JP2010101985A - ポジ型感光性組成物、この組成物から得られる硬化膜、及びこの硬化膜を有する表示素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ケイ素数3以上の直鎖のシロキサン構造とラジカル重合性官能基とを有するラジカル重合性モノマー(a−1)と、フェノール性水酸基を有するビニルケトンであるラジカル重合性モノマー(a−2)とを含むモノマーのラジカル重合体(A)と、1,2−キノンジアジド化合物(B)とを含有し、アルカリ可溶性重合体(C)を含有していてもよい感光性組成物を構成し、この感光性組成物から硬化膜を形成し、この硬化膜を表示素子中の膜に用いる。
【選択図】なし
Description
むモノマーのラジカル重合体である、感光性組成物。
R3及びR4は、それぞれ独立して、水素;任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意のメチレンが酸素又は炭素数3〜18のシクロアルキレンで置き換えられてもよい炭素数1〜30のアルキル;フッ素、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数1〜20のアルコキシ基で置き換えられていてもよい炭素数6〜40のアリール;又は、前記アリールと、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく任意のメチレンが酸素又は前記シクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数7〜40のアリールアルキル;又は、下記式(3)で表される基;を表し、
R5は、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、任意のメチレンが酸素で置き換えられていてもよい、炭素数1〜20の、直鎖状若しくは分岐状のアルキル;任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい、炭素数6〜20のアリール;又は、アリール中の任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい、炭素数7〜20のアリールアルキルを表し、
A1はラジカル重合性官能基を表し、
nは1〜1,000の整数を表す。
ただし、nが1である場合、R3及びR4はそれぞれ下記式(3)の基を表す。
基、又は炭素数1〜20のアルコキシ基で置き換えられていてもよい炭素数6〜40のアリール;又は、前記アリールと、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく任意のメチレンが酸素又は前記シクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数7〜40のアリールアルキル;を表し、
R8は、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、任意のメチレンが酸素で置き換えられていてもよい、炭素数1〜20の、直鎖状若しくは分岐状のアルキル;任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい、炭素数6〜20のアリール;又は、アリール中の任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい、炭素数7〜20のアリールアルキルを表し、
mは1〜500の整数を表す。
化膜。
本発明の感光性組成物は、シロキサン構造を含む重合体(A)と、1,2−キノンジアジド化合物(B)とを含有する。前記シロキサン構造を含む重合体(A)は一種でも二種以上でもよく、また前記1,2−キノンジアジド化合物(B)も一種でも二種以上でもよい。前記感光性組成物は、シロキサン構造を含む重合体(A)と1,2−キノンジアジド化合物(B)とを混合して得られる。
前記シロキサン構造を含む重合体(A)は、ケイ素数3以上の直鎖のシロキサン構造とラジカル重合性官能基とを有する下記式(1)で表されるシロキサン化合物(以下、「ラジカル重合性モノマー(a−1)」とも言う)と、フェノール性水酸基を有するビニルケトンである下記式(2)で表されるラジカル重合体モノマー(以下、「ラジカル重合性モノマー(a−2)」とも言う)とを含むモノマーのラジカル重合体である。
前記ラジカル重合性モノマー(a−1)は、ケイ素数3以上の直鎖のシロキサン構造とラジカル重合性官能基とを有する化合物であり、下記式(1)で表される。下記式(1)中、R3及びR4は下記式(3)で表される基を含み得る。
0の、直鎖状若しくは分岐状のアルキル;任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい、炭素数6〜20のアリール;又は、アリール中の任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい、炭素数7〜20のアリールアルキルを表す。R5及びR8は、ラジカル重合モノマー(a−1)を合成により入手する際の容易さの観点から、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、任意のメチレンが酸素で置き換えられていてもよい、炭素数1〜20の、直鎖状若しくは分岐状のアルキルであることが好ましく、炭素数1〜20の直鎖状のアルキルであることがより好ましい。
前記ラジカル重合性モノマー(a−2)はフェノール性水酸基を有するビニルケトンであり、下記式(2)で表される。
前記シロキサン構造を含む重合体(A)は、前記ラジカル重合性モノマー(a−1)及び(a−2)以外の他のラジカル重合性モノマー(以下「ラジカル重合性モノマー(a−3)」とも言う)をさらに含むモノマーのラジカル重合体であることが、シロキサン構造を含む重合体(A)が有する特性を向上させ、又は増やす観点から好ましい。ラジカル重合性モノマー(a−3)は一種でも二種以上でもよい。前記シロキサン構造を含む重合体(A)を構成する全モノマーにおけるラジカル重合性モノマー(a−3)の含有量は、シロキサン構造を含む重合体(A)が有する特性の向上や、シロキサン構造を含む重合体(A)へのさらなる特性の付与の観点から、50.0〜99.9重量%であることが好ましく、70.0〜99.5重量%であることがより好ましく、80.0〜99.0重量%であることがさらに好ましい。
ル酸誘導体及びフェノール性水酸基を有するスチレン誘導体からなる群から選ばれる一以上であることが好ましい。
えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、アセトン、2−ブタノン、酢酸エチル、酢酸プロピル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジオキサン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸、及び水が挙げられる。
前記1,2−キノンジアジド化合物(B)には、例えばレジスト分野において感光剤として使用される化合物を用いることができる。前記1,2−キノンジアジド化合物(B)としては、例えば、フェノール化合物と1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸又は1,2−ベンゾキノンジアジド−5−スルホン酸とのエステル、フェノール化合物と1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸又は1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸とのエステル、フェノール化合物の水酸基をアミノ基に置き換えた化合物と1,2−ベンゾキノンジアジド−4−スルホン酸又は1,2−ベンゾキノンジアジド−5−スルホン酸とのスルホンアミド、フェノール化合物の水酸基をアミノ基に置き換えた化合物と1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸又は1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸とのスルホンアミドが挙げられる。
’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)メタン、ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタン、トリ(p−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,1−トリ(p−ヒドロキシフェニル)エタン、ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)プロパン、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン、4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール、ビス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン、3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1’−スピロビインデン−5,6,7,5’,6’,7’−ヘキサノール、及び2,2,4−トリメチル−7,2’,4’−トリヒドロキシフラバンが挙げられる。
前記感光性組成物は、前述したシロキサン構造を含む重合体(A)及び1,2−キノンジアジド化合物(B)以外の他の成分を、本発明の効果が十分に得られる範囲でさらに含有することができる。このような他の成分としては、例えば、アルカリ可溶性重合体(C)、溶剤、添加物、及び多価カルボン酸が挙げられる。
前記感光性組成物は、アルカリ可溶性重合体(C)をさらに含有することが、感光性組成物のアルカリ可溶性をさらに高めてパターン状透明膜を容易に得る観点、及び、耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、及び高耐熱性等の、得られる硬化膜の特定を高める観点から好ましい。アルカリ可能性重合体(C)は一種でも二種以上でもよい。またアルカリ可溶性重合体(C)における「アルカリ可溶性」とは、アルカリ可溶性重合体(C)の溶液のスピンコート及び120℃30分間の加熱で形成される厚さ0.01〜100μmの膜を、例えば25℃程度の2.38重量%のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で5分間浸した後に純水ですすいだときに、前記膜が残こらないことを言う。
a−1)以外のラジカル重合性モノマーとをモノマーに含むラジカル重合体を用いることができる。アルカリ可溶性重合体(C)では、前記フェノール性水酸基を有するラジカル重合性モノマーとして、前記ラジカル重合性モノマー(a−2)を用いることができる。アルカリ可溶性重合体(C)のモノマーは、(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸、ヒドロキシスチレン、及び4−ヒドロキシフェニルビニルケトンからなる群から選ばれる一種以上を含むことが、前記感光性組成物のアルカリ可溶性を向上させる観点から好ましい。
前記感光性組成物は、溶剤をさらに含有することが好ましい。前記溶剤は、前記感光性組成物に配合される前記シロキサン構造を含む重合体(A)、1,2−キノンジアジド化合物(B)、及びアルカリ可溶性重合体(C)を溶解する溶剤が好ましい。また、前記溶剤は、沸点が100℃〜300℃である溶剤が好ましい。前記溶剤は、一種でも二種以上でもよい。
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、γ−ブチロラクトン、及びN,N−ジメチルアセトアミドが挙げられる。
前記感光性組成物は、添加剤をさらに含有することが、解像度、塗布均一性、現像性、及び接着性等の前記感光性組成物及び形成される硬化膜の特性をさらに向上させる観点から好ましい。前記添加剤には、フォトレジストの分野において、感光性組成物や硬化膜の特性の向上に利用される各種添加剤を用いることができる。前記添加剤は一種でも二種以上でもよい。このような添加剤としては、例えば、アクリル系、スチレン系、ポリエチレンイミン系又はウレタン系の高分子分散剤、アニオン系、カチオン系、ノニオン系又はフッ素系の界面活性剤、シリコン樹脂系塗布性向上剤、シランカップリング剤等の密着性向上剤、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤、ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤、エポキシ化合物、メラミン化合物又はビスアジド化合物等の熱架橋剤、及び、有機カルボン酸等のアルカリ溶解性促進剤が挙げられる。
P EF−802(以上いずれも商品名、三菱マテリアル株式会社製)、メガファックF−171、メガファックF−177、メガファックF−475、メガファックR−08、メガファックR−30(以上いずれも商品名、大日本インキ化学工業株式会社製)、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、フルオルアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルスルホン酸塩、ジグリセリンテトラキス(フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル)、フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、フルオロアルキルアミノスルホン酸塩、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンラウレート、ポリオキシエチレンオレレート、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ソルビタンラウレート、ソルビタンパルミテート、ソルビタンステアレート、ソルビタンオレエート、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンオレエート、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、アルキルベンゼンスルホン酸塩、及びアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩が挙げられる。前記添加剤は、これらから選ばれる一種以上であることが好ましい。
前記感光性組成物は、多価カルボン酸をさらに含有することが、エポキシを有する感光性組成物から形成される前記硬化膜の耐熱性及び耐薬品性を高める観点、及び保存時における前記1,2−キノンジアジド化合物(B)の分解による感光性組成物の着色を防止する観点から好ましい。前記多価カルボン酸は、加熱により、エポキシを有する感光性組成物中のエポキシと反応する。前記多価カルボン酸は一種でも二種以上でもよい。前記多価カルボン酸としては、例えば、無水トリメリット酸、無水フタル酸、及び4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物が挙げられる。前記多価カルボン酸の中でも無水トリメリット酸が好ましい。
前記感光性組成物におけるシロキサン構造を含む重合体(A)の含有量は、硬化膜における撥液性を発現する観点から、20〜80重量%であることが好ましく、30〜70重量%であることがより好ましく、40〜60重量%であることがさらに好ましい。
前記感光性組成物は、−30℃〜25℃で遮光して保存することが、感光性組成物を安定して保存する観点から好ましく、保存温度が−20℃〜10℃であることが、析出物の発生を防止する観点からより好ましい。
本発明の硬化膜は、前述した本発明の感光性組成物の膜を焼成して得られる。前記感光性組成物は、透明の硬化膜を形成するのに適しており、パターニングの際の解像度が比較的高いことから10μm以下の小さな穴の開いた絶縁膜を形成するのに適している。ここで、絶縁膜とは、例えば、層状に配置される配線間を絶縁するために設ける膜(層間絶縁膜)等をいう。
円形であることが好ましい。さらに、該絶縁膜上に透明電極を形成し、エッチングによりパターニングを行った後、配向処理を行う膜を形成させてもよい。該絶縁膜は、耐スパッタ性が高いため、透明電極を形成しても絶縁膜にしわが発生せず、高い透明性を保つことができる。
本発明の表示素子は、前述した本発明の硬化膜を有する。前記表示素子における前記硬化膜の用途としては、例えば透明膜、絶縁膜、及び、パターンの周囲への液の付着を防止するためのバルク膜が挙げられる。
攪拌器付き4つ口フラスコに、重合溶媒としてジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ラジカル重合性モノマー(a−1)として、下記式(1−1)で表されるモノメタクリル末端−ジメチルシロキサン(チッソ(株)製FM0711、数平均分子量:1,
000)、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ラジカル重合性モノマー(
a−2)として4−ヒドロキシフェニルビニルケトン、並びにグリシジルメタクリレート、重合開始剤として、2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチルを下記重量で仕込み、90℃の重合温度で2時間加熱して重合を行った。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 67.5g
モノメタクリル末端−ジメチルシロキサン 1.688g
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 15.188g
4−ヒドロキシフェニルビニルケトン 3.375g
グリシジルメタクリレート 13.5g
2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル 5.063g
合成例1と同様にして下記の成分を下記の重量で仕込み、重合を行った。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 27.0g
メタクリロイロキシプロピル−トリス−トリメチルシロキシシラン(下記式(1−2))
4.05g
3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(下記式(4)) 2.7g
4−ヒドロキシフェニルビニルケトン 1.35g
グリシジルメタクリレート 5.4g
2,2’−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル 2.025g
合成例1と同様にして下記の成分を下記の重量で仕込み、重合を行った。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 27.0g
メタクリロイロキシプロピル−トリス−トリメチルシロキシシラン 4.05g
N−シクロヘキシルマレイミド 1.35g
4−ヒドロキシフェニルビニルケトン 2.7g
グリシジルメタクリレート 5.4g
2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル) 0.054g
重合温度を110℃にして重合したこと以外は、合成例1と同様にして下記の成分を下記の重量で仕込み、重合を行った。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 54.0g
N−シクロヘキシルマレイミド 9.45g
ジシクロペンタニルメタクリレート 10.8g
メタクリル酸 6.75g
2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート) 4.05g
重合温度を110℃にして重合したこと以外は、合成例1と同様にして下記の成分を下記の重量で仕込み、重合を行った。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 54.0g
N−シクロヘキシルマレイミド 9.72g
ジシクロペンタニルメタクリレート 9.72g
メタクリル酸 7.56g
2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート) 4.05g
重合温度を80℃にして重合したこと以外は、合成例1と同様にして下記の成分を下記の重量で仕込み、重合を行った。
3−メトキシプロピオン酸メチル 20.0g
メタクリル酸 2.0g
グリシジルメタクリレート 4.0g
3−エチル−3−(メタ)アクリロキシメチルオキセタン 2.0g
N−シクロヘキシルマレイミド 2.0g
2,2’−アゾビス(2、4−ジメチルバレロニトリル) 0.5g
比較合成例1と同様にして、下記の成分を下記の重量で仕込み、重合を行った。
3−メトキシプロピオン酸メチル 20.0g
メタクリル酸 1.5g
グリシジルメタクリレート 5.0g
ジシクロペンタニルメタクリレート 2.5g
N−シクロヘキシルマレイミド 1.0g
2,2’−アゾビス(2、4−ジメチルバレロニトリル) 0.5g
プリングし、GPC分析(ポリエチレンオキシド標準)により重量平均分子量を測定した。その結果、比較用重合体(D2)の重量平均分子量は7,900であった。
[ポジ型感光性組成物の製造]
合成例1で得られた共重合体(A1)、1,2−キノンジアジド化合物である4,4’―[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノールと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロライドとの縮合物(平均エステル化率58%、以下「PAD」という)、添加剤としてシリコン系界面活性剤であるビックケミー・ジャパン(株)社製BYK344(商品名:ビッ
クケミー・ジャパン株式会社、以下「BYK344」と略す)、溶剤としてジエチレングリコールメチルエチルエーテルを下記の重量で混合溶解し、ポジ型感光性組成物を得た。
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル 0.953g
シロキサン構造を含む重合体(A1)の33.3重量%溶液 3.0g
PAD 0.15g
BYK344 0.009g
パターン膜の形成方法
ガラス基板上に実施例1で合成されたポジ型感光性組成物を600rpmで10秒間スピンコートし、100℃のホットプレートで2分間乾燥した。この基板を空気中、ホールパターン形成用のフォトマスクを介して株式会社トプコン製のプロキシミティー露光機TME−150PRCを使用し、波長カットフィルターを通して350nm以下の光をカットしてg,h,i線を取り出し、露光ギャップ100μmで露光した。露光量は150mJ/cm2とした。露光量はウシオ電機株式会社製の積算光量計UIT−102及び受光器UVD−365PDで測定して150mJ/cm2とした。露光後のガラス基板を、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で60秒間ディップ現像し、露光部の樹脂組成物を除去した。現像後の基板を純水で60秒間洗ってから100℃のホットプレートで2分間乾燥した。この基板を前記露光機にて、フォトマスクを介さずに300mJ/cm2で全面露光した後、オーブン中230℃で30分間ポストベイクし、膜厚3μmのパターン状透明膜を形成した。膜厚派KLA−Tencor Japan株式会社製の触針式膜厚計αステップ200を使用し、3箇所測定し、その平均値を膜厚とした。
現像の前後で膜厚を測定し、次式から計算した。
(現像後の膜厚/現像前膜厚)×100(%)
上記1)で得られたポストベイク後のパターン状透明膜の基板を光学顕微鏡で400倍にて観察し、ホールパターンの底にガラスが露出しているマスクサイズを確認した。ホールパターンができていない場合は不良(NG)とした。
上記1)で得られたパターン状透明膜の基板を碁盤目剥離試験(クロスカット試験)により評価した。評価は1mm角の碁盤目100個中におけるテープ剥離後の残存碁盤目数で表した。
焼成後の膜上における純水の接触角を、協和界面化学社製のDropMaster500にて25℃環境下で測定した。純水着滴1秒後の値を接触角値とした。
実施例1において用いられたシロキサン構造を含む重合体(A1)の代わりに、合成例1で得られたシロキサン構造を含む重合体(A1)と、合成例4で得られたアルカリ可溶性重合体(C1)の1:1混合物(重量比)を用いた以外は、実施例1と同様にポジ型感光性組成物を調製し、パターン状透明膜を形成し、評価した。結果を表1に示す。
実施例1において用いられたシロキサン構造を含む重合体(A1)の代わりに、合成例2で得られたシロキサン構造を含む重合体(A2)を用いた以外は、実施例1と同様にポジ型感光性組成物を調製し、パターン状透明膜を形成し、評価した。結果を表1に示す。
実施例3において用いられたシロキサン構造を含む重合体(A2)の代わりに、合成例2で得られたシロキサン構造を含む重合体(A2)と、合成例5で得られたアルカリ可溶性重合体(C2)の1:1混合物(重量比)を用いた以外は、実施例1と同様にポジ型感光性組成物を調製し、パターン状透明膜を形成し、評価した。結果を表1に示す。
実施例4において用いられたシロキサン構造を含む重合体(A2)の代わりに、合成例3で得られたシロキサン構造を含む重合体(A3)を用いた以外は、実施例1と同様にポジ型感光性組成物を調製し、パターン状透明膜を形成し、評価した。結果を表1に示す。
実施例1において用いられたシロキサン構造を含む重合体(A1)の代わりに、比較合成例1で得られた比較用重合体(D1)と合成例4で得られたアルカリ可溶性重合体(C1)の1:1混合物(重量比)を用いた以外は、実施例1と同様にポジ型感光性組成物を調製し、パターン状透明膜を形成し、評価した。結果を表1に示す。
実施例1において用いられたシロキサン構造を含む重合体(A1)の代わりに、比較合成例2で得られた比較用重合体(D2)と合成例4で得られたアルカリ可溶性重合体(C1)の1:1混合物(重量比)を用いた以外は、実施例1と同様にポジ型感光性組成物を調製し、パターン状透明膜を形成し、評価した。結果を表1に示す。
Claims (8)
- シロキサン構造を含む重合体(A)及び1,2−キノンジアジド化合物(B)を含有する感光性組成物において、
前記シロキサン構造を含む重合体(A)は、下記式(1)で表されるシロキサン化合物と下記式(2)で表されるラジカル重合体モノマーとを含むモノマーのラジカル重合体である、感光性組成物。
R1及びR2は、それぞれ、水素;任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意のメチレンが酸素又は炭素数3〜18のシクロアルキレンで置き換えられてもよい炭素数1〜30のアルキル;フッ素、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数1〜20のアルコキシ基で置き換えられていてもよい炭素数6〜40のアリール;又は、前記アリールと、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく任意のメチレンが酸素又は前記シクロアルキレンで置き換えられていてもよいアルキレンとで構成される炭素数7〜40のアリールアルキル;を表し、
R3及びR4は、それぞれ独立して、水素;任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意のメチレンが酸素又は炭素数3〜18のシクロアルキレンで置き換えられてもよい炭素数1〜30のアルキル;フッ素、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数1〜20のアルコキシ基で置き換えられていてもよい炭素数6〜40のアリール;前記アリールと、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく任意のメチレンが酸素又は前記シクロアルキレンで置き換えられていてもよいアルキレンとで構成される炭素数7〜40のアリールアルキル;又は、下記式(3)で表される基;を表し、
R5は、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、任意のメチレンが酸素で置き換えられていてもよい、炭素数1〜20の、直鎖状若しくは分岐状のアルキル;任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい、炭素数6〜20のアリール;又は、アリール中の任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい、炭素数7〜20のアリールアルキルを表し、
A1はラジカル重合性官能基を表し、
nは1〜1,000の整数を表す。
ただし、nが1である場合、R3及びR4はそれぞれ下記式(3)の基を表す。)
R6及びR7は、それぞれ独立して、水素;任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、そして任意のメチレンが酸素又は炭素数3〜18のシクロアルキレンで置き換えられてもよい炭素数1〜30のアルキル;フッ素、炭素数1〜20のアルキル基、又は炭素数1〜20のアルコキシ基で置き換えられていてもよい炭素数6〜40のアリール;又は、前記アリールと、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく任意のメチレンが酸素又は前記シクロアルキレンで置き換えられてもよいアルキレンとで構成される炭素数7〜40のアリールアルキル;を表し、
R8は、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、任意のメチレンが酸素で置き換えられていてもよい、炭素数1〜20の、直鎖状若しくは分岐状のアルキル;任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい、炭素数6〜20のアリール;又は、アリール中の任意の水素がフッ素で置き換えられてもよい、炭素数7〜20のアリールアルキルを表し、
mは1〜500の整数を表す。)
- 前記シロキサン構造を含む重合体(A)は、前記式(1)及び(2)で表される化合物以外の他のラジカル重合性モノマーをさらに含むモノマーのラジカル重合体である、請求項1に記載の感光性組成物。
- 前記他のラジカル重合性モノマーが、ヒドロキシ(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸誘導体及びフェノール性水酸基を有するスチレン誘導体からなる群から選ばれる一以上である、請求項2に記載の感光性組成物。
- アルカリ可溶性を有するアルカリ可溶性重合体(C)をさらに含有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の感光性組成物。
- 前記アルカリ可溶性重合体(C)が、不飽和カルボン酸を有するラジカル重合性モノマー、不飽和カルボン酸無水物を有するラジカル重合性モノマー、及びフェノール性水酸基を有するラジカル重合性モノマーからなる群から選ばれる一以上を含むモノマーのラジカル重合体である、請求項4に記載の感光性組成物。
- 溶剤をさらに含有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の感光性組成物。
- 請求項1〜6のいずれか一項に記載の感光性組成物の膜を焼成して得られる硬化膜。
- 請求項7に記載の硬化膜を有する表示素子。
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