JP2010113065A - Method and device for correcting pattern - Google Patents

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JP2010113065A JP2008284214A JP2008284214A JP2010113065A JP 2010113065 A JP2010113065 A JP 2010113065A JP 2008284214 A JP2008284214 A JP 2008284214A JP 2008284214 A JP2008284214 A JP 2008284214A JP 2010113065 A JP2010113065 A JP 2010113065A
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for correcting a pattern, the method with which the overflow of a correction fluid to the circumference of a defective part can be suppressed and the thickness of the correction fluid applied to the defective part can be uniformized. <P>SOLUTION: In the method for correcting a pattern, correction ink 7 is applied to the white defect 6a of a pixel 6 in a liquid crystal color filter substrate 1, thereafter, a gas containing the vapor of a solvent 16 is sprayed on the correction ink 7 so that the thickness of the correction ink 7 may be uniformized, consequently to reduce the viscosity of the correction ink 7. Thus, the overflow of the correction ink 7 applied to the white defect 6a to the circumference can be suppressed. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

この発明は、パターン修正方法およびパターン修正装置に関し、特に、基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターン修正方法およびパターン修正装置に関する。   The present invention relates to a pattern correction method and a pattern correction apparatus, and more particularly to a pattern correction method and a pattern correction apparatus for correcting a defective portion of a pattern formed on a substrate.

フラットパネルディスプレイの代表例として、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイなどが知られている。これらのディスプレイでは、画面の大型化、高精細化が進められ、画素数が増大する傾向にある。このため、製造過程において画素に欠陥が発生する確率が高くなっており、歩留まりを高めるために画素に発生した欠陥を修正する技術が求められている。   As typical examples of flat panel displays, liquid crystal displays, plasma displays, EL displays and the like are known. These displays tend to have larger screens and higher definition, and the number of pixels tends to increase. For this reason, the probability of a defect occurring in the pixel during the manufacturing process is high, and a technique for correcting the defect generated in the pixel is required in order to increase the yield.

たとえば、液晶カラーフィルタの着色層（画素）の一部が色抜けした白欠陥を修正する方法として、塗布針の先端部に修正液（修正インク）を付着させた後、その塗布針の先端を白欠陥に接触させて修正液を塗布する方法がある（たとえば、特許文献１参照）。   For example, as a method of correcting a white defect in which a part of a colored layer (pixel) of a liquid crystal color filter is discolored, after applying correction liquid (correction ink) to the tip of the application needle, the tip of the application needle is There is a method of applying a correction liquid in contact with a white defect (see, for example, Patent Document 1).

また、着色層に発生した異物欠陥や白欠陥にレーザ光を照射して矩形の白欠陥を形成し、マイクロディスペンサを用いて矩形の白欠陥に修正液を流し込む方法がある（たとえば、特許文献２参照）。   Further, there is a method in which a foreign white defect or white defect generated in a colored layer is irradiated with laser light to form a rectangular white defect, and a correction liquid is poured into the rectangular white defect using a microdispenser (for example, Patent Document 2). reference).

また、矩形の白欠陥に修正液を塗布した場合、白欠陥の角部に修正液が充填されなかったり、修正液の中央部が膨らんで高くなったり、白欠陥の縁に修正液が引かれて修正液の中央部が窪むなどして、修正液の厚みが不均一になり易い。白欠陥に塗布された修正液の厚みを均一にする方法として、白欠陥に塗布した修正液に上方から気体を噴射する方法がある（たとえば、特許文献３参照）。
特開平９−２３６９３３号公報 特開２００６−１４５７８６号公報 特開２００８−３２８７号公報 In addition, when correction liquid is applied to a rectangular white defect, the correction liquid is not filled in the corners of the white defect, the central portion of the correction liquid swells and becomes higher, or the correction liquid is drawn to the edge of the white defect. As a result, the thickness of the correction liquid tends to be non-uniform because the center of the correction liquid is depressed. As a method of making the thickness of the correction liquid applied to the white defect uniform, there is a method of injecting gas from above into the correction liquid applied to the white defect (for example, see Patent Document 3).
JP 9-236933 A JP 2006-145786 A JP 2008-3287 A

上記特許文献３の方法では、高粘度の修正液を使用した場合や、低粘度であっても、乾燥が速くて粘度が高くなる傾向のある修正液を使用した場合は、修正液の厚みを均一にするためには、修正液に噴射する気体の圧力を高くする必要がある。しかし、噴射する気体の圧力が高過ぎると、修正液が白欠陥の周囲にはみ出す場合がある。   In the method of Patent Document 3 described above, the thickness of the correction fluid is reduced when a correction fluid having a high viscosity is used, or when a correction fluid that has a low drying viscosity and tends to increase in viscosity is used. In order to make it uniform, it is necessary to increase the pressure of the gas injected into the correction fluid. However, if the pressure of the gas to be injected is too high, the correction liquid may protrude around the white defect.

また、最近では、液晶テレビの大画面化に伴ってカラーフィルタの画素サイズが大型化しており、欠陥サイズも大きくなっている。修正液の塗布面積が大きくなると、修正液の厚みの不均一さがより大きくなる場合があり、修正液の盛り上がり方によっては、上方から気体を噴射すると修正液が欠陥画素の周りに押し出される場合がある。   In recent years, the pixel size of the color filter has increased with the enlargement of the screen of the liquid crystal television, and the defect size has also increased. When the application area of the correction fluid increases, the thickness of the correction fluid may become more uneven, and depending on how the correction fluid swells, when the gas is injected from above, the correction fluid is pushed out around the defective pixel. There is.

それゆえに、この発明の主たる目的は、欠陥部に塗布された修正液の周囲へのはみ出しを抑え、修正液の厚みを均一にすることが可能なパターン修正方法およびパターン修正装置を提供することである。   SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, a main object of the present invention is to provide a pattern correction method and a pattern correction device capable of suppressing the protrusion of the correction liquid applied to the defect portion to the periphery and making the thickness of the correction liquid uniform. is there.

この発明に係るパターン修正方法は、基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターン修正方法であって、欠陥部に修正液を塗布する第１のステップと、欠陥部に塗布された修正液の厚みが均一になるように、修正液に溶媒の蒸気を吸収させて修正液の粘度を低下させる第２のステップとを含む。   The pattern correction method according to the present invention is a pattern correction method for correcting a defective portion of a pattern formed on a substrate, and includes a first step of applying a correction liquid to the defective portion, and a correction applied to the defective portion. A second step of reducing the viscosity of the correction liquid by causing the correction liquid to absorb the vapor of the solvent so that the thickness of the liquid becomes uniform.

好ましくは、溶媒は、修正液に含有された溶媒と同じものである。
また好ましくは、修正液に溶媒の蒸気を吸収させて修正液の厚みを均一にするために必要な時間を予め求めておき、第２のステップでは、予め求めた時間だけ修正液の溶媒を修正液に吸収させる。 Preferably, the solvent is the same as the solvent contained in the correction fluid.
Preferably, the time necessary for making the correction liquid absorb the vapor of the solvent to make the thickness of the correction liquid uniform is obtained in advance, and in the second step, the solvent of the correction liquid is corrected for the predetermined time. Absorb in liquid.

また好ましくは、第２のステップでは、欠陥部に塗布された修正液を観察しながら修正液に溶媒を吸収させ、修正液の表面が平坦化したことに応じて第２のステップを終了する。   Also preferably, in the second step, the solvent is absorbed by the correction liquid while observing the correction liquid applied to the defective portion, and the second step is terminated in response to the surface of the correction liquid being flattened.

また好ましくは、第２のステップでは、欠陥部に塗布された修正液にノズルの先端を対峙させ、ノズルから溶媒の蒸気を含む気体を修正液に噴霧して、修正液に溶媒の蒸気を吸収させる。   Preferably, in the second step, the correction liquid applied to the defective portion is opposed to the tip of the nozzle, and a gas containing solvent vapor is sprayed from the nozzle onto the correction liquid to absorb the solvent vapor in the correction liquid. Let

また好ましくは、ノズルは、基板に対して略垂直または斜めに配置される。
また好ましくは、ノズルは白欠陥の周囲に複数配置される。 Preferably, the nozzle is arranged substantially perpendicularly or obliquely with respect to the substrate.
Preferably, a plurality of nozzles are arranged around the white defect.

また好ましくは、第２のステップでは、溶媒が注入された容器内に気体を供給して、溶媒の蒸気を含む気体を生成する。   Preferably, in the second step, gas is supplied into the container into which the solvent has been injected to generate gas containing solvent vapor.

また好ましくは、容器内の溶媒中に気体を供給して泡を発生させ、溶媒の蒸気の発生量を増やす。   Preferably, a gas is supplied into the solvent in the container to generate bubbles to increase the amount of solvent vapor generated.

また好ましくは、容器内をヒータで加熱して溶媒の蒸気の発生量を増やす。
また好ましくは、第２のステップでは、欠陥部に塗布された修正液に対して、溶媒を吸収させたシートを近接させ、シートから溶媒の蒸気を修正液に供給する。 Preferably, the amount of solvent vapor generated is increased by heating the inside of the container with a heater.
Preferably, in the second step, the sheet having absorbed the solvent is brought close to the correction liquid applied to the defective portion, and the vapor of the solvent is supplied from the sheet to the correction liquid.

また好ましくは、基板は透明基板であり、パターンは複数の着色層を含むカラーフィルタであり、欠陥部は着色層の白欠陥である。   Preferably, the substrate is a transparent substrate, the pattern is a color filter including a plurality of colored layers, and the defective portion is a white defect of the colored layer.

また、この発明に係るパターン修正装置は、基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、欠陥部に修正液を塗布する塗布手段と、欠陥部に塗布された修正液の厚みが均一になるように、修正液に溶媒の蒸気を吸収させて修正液の粘度を低下させる均一化手段とを備えたものである。   The pattern correction device according to the present invention is a pattern correction device for correcting a defective portion of a pattern formed on a substrate, and an application means for applying a correction liquid to the defective portion, and a correction applied to the defective portion. Uniform means for absorbing the vapor of the solvent in the correction liquid and reducing the viscosity of the correction liquid so that the thickness of the liquid is uniform is provided.

好ましくは、均一化手段は、溶媒が注入された容器と、容器内に気体を供給して溶媒の蒸気を含む気体を生成する気体供給手段と、容器に接続され、溶媒の蒸気を含む気体を欠陥部に塗布された修正液に噴霧するノズルとを含む。   Preferably, the homogenizing means includes a container filled with a solvent, a gas supply means for supplying a gas into the container to generate a gas containing the solvent vapor, and a gas connected to the container and containing the solvent vapor. And a nozzle for spraying the correction liquid applied to the defective part.

また好ましくは、均一化手段は、溶媒を吸収したシートと、欠陥部に塗布された修正液にシートを対峙させる保持部材とを含む。   Preferably, the homogenizing means includes a sheet that has absorbed the solvent, and a holding member that causes the correction liquid applied to the defect portion to face the sheet.

この発明に係るパターン修正方法およびパターン修正装置では、欠陥部に塗布された修正液の厚みが均一になるように、修正液に溶媒の蒸気を吸収させて修正液の粘度を低下させる。したがって、欠陥部の周囲への修正液のはみ出しを抑え、欠陥部に塗布された修正液の厚みを均一にすることができる。   In the pattern correction method and the pattern correction apparatus according to the present invention, the correction liquid absorbs the vapor of the solvent to reduce the viscosity of the correction liquid so that the thickness of the correction liquid applied to the defective portion becomes uniform. Therefore, it is possible to suppress the correction liquid from protruding around the defective portion and to make the thickness of the correction liquid applied to the defective portion uniform.

図１は、この発明の一実施の形態によるパターン修正方法の修正対象である液晶カラーフィルタ基板１の要部を示す図であり、図２は、その一部の断面図である。図１および図２において、液晶カラーフィルタ基板１は、ガラス基板２を含む。ガラス基板２の表面には、格子状のブラックマトリックス３が形成され、ブラックマトリックス３で囲まれた複数の領域にＲ画素４、Ｇ画素５、およびＢ画素６が一定の周期で形成されている。Ｒ画素４、Ｇ画素５、およびＢ画素６は、それぞれ赤色、緑色、および青色の着色層で構成されている。図１および図２では、Ｂ画素６の一部に矩形の白欠陥６ａが存在する状態が示されている。この矩形の白欠陥６ａは、そのＢ画素６に発生した任意形状の白欠陥あるいは異物欠陥を含む矩形の領域にレーザ光を照射して形成したものである。   FIG. 1 is a diagram showing a main part of a liquid crystal color filter substrate 1 to be corrected by a pattern correcting method according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a partial sectional view thereof. 1 and 2, the liquid crystal color filter substrate 1 includes a glass substrate 2. A grid-like black matrix 3 is formed on the surface of the glass substrate 2, and R pixels 4, G pixels 5, and B pixels 6 are formed in a plurality of regions surrounded by the black matrix 3 at a constant cycle. . The R pixel 4, the G pixel 5, and the B pixel 6 are respectively composed of red, green, and blue colored layers. FIGS. 1 and 2 show a state in which a rectangular white defect 6 a exists in a part of the B pixel 6. The rectangular white defect 6a is formed by irradiating a rectangular region including a white defect or a foreign substance defect having an arbitrary shape generated in the B pixel 6 with a laser beam.

図３（ａ）は、白欠陥６ａに修正インク７を塗布する工程を示す図である。図３（ａ）において、塗布針８の先端部に修正インク７を付着させ、塗布針８の先端を白欠陥６ａに接触させて白欠陥６ａに修正インク７を塗布する。修正インク７は、白欠陥が存在する部分（ここでは、Ｂ画素６）の色の顔料と樹脂と分散剤を溶媒に添加したものである。溶媒としては、高沸点系の溶媒、たとえばＰＧＭＥＡ（プロピレン・グリコール・モノメチル・エーテル・アセテート）が使用される。ＰＧＭＥＡの沸点は１４６℃である。   FIG. 3A is a diagram illustrating a process of applying the correction ink 7 to the white defect 6a. In FIG. 3A, the correction ink 7 is attached to the tip of the application needle 8, and the correction ink 7 is applied to the white defect 6a by bringing the tip of the application needle 8 into contact with the white defect 6a. The correction ink 7 is obtained by adding a color pigment, a resin, and a dispersant in a portion where a white defect exists (here, the B pixel 6) to a solvent. As the solvent, a high boiling point solvent such as PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) is used. The boiling point of PGMEA is 146 ° C.

なお、塗布針８の先端部には、先端に向かって断面積が徐々に小さくなるテーパ部が形成され、塗布針８の先端には、円形の平坦面が形成されている。また、図３（ｂ）に示すように、マイクロディスペンサ９を用いて白欠陥６ａに修正インク７を塗布してもよい。また、白欠陥６ａに対して塗布形状が小さい場合には、塗布位置を変えて複数回塗布が行なわれる。   In addition, a taper portion whose cross-sectional area gradually decreases toward the tip end is formed at the tip end portion of the application needle 8, and a circular flat surface is formed at the tip end of the application needle 8. Further, as shown in FIG. 3B, the correction ink 7 may be applied to the white defect 6 a using a micro dispenser 9. When the coating shape is small with respect to the white defect 6a, the coating is performed a plurality of times by changing the coating position.

図４は、白欠陥６ａに修正インク７が塗布された状態を示す図である。図４では、白欠陥６ａに塗布された修正インク７は、白欠陥６ａの全域に充填されず、白欠陥６ａの角部には修正インク７の未充填部が残っている。   FIG. 4 is a diagram showing a state in which the correction ink 7 is applied to the white defect 6a. In FIG. 4, the correction ink 7 applied to the white defect 6a is not filled in the entire area of the white defect 6a, and the unfilled portion of the correction ink 7 remains at the corner of the white defect 6a.

図５は、白欠陥６ａに塗布された修正インク７の厚みを均一にする工程を示す図である。図５において、白欠陥６ａに塗布された修正インク７は、たとえば中央が膨らみ、塗布厚みが不均一な状態にある。このパターン修正方法では、気体供給源（Ｇ）１０と、溶媒蒸気発生装置１１と、ノズル２０とが使用される。気体供給源１０は、所定の圧力の気体を供給する。気体としては、たとえば窒素ガスが用いられるが、使用する修正インク７の劣化がなければ圧縮空気でもよい。   FIG. 5 is a diagram illustrating a process of making the thickness of the correction ink 7 applied to the white defect 6a uniform. In FIG. 5, the correction ink 7 applied to the white defect 6a is in a state where, for example, the center swells and the application thickness is not uniform. In this pattern correction method, a gas supply source (G) 10, a solvent vapor generator 11, and a nozzle 20 are used. The gas supply source 10 supplies a gas having a predetermined pressure. For example, nitrogen gas is used as the gas, but compressed air may be used as long as the correction ink 7 to be used does not deteriorate.

溶媒蒸気発生装置１１は、気体供給源１０から供給される気体の圧力を調整するレギュレータ（Ｒ）１２と、レギュレータ１２と容器１５の入口との間に接続された電磁バルブ（Ｖ）１３と、電磁バルブ１３の開閉を制御するタイマ（Ｔ）１４と、修正インク７の溶媒と同じ溶媒１６（たとえば、ＰＧＭＥＡ）が注入された容器１５とを含む。   The solvent vapor generator 11 includes a regulator (R) 12 that adjusts the pressure of the gas supplied from the gas supply source 10, an electromagnetic valve (V) 13 connected between the regulator 12 and the inlet of the container 15, A timer (T) 14 that controls opening and closing of the electromagnetic valve 13 and a container 15 into which the same solvent 16 (for example, PGMEA) as the solvent of the correction ink 7 is injected are included.

なお、溶媒１６が注入された容器１５が欠陥修正に伴って移動する場合、溶媒１６の液面が揺れてノズル２０側に溶媒１６が流れる場合が想定される。溶媒１６がノズル２０側に流れるのを防止するため、容器１５の気体出口部にフィルタ１７を設けてもよいし、溶媒１６をゲル状にしてよいし、溶媒１６を吸収させたシート１８を容器１５内に入れてもよい。   In addition, when the container 15 into which the solvent 16 is injected moves along with the defect correction, it is assumed that the solvent 16 shakes and the solvent 16 flows to the nozzle 20 side. In order to prevent the solvent 16 from flowing toward the nozzle 20, a filter 17 may be provided at the gas outlet of the container 15, the solvent 16 may be gelled, or the sheet 18 that has absorbed the solvent 16 is disposed in the container. 15 may be included.

容器１５の出口とノズル２０の基端とは、配管１９によって接続される。ノズル２０は、修正対象の液晶カラーフィルタ基板１に対して略垂直に設けられ、その先端の開口部は白欠陥６ａに対して所定の隙間を開けて対峙される。ノズル２０の先端と液晶カラーフィルタ基板１との隙間は１ｍｍ〜１０ｍｍ程度とされる。また、ノズル２０から噴霧される領域は、白欠陥６ａを含む範囲であればよく、ノズル２０の内径は、たとえば、０．１ｍｍから５ｍｍ程度とされる。   The outlet of the container 15 and the base end of the nozzle 20 are connected by a pipe 19. The nozzle 20 is provided substantially perpendicular to the liquid crystal color filter substrate 1 to be corrected, and the opening at the tip thereof is opposed to the white defect 6a with a predetermined gap. The gap between the tip of the nozzle 20 and the liquid crystal color filter substrate 1 is about 1 mm to 10 mm. Moreover, the area | region sprayed from the nozzle 20 should just be the range containing the white defect 6a, and the internal diameter of the nozzle 20 shall be about 0.1 mm to 5 mm, for example.

レギュレータ１２によって気体の圧力を最適値に調整した後、電磁バルブ１３をタイマ１４で設定した時間だけ開放して、気体を容器１５内に流入させる。これにより、気体と溶媒１６の蒸気が混合される。溶媒１６の蒸気を含む気体は、ノズル２０を介して、白欠陥６ａの上方から白欠陥６ａを含む範囲に噴霧される。   After the gas pressure is adjusted to the optimum value by the regulator 12, the electromagnetic valve 13 is opened for the time set by the timer 14, and the gas flows into the container 15. As a result, the gas and the vapor of the solvent 16 are mixed. The gas containing the vapor of the solvent 16 is sprayed from above the white defect 6a to the range including the white defect 6a through the nozzle 20.

図６は、白欠陥６ａに塗布された修正インク７に溶媒１６の蒸気を含む気体を噴霧した後の状態を示す図である。修正インク７が気体中に含まれる溶媒１６の蒸気を吸収すると、修正インク７の粘度が低下して流動性が高まり、修正インク７の表面が平坦化される。また、修正インク７の流動性が高まると、白欠陥６ａに塗布された修正インク７に塗りむら、たとえば、修正インク７が塗布されない領域があっても、白欠陥６ａの全域に修正インク７が流れて塗りむらが修復され、修正インク７の厚みが均一になる。なお、修正インク７の厚みを均一化するために必要な噴霧時間は予め予備実験などで求められ、求められた噴霧時間はタイマ１４に設定される。   FIG. 6 is a diagram illustrating a state after the gas containing the vapor of the solvent 16 is sprayed on the correction ink 7 applied to the white defect 6a. When the correction ink 7 absorbs the vapor of the solvent 16 contained in the gas, the viscosity of the correction ink 7 decreases and the fluidity increases, and the surface of the correction ink 7 is flattened. Further, when the fluidity of the correction ink 7 is increased, the correction ink 7 applied to the white defect 6a is smeared. For example, even if there is a region where the correction ink 7 is not applied, the correction ink 7 is applied to the entire area of the white defect 6a. The uneven flow is repaired and the thickness of the correction ink 7 becomes uniform. The spraying time required to make the thickness of the correction ink 7 uniform is obtained in advance by a preliminary experiment or the like, and the obtained spraying time is set in the timer 14.

この実施の形態では、白欠陥６ａに塗布された修正インク７に溶媒１６の蒸気を含む気体を噴霧して修正インク７の粘度を低下させ、修正インク７の流動性を高めて修正インク７の厚みを均一にする。したがって、修正インク７の粘度が高い場合でも、気体の圧力を高める必要はないので、修正インク７が白欠陥６ａの周囲にはみ出すのを抑えることができる。   In this embodiment, the correction ink 7 applied to the white defect 6 a is sprayed with a gas containing the vapor of the solvent 16 to reduce the viscosity of the correction ink 7, and the fluidity of the correction ink 7 is increased to improve the fluidity of the correction ink 7. Make the thickness uniform. Therefore, even when the viscosity of the correction ink 7 is high, it is not necessary to increase the gas pressure, so that the correction ink 7 can be prevented from protruding around the white defect 6a.

以下、この実施の形態の種々の変更例について説明する。図７の変更例では、観察光学系（図示せず）の対物レンズ２１が白欠陥６ａの真上に配置され、ノズル２０は白欠陥６ａに向けて斜めに配置される。この変更例では、白欠陥６ａに塗布された修正インク７の状態を観察しながら、ノズル２０から溶媒１６の蒸気を含む気体を噴霧することができる。したがって、修正インク７の表面の平坦化が完了したのを確認した後に電磁バルブ１３を閉じることにより、修正インク７の表面の平坦化を確実に行なうことが可能となる。   Hereinafter, various modified examples of this embodiment will be described. In the modified example of FIG. 7, the objective lens 21 of the observation optical system (not shown) is disposed immediately above the white defect 6a, and the nozzle 20 is disposed obliquely toward the white defect 6a. In this modification, a gas containing the vapor of the solvent 16 can be sprayed from the nozzle 20 while observing the state of the correction ink 7 applied to the white defect 6a. Therefore, it is possible to reliably flatten the surface of the correction ink 7 by closing the electromagnetic valve 13 after confirming that the surface of the correction ink 7 has been flattened.

図８の変更例では、観察光学系（図示せず）の対物レンズ２１が白欠陥６ａの真上に配置され、複数（図では２個）のノズル２０が等角度間隔で白欠陥６ａの周りに配置され、各ノズル２０は白欠陥６ａに向けて斜めに配置される。図７の変更例では、白欠陥６ａの一方側から溶媒１６の蒸気を含む気体が噴霧されるので、溶媒１６の蒸気の密度が白欠陥６ａ内で不均一になり、修正インク７の流動性が不均一になって平坦化の妨げになる場合が想定される。これに対して図８のの変更例では、溶媒１６の蒸気を含む気体が白欠陥６ａに塗布された修正インク７に均一に噴霧されるので、修正インク７の厚みをより均一にすることができる。   In the modified example of FIG. 8, the objective lens 21 of the observation optical system (not shown) is disposed immediately above the white defect 6a, and a plurality of (two in the figure) nozzles 20 are arranged around the white defect 6a at equal angular intervals. The nozzles 20 are arranged obliquely toward the white defect 6a. In the modified example of FIG. 7, since the gas containing the vapor of the solvent 16 is sprayed from one side of the white defect 6a, the density of the vapor of the solvent 16 becomes nonuniform in the white defect 6a, and the fluidity of the correction ink 7 Is assumed to be non-uniform and hinder flattening. On the other hand, in the modified example of FIG. 8, since the gas containing the vapor of the solvent 16 is sprayed uniformly on the correction ink 7 applied to the white defect 6a, the thickness of the correction ink 7 can be made more uniform. it can.

また、液晶カラーフィルタ基板１の白欠陥６ａの修正においては、白欠陥６ａの周囲の正常な部分との色相を合わせたり、また、修正インク７の厚みを厚くするために、製造用のインクよりも高粘度の修正インク７を用いる場合が多い。また、白欠陥６ａに塗布される修正インク７の液量は微少であり、微量の修正インク１７は多量の修正インク１７よりも乾燥し易い。修正インク７の流動性を早く回復するためには、溶媒１６の蒸気量を増やす（濃度を高める）ことが効果的である。   Further, in the correction of the white defect 6a of the liquid crystal color filter substrate 1, in order to match the hue with the normal part around the white defect 6a or to increase the thickness of the correction ink 7, the manufacturing ink is used. In many cases, high-viscosity correction ink 7 is used. Further, the amount of the correction ink 7 applied to the white defect 6 a is very small, and a small amount of the correction ink 17 is easier to dry than a large amount of the correction ink 17. In order to recover the fluidity of the correction ink 7 quickly, it is effective to increase the vapor amount (increase the concentration) of the solvent 16.

そこで、図９の変更例では、容器１５に流入する気体を一旦、溶媒１６の液中に入れて泡を発生させ、溶媒１６の蒸発を促進する。また、図１０の変更例では、容器１５にヒータ２２を配置し、溶媒１６を温めて溶媒１６の蒸発を促進する。これにより、溶媒１６の蒸気濃度を高めることができ、単位時間当たりに修正インク７に吸収される溶媒量を増やすことが可能となる。また、溶媒１６の蒸気を含む気体の噴霧時間の短縮化が可能となる。   Therefore, in the modified example of FIG. 9, the gas flowing into the container 15 is once put in the liquid of the solvent 16 to generate bubbles, and the evaporation of the solvent 16 is promoted. In the modified example of FIG. 10, the heater 22 is disposed in the container 15 to warm the solvent 16 and promote the evaporation of the solvent 16. As a result, the vapor concentration of the solvent 16 can be increased, and the amount of solvent absorbed by the correction ink 7 per unit time can be increased. In addition, the spraying time of the gas containing the vapor of the solvent 16 can be shortened.

また、溶媒１６の蒸気量と噴霧時間は相対関係にあり、白欠陥６ａに塗布された修正インク７の液量と、溶媒１６の蒸気量が分かれば、平坦化に必要な各種条件はある程度予測ができる。また、予め実験により最適な修正条件を把握し、欠陥に応じて条件を変えるようにしてもよい。なお、欠陥修正を行なう部屋の環境、たとえば室温や湿度によっても塗布された修正インク７の乾燥性や流動性は異なるため、その環境に応じて、溶媒１６の蒸気量や噴霧時間を設定することが望ましい。   Further, the vapor amount of the solvent 16 and the spraying time are in a relative relationship. If the liquid amount of the correction ink 7 applied to the white defect 6a and the vapor amount of the solvent 16 are known, various conditions necessary for planarization are predicted to some extent. Can do. Further, an optimum correction condition may be grasped in advance by experiment, and the condition may be changed according to the defect. In addition, since the drying property and fluidity of the applied correction ink 7 are different depending on the environment of the room in which the defect is corrected, for example, room temperature and humidity, the vapor amount and spraying time of the solvent 16 are set according to the environment. Is desirable.

また、図１１の変更例では、１つのＢ画素６全体が白欠陥６ａになっている。インクジェット方式で製造された液晶カラーフィルタ基板１では、混色が数画素にまたがる場合がある。このような場合、ブラックマトリックス３を残して画素全体にレーザ光を照射して画素全体を白欠陥６ａに変換してから修正インク７を塗布する。   Further, in the modified example of FIG. 11, the entire B pixel 6 is a white defect 6a. In the liquid crystal color filter substrate 1 manufactured by the inkjet method, the color mixture may extend over several pixels. In such a case, the correction ink 7 is applied after the entire pixel is irradiated with laser light while leaving the black matrix 3 to convert the entire pixel into a white defect 6a.

また、最近のカラーフィルタ基板１では、画面サイズの大型化に伴って１画素のサイズが大きくなっている。大きな画素６の一部のみに白欠陥６ａがある場合、その白欠陥６ａに修正インク７を塗布すると、画素６内に色むらが発生する場合がある。そこで、画素６内の色むらを防止するため、画素６全体にレーザ光を照射して画素６全体を白欠陥６ａに変換してから修正インク７を塗布する。このように大きな白欠陥６ａに修正インク７を塗布する場合、白欠陥６ａ内で塗布位置を変えながら複数回に分けて修正インク７を塗布する。   Further, in the recent color filter substrate 1, the size of one pixel is increased as the screen size is increased. When the white defect 6 a is present only in a part of the large pixel 6, when the correction ink 7 is applied to the white defect 6 a, color unevenness may occur in the pixel 6. Therefore, in order to prevent color unevenness in the pixel 6, the correction ink 7 is applied after the entire pixel 6 is irradiated with laser light to convert the entire pixel 6 into white defects 6a. When the correction ink 7 is applied to the large white defect 6a as described above, the correction ink 7 is applied in multiple steps while changing the application position in the white defect 6a.

図１２では、塗布針８の先端に修正インク７を付着させ、塗布針８の位置をずらしながら複数回に渡って白欠陥６ａに修正インク７を塗布する状態が示されている。この場合、塗布形状が重なるように複数回塗布するので、修正インク７の厚みは、欠陥サイズが小さな場合に比べて不均一になり、色むらを生じ易くなる。   FIG. 12 shows a state in which the correction ink 7 is attached to the tip of the application needle 8 and the correction ink 7 is applied to the white defect 6a a plurality of times while shifting the position of the application needle 8. In this case, since the coating is applied a plurality of times so that the application shapes overlap, the thickness of the correction ink 7 becomes non-uniform compared to the case where the defect size is small, and uneven color tends to occur.

図１３は、図１２で示した方法で修正インク７が塗布された白欠陥６ａを示す断面図である。図１３において、白欠陥６ａに塗布された修正インク７は、均一な厚みとならず、その表面は凹凸状となる。特に、塗布回数が多くなった場合には修正インク７の厚みが不均一になる傾向が強い。   FIG. 13 is a cross-sectional view showing the white defect 6a to which the correction ink 7 is applied by the method shown in FIG. In FIG. 13, the correction ink 7 applied to the white defect 6a does not have a uniform thickness, and the surface thereof is uneven. In particular, when the number of times of application increases, the thickness of the correction ink 7 tends to be non-uniform.

図１４では、図１３で示した白欠陥６ａを含む領域に図５で示した方法で溶媒１６の蒸気を含む気体を噴射して、修正インク７の厚みを均一化した状態が示されている。白欠陥６ａの面積が大きくても、白欠陥６ａ内に塗布された修正インク７の溶媒１６を吸収させることにより、修正インク７の粘度を低下させ、その流動性を高め、修正インク７の表面を平坦化することができる。修正インク７が紫外線硬化タイプであれば、その後紫外線を照射して修正インク７を硬化させる。また、必要があればその後焼成まで行なう。最近では、修正時間短縮のため、焼成工程を省略できるものがあり、紫外線硬化のみで十分な密着性が確保される。この変更例でも、実施の形態と同じ効果が得られる。   FIG. 14 shows a state where the thickness of the correction ink 7 is made uniform by injecting a gas containing the vapor of the solvent 16 to the region including the white defect 6a shown in FIG. 13 by the method shown in FIG. . Even if the area of the white defect 6a is large, by absorbing the solvent 16 of the correction ink 7 applied in the white defect 6a, the viscosity of the correction ink 7 is lowered and its fluidity is increased, and the surface of the correction ink 7 is increased. Can be flattened. If the correction ink 7 is an ultraviolet curable type, then the correction ink 7 is cured by irradiating with ultraviolet rays. Further, if necessary, the baking is performed thereafter. Recently, in order to shorten the correction time, there are some that can omit the firing step, and sufficient adhesion is ensured only by ultraviolet curing. Even in this modified example, the same effect as the embodiment can be obtained.

なお、溶媒１６の蒸気を含む気体の噴霧は、白欠陥６ａに塗布された修正インク７が平坦化するまで行なわれる。噴霧時間は、溶媒１６の蒸気の濃度、白欠陥６ａの形状、塗布された修正インク７の液量、修正インク７の粘度によってことなる。噴霧時間は、たとえば数秒に設定される。また、溶媒１６の蒸気を含む気体は、連続して噴霧してもよいし、噴霧と停止を繰り返し、間欠的に噴霧してもよい。   The spraying of the gas containing the vapor of the solvent 16 is performed until the correction ink 7 applied to the white defect 6a is flattened. The spraying time depends on the concentration of the vapor of the solvent 16, the shape of the white defect 6a, the amount of the correction ink 7 applied, and the viscosity of the correction ink 7. The spraying time is set to several seconds, for example. Further, the gas containing the vapor of the solvent 16 may be sprayed continuously, or spraying and stopping may be repeated and sprayed intermittently.

図１５の変更例では、白欠陥６ａに塗布された修正インク７に溶媒１６の蒸気を噴霧する代わりに、溶媒１６を吸収させたシートを修正インク７に近接させて、修正インク７の平坦化を行なう。すなわち、溶媒蒸気発生装置２５は、支持棒２６と、その先端に固着されたシート２７とを含む。シート２７には、溶媒１６を吸収させておく。白欠陥６ａに修正インク７を塗布した後に、シート２７を白欠陥６ａに近接して対峙させる。シート２７から溶媒１６が蒸発し、その蒸気が白欠陥６ａに塗布された修正インク７に吸収され、修正インク７が平坦化される。シート２７は、たとえば円筒状のスポンジ、不織布、または多孔質材料である。溶媒１６の蒸発濃度は、カラーフィルタ基板１に対向するシート２７の面積や体積、溶媒１６の吸収量、対峙させる隙間によって異なる。   In the modification of FIG. 15, instead of spraying the vapor of the solvent 16 on the correction ink 7 applied to the white defect 6 a, the sheet that has absorbed the solvent 16 is brought close to the correction ink 7 to flatten the correction ink 7. To do. That is, the solvent vapor generation device 25 includes a support rod 26 and a sheet 27 fixed to the tip thereof. The solvent 27 is absorbed in the sheet 27. After the correction ink 7 is applied to the white defect 6a, the sheet 27 is opposed to the white defect 6a. The solvent 16 evaporates from the sheet 27, the vapor is absorbed by the correction ink 7 applied to the white defect 6a, and the correction ink 7 is flattened. The sheet 27 is, for example, a cylindrical sponge, a nonwoven fabric, or a porous material. The evaporation concentration of the solvent 16 varies depending on the area and volume of the sheet 27 facing the color filter substrate 1, the absorption amount of the solvent 16, and the gap to be opposed.

また、図１６は、図１〜図１４で示したパターン修正方法を実行するためのパターン修正装置３０の全体構成を示す斜視図である。図１６において、このパターン修正装置３０では、定盤３１の中央部にチャック３２が設けられている。チャック３２には、修正対象の液晶カラーフィルタ基板１が固定される。   FIG. 16 is a perspective view showing the overall configuration of the pattern correction apparatus 30 for executing the pattern correction method shown in FIGS. In FIG. 16, in the pattern correction device 30, a chuck 32 is provided at the center of the surface plate 31. The liquid crystal color filter substrate 1 to be corrected is fixed to the chuck 32.

また、定盤３１には、ガントリ型のＸＹステージ３３が搭載されている。ＸＹステージ３３は、Ｘ軸ステージ３３ａと門型のＹ軸ステージ３３ｂとを含む。Ｙ軸ステージ３３ｂは、チャック３２を跨ぐように設けられ、図中のＹ軸方向に移動する。Ｘ軸ステージ３３ａは、Ｙ軸ステージ３３ｂに搭載され、図中のＸ方向に移動する。   A gantry-type XY stage 33 is mounted on the surface plate 31. The XY stage 33 includes an X-axis stage 33a and a gate-shaped Y-axis stage 33b. The Y-axis stage 33b is provided so as to straddle the chuck 32, and moves in the Y-axis direction in the drawing. The X-axis stage 33a is mounted on the Y-axis stage 33b and moves in the X direction in the figure.

Ｘ軸ステージ３３ａには、上下方向に移動可能なＺ軸ステージ３４が搭載される。Ｚ軸ステージ３４には、観察光学系３５、レーザ３６、塗布ユニット３７、および溶媒蒸気発生装置１１が固定される。Ｘ軸ステージ３３ａ、Ｙ軸ステージ３３ｂ、およびＺ軸ステージ３４を制御することにより、観察光学系３５、レーザ３６、塗布ユニット３７、および溶媒蒸気発生装置１１の各々を基板１表面の所望の位置の上方に移動させることが可能となっている。   A Z-axis stage 34 that can move in the vertical direction is mounted on the X-axis stage 33a. An observation optical system 35, a laser 36, a coating unit 37, and the solvent vapor generator 11 are fixed to the Z-axis stage 34. By controlling the X-axis stage 33a, the Y-axis stage 33b, and the Z-axis stage 34, each of the observation optical system 35, the laser 36, the coating unit 37, and the solvent vapor generator 11 is moved to a desired position on the surface of the substrate 1. It can be moved upward.

観察光学系３５は、対物レンズ２１を含み、修正前後の白欠陥６ａなどの観察に用いられる。レーザ３６は、観察光学系３５を介して基板１上の欠陥にレーザ光を照射し、レーザアブレーションによってその欠陥を矩形の白欠陥６ａに変換する。塗布ユニット３７は、ＸＹＺステージ、インクタンク、塗布針８などを含み、塗布針８の先端部に修正インク７を付着させ、塗布針８の先端を白欠陥６ａに接触させて白欠陥６ａに修正インク７を塗布する。溶媒蒸気発生装置１１は、溶媒１６の蒸気を含む気体をノズル２０を介して、白欠陥６ａに塗布された修正インク７に噴射し、修正インク７の粘度を低下させて修正インク７の厚みを均一化させる。   The observation optical system 35 includes the objective lens 21 and is used for observation of the white defect 6a before and after correction. The laser 36 irradiates a defect on the substrate 1 with a laser beam via the observation optical system 35, and converts the defect into a rectangular white defect 6a by laser ablation. The coating unit 37 includes an XYZ stage, an ink tank, a coating needle 8, and the like. The correction ink 7 is attached to the tip of the coating needle 8, and the tip of the coating needle 8 is brought into contact with the white defect 6a to correct the white defect 6a. Ink 7 is applied. The solvent vapor generation device 11 injects a gas containing the vapor of the solvent 16 onto the correction ink 7 applied to the white defect 6a through the nozzle 20 to reduce the viscosity of the correction ink 7 to reduce the thickness of the correction ink 7. Make uniform.

このパターン修正装置３０によれば、液晶カラーフィルタ基板１の画素６に発生した白欠陥６ａにレーザ光を照射して矩形に整形し、その白欠陥６ａに修正インク７を塗布し、その修正インク７に溶媒１６の蒸気を含む気体を噴射してその厚みを均一にすることができる。したがって、塗りむらや色むらを生じることなく、白欠陥６ａを修正することができ、修正部の品位の向上を図ることができる。   According to this pattern correction device 30, the white defect 6a generated in the pixel 6 of the liquid crystal color filter substrate 1 is irradiated with laser light to be shaped into a rectangle, and the correction ink 7 is applied to the white defect 6a. 7 can be sprayed with a gas containing the vapor of the solvent 16 to make the thickness uniform. Therefore, the white defect 6a can be corrected without causing uneven coating or uneven color, and the quality of the corrected portion can be improved.

なお、ノズル２０と溶媒蒸気発生装置１１の代わりに、図１５で示した溶媒蒸気発生装置２５を搭載してもよい。   Instead of the nozzle 20 and the solvent vapor generator 11, the solvent vapor generator 25 shown in FIG. 15 may be mounted.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

この発明の一実施の形態によるパターン修正方法の修正対象である液晶カラーフィルタ基板の要部を示す図である。It is a figure which shows the principal part of the liquid crystal color filter board | substrate which is the correction object of the pattern correction method by one Embodiment of this invention. 図１に示した白欠陥を含む画素の断面図である。It is sectional drawing of the pixel containing the white defect shown in FIG. 図２に示した白欠陥に修正インクを塗布する工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of apply | coating correction ink to the white defect shown in FIG. 図１に示した白欠陥に修正インクを塗布した状態を示す図である。It is a figure which shows the state which apply | coated correction ink to the white defect shown in FIG. 白欠陥に塗布された修正インクの厚みを均一化させる工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of equalizing the thickness of the correction ink apply | coated to the white defect. 図５で示した工程によって厚みが均一化された修正インクを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the correction ink by which the thickness was equalized by the process shown in FIG. 実施の形態の変更例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of a change of embodiment. 実施の形態の他の変更例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of a change of embodiment. 実施の形態のさらに他の変更例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of a change of embodiment. 実施の形態のさらに他の変更例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of a change of embodiment. 実施の形態のさらに他の変更例の修正対象である液晶カラーフィルタ基板の要部を示す図である。It is a figure which shows the principal part of the liquid crystal color filter board | substrate which is the correction object of the further another modification of embodiment. 図１１で示した白欠陥に修正インクを塗布する方法を示す図である。It is a figure which shows the method of apply | coating correction ink to the white defect shown in FIG. 図１２で示した方法で塗布した修正インクを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the correction ink apply | coated with the method shown in FIG. 厚みが均一化された修正インクを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the correction ink by which thickness was equalized. 実施の形態のさらに他の変更例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of a change of embodiment. 図１〜図１４で示したパターン修正方法を行なうためのパターン修正装置の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the pattern correction apparatus for performing the pattern correction method shown in FIGS.

符号の説明Explanation of symbols

１ 液晶カラーフィルタ基板、２ ガラス基板、３ ブラックマトリックス、４ Ｒ画素、５ Ｇ画素、６ Ｂ画素、６ａ 白欠陥、７ 修正インク、８ 塗布針、９ マイクロディスペンサ、１０ 気体供給源、１１，２５ 溶媒蒸気発生装置、１２ レギュレータ、１３ 電磁バルブ、１４ タイマ、１５ 容器、１６ 溶媒、１７ フィルタ、１８，２７ シート、１９ 配管、２０ ノズル、２１ 対物レンズ、２２ ヒータ、２６ 支持棒、３０ パターン修正装置、３１ 定盤、３２ チャック、３３ ＸＹステージ、３３ａ Ｘ軸ステージ、３３ｂ Ｙ軸ステージ、３４ Ｚ軸ステージ、３５ 観察光学系、３６ レーザ、３７ 塗布ユニット。   1 liquid crystal color filter substrate, 2 glass substrate, 3 black matrix, 4 R pixel, 5 G pixel, 6 B pixel, 6a white defect, 7 correction ink, 8 application needle, 9 microdispenser, 10 gas supply source, 11, 25 Solvent vapor generator, 12 regulator, 13 electromagnetic valve, 14 timer, 15 container, 16 solvent, 17 filter, 18, 27 sheet, 19 piping, 20 nozzle, 21 objective lens, 22 heater, 26 support rod, 30 pattern correction device 31 Plate, 32 Chuck, 33 XY stage, 33a X axis stage, 33b Y axis stage, 34 Z axis stage, 35 observation optical system, 36 laser, 37 coating unit.

Claims (15)

基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターン修正方法であって、
前記欠陥部に修正液を塗布する第１のステップと、
前記欠陥部に塗布された前記修正液の厚みが均一になるように、前記修正液に溶媒の蒸気を吸収させて前記修正液の粘度を低下させる第２のステップとを含む、パターン修正方法。 A pattern correction method for correcting a defective portion of a pattern formed on a substrate,
A first step of applying a correction liquid to the defective portion;
And a second step of reducing the viscosity of the correction liquid by causing the correction liquid to absorb the vapor of the solvent so that the thickness of the correction liquid applied to the defect portion becomes uniform. 前記溶媒は、前記修正液に含有された溶媒と同じものである、請求項１に記載のパターン修正方法。   The pattern correction method according to claim 1, wherein the solvent is the same as the solvent contained in the correction liquid. 前記修正液に前記溶媒の蒸気を吸収させて前記修正液の厚みを均一にするために必要な時間を予め求めておき、
前記第２のステップでは、予め求めた時間だけ前記修正液の溶媒を前記修正液に吸収させる、請求項１または請求項２に記載のパターン修正方法。 The time required for making the correction liquid absorb the vapor of the solvent to make the thickness of the correction liquid uniform is obtained in advance,
The pattern correction method according to claim 1, wherein, in the second step, the correction liquid is allowed to absorb the solvent of the correction liquid for a predetermined time. 前記第２のステップでは、前記欠陥部に塗布された前記修正液を観察しながら前記修正液に前記溶媒を吸収させ、前記修正液の表面が平坦化したことに応じて前記第２のステップを終了する、請求項１または請求項２に記載のパターン修正方法。   In the second step, the correction liquid is absorbed by the correction liquid while observing the correction liquid applied to the defective portion, and the second step is performed according to the surface of the correction liquid being flattened. The pattern correction method according to claim 1, wherein the pattern correction method is terminated. 前記第２のステップでは、前記欠陥部に塗布された前記修正液にノズルの先端を対峙させ、前記ノズルから前記溶媒の蒸気を含む気体を前記修正液に噴霧して、前記修正液に前記溶媒の蒸気を吸収させる、請求項１から請求項４までのいずれかに記載のパターン修正方法。   In the second step, a tip of a nozzle is opposed to the correction liquid applied to the defective portion, a gas containing the solvent vapor is sprayed from the nozzle onto the correction liquid, and the correction liquid is sprayed with the solvent. The pattern correction method according to claim 1, wherein the vapor is absorbed. 前記ノズルは、前記基板に対して略垂直または斜めに配置される、請求項５に記載のパターン修正方法。   The pattern correction method according to claim 5, wherein the nozzle is disposed substantially perpendicularly or obliquely with respect to the substrate. 前記ノズルは前記白欠陥の周囲に複数配置される、請求項５または請求項６に記載のパターン修正方法。   The pattern correction method according to claim 5, wherein a plurality of the nozzles are arranged around the white defect. 前記第２のステップでは、前記溶媒が注入された容器内に気体を供給して、前記溶媒の蒸気を含む前記気体を生成する、請求項５から請求項７までのいずれかに記載のパターン修正方法。   The pattern correction according to claim 5, wherein, in the second step, a gas is supplied into a container into which the solvent is injected to generate the gas containing the vapor of the solvent. Method. 前記容器内の前記溶媒中に気体を供給して泡を発生させ、前記溶媒の蒸気の発生量を増やす、請求項８に記載のパターン修正方法。   The pattern correction method according to claim 8, wherein a gas is supplied into the solvent in the container to generate bubbles to increase a generation amount of the solvent vapor. 前記容器内をヒータで加熱して前記溶媒の蒸気の発生量を増やす、請求項８または請求項９に記載のパターン修正方法。   The pattern correction method according to claim 8, wherein the inside of the container is heated by a heater to increase the generation amount of the vapor of the solvent. 前記第２のステップでは、前記欠陥部に塗布された前記修正液に対して、前記溶媒を吸収させたシートを近接させ、前記シートから前記溶媒の蒸気を前記修正液に供給する、請求項１から請求項４までのいずれかに記載のパターン修正方法。   2. In the second step, a sheet that has absorbed the solvent is brought close to the correction liquid applied to the defective portion, and vapor of the solvent is supplied from the sheet to the correction liquid. The pattern correction method according to claim 1. 前記基板は透明基板であり、
前記パターンは複数の着色層を含むカラーフィルタであり、
前記欠陥部は前記着色層の白欠陥である、請求項１から請求項１１までのいずれかに記載のパターン修正方法。 The substrate is a transparent substrate;
The pattern is a color filter including a plurality of colored layers,
The pattern correction method according to claim 1, wherein the defect portion is a white defect of the colored layer. 基板上に形成されたパターンの欠陥部を修正するパターン修正装置であって、
前記欠陥部に修正液を塗布する塗布手段と、
前記欠陥部に塗布された前記修正液の厚みが均一になるように、前記修正液に溶媒の蒸気を吸収させて前記修正液の粘度を低下させる均一化手段とを備える、パターン修正装置。 A pattern correction apparatus for correcting a defective portion of a pattern formed on a substrate,
Application means for applying a correction liquid to the defective portion;
A pattern correction apparatus, comprising: a uniformizing unit configured to cause the correction liquid to absorb a vapor of a solvent to reduce the viscosity of the correction liquid so that the thickness of the correction liquid applied to the defect portion is uniform. 前記均一化手段は、
前記溶媒が注入された容器と、
前記容器内に気体を供給して前記溶媒の蒸気を含む前記気体を生成する気体供給手段と、
前記容器に接続され、前記溶媒の蒸気を含む前記気体を前記欠陥部に塗布された前記修正液に噴霧するノズルとを含む、請求項１３に記載のパターン修正装置。 The uniformizing means includes
A container filled with the solvent;
A gas supply means for supplying a gas into the container to generate the gas containing the solvent vapor;
The pattern correction apparatus according to claim 13, further comprising a nozzle connected to the container and spraying the gas containing the solvent vapor onto the correction liquid applied to the defect portion. 前記均一化手段は、
前記溶媒を吸収したシートと、
前記欠陥部に塗布された前記修正液に前記シートを対峙させる保持部材とを含む、請求項１３に記載のパターン修正装置。 The uniformizing means includes
A sheet that has absorbed the solvent;
The pattern correction apparatus according to claim 13, further comprising: a holding member that causes the correction liquid applied to the defect portion to face the sheet.
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