JP2010129323A - Esd保護デバイスの製造方法及びesd保護デバイス - Google Patents
Esd保護デバイスの製造方法及びesd保護デバイス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010129323A JP2010129323A JP2008301658A JP2008301658A JP2010129323A JP 2010129323 A JP2010129323 A JP 2010129323A JP 2008301658 A JP2008301658 A JP 2008301658A JP 2008301658 A JP2008301658 A JP 2008301658A JP 2010129323 A JP2010129323 A JP 2010129323A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating layer
- toner
- conductive material
- esd protection
- protection device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
Abstract
【解決手段】(1)感光体の表面を帯電し、(2)感光体の表面に、導電材料と樹脂材料からなる導電材料含有荷電粒子を現像し、(3)感光体の表面に現像された導電材料含有荷電粒子を、第一の絶縁層上に転写し、(4)第一の絶縁層上に少なくとも一対の放電電極16,18を、放電電極16,18間に導電材料含有荷電粒子が露出するように形成し、(5)放電電極16,18を被覆するように、第一の絶縁層上に第二の絶縁層を形成して積層体を得て、(6)積層体の表面に、放電電極16,18と接続された外部電極22,24を形成する。
【選択図】図1
Description
まず、基板本体12、放電電極16,18、補助電極粒30を形成するため材料を作製する。
基板本体12を形成するためのセラミックグリーンシートを作製する。セラミック材料には、Ba、Al、Siを中心とした組成からなる材料(BAS材)を用いる。各素材を所定の組成になるよう調合、混合し、800℃〜1000℃で仮焼して得られた仮焼粉末を、ジルコニアボールミルで12時間粉砕し、セラミック粉末を得る。このBAS材仮焼後セラミック粉末に、トルエン・エキネンなどの有機溶媒を加え混合する。さらにバインダー、可塑剤を加え混合し、スラリーを得る。このようにして得られたスラリーを、ドクターブレード法によりPETフィルム上へ成形し、厚さ50μmのセラミックグリーンシートを得る。
補助電極粒30を形成するための補助電極形成用荷電性粉末(すなわち、補助電極粒30を形成するための導電材料含有荷電粒子)を、次のように作製する。
1.表面酸化銅粉(平均粒径5.5μm)とアクリル樹脂を混合し、表面処理機で銅粉表面に樹脂を被覆する。
2.上記1.のサンプルについて、分級機を用いて微粉と粗粉をカットする。
3.上記2.の操作によって得られた、銅表面にアクリル樹脂が被覆された複合粉末を、分散剤を溶かした水溶液中に分散させ、沈降させた後、上澄みを除去し、真空乾燥オーブンで乾燥させる。
4.上記3.の操作によって得られた複合粉末と外添剤(シリカ粉末)を混合し、表面処理機を用いて複合粉末表面に外添剤を均一に付着させる。
5.上記4.の操作によって得られた複合粉末(導電材料含有荷電粒子)とキャリアを混合し、現像剤を得る。
放電電極16,18をスクリーン印刷により形成する際に用いる電極ペーストを、以下のように作製する。
1.平均粒径2μmのCu粉80wt%とエチルセルロース等からなるバインダー樹脂に溶剤を添加する。
2.上記1.で得られたサンプルを、ロールで攪拌、混合し、電極ペーストを得る。
空洞部13を形成するための樹脂ペーストを、次のように作製する。
1.平均粒径2μmの樹脂粉に溶剤を添加する。
2.上記1.で得られたサンプルをロールで攪拌、混合して、樹脂ペーストを得る。
次いで、電子写真法により、次のようにトナーをセラミックグリーンシートに転写して、補助電極が形成されたセラミックグリーンシートを作製する。
1.感光体を一様に帯電させる。
2.帯電した感光体に、LEDにて補助電極のパターン状に光を照射し潜像を形成する。作製例では、補助電極パターンは放電電極間のギャップと同サイズの30μmx100μmとした。
3.現像バイアスをかけ感光体上にトナーを現像する。
4.補助電極パターンが現像された感光体とセラミックグリーンシートを重ね、トナーをセラミックグリーンシートに転写する。回転する感光体とセラミックグリーンシートを重ねて転写する。そのため感光体上でトナー同士が重なっていた場合でも、回転する感光体とセラミックグリーンシートが接する際に、重なっているトナーは崩されて平面上に、面方向から見ると一列に並んでセラミックグリーンシートに転写される。すなわち、トナーは、絶縁層であるセラミックグリーンシート上に、厚み方向に1個だけを含む1層に配置される。もちろん、現像トナー量を増やすことで、厚み方向に重なるようにトナーを転写することも可能である。
5.補助電極パターンが転写されたセラミックグリーンシートをオーブンに入れ、トナーを定着させ、補助電極が形成されたセラミックグリーンシートを得る。
次いで、補助電極が形成されたセラミックグリーンシートについて、補助電極が形成されている面に、電極ペーストを用い、スクリーン印刷で放電電極パターンを形成する。作製例では、放電電極の太さを100μm、放電ギャップ幅(放電電極の対向する先端間の距離)を30μmとなるように形成した。
次いで、補助電極と放電電極が形成されたセラミックグリーンシートについて、補助電極と放電電極が形成されている面に、樹脂ペーストを用い、スクリーン印刷で空洞パターンを形成する。
次いで、セラミックグリーンシートの積層、焼成等を、次のように行う。
1.必要な層について電極パターン形成を行う。
2.すべての層を積層し、圧着する。
3.LCフィルタのようなチップタイプの部品と同様に金型を用いてカットして、各チップに分割する。作製例では、1.0mm×0.5mmになるようにカットした。
4.端面に電極ペーストを塗布して、外部電極を形成する。
5.N2雰囲気で焼成を行う。樹脂ペーストが焼成により消失して、チップに空洞部が形成される。補助電極中の樹脂も焼成により消失し、残った導電材料の補助電極粒によって、補助電極が形成される。
6.外部電極上にNi、Snメッキを施し、ESD保護デバイスが完成する。
図5(a)に示す基板Aを作製する。すなわち、プリプレグ12q上にCu箔を積層し、フォトリソグラフィ工法にてCu箔をパターニングして、放電電極16a,18aを形成する。
図5(b)に模式的に示す基板Bを作製する。すなわち、プリプレグ12s上に、実施例1と同様に電子写真法により、導電材料を含有するトナーである補助電極粒34を配置する。
矢印12xで示すように、基板A(完全硬化体)と基板B(半硬化体)を積み重ね、基板Bの完全硬化によって基板Aと接着する。基板AのCu箔の厚み分によって、放電電極16aの先端16tと放電電極18aの先端18tとの間に空洞部が形成される。導電材料33を含有し樹脂材料32で被覆された補助電極粒34は、空洞部内に配置される。
接着した基板の端面に焼き付け電極又は導電性樹脂電極を形成し、メッキ処理を施し外部電極とする。
基板本体12cを形成するためのセラミックグリーンシートと、放電電極16,18を形成するための電極ペーストと、補助電極粒31を形成するための補助電極形成用荷電性粉末(トナー)とは、実施例1と同様に作製する。
次いで、次のように、導電材料を含んだ導電材料含有トナー31tと樹脂ビーズトナー35とを混合した混合トナーを用いて補助電極パターンを形成する。
1.補助電極粒31となる導電材料を含有する導電材料含有トナー31tと、樹脂ビーズを含有する樹脂ビーズトナー35とを、例えば体積比が1:1になるように混合する。
2.上記1.で得られた混合トナーとキャリアを混合し補助電極及び空洞形成用現像剤を作製する。
3.感光体を一様に帯電させる。
4.帯電した感光体に、LEDにて補助電極のパターン状に光を照射し潜像を形成する。補助電極パターンは、例えば放電電極間のギャップと同サイズの30μmx100μmとする。
5.現像バイアスをかけ、感光体上にトナーを現像する。
6.パターンが現像された感光体と放電電極が形成されたセラミックグリーンシートとを重ね、トナーをセラミックグリーンシートに転写する。
7.補助電極のパターンが転写されたセラミックグリーンシートをオーブンに入れ、トナーを定着させ、内部に樹脂ビーズトナー35と導電材料(補助電極粒31)とを含んだ補助電極が形成されたセラミックグリーンシートを得る。
12,12a,12c,12d 基板本体(絶縁性基板)
13,13a,13c,13d 空洞部
16,18 放電電極
22,24 外部電極
30,31 補助電極粒(導電材料)
31t 導電材料含有トナー(導電材料含有荷電粒子)
32 樹脂材料
33 導電材料
34 補助電極粒(導電材料含有荷電粒子)
35 樹脂ビーズトナー(樹脂荷電粒子)
36 無機材料
37 導電材料
38 補助電極粒(導電材料含有荷電粒子)
41〜44 導電材料含有トナー(導電材料含有荷電粒子)
45 樹脂トナー(樹脂荷電粒子)
50,50a,50b 電子写真印刷装置
Claims (9)
- 第一の絶縁層の一方主面と第二の絶縁層の一方主面との少なくとも一方に、
感光体の表面を帯電し、前記感光体の表面に導電材料と樹脂材料からなる導電材料含有荷電粒子を現像し、前記感光体の表面に現像された前記導電材料含有荷電粒子を転写するとともに、
少なくとも一対の放電電極を形成する、第1の工程と、
前記第一の絶縁層の前記一方主面と前記第二の絶縁層の前記一方主面とを対向させて前記第一の絶縁層と前記第二の絶縁層とを積層し、前記一対の放電電極の間に前記補助電極の少なくとも一部が配置された積層体を形成する、第2の工程と、
前記積層体の表面に、前記放電電極と接続された外部電極を形成する第3の工程と、
を備えることを特徴とする、ESD保護デバイスの製造方法。 - 前記第一の絶縁層及び前記第二の絶縁層はセラミック材料を主成分として含み、
前記第2の工程の後かつ前記第3の工程の前、又は前記第3の工程の後に、前記積層体を焼成する工程をさらに備え、
前記積層体を焼成する工程において、前記導電材料含有荷電粒子のうち前記樹脂材料が消失することによって、前記導電材料間に空隙が形成されることを特徴とする、請求項1に記載のESD保護デバイスの製造方法。 - 前記第1の工程において、前記第一の絶縁層上に前記導電材料含有荷電粒子を、厚み方向に1個だけを含む1層に配置することを特徴とする、請求項1又は2に記載のESD保護デバイスの製造方法。
- 前記第1の工程において、前記感光体の表面に前記導電材料含有荷電粒子とともに、樹脂を主成分とする樹脂荷電粒子を現像することを特徴とする、請求項1乃至3のいずれか一つに記載のESD保護デバイスの製造方法。
- 前記導電材料含有荷電粒子は、絶縁材料により被覆された前記導電材料が、さらに前記樹脂材料により被覆されていることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれか一つに記載のESD保護デバイスの製造方法。
- 前記絶縁材料は、前記第一の絶縁層又は前記第二の絶縁層を構成する材料を含有することを特徴とする、請求項2乃至5のいずれか一つに記載のESD保護デバイスの製造方法。
- 前記第1の工程において、前記第2の工程よりも後に消失する材料を含む消失材料層を、前記第2の工程において少なくとも前記放電電極間に配置されるように、前記第一の絶縁層又は前記第二の絶縁層の少なくとも一方に形成することを特徴とする、請求項1乃至6のいずれか一つに記載のESD保護デバイスの製造方法。
- 前記第1の工程において、前記感光体の表面に、粒径の異なる複数種類の前記導電材料含有荷電粒子が混在している混合荷電粒子を、現像することを特徴とする、請求項1乃至7のいずれか一つに記載のESD保護デバイスの製造方法。
- 請求項1乃至請求項8のいずれか一つに記載の製造方法により作製されたことを特徴とする、ESD保護デバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008301658A JP5257679B2 (ja) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | Esd保護デバイスの製造方法及びesd保護デバイス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008301658A JP5257679B2 (ja) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | Esd保護デバイスの製造方法及びesd保護デバイス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010129323A true JP2010129323A (ja) | 2010-06-10 |
JP5257679B2 JP5257679B2 (ja) | 2013-08-07 |
Family
ID=42329577
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008301658A Active JP5257679B2 (ja) | 2008-11-26 | 2008-11-26 | Esd保護デバイスの製造方法及びesd保護デバイス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5257679B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013114788A (ja) * | 2011-11-25 | 2013-06-10 | Panasonic Corp | 静電気対策部品の製造方法および静電気対策部品 |
WO2014027553A1 (ja) * | 2012-08-13 | 2014-02-20 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
WO2014188802A1 (ja) * | 2013-05-23 | 2014-11-27 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
WO2015005100A1 (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-15 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
US9077174B2 (en) | 2010-09-29 | 2015-07-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | ESD protection device and manufacturing method therefor |
JP2016154136A (ja) * | 2015-01-22 | 2016-08-25 | リテルヒューズ・インク | 表面装着可能な電気的回路保護デバイス |
CN112770614A (zh) * | 2020-12-07 | 2021-05-07 | 深圳顺络电子股份有限公司 | 一种静电抑制器及其制作方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11354926A (ja) * | 1998-06-12 | 1999-12-24 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック電子部品の製造方法 |
JP2000277229A (ja) * | 1999-03-23 | 2000-10-06 | Tokin Corp | 表面実装型サージ吸収素子の製造方法 |
-
2008
- 2008-11-26 JP JP2008301658A patent/JP5257679B2/ja active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11354926A (ja) * | 1998-06-12 | 1999-12-24 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック電子部品の製造方法 |
JP2000277229A (ja) * | 1999-03-23 | 2000-10-06 | Tokin Corp | 表面実装型サージ吸収素子の製造方法 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9077174B2 (en) | 2010-09-29 | 2015-07-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | ESD protection device and manufacturing method therefor |
JP2013114788A (ja) * | 2011-11-25 | 2013-06-10 | Panasonic Corp | 静電気対策部品の製造方法および静電気対策部品 |
WO2014027553A1 (ja) * | 2012-08-13 | 2014-02-20 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
US9743502B2 (en) | 2012-08-13 | 2017-08-22 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | ESD protection device |
CN104541418A (zh) * | 2012-08-13 | 2015-04-22 | 株式会社村田制作所 | Esd保护装置 |
JP5725262B2 (ja) * | 2012-08-13 | 2015-05-27 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
JP5971413B2 (ja) * | 2013-05-23 | 2016-08-17 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
WO2014188802A1 (ja) * | 2013-05-23 | 2014-11-27 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
CN105340141A (zh) * | 2013-07-08 | 2016-02-17 | 株式会社村田制作所 | Esd保护装置 |
JP5884950B2 (ja) * | 2013-07-08 | 2016-03-15 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
WO2015005100A1 (ja) * | 2013-07-08 | 2015-01-15 | 株式会社村田製作所 | Esd保護装置 |
US9780533B2 (en) | 2013-07-08 | 2017-10-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | ESD protective device |
JP2016154136A (ja) * | 2015-01-22 | 2016-08-25 | リテルヒューズ・インク | 表面装着可能な電気的回路保護デバイス |
CN112770614A (zh) * | 2020-12-07 | 2021-05-07 | 深圳顺络电子股份有限公司 | 一种静电抑制器及其制作方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5257679B2 (ja) | 2013-08-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5257679B2 (ja) | Esd保護デバイスの製造方法及びesd保護デバイス | |
JP5003985B2 (ja) | Esd保護デバイス | |
US10193333B2 (en) | ESD protection device | |
US8455918B2 (en) | ESD protection device and method for manufacturing the same | |
JP4710974B2 (ja) | 回路パターンの形成方法 | |
JP4543490B2 (ja) | 回路パターン形成方法及びそれによって形成された配線基板 | |
JP4207241B2 (ja) | 回路形成用荷電性粉末及びそれを用いた多層配線基板 | |
JP4356181B2 (ja) | 回路形成用湿式現像剤およびこの現像剤を用いた回路形成方法 | |
JP2008242352A (ja) | 荷電性粉末、および多層セラミック電子部品の製造方法 | |
JP5056950B2 (ja) | 導体パターン形成用荷電性粉末およびそれを用いた積層セラミック電子部品 | |
JPH11177213A (ja) | 印刷配線基板の製造方法および装置 | |
JP4277482B2 (ja) | 電子写真法を用いた回路形成方法 | |
JPS59150493A (ja) | 配線基板の回路パタ−ン形成法 | |
JP2001284770A (ja) | 回路パターン形成方法及びそれによって形成された配線基板 | |
JPH11312859A (ja) | 回路パターン形成方法及びそれにより形成された多層配線基板 | |
JPH0653634A (ja) | 配線用基板の回路形成方法 | |
JP2001284771A (ja) | 回路パターン形成方法及びそれによって形成された配線基板 | |
JP2005302955A (ja) | 画像形成装置 | |
JP2001265111A (ja) | 電子写真装置 | |
JP2011165992A (ja) | セラミック多層基板の製造方法 | |
JPH0478191A (ja) | 配線基板の回路形成方法ならびに配線基板の回路形成方法用の荷電性粉末およびその製造方法 | |
JPH1172990A (ja) | イオン発生器および画像形成装置 | |
WO2010106969A1 (ja) | 導体パターン形成用荷電性粉末、その製造方法、およびそれを用いた積層セラミック電子部品の製造方法 | |
JP4457459B2 (ja) | 回路パターン形成方法及びそれによって形成された配線基板 | |
US6058282A (en) | Electrostatographic apparatus using alloyed zirconia ceramic providing image receiving surface |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111014 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130117 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130225 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130328 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130410 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160502 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5257679 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |