JP2010096833A - Scanning exposure apparatus and scanning exposure method - Google Patents
Scanning exposure apparatus and scanning exposure method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010096833A JP2010096833A JP2008265184A JP2008265184A JP2010096833A JP 2010096833 A JP2010096833 A JP 2010096833A JP 2008265184 A JP2008265184 A JP 2008265184A JP 2008265184 A JP2008265184 A JP 2008265184A JP 2010096833 A JP2010096833 A JP 2010096833A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light shielding
- mask
- substrate
- light
- predetermined direction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
本発明は、スキャン露光装置およびスキャン露光方法に関し、より詳細には、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイのカラーフィルタ基板やアレイ基板等に所望のパターンを露光転写するのに好適なスキャン露光装置およびスキャン露光方法に関する。 The present invention relates to a scan exposure apparatus and a scan exposure method, and more particularly, suitable for exposing and transferring a desired pattern to a color filter substrate or an array substrate of a large flat panel display such as a liquid crystal display or a plasma display. The present invention relates to a scan exposure apparatus and a scan exposure method.
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの露光方法として、マスクを細分化して、これらマスクを保持する複数のマスク保持部を千鳥状に配置し、基板を一方向に移動させながら露光を行うスキャン露光方式が知られている(例えば、特許文献1参照。)。この露光方式では、基板に形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。この場合、マスクは、パネルに合わせて大きくする必要がなく、比較的安価なマスクを用いることができる。 As an exposure method for large flat panel displays such as liquid crystal displays and plasma displays used in large thin TVs, etc., the mask is subdivided, and a plurality of mask holders for holding these masks are arranged in a staggered manner, and the substrate There is known a scanning exposure method in which exposure is performed while moving the lens in one direction (see, for example, Patent Document 1). This exposure method utilizes the fact that a large pattern can be formed by joining together on the premise that there is a portion that is repeated to some extent in the pattern formed on the substrate. In this case, the mask does not need to be large in accordance with the panel, and a relatively inexpensive mask can be used.
また、特許文献1に記載の露光装置では、複数の遮光部材を用いて、基板の移動速度に合わせて遮光部材を移動させると共に、露光中に、移動した遮光部材を重ね合わせながら上流側に移動させるようにして、遮光部材の移動に伴う露光への影響を抑えることが提案されている。
ところで、上記スキャン露光装置では、遮光部材が高い位置にある場合には、露光光が回折して遮光部材の内側へ回り込む光の幅が大きくなる一方、遮光部材が低い位置にある場合には、遮光部材の内側へ回り込む光の幅が小さい。このため、例えば、複数の遮光部材を重ね合わせながら上流側に戻す際、下方に位置する2枚の遮光部材が最も上流側と下流側に位置すると、遮光部材の影が露光に影響する可能性がある。
また、遮光部材はすべて長方形状の薄板によって形成され、移動方向の両側面が該移動方向と直交する方向に延びているため、遮光部材を高速で戻したとしても、遮光部材の移動方向の両側面による影が露光に影響する可能性がある。
By the way, in the above scanning exposure apparatus, when the light shielding member is at a high position, the width of light that diffracts the exposure light and wraps around the inside of the light shielding member is increased, while when the light shielding member is at a low position, The width of the light that goes inside the light shielding member is small. For this reason, for example, when returning a plurality of light shielding members to the upstream side while overlapping them, if the two light shielding members located below are located on the most upstream side and downstream side, the shadow of the light shielding member may affect the exposure. There is.
In addition, since the light shielding members are all formed of a rectangular thin plate and both side surfaces in the moving direction extend in a direction perpendicular to the moving direction, even if the light shielding member is returned at high speed, both sides in the moving direction of the light shielding member Surface shadows can affect exposure.
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、遮光部材を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができるスキャン露光装置及びスキャン露光方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a scanning exposure apparatus that can suppress the influence of the shadow of the light shielding member on the exposure as much as possible when returning the light shielding member to the upstream side. It is to provide a scanning exposure method.
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
(1) 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される複数の遮光部材を有し、
最も高い位置に配置される前記遮光部材は、前記所定の方向における幅が他の遮光部材のものより広いことを特徴とするスキャン露光装置。
(2) 前記最も高い位置に配置される前記遮光部材は、前記所定の方向における両側面が、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に設けられていることを特徴とする(1)に記載のスキャン露光装置。
(3) 前記最も高く配置される前記遮光部材は、前記所定の方向における両側面が、波状に形成されていることを特徴とする(2)に記載のスキャン露光装置。
(4) 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも2枚の遮光部材を有し、
前記2枚の遮光部材の一方の前記所定の方向における上流側側面と、前記他方の遮光部材の前記所定の方向における下流側側面とは、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に形成され、前記一方の遮光部材の下流側側面と、前記他方の遮光部材の上流側側面とは、前記直交方向に沿った直線状に形成されることを特徴とするスキャン露光装置。
The above object of the present invention can be achieved by the following constitution.
(1) a substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction;
A plurality of mask holding sections for holding a plurality of masks, respectively;
A plurality of irradiation units that are respectively disposed above the plurality of mask holding units and irradiate the exposure light;
A plurality of light shielding portions arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units, for shielding the exposure light emitted from the irradiation unit;
A scanning exposure apparatus that irradiates the substrate transported in the predetermined direction with exposure light through the mask and exposes the pattern of the mask on the substrate,
Each of the light shielding portions has a plurality of light shielding members arranged to be movable at different heights,
The scan exposure apparatus, wherein the light shielding member arranged at the highest position has a width in the predetermined direction wider than that of other light shielding members.
(2) The light-shielding member disposed at the highest position is provided such that both side surfaces in the predetermined direction are inclined with respect to a direction orthogonal to the predetermined direction or are curved. (1) The scan exposure apparatus according to (1).
(3) The scan exposure apparatus according to (2), wherein the light shielding member disposed at the highest height has both side surfaces in the predetermined direction formed in a wave shape.
(4) a substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction;
A plurality of mask holding sections for holding a plurality of masks, respectively;
A plurality of irradiation units that are respectively disposed above the plurality of mask holding units and irradiate the exposure light;
A plurality of light shielding portions arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units, for shielding the exposure light emitted from the irradiation unit;
A scanning exposure apparatus that irradiates the substrate transported in the predetermined direction with exposure light through the mask and exposes the pattern of the mask on the substrate,
Each of the light-shielding portions has at least two light-shielding members arranged to be movable at different heights,
The upstream side surface in one predetermined direction of the two light shielding members and the downstream side surface in the predetermined direction of the other light shielding member are inclined with respect to a direction orthogonal to the predetermined direction. Alternatively, the scan is formed in a curved shape, and the downstream side surface of the one light shielding member and the upstream side surface of the other light shielding member are formed in a straight line along the orthogonal direction. Exposure device.
(5) 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、を備え、該各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも3枚の遮光部材を有し、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記複数の遮光部材を前記基板と同速度で前記所定の方向に移動させることによって、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数の遮光部材を前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有し、
前記遮光工程は、下から2枚の前記遮光部材を最も上流側と最も下流側に配置した状態で行なわれ、
前記戻し工程は、最も高く配置される前記所定の方向における幅が最も広い前記遮光部材の下方に、前記残りの遮光部材を配置した状態で行なわれることを特徴とするスキャン露光方法。
(6) 所定の方向に沿って基板を搬送可能な基板搬送機構と、複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、を備え、該各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも2枚の遮光部材を有し、該2枚の遮光部材の一方の前記所定の方向における上流側側面と、前記他方の遮光部材の前記所定の方向における下流側側面とは、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に形成され、前記一方の遮光部材の下流側側面と、前記他方の遮光部材の上流側側面とは、前記直交方向に沿った直線状に形成されており、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置のスキャン露光方法であって、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記遮光部材を前記基板と同速度で前記所定の方向に移動させることによって、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数の遮光部材を前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有し、
前記遮光工程は、前記一方の遮光部材の上流側側面と前記他方の遮光部材の下流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれ、
前記戻し工程は、前記一方の遮光部材の下流側側面と前記他方の遮光部材の上流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれることを特徴とするスキャン露光方法。
(5) A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction, a plurality of mask holders that respectively hold a plurality of masks, and a plurality of mask holders, which are disposed above the plurality of mask holders, respectively. A plurality of irradiation units that irradiate the light, and a plurality of light shielding units that are arranged between the respective irradiation units and the respective mask holding units and shield the exposure light emitted from the irradiation unit, Each light shielding portion has at least three light shielding members arranged to be movable at different heights, and irradiates exposure light through the mask onto the substrate transported in the predetermined direction. A scan exposure method of a scan exposure apparatus for exposing the pattern of the mask to the substrate,
With the substrate being transported under the mask, the plurality of light shielding members are moved in the predetermined direction at the same speed as the substrate, thereby shielding the mask pattern and shielding the substrate from the light shielding region. Forming a step;
In a state where the substrate is transported under the mask, the plurality of light shielding members after moving downstream with respect to the mask are moved in a direction opposite to the predetermined direction, and the mask being exposed Crossing the pattern and returning to the upstream side with respect to the mask;
Have
The light shielding step is performed in a state where the two light shielding members from the bottom are arranged on the most upstream side and the most downstream side,
The scanning exposure method, wherein the returning step is performed in a state where the remaining light shielding member is disposed below the light shielding member having the widest width in the predetermined direction.
(6) A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction, a plurality of mask holders that respectively hold a plurality of masks, and the exposure light disposed above the plurality of mask holders, respectively. A plurality of irradiation units that irradiate the light, and a plurality of light shielding units that are arranged between the respective irradiation units and the respective mask holding units and shield the exposure light emitted from the irradiation unit, Each of the light shielding portions has at least two light shielding members that are movably arranged at different heights. One of the two light shielding members on the upstream side surface in the predetermined direction and the other light shielding member. The downstream side surface in the predetermined direction of the member is inclined with respect to a direction orthogonal to the predetermined direction or formed in a curved shape, and the downstream side surface of the one light shielding member and the other side surface What is the upstream side of the shading member? A scan that is formed in a straight line along the orthogonal direction and irradiates the substrate with the exposure light through the mask and exposes the pattern of the mask onto the substrate. A scanning exposure method for an exposure apparatus, comprising:
With the substrate being transported under the mask, the light shielding member is moved in the predetermined direction at the same speed as the substrate, thereby shielding the mask pattern and forming a light shielding region on the substrate. And a process of
In a state where the substrate is transported under the mask, the plurality of light shielding members after moving downstream with respect to the mask are moved in a direction opposite to the predetermined direction, and the mask being exposed Crossing the pattern and returning to the upstream side with respect to the mask;
Have
The light shielding step is performed in a state where the upstream side surface of the one light shielding member and the downstream side surface of the other light shielding member are overlapped,
The scanning exposure method, wherein the returning step is performed in a state where the downstream side surface of the one light shielding member and the upstream side surface of the other light shielding member overlap each other.
本発明のスキャン露光装置によれば、各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される複数の遮光部材を有し、最も高い位置に配置される遮光部材は、所定の方向における幅が他の遮光部材のものより広いので、遮光部材を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができる。
また、最も高い位置に配置される遮光部材は、所定の方向における両側面が、所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に設けられているので、遮光部材を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをさらに抑えることができる。
さらに、上記遮光部材を有するスキャン露光装置のスキャン露光方法によれば、遮光工程は、下から2枚の遮光部材を最も上流側と最も下流側に配置した状態で行なわれ、戻し工程は、最も高く配置される所定の方向における幅が最も広い遮光部材の下方に、他の遮光部材を配置した状態で行なわれるので、遮光部材を用いて露光用光を遮光する際に、精度の良い遮光領域が形成可能であると共に、遮光部材を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができる。
According to the scanning exposure apparatus of the present invention, each light shielding portion has a plurality of light shielding members arranged to be movable at different heights, and the light shielding member arranged at the highest position has a width in a predetermined direction. However, when the light shielding member is returned to the upstream side, the influence of the shadow of the light shielding member on the exposure can be suppressed as much as possible.
Further, since the light shielding member disposed at the highest position is provided with both side surfaces in a predetermined direction inclined or curved with respect to a direction orthogonal to the predetermined direction, the light shielding member is disposed upstream. When returning to the side, it is possible to further suppress the shadow of the light shielding member from affecting the exposure.
Further, according to the scan exposure method of the scan exposure apparatus having the light shielding member, the light shielding step is performed in a state where the two light shielding members from the bottom are arranged on the most upstream side and the most downstream side, and the returning step is most performed. Since it is performed in a state where another light-shielding member is arranged below the light-shielding member having the widest width in a predetermined direction, a highly accurate light-shielding region when shielding the exposure light using the light-shielding member. Can be formed, and when returning the light shielding member to the upstream side, it is possible to suppress the shadow of the light shielding member from affecting the exposure as much as possible.
また、本発明のスキャン露光装置及びスキャン露光方法によれば、各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも2枚の遮光部材を有し、2枚の遮光部材の一方の所定の方向における上流側側面と、前記他方の遮光部材の前記所定の方向における下流側側面とは、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に形成され、前記一方の遮光部材の下流側側面と、前記他方の遮光部材の上流側側面とは、前記直交方向に沿った直線状に形成される。これにより、遮光工程は、一方の遮光部材の上流側側面と他方の遮光部材の下流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれ、直線状の側面によって精度の良い遮光領域が形成可能である。また、戻し工程は、一方の遮光部材の下流側側面と他方の遮光部材の上流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれ、非直線状の側面によって遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができる。 Further, according to the scan exposure apparatus and the scan exposure method of the present invention, each light shielding portion has at least two light shielding members that are movably arranged at different heights, and one of the two light shielding members. The upstream side surface in a predetermined direction and the downstream side surface in the predetermined direction of the other light shielding member are inclined with respect to a direction orthogonal to the predetermined direction or formed in a curved shape, The downstream side surface of one light shielding member and the upstream side surface of the other light shielding member are formed in a straight line shape along the orthogonal direction. Thus, the light shielding step is performed in a state where the upstream side surface of one light shielding member and the downstream side surface of the other light shielding member overlap each other, and a highly accurate light shielding region can be formed by the linear side surface. . The returning step is performed in a state where the downstream side surface of one light shielding member and the upstream side surface of the other light shielding member overlap each other, and the shadow of the light shielding member affects the exposure by the non-linear side surface. Can be suppressed as much as possible.
(第1実施形態)
以下、本発明の第1実施形態に係るスキャン露光装置及びスキャン露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、以下の説明では、下地パターン層であるブラックマトリクス層が形成された露光領域と、下地パターン層が形成されていない非露光領域を有した、複数のカラーフィルタ用パネルを形成するためのガラス基板に、赤(R)、緑(G)、青(B)の着色層のいずれかを形成する近接スキャン露光装置及び露光方法について説明する。
(First embodiment)
Hereinafter, embodiments of a scan exposure apparatus and a scan exposure method according to a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, a glass for forming a plurality of color filter panels having an exposed region in which a black matrix layer as a base pattern layer is formed and a non-exposed region in which a base pattern layer is not formed. A proximity scanning exposure apparatus and an exposure method for forming any of red (R), green (G), and blue (B) colored layers on a substrate will be described.
先ず、本実施形態の近接スキャン露光装置1の構成について概略説明する。図1及び図2に示すように、本実施形態のスキャン露光装置1は、基板(カラーフィルタ基板)Wを浮上させて支持すると共に、所定方向(図1のX方向)に搬送する基板搬送機構10と、複数のマスクMをそれぞれ保持し、所定方向と直交する方向(図1のY方向)に沿って千鳥状に二列配置された複数(図1に示す実施形態において、左右それぞれ6個)のマスク保持部11と、マスク保持部11を駆動するマスク駆動部12と、複数のマスク保持部11の上部にそれぞれ配置されて露光用光を照射する複数の照射部13と、各照射部13と各マスク保持部11との間にそれぞれ配置され、照射部13から出射された露光用光を遮光する複数の遮光部14と、スキャン露光装置1の各作動部分の動きを制御する制御部15と、を主に備える。
First, a schematic configuration of the proximity scan exposure apparatus 1 of the present embodiment will be described. As shown in FIGS. 1 and 2, the scan exposure apparatus 1 of the present embodiment floats and supports a substrate (color filter substrate) W and transports it in a predetermined direction (X direction in FIG. 1). 10 and a plurality of masks M, each holding a plurality of masks M and arranged in two rows in a staggered manner along a direction orthogonal to a predetermined direction (Y direction in FIG. 1) (in the embodiment shown in FIG. ) Mask holding
基板搬送機構10は、浮上ユニット16と、基板WのY方向一側(図1において上辺)を保持してX方向に搬送する基板駆動ユニット17とを備える。浮上ユニット16は、複数のフレーム19上にそれぞれ設けられた複数の排気エアパッド20及び吸排気エアパッド21を備え、ポンプ(図示せず)やソレノイドバルブ(図示せず)を介して排気エアパッド20や吸排気エアパッド21からエアを排気或いは、吸排気する。基板駆動ユニット17は、図1に示すように、浮上ユニット16によって浮上、支持された基板Wの一端を保持する吸着パッド22を備え、モータ23、ボールねじ24、及びナット(図示せず)からなるボールねじ機構25によって、ガイドレール26に沿って基板WをX方向に搬送する。なお、図2に示すように、複数のフレーム19は、地面にレベルブロック18を介して設置された装置ベース27上に他のレベルブロック28を介して配置されている。また、基板Wは、ボールねじ機構25の代わりに、リニアサーボアクチュエータによって搬送されてもよい。
The
マスク駆動部12は、フレーム(図示せず)に取り付けられ、マスク保持部11をX方向に沿って駆動するX方向駆動部31と、X方向駆動部31の先端に取り付けられ、マスク保持部11をY方向に沿って駆動するY方向駆動部32と、Y方向駆動部32の先端に取り付けられ、マスク保持部11をθ方向(X,Y方向からなる水平面の法線回り)に回転駆動するθ方向駆動部33と、θ方向駆動部33の先端に取り付けられ、マスク保持部11をZ方向(X,Y方向からなる水平面の鉛直方向)に駆動するZ方向駆動部34と、を有する。これにより、Z方向駆動部34の先端に取り付けられたマスク保持部11は、マスク駆動部12によってX,Y,Z,θ方向に駆動可能である。なお、X,Y,θ,Z方向駆動部31,32,33,34の配置の順序は、適宜変更可能である。
The
また、図1に示すように、千鳥状に二列配置された搬入側及び搬出側マスク保持部11a,11b間には、各マスク保持部11a,11bのマスクMを同時に交換可能なマスクチェンジャ2が配設されている。マスクチェンジャ2により搬送される使用済み或いは未使用のマスクMは、マスクストッカ3,4との間でローダー5により受け渡しが行われる。なお、マスクストッカ3,4とマスクチェンジャ2とで受け渡しが行われる間にマスクプリアライメント機構(図示せず)によってマスクMのプリアライメントが行われる。
Further, as shown in FIG. 1, a mask changer 2 in which the masks M of the
図2に示すように、マスク保持部11の上部に配置される照射部13は、YAGレーザーや、エキシマレーザー等の光源41と、この光源41から照射された光を集光する凹面鏡42と、この凹面鏡42の焦点近傍に切替え自在に配置された二種類のオプチカルインテグレータ43と、光路の向きを変えるための平面ミラー45及び球面ミラー46と、この平面ミラー45とオプチカルインテグレータ43との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター44と、を備える。なお、光源41としては、紫外線を含んだ連続光に放射する、超高圧水銀ランプであってもよく、フラッシュ光を放射するYAGレーザーやエキシマレーザーであってもよい。
As shown in FIG. 2, the
図3に示すように、各遮光部14は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される第1〜第4の遮光部材60,61,62,63を有する。各遮光部材60,61,62,63は、搬送方向に直交する方向に延在しており、その一端部はリニアモータ70,71,72,73に連結されている。リニアモータ70,71,72,73は、不図示のドライバにより、ガイドレール75,76,77,78に沿ってX軸方向に移動自在となっている。
As shown in FIG. 3, each
これら遮光部材60,61,62,63のうち、第1〜第3の遮光部材60,61,62は、X方向(所定の方向)における両側面が直交方向に沿った直線状の略長方形に形成される一方、最も高い位置に配置される第4の遮光部材63は、X方向における両側面が波状に形成されている。また、第4の遮光部材63の搬送方向における最も狭い位置での幅w4は、残りの遮光部材60,61,62の幅w1,w2,w3より広くなるように設定されている。これにより、4つの遮光部材60,61,62,63は、第4の遮光部材63の下方に、残りの遮光部材60,61,62が上面視で隠れるように配置することができる。
Among these
なお、第4の遮光部材63のX方向における両側面は、波状に限定されず、曲線状に形成されればよく、或いは、平行四辺形や台形等によって、該直交方向に対して傾斜して形成されてもよい。ただし、波状とすることで、遮光部材の影を効果的にぼかすことができると共に、X方向における幅の増加を抑えることができる。
また、第4の遮光部材63のX方向における両側面は、該直交方向に対して傾斜して設けられればよいので、基板W、若しくは、マスクMのパターンに対して、即ち、該直交方向に対して若干斜めに配置されてもよく、この場合は長方形状のものが使用されてもよい。
また、本実施形態では、第1及び第2の遮光部材60,61の幅w1,w2を同一としている。
Note that both side surfaces of the fourth
Further, both side surfaces of the fourth
In the present embodiment, the widths w1 and w2 of the first and second
次に、このように構成された近接スキャン露光装置1の動作について説明する。ここで、使用される基板としては、例えば、図4に示すように、パネル間の非露光領域NRを有する基板Wを用い、赤(R)、緑(G)、青(B)の着色層のいずれかのパターンを基板Wに塗布されたフォトレジストに転写する場合について説明する。 Next, the operation of the proximity scan exposure apparatus 1 configured as described above will be described. Here, as the substrate used, for example, as shown in FIG. 4, a substrate W having a non-exposed region NR between panels is used, and red (R), green (G), and blue (B) colored layers are used. A case where any one of the above patterns is transferred to a photoresist coated on the substrate W will be described.
近接スキャン露光装置1は、浮上ユニット16の排気エアパッド20及び吸排気エアパッド21の空気流によって基板Wを浮上させて保持し、基板Wの一端を基板駆動ユニット17で吸着してX方向に一定の速度で搬送する。そして、マスク保持部11の下方に位置する基板Wに対して、照射部13からの露光用光ELがマスクMを介して照射され、マスクMのパターンを基板Wに塗布されたフォトレジストに転写する。このとき、基板WとマスクMとの位置誤差は、図示しない撮像手段が検出する基板W及びマスクMの位置データに基づいて制御部15から出力される指令信号によって、θ方向駆動部33、及びY方向駆動部32が作動してマスクMの位置を微調整することで補正(位置合わせ)される。
The proximity scanning exposure apparatus 1 floats and holds the substrate W by the air flow of the
ここで、図5に示すように、基板WがマスクMの下方で搬送され、基板Wにパターンの露光転写が行なわれている状態で、基板Wの非露光領域NRがマスクMのパターン領域の下方に入る。すると、マスクMに対して上流側に待機していた複数の遮光部材60,61,62,63は、搬送方向に必要重ね代を持って並べられ非露光領域NRの幅に対応するように配置される。そして、遮光部材60,61,62,63を基板Wの搬送と同速度でX方向に移動させ、マスクMのパターンを遮光して、非露光領域NR上に遮光領域を形成する。
Here, as shown in FIG. 5, the non-exposed region NR of the substrate W is the pattern region of the mask M while the substrate W is transported under the mask M and the pattern is exposed and transferred to the substrate W. Go down. Then, the plurality of
このとき、下から2枚の第1及び第2の遮光部材60,61が、最も上流側と最も下流側に配置されることで、露光光が回折して遮光部材60,61の内側へ回り込む光の幅が小さくなり、露光領域ERと被露光領域NR(遮光領域)との境界をくっきりと露光転写することができる。
At this time, the two first and second
一方、図6に示すように、遮光動作が完了し、次の遮光領域を遮光するまでの露光動作中、マスクMに対して下流側に移動した後の遮光部材60,61,62,63をX方向と反対方向に高速で移動させ、露光中のマスクMのパターンを横切って、マスクMに対して上流側に戻す必要がある。この戻し工程時には、最も高く配置される第4の遮光部材63の下方に、残りの遮光部材60,61,62が隠れるように重なって配置されることで、遮光部材60,61,62,63が横切る幅をできるだけ小さくして露光への影響を極力抑えることができ、また、露光光が回折して第4の遮光部材63の内側へ回り込む光の幅が大きくなり、遮光部材63の影がくっきりと残らず、露光への影響を抑えることができる。また、遮光部材63のX方向における両側面が波状に形成されているので、直線状のすじムラとならず、遮光部材63の影を分散してぼかすことができ、露光への影響を抑えることができる。
On the other hand, as shown in FIG. 6, during the exposure operation until the light shielding operation is completed and the next light shielding region is shielded, the
以上説明したように、本実施形態のスキャン露光装置1、各遮光部14は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される複数の遮光部材60,61,62,63を有し、最も高い位置に配置される第4の遮光部材63は、X方向における幅w4が他の遮光部材60,61,62のものより広いので、遮光部材60,61,62,63を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができる。
As described above, the scanning exposure apparatus 1 of the present embodiment and each
また、第4の遮光部材63は、X方向における両側面が、Y方向に対して傾斜して、或いは、波状のような曲線状に形成されているので、遮光部材60,61,62,63を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをさらに抑えることができる。
The fourth
さらに、スキャン露光方法によれば、遮光工程は、下から2枚の第1及び第2の遮光部材60,61を最も上流側と最も下流側に配置した状態で行なわれ、戻し工程は、最も高く配置されるX方向における幅w4が最も広い第4の遮光部材63の下方に、他の遮光部材60,61,62を配置した状態で行なわれるので、遮光部材60,61,62,63を用いて露光用光を遮光する際に、精度の良い遮光領域が形成可能であると共に、遮光部材60,61,62,63を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができる。
Further, according to the scan exposure method, the light shielding step is performed in a state where the first and second
なお、各遮光部材60,61,62,63の高さは任意に設定できるが、露光領域と遮光領域の境界の露光精度に影響を与える下から2枚の遮光部材60,61は、マスクMの上面にできるだけ近い方が好ましく、一方、戻し工程で露光への影響を抑える遮光部材63は、その下の遮光部材62との高さ方向の間隔を、下から2枚の遮光部材60,61同士の間隔より大きくして、できるだけ高く配置されることが望ましい。
The height of each light shielding
また、最も高く配置される遮光部材は、本実施形態のように波状に形成するほうが好ましいが、図7に示すように、長方形状の遮光部材63aであっても上記効果を奏することができる。
Further, it is preferable that the light shielding member arranged highest is formed in a wave shape as in the present embodiment, but the above-described effect can be achieved even with a rectangular
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係るスキャン露光装置及びスキャン露光方法の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本実施形態は、遮光部の遮光部材の構成において第1実施形態と異なる。そのため、第1実施形態と同一または同等部分については、同一符号を付して説明を省略或いは簡略化する。
(Second Embodiment)
Next, a scan exposure apparatus and a scan exposure method according to a second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, this embodiment differs from 1st Embodiment in the structure of the light-shielding member of a light-shielding part. For this reason, the same or equivalent parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted or simplified.
本実施形態では、各遮光部14は、それぞれ異なる高さで配置される2枚の遮光部材64,65を有し、その一端部はリニアモータ70,71に連結され、不図示のドライバにより、ガイドレール75,76に沿ってX軸方向に移動可能となっている。
In this embodiment, each light-shielding
遮光部材64,65は、X方向における一側面をY方向に沿った直線状、X方向における他側面を波状とした幅w5を有した同一形状とし、互いにX方向の向きを反対にして配置されている。即ち、一方の遮光部材64のX方向における上流側側面と、他方の遮光部材65のX方向における下流側側面とは、波状に形成され、一方の遮光部材64の下流側側面と、他方の遮光部材65の上流側側面とは、Y方向に沿った直線状に形成される。
The
従って、この遮光部材64,65を用いたスキャン露光装置1では、第1実施形態と同様、基板Wの非露光領域NR上に遮光領域を形成する場合には、図9(a)に示すように、非露光領域NRの幅に合わせて、一方の遮光部材64の波状の上流側側面と他方の遮光部材65の波状の下流側側面とをオーバーラップさせた状態で、これら遮光部材64,65を基板Wの搬送と同速度で移動させる。これにより、露光領域ERと被露光領域NR(遮光領域)との境界が一方の遮光部材64の直線状の下流側側面と、他方の遮光部材65の直線状の上流側側面とで形成されるので、該境界をくっきりと露光転写することができる。
Therefore, in the scan exposure apparatus 1 using the
一方、戻し工程では、図9(b)に示すように、できるだけ重ね代を大きして、一方の遮光部材64の直線状の下流側側面と他方の遮光部材65の直線状の上流側側面とをオーバーラップさせた状態で、これら遮光部材64,65を高速で搬送方向と反対に戻す。これにより、一方の遮光部材64の波状の上流側側面と他方の遮光部材65の波状の下流側側面の影をぼかすことができ、露光への影響を抑えることができる。 なお、その他の構成及び作用については、第1実施形態のものと同様である。また、この場合、2つの遮光部材64,65の下方に他の遮光部材を設け、他の遮光部材を最も上流側と最も下流側に配置して遮光を行なってもよい。
On the other hand, in the returning step, as shown in FIG. 9B, the overlap margin is made as large as possible, and the linear downstream side surface of one
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
なお、上記実施形態では、最も高く配置された遮光部材のX方向両側面の波形状は、遮光部材の面に沿って形成されているが、立体的に形成されてもよい。
In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above, A deformation | transformation, improvement, etc. are possible suitably.
In addition, in the said embodiment, although the wave shape of the X direction both sides | surfaces of the light shielding member arrange | positioned highest is formed along the surface of a light shielding member, you may form in three dimensions.
例えば、上記実施形態においては、基板搬送機構10は、浮上ユニット16と基板駆動ユニット17によって基板Wを浮上して保持しながら搬送する場合について述べたが、これに限らず、基板Wを上面に載置しながら保持及び搬送するものであってもよい。
For example, in the above-described embodiment, the case where the
1 近接スキャン露光装置
10 基板搬送機構
11 マスク保持部
13 照射部
14 遮光部
60 第1の遮光部材
61 第2の遮光部材
62 第3の遮光部材
63 第4の遮光部材
64,65 遮光部材
EL 露光用光
M マスク
W ガラス基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Proximity
Claims (6)
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される複数の遮光部材を有し、
最も高い位置に配置される前記遮光部材は、前記所定の方向における幅が残りの遮光部材のものより広いことを特徴とするスキャン露光装置。 A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction;
A plurality of mask holding sections for holding a plurality of masks, respectively;
A plurality of irradiation units that are respectively disposed above the plurality of mask holding units and irradiate the exposure light;
A plurality of light shielding portions arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units, for shielding the exposure light emitted from the irradiation unit;
A scanning exposure apparatus that irradiates the substrate transported in the predetermined direction with exposure light through the mask and exposes the pattern of the mask on the substrate,
Each of the light shielding portions has a plurality of light shielding members arranged to be movable at different heights,
The scanning exposure apparatus characterized in that the light shielding member arranged at the highest position has a width in the predetermined direction wider than that of the remaining light shielding members.
複数のマスクをそれぞれ保持する複数のマスク保持部と、
前記複数のマスク保持部の上方にそれぞれ配置され、前記露光用光を照射する複数の照射部と、
前記各照射部と前記各マスク保持部との間にそれぞれ配置され、前記照射部から出射された前記露光用光を遮光する複数の遮光部と、
を備え、前記所定の方向に搬送される基板に対して前記マスクを介して露光用光を照射し、前記基板に前記マスクのパターンを露光するスキャン露光装置であって、
前記各遮光部は、それぞれ異なる高さで移動可能に配置される少なくとも2枚の遮光部材を有し、
前記2枚の遮光部材の一方の前記所定の方向における上流側側面と、前記他方の遮光部材の前記所定の方向における下流側側面とは、前記所定の方向と直交する方向に対して傾斜して、或いは、曲線状に形成され、前記一方の遮光部材の下流側側面と、前記他方の遮光部材の上流側側面とは、前記直交方向に沿った直線状に形成されることを特徴とするスキャン露光装置。 A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction;
A plurality of mask holding sections for holding a plurality of masks, respectively;
A plurality of irradiation units that are respectively disposed above the plurality of mask holding units and irradiate the exposure light;
A plurality of light shielding portions arranged between each of the irradiation units and each of the mask holding units, for shielding the exposure light emitted from the irradiation unit;
A scanning exposure apparatus that irradiates the substrate transported in the predetermined direction with exposure light through the mask and exposes the pattern of the mask on the substrate,
Each of the light-shielding portions has at least two light-shielding members arranged to be movable at different heights,
The upstream side surface in one predetermined direction of the two light shielding members and the downstream side surface in the predetermined direction of the other light shielding member are inclined with respect to a direction orthogonal to the predetermined direction. Alternatively, the scan is formed in a curved shape, and the downstream side surface of the one light shielding member and the upstream side surface of the other light shielding member are formed in a straight line along the orthogonal direction. Exposure device.
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記複数の遮光部材を前記基板と同速度で前記所定の方向に移動させることによって、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数の遮光部材を前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有し、
前記遮光工程は、下から2枚の前記遮光部材を最も上流側と最も下流側に配置した状態で行なわれ、
前記戻し工程は、最も高く配置される前記所定の方向における幅が最も広い前記遮光部材の下方に、前記残りの遮光部材を配置した状態で行なわれることを特徴とするスキャン露光方法。 A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction, a plurality of mask holders that respectively hold a plurality of masks, and a plurality of mask holders, respectively, are disposed above the plurality of mask holders and irradiates the exposure light. A plurality of irradiation units, and a plurality of light shielding units that are arranged between the irradiation units and the mask holding units and shield the exposure light emitted from the irradiation units, respectively, The unit includes at least three light-shielding members that are movably arranged at different heights, irradiates exposure light through the mask to the substrate transported in the predetermined direction, and the substrate A scan exposure method of a scan exposure apparatus that exposes the mask pattern to:
With the substrate being transported under the mask, the plurality of light shielding members are moved in the predetermined direction at the same speed as the substrate, thereby shielding the mask pattern and shielding the substrate from the light shielding region. Forming a step;
In a state where the substrate is transported under the mask, the plurality of light shielding members after moving downstream with respect to the mask are moved in a direction opposite to the predetermined direction, and the mask being exposed Crossing the pattern and returning to the upstream side with respect to the mask;
Have
The light shielding step is performed in a state where the two light shielding members from the bottom are arranged on the most upstream side and the most downstream side,
The scanning exposure method, wherein the returning step is performed in a state where the remaining light shielding member is disposed below the light shielding member having the widest width in the predetermined direction.
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記遮光部材を前記基板と同速度で前記所定の方向に移動させることによって、前記マスクのパターンを遮光して前記基板に遮光領域を形成する工程と、
前記基板が前記マスクの下方で搬送されている状態で、前記マスクに対して下流側に移動した後の前記複数の遮光部材を前記所定の方向と反対方向に移動させ、前記露光中の前記マスクのパターンを横切って、前記マスクに対して上流側に戻す工程と、
を有し、
前記遮光工程は、前記一方の遮光部材の上流側側面と前記他方の遮光部材の下流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれ、
前記戻し工程は、前記一方の遮光部材の下流側側面と前記他方の遮光部材の上流側側面とをオーバーラップさせた状態で行なわれることを特徴とするスキャン露光方法。 A substrate transport mechanism capable of transporting a substrate along a predetermined direction, a plurality of mask holders that respectively hold a plurality of masks, and a plurality of mask holders, respectively, are disposed above the plurality of mask holders and irradiates the exposure light. A plurality of irradiation units, and a plurality of light shielding units that are arranged between the irradiation units and the mask holding units and shield the exposure light emitted from the irradiation units, respectively, The portion includes at least two light shielding members that are movably arranged at different heights, and the upstream side surface of one of the two light shielding members in the predetermined direction and the other light shielding member The downstream side surface in the predetermined direction is inclined or curved with respect to the direction orthogonal to the predetermined direction, and the downstream side surface of the one light shielding member and the other light shielding member The upstream side surface is the above A scanning exposure apparatus that is formed in a straight line along the intersecting direction and irradiates the substrate with the exposure light through the mask and exposes the mask pattern onto the substrate. Scanning exposure method of
With the substrate being transported under the mask, the light shielding member is moved in the predetermined direction at the same speed as the substrate, thereby shielding the mask pattern and forming a light shielding region on the substrate. And a process of
In a state where the substrate is transported under the mask, the plurality of light shielding members after moving downstream with respect to the mask are moved in a direction opposite to the predetermined direction, and the mask being exposed Crossing the pattern and returning to the upstream side with respect to the mask;
Have
The light shielding step is performed in a state where the upstream side surface of the one light shielding member and the downstream side surface of the other light shielding member are overlapped,
The scanning exposure method, wherein the returning step is performed in a state where a downstream side surface of the one light shielding member and an upstream side surface of the other light shielding member overlap each other.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008265184A JP2010096833A (en) | 2008-10-14 | 2008-10-14 | Scanning exposure apparatus and scanning exposure method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008265184A JP2010096833A (en) | 2008-10-14 | 2008-10-14 | Scanning exposure apparatus and scanning exposure method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010096833A true JP2010096833A (en) | 2010-04-30 |
Family
ID=42258582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008265184A Pending JP2010096833A (en) | 2008-10-14 | 2008-10-14 | Scanning exposure apparatus and scanning exposure method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2010096833A (en) |
-
2008
- 2008-10-14 JP JP2008265184A patent/JP2010096833A/en active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3682395B2 (en) | Scanning exposure apparatus and scanning exposure method | |
JP5057382B2 (en) | Exposure apparatus and substrate manufacturing method | |
JP5598789B2 (en) | Light irradiation apparatus for exposure apparatus and exposure apparatus | |
JP2010092021A (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
JP2008040066A (en) | Exposure device | |
JP2009265313A (en) | Scanning exposure device and scanning exposure method | |
JP2009210598A (en) | Glass substrate, and proximity scan exposure apparatus, and proximity scan exposure method | |
JP5099318B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
JP2010096833A (en) | Scanning exposure apparatus and scanning exposure method | |
JP2011123263A (en) | Proximity exposure device and proximity exposure method | |
JP5077655B2 (en) | Proximity scan exposure apparatus and air pad | |
JP5499398B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
JP5288104B2 (en) | Scan exposure apparatus and scan exposure method | |
KR101766251B1 (en) | Exposure apparatus having blind and method of driving the same | |
JP6036958B2 (en) | Exposure equipment | |
JP2009265244A (en) | Scanning exposure device and scanning exposure method | |
JP5089258B2 (en) | Proximity scan exposure apparatus and exposure method therefor | |
JP2009122378A (en) | Scanning exposure apparatus | |
JP2008224754A (en) | Division sequential proximity exposure method and division sequential proximity exposure device | |
JP2008304835A (en) | Exposure apparatus | |
JP2008304852A (en) | Proximity scanning exposure apparatus | |
JP6762640B1 (en) | Exposure device | |
JP5304017B2 (en) | Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method | |
JP5105152B2 (en) | Proximity scan exposure apparatus and control method thereof | |
JP2012220722A (en) | Exposure device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20110815 |