが250nm〜1200nmであることを特徴とする請求項第1項記載の波長分波光学素子。
- 請求項1に記載の波長分波光学素子と、該波長分波光学素子への入射光の入射角度を変更自在にする入射光角度変更手段とを備えてなることを特徴とするカプラー。
- 上記入射光角度変更手段が、光の入射角を変更する可動性鏡体、波長分波光学素子の入射光に対する角度を変更する可動性ステージよりなる群から選ばれる少なくとも一種類の
入射光角度変更手段であることを特徴とする請求項7に記載のカプラー。 - 出力される反射光の波長が400〜1700nmの範囲内にあることを特徴とする請求項7に記載のカプラー。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106405731A (zh) * | 2016-12-12 | 2017-02-15 | 武汉邮电科学研究院 | 基于金属材料的微结构类阵列波导光栅及其实现方法 |
KR20170120612A (ko) * | 2015-01-26 | 2017-10-31 | 매직 립, 인코포레이티드 | 개선된 회절 그레이팅 구조들을 갖는 가상 및 증강 현실 시스템들 및 방법들 |
KR20190004330A (ko) * | 2016-05-06 | 2019-01-11 | 매직 립, 인코포레이티드 | 광을 재지향시키기 위한 비대칭 격자들을 가진 메타표면들 및 제조를 위한 방법들 |
CN109696717A (zh) * | 2019-03-07 | 2019-04-30 | 深圳珑璟光电技术有限公司 | 一种多矩形结构周期的衍射光栅及ar成像装置 |
US11231544B2 (en) | 2015-11-06 | 2022-01-25 | Magic Leap, Inc. | Metasurfaces for redirecting light and methods for fabricating |
US11243338B2 (en) | 2017-01-27 | 2022-02-08 | Magic Leap, Inc. | Diffraction gratings formed by metasurfaces having differently oriented nanobeams |
US11681153B2 (en) | 2017-01-27 | 2023-06-20 | Magic Leap, Inc. | Antireflection coatings for metasurfaces |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7262185B2 (ja) | 2018-07-03 | 2023-04-21 | 株式会社エンプラス | 電気部品用ソケット |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002022918A (ja) * | 2000-05-01 | 2002-01-23 | Nalux Co Ltd | 波長分離フィルタ及びその製造方法 |
JP2006091204A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Shimadzu Corp | 回折格子 |
WO2008123461A1 (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. | 波長分波光学素子 |
JP2009163114A (ja) * | 2008-01-09 | 2009-07-23 | Soken Chem & Eng Co Ltd | 波長分波光学素子 |
-
2008
- 2008-12-10 JP JP2008314278A patent/JP5145516B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002022918A (ja) * | 2000-05-01 | 2002-01-23 | Nalux Co Ltd | 波長分離フィルタ及びその製造方法 |
JP2006091204A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Shimadzu Corp | 回折格子 |
WO2008123461A1 (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. | 波長分波光学素子 |
JP2009163114A (ja) * | 2008-01-09 | 2009-07-23 | Soken Chem & Eng Co Ltd | 波長分波光学素子 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102282394B1 (ko) | 2015-01-26 | 2021-07-26 | 매직 립, 인코포레이티드 | 개선된 회절 그레이팅 구조들을 갖는 가상 및 증강 현실 시스템들 및 방법들 |
KR20170120612A (ko) * | 2015-01-26 | 2017-10-31 | 매직 립, 인코포레이티드 | 개선된 회절 그레이팅 구조들을 갖는 가상 및 증강 현실 시스템들 및 방법들 |
KR102399473B1 (ko) | 2015-01-26 | 2022-05-17 | 매직 립, 인코포레이티드 | 개선된 회절 그레이팅 구조들을 갖는 가상 및 증강 현실 시스템들 및 방법들 |
KR20210094159A (ko) * | 2015-01-26 | 2021-07-28 | 매직 립, 인코포레이티드 | 개선된 회절 그레이팅 구조들을 갖는 가상 및 증강 현실 시스템들 및 방법들 |
US11789198B2 (en) | 2015-11-06 | 2023-10-17 | Magic Leap, Inc. | Metasurfaces for redirecting light and methods for fabricating |
US11231544B2 (en) | 2015-11-06 | 2022-01-25 | Magic Leap, Inc. | Metasurfaces for redirecting light and methods for fabricating |
KR20230021190A (ko) * | 2016-05-06 | 2023-02-13 | 매직 립, 인코포레이티드 | 광을 재지향시키기 위한 비대칭 격자들을 가진 메타표면들 및 제조를 위한 방법들 |
KR102230642B1 (ko) * | 2016-05-06 | 2021-03-19 | 매직 립, 인코포레이티드 | 광을 재지향시키기 위한 비대칭 격자들을 가진 메타표면들 및 제조를 위한 방법들 |
US11360306B2 (en) | 2016-05-06 | 2022-06-14 | Magic Leap, Inc. | Metasurfaces with asymmetric gratings for redirecting light and methods for fabricating |
KR20190004330A (ko) * | 2016-05-06 | 2019-01-11 | 매직 립, 인코포레이티드 | 광을 재지향시키기 위한 비대칭 격자들을 가진 메타표면들 및 제조를 위한 방법들 |
US11796818B2 (en) | 2016-05-06 | 2023-10-24 | Magic Leap, Inc. | Metasurfaces with asymetric gratings for redirecting light and methods for fabricating |
KR102603675B1 (ko) * | 2016-05-06 | 2023-11-16 | 매직 립, 인코포레이티드 | 광을 재지향시키기 위한 비대칭 격자들을 가진 메타표면들 및 제조를 위한 방법들 |
CN106405731B (zh) * | 2016-12-12 | 2019-02-26 | 武汉邮电科学研究院 | 基于金属材料的微结构类阵列波导光栅及其实现方法 |
CN106405731A (zh) * | 2016-12-12 | 2017-02-15 | 武汉邮电科学研究院 | 基于金属材料的微结构类阵列波导光栅及其实现方法 |
US11243338B2 (en) | 2017-01-27 | 2022-02-08 | Magic Leap, Inc. | Diffraction gratings formed by metasurfaces having differently oriented nanobeams |
US11681153B2 (en) | 2017-01-27 | 2023-06-20 | Magic Leap, Inc. | Antireflection coatings for metasurfaces |
CN109696717A (zh) * | 2019-03-07 | 2019-04-30 | 深圳珑璟光电技术有限公司 | 一种多矩形结构周期的衍射光栅及ar成像装置 |
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JP5145516B2 (ja) | 2013-02-20 |
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