JP2010085468A - Photocurable composition, photocurable composition for color filter, color filter and method for manufacturing the same, and solid-state imaging element - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光硬化性組成物、カラーフィルタ用光硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法、並びに、固体撮像素子に関する。 The present invention relates to a photocurable composition, a photocurable composition for a color filter, a color filter, a method for producing the same, and a solid-state imaging device.
光硬化性組成物としては、例えば、エチレン性不飽和結合を有するモノマーに光重合開始剤を加えたものがある。このような光硬化性組成物は、光を照射されることによって重合硬化するため、光硬化性インキ、感光性印刷版、カラーフィルタ、各種フォトレジスト等に用いられている。 Examples of the photocurable composition include those obtained by adding a photopolymerization initiator to a monomer having an ethylenically unsaturated bond. Since such a photocurable composition is polymerized and cured when irradiated with light, it is used in photocurable inks, photosensitive printing plates, color filters, various photoresists, and the like.
例えば、ＬＥＤ用のカラーフィルタの形成には、モノマーとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（以下、ＤＰＨＡと省略）のみを有する顔料レジストが用いられていた（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、ＤＰＨＡのみを用いると、現像時にアルカリ現像液によって除去されるべき顔料レジストが残渣として基板上に残ることがあった。
そこで、ＤＰＨＡに代えて、酸価が２５ｍｇＫＯＨ／ｍｇである酸基を有するモノマーを用いることが提案された（例えば、特許文献２参照）。
また、東亞合成（株）製ＴＯ１３８２として市販されている、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートのコハク酸エステルを主成分とする混合物を用いる方法も提案されている（例えば、特許文献３参照）。
しかしながら、特許文献３に具体的に記載されたモノマー成分（ＴＯ１３８２；東亞合成（株）製）を用いても、顔料を３５％以上の高濃度で用いた場合には、残渣が改良されない問題があった。
For example, in forming a color filter for LED, a pigment resist having only dipentaerythritol hexaacrylate (hereinafter abbreviated as DPHA) as a monomer has been used (see, for example, Patent Document 1). However, when only DPHA is used, a pigment resist to be removed by an alkaline developer during development sometimes remains on the substrate as a residue.
Therefore, it has been proposed to use a monomer having an acid group with an acid value of 25 mgKOH / mg instead of DPHA (see, for example, Patent Document 2).
Also proposed is a method using a mixture of succinic acid ester of dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, which is commercially available as TO1382 manufactured by Toagosei Co., Ltd. (For example, refer to Patent Document 3).
However, even when the monomer component specifically described in Patent Document 3 (TO1382; manufactured by Toagosei Co., Ltd.) is used, there is a problem that the residue is not improved when the pigment is used at a high concentration of 35% or more. there were.
一方、イメージセンサー用のカラーフィルタは、ＣＣＤなどの固体撮像素子の解像度向上の要求から、画素の大きさが、１９９０年代後半では５μｍ前後の大きさであったものが、近年では、２．５μｍ以下の大きさまで小さくなろうとしている。
画素が小さくなるに従い、未露光部のアルカリ現像液との接触面積が小さくなり、溶解不良による残渣の発生、パターン形状のテーパー化が多くなった。残渣の発生により隣り合う画素の感度が低下し、テーパー化の増大により隣り合う画素との混色や画素間の隙間が生じるため、固体撮像素子の再現画像においては、ノイズが大きくなり、ざらつきが目立つようになる等、画質を損ないやすい問題が発生している。
特に２．５μｍ以下の微細な画素パターンを形成する際には、未露光部の溶解性不良による残渣の発生が顕著であった。
その上、近年ＣＣＤなどの固体撮像素子の高集光性、かつ、高色分離性による画質向上のため、カラーフィルタの高着色濃度・薄膜化への強い要求がある。高着色濃度を得るために色材を多量に添加すると、更にアルカリ現像性が低下し、未露光部の除去性が不十分であった。
As the pixels became smaller, the contact area of the unexposed area with the alkaline developer decreased, resulting in the generation of residues due to poor dissolution and the tapering of the pattern shape. Due to the occurrence of residue, the sensitivity of adjacent pixels decreases, and due to increased taper, color mixing with adjacent pixels and gaps between pixels occur, resulting in increased noise and noticeable roughness in the reproduced image of the solid-state imaging device. There is a problem that the image quality tends to be impaired.
In particular, when a fine pixel pattern of 2.5 μm or less is formed, the generation of a residue due to poor solubility in the unexposed area was significant.
In addition, in recent years, there is a strong demand for high color density and thin film of color filters in order to improve image quality due to high light-condensing property and high color separation of a solid-state imaging device such as a CCD. When a large amount of coloring material was added to obtain a high coloring density, the alkali developability further deteriorated and the removability of unexposed areas was insufficient.
本発明は、前記従来技術における問題点を考慮してなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
本発明の第１の目的は、高感度で硬化し、未硬化部の除去性に優れ、良好なパターン形成性を有する光硬化性組成物、及びカラーフィルタ用光硬化性組成物を提供することにある。
更に、本発明の第２の目的は、良好な形状の着色パターンを有し、該着色パターンの非形成領域における残渣が抑制されたカラーフィルタ、及び該カラーフィルタを高い生産性で製造しうる製造方法、並びに、該カラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供することにある。
The present invention has been made in consideration of the problems in the prior art described above, and it is an object of the present invention to achieve the following objects.
The first object of the present invention is to provide a photocurable composition that is cured with high sensitivity, has excellent unremoved part removal properties, and has good pattern-forming properties, and a photocurable composition for a color filter. It is in.
Furthermore, the second object of the present invention is to provide a color filter having a colored pattern with a good shape, in which residues in the non-formation area of the colored pattern are suppressed, and a production capable of producing the color filter with high productivity. A method and a solid-state imaging device including the color filter are provided.
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、特定構造の重合性化合物を用いることで、前記課題を解決しうることが判明した。
具体的手段を以下に示す。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problem can be solved by using a polymerizable compound having a specific structure.
Specific means are shown below.
本発明の光硬化性組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される化合物、及び（Ｂ）光重合開始剤を含有することを特徴とする。 The photocurable composition of the present invention comprises (A) a compound represented by the following general formula (1), and (B) a photopolymerization initiator.
上記一般式（１）中、Ｚは酸基を有する２価の連結基を表し、Ｘ１及びＸ２は各々独立に置換基を有していてもよい２価の連結基を表し、Ｒ１及びＲ２は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。 In the general formula (1), Z represents a divalent linking group having an acid group, X 1 and X 2 each independently represent a divalent linking group which may have a substituent, and R 1 And R 2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group.
本発明において、（Ａ）一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（２）で表される化合物であることが好ましい。 In this invention, it is preferable that the compound represented by (A) general formula (1) is a compound represented by the following general formula (2).
上記一般式（２）中、Ｚは酸基を有する２価の連結基を表し、Ｙ１及びＹ２は各々独立に３価の連結基を表し、Ｒ１〜Ｒ４は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。 In the general formula (2), Z represents a divalent linking group having an acid group, Y 1 and Y 2 each independently represent a trivalent linking group, and R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom. Or represents a methyl group.
本発明においては、（Ｃ）着色剤を更に含有することが好ましく、（Ｃ）着色剤の含有量が、光硬化性組成物の全固形分に対して、５０質量％以上９０質量％以下であることがより好ましい。 In the present invention, it is preferable to further contain (C) a colorant, and the content of (C) the colorant is 50% by mass to 90% by mass with respect to the total solid content of the photocurable composition. More preferably.
本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物は、本発明の光硬化性組成物を含有することを特徴とする。
本発明のカラーフィルタは、支持体上に、本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物を用いてなる着色パターンを有することを特徴とする。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、支持体上に、本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物を塗布して光硬化性組成物層を形成する工程と、前記光硬化性組成物層をマスクを介して露光する工程と、露光後の前記光硬化性組成物層を現像して着色パターンを形成する工程と、を含むことを特徴とする。
更に、本発明の固体撮像素子は、本発明のカラーフィルタを備えたことを特徴とする。
The photocurable composition for a color filter of the present invention is characterized by containing the photocurable composition of the present invention.
The color filter of the present invention has a colored pattern formed on the support using the photocurable composition for a color filter of the present invention.
The method for producing a color filter of the present invention comprises a step of applying a photocurable composition for a color filter of the present invention on a support to form a photocurable composition layer, and the photocurable composition layer. A step of exposing through a mask; and a step of developing the photocurable composition layer after exposure to form a colored pattern.
Furthermore, the solid-state imaging device of the present invention includes the color filter of the present invention.
本発明によれば、高感度で硬化し、未硬化部の除去性に優れ、良好なパターン形成性を有する光硬化性組成物、及びカラーフィルタ用光硬化性組成物を提供することができる。
更に、本発明の第２の目的は、良好な形状の着色パターンを有し、該着色パターンの非形成領域における残渣が抑制されたカラーフィルタ、及び該カラーフィルタを高い生産性で製造しうる製造方法、並びに、該カラーフィルタを備えた固体撮像素子を提供することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the photocurable composition which is hardened | cured with high sensitivity, is excellent in the removability of an uncured part, and has favorable pattern formation property, and the photocurable composition for color filters can be provided.
Furthermore, the second object of the present invention is to provide a color filter having a colored pattern with a good shape, in which residues in the non-formation area of the colored pattern are suppressed, and a production capable of producing the color filter with high productivity. A solid-state imaging device including the method and the color filter can be provided.
＜光硬化性組成物＞
本発明の光硬化性組成物は（Ａ）一般式（１）で表される化合物、及び（Ｂ）光重合開始剤を含有することを特徴とする。
以下に、本発明の光硬化性組成物について、カラーフィルタ形成等に好適に用いうる光硬化性組成物を例に説明するが、本発明の光硬化性組成物は、これらに限定されるものではない。
<Photocurable composition>
The photocurable composition of the present invention comprises (A) a compound represented by the general formula (1), and (B) a photopolymerization initiator.
Hereinafter, the photocurable composition of the present invention will be described by taking a photocurable composition that can be suitably used for forming a color filter as an example, but the photocurable composition of the present invention is limited to these. is not.
−光硬化性組成物−
〔（Ａ）一般式（１）で表される化合物〕
本発明の光硬化性組成物は、（Ａ）一般式（１）で表される化合物（以下、適宜、「特定重合性化合物」と称する。）である。
-Photocurable composition-
[(A) Compound Represented by General Formula (1)]
The photocurable composition of the present invention is (A) a compound represented by the general formula (1) (hereinafter, appropriately referred to as “specific polymerizable compound”).
上記一般式（１）中、Ｚは酸基を有する２価の連結基を表し、Ｘ１及びＸ２は各々独立に置換基を有していてもよい２価の連結基を表し、Ｒ１及びＲ２は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。 In the general formula (1), Z represents a divalent linking group having an acid group, X 1 and X 2 each independently represent a divalent linking group which may have a substituent, and R 1 And R 2 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group.
一般式（１）におけるＺは、酸基を有する２価の連結基を表す。
ここで、酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ボロン酸基等が挙げられ、中でも、アルカリ現像性向上の点から、カルボン酸基、スルホン酸基が好ましい。
Z in the general formula (1) represents a divalent linking group having an acid group.
Here, examples of the acid group include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, and a boronic acid group. Among these, a carboxylic acid group and a sulfonic acid group are preferable from the viewpoint of improving alkali developability.
また、Ｚ中の酸基は、有機塩又は無機塩を形成していてもよい。この有機塩又は無機塩には、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アミン、アンモニウム、スルホニウムとの塩等が挙げられる。
アルカリ金属水酸化物塩としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられる。
アルカリ金属炭酸塩としては、例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が用いられる。
The acid group in Z may form an organic salt or an inorganic salt. Examples of the organic salt or inorganic salt include salts with alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates, amines, ammonium, sulfonium, and the like.
As the alkali metal hydroxide salt, for example, lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like are used.
Examples of the alkali metal carbonate include lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, and potassium hydrogen carbonate.
アミンとしては、例えば、アルカノールアミン、第１級アミン、第２級アミン、及び第３級アミン等が用いられる。
アルカノールアミンとしては、ヒドロキシアルキル基（炭素数２〜４）を有するモノ−、ジ−、トリ−若しくはテトラ−アルカノールアミンが使用でき、例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジプロパノールアミン及びモノブタノールアミン等が挙げられる。
第１級アミンとしては、アルキル基（炭素数１〜１２）を有する第１級アミンが使用でき、例えば、メチルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、オクチルアミン及びドデシルアミン等が挙げられる。
第２級アミンとしては、アルキル基（炭素数１〜１２）を有する第２級アミンが使用でき、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、メチルオクチルアミン及びエチルドデシルアミン等が挙げられる。
第３級アミンとしては、アルキル基（炭素数１〜１２）を有する第３級アミンが使用でき、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン及びジメチルドデシルアミン等が挙げられる。
As the amine, for example, alkanolamine, primary amine, secondary amine, and tertiary amine are used.
As the alkanolamine, mono-, di-, tri- or tetra-alkanolamines having a hydroxyalkyl group (2 to 4 carbon atoms) can be used, such as monoethanolamine, diethanolamine, dipropanolamine, and monobutanolamine. Is mentioned.
As the primary amine, a primary amine having an alkyl group (having 1 to 12 carbon atoms) can be used, and examples thereof include methylamine, isopropylamine, butylamine, octylamine, and dodecylamine.
As the secondary amine, a secondary amine having an alkyl group (having 1 to 12 carbon atoms) can be used, and examples thereof include dimethylamine, diethylamine, dibutylamine, methyloctylamine, and ethyldodecylamine.
As the tertiary amine, a tertiary amine having an alkyl group (having 1 to 12 carbon atoms) can be used, and examples thereof include triethylamine, tributylamine, and dimethyldodecylamine.
これらのアミンの他、第４級アンモニウムと塩を形成していてもよい。
第４級アンモニウムとしては、アルキル基（炭素数１〜１２）を有する第４級アンモニウムイオン等が使用でき、例えば、テトラメチルアンモニウムイオン、トリエチルメチルアンモニウムイオン、トリエチルブチルアンモニウムイオン、テトラヒドロキシエチルアンモニウムイオン、トリメチルドデシルアンモニウムイオン等が挙げられる。
In addition to these amines, salts with quaternary ammonium may be formed.
As the quaternary ammonium, a quaternary ammonium ion having an alkyl group (having 1 to 12 carbon atoms) can be used, for example, tetramethylammonium ion, triethylmethylammonium ion, triethylbutylammonium ion, tetrahydroxyethylammonium ion. And trimethyldodecyl ammonium ion.
前述した酸基が導入されている２価の連結基としては、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキレン基、炭素数２〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基、又は、炭素数６〜２０のアリーレン基（単環、複素環）等の炭化水素基、或いは、これらの炭化水素基と、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ−、−ＮＣ（＝Ｏ）Ｎ−、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−ＮＣ（＝Ｓ）−、−ＳＣ（＝Ｓ）−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ３−、−ＳＯ２Ｎ−、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−ＮＡｒ−、−Ｎ＝Ｎ−、又は、−Ｎ（＝ＮＨ）Ｎ−（ここで、Ｒは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、Ａｒは、アリール基（単環、ヘテロ環）を表す。）等の２価の基と、を適宜組み合わせてなる基が好ましいものとして挙げられる。 Examples of the divalent linking group into which the acid group is introduced include a linear or branched, chain or cyclic alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a linear or branched group having 2 to 20 carbon atoms, a linear or A hydrocarbon group such as a cyclic alkenylene group, an alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms (monocyclic or heterocyclic ring), or a hydrocarbon group thereof, and —C (= O) N-, -OC (= O) N-, -NC (= O) N-, -SC (= O) N-, -C (= S)-, -OC (= S)-, -NC (= S) -, - SC (= S) -, - O -, - C (= O) O -, - C (= O) -, - S -, - SO 2 -, - SO 3 -, - SO 2 N—, —NH—, —NR—, —NAr—, —N═N—, or —N (═NH) N— (wherein R represents an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group). , r is mentioned as the aryl group (monocyclic, heterocyclic) represents a.) a divalent formed by combining a base, a suitable group such preferred.
また、この酸基を有する２価の連結基は、置換基を有していてもよく、導入しうる置換基としては、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキル基、炭素数２〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のカルバモイルオキシ基、炭素数１〜２０のカルボンアミド基、炭素数１〜２０のスルホンアミド基、炭素数１〜２０のカルバモイル基、炭素数０〜２０のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜２０のＮ−アシルスルファモイル基、炭素数１〜２０のＮ−スルファモイルカルバモイル基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜２０のイミノ基、炭素数３〜２０のアンモニオ基、スルホ基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜２０のアリールスルフィニル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のウレイド基、炭素数２〜２０のヘテロ環基、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数０〜２０のスルファモイルアミノ基、炭素数２〜２０のシリル基、イソシアネート基、イソシアニド基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、オニウム基、アクリロイル基、メタクリロイル基、等が挙げられる。 The divalent linking group having an acid group may have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced include a linear or branched, linear or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. , A C2-C20 linear or branched, chain or cyclic alkenyl group, C2-C20 alkynyl group, C6-C20 aryl group, C1-C20 acyloxy group, C2-C2 ~ 20 alkoxycarbonyloxy group, C7-20 aryloxycarbonyloxy group, C1-20 carbamoyloxy group, C1-20 carbonamido group, C1-20 sulfonamido group, A carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, a sulfamoyl group having 0 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, and an aryloxycarbonyl having 7 to 20 carbon atoms An alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, an N-acylsulfamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an N-sulfamoylcarbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms, carbon An arylsulfonyl group having 6 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonylamino group having 2 to 20 carbon atoms, an aryloxycarbonylamino group having 7 to 20 carbon atoms, an amino group having 0 to 20 carbon atoms, an imino group having 1 to 20 carbon atoms, C3-C20 ammonio group, sulfo group, mercapto group, C1-C20 alkylsulfinyl group, C6-C20 arylsulfinyl group, C1-C20 alkylthio group, C6-C20 Arylthio group, ureido group having 1 to 20 carbon atoms, heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, acyl group having 1 to 20 carbon atoms, sulfa having 0 to 20 carbon atoms Ylamino group, silyl group having 2 to 20 carbon atoms, isocyanate group, isocyanide group, halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), hydroxyl group, cyano group, nitro group, onium group, acryloyl group, methacryloyl Group, and the like.
前述した酸基は、Ｚ中の連結基の主鎖に直接結合していてもよいし、前述のような置換基に結合していてもよい。 The acid group described above may be directly bonded to the main chain of the linking group in Z, or may be bonded to the substituent as described above.
以下に、Ｚで表される、酸基を有する２価の連結基の具体例を示す。以下に示される具体例中の酸基は、塩構造を有していてもよい。 Specific examples of the divalent linking group having an acid group represented by Z are shown below. The acid groups in the specific examples shown below may have a salt structure.
また、一般式（１）において、Ｘ１及びＸ２は各々独立に置換基を有していてもよい２価の連結基を表す。
この２価の連結基としては、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキレン基、炭素数２〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基、又は、炭素数６〜２０のアリーレン基（単環、複素環）等の炭化水素基、或いは、これらの炭化水素基と、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ−、−ＮＣ（＝Ｏ）Ｎ−、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−ＮＣ（＝Ｓ）−、−ＳＣ（＝Ｓ）−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−ＳＯ３−、−ＳＯ２Ｎ−、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−ＮＡｒ−、−Ｎ＝Ｎ−、又は、−Ｎ（＝ＮＨ）Ｎ−（ここで、Ｒは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、Ａｒは、アリール基（単環、ヘテロ環）を表す。）等の２価の基と、を適宜組み合わせてなる基が好ましいものとして挙げられる。
In the general formula (1), X 1 and X 2 each independently represent a divalent linking group which may have a substituent.
Examples of the divalent linking group include a linear or branched, chain or cyclic alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a linear or branched chain or cyclic alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, and a carbon number of 2 Hydrocarbon group such as -20 alkynylene group or arylene group having 6 to 20 carbon atoms (monocyclic or heterocyclic ring), or these hydrocarbon groups, and -C (= O) N-, -OC ( = O) N-, -NC (= O) N-, -SC (= O) N-, -C (= S)-, -OC (= S)-, -NC (= S)-, -SC (= S) -, - O -, - C (= O) O -, - C (= O) -, - S -, - SO 2 -, - SO 3 -, - SO 2 N -, - NH- , —NR—, —NAr—, —N═N—, or —N (═NH) N— (wherein R represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, Ar represents an aryl group (simple ring Divalent formed by combining a base, a suitable group of.), Etc. represents a heterocycle) it may be mentioned as preferred.
また、このような２価の連結基は、置換基を有していてもよく、導入しうる置換基としては、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキル基、炭素数２〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のカルバモイルオキシ基、炭素数１〜２０のカルボンアミド基、炭素数１〜２０のスルホンアミド基、炭素数１〜２０のカルバモイル基、炭素数０〜２０のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜２０のＮ−アシルスルファモイル基、炭素数１〜２０のＮ−スルファモイルカルバモイル基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜２０のイミノ基、炭素数３〜２０のアンモニオ基、スルホ基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜２０のアリールスルフィニル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のウレイド基、炭素数２〜２０のヘテロ環基、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数０〜２０のスルファモイルアミノ基、炭素数２〜２０のシリル基、イソシアネート基、イソシアニド基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、オニウム基、アクリロイル基、メタクリロイル基、等が挙げられる。 Such a divalent linking group may have a substituent, and examples of the substituent that can be introduced include a linear or branched, linear or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, carbon C2-C20 linear or branched, linear or cyclic alkenyl group, C2-C20 alkynyl group, C6-C20 aryl group, C1-C20 acyloxy group, C2-C20 Alkoxycarbonyloxy group, C7-20 aryloxycarbonyloxy group, C1-20 carbamoyloxy group, C1-20 carbonamido group, C1-20 sulfonamide group, carbon number 1-20 carbamoyl group, C0-20 sulfamoyl group, C1-20 alkoxy group, C6-20 aryloxy group, C7-20 aryloxycarbonyl group, carbon C2-C20 alkoxycarbonyl group, C1-C20 N-acylsulfamoyl group, C1-C20 N-sulfamoylcarbamoyl group, C1-C20 alkylsulfonyl group, C6 -20 arylsulfonyl group, C2-C20 alkoxycarbonylamino group, C7-20 aryloxycarbonylamino group, C0-20 amino group, C1-20 imino group, carbon number 3 to 20 ammonio groups, sulfo groups, mercapto groups, alkylsulfinyl groups having 1 to 20 carbon atoms, arylsulfinyl groups having 6 to 20 carbon atoms, alkylthio groups having 1 to 20 carbon atoms, arylthio groups having 6 to 20 carbon atoms , Ureido group having 1 to 20 carbon atoms, heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, acyl group having 1 to 20 carbon atoms, sulfamoyl having 0 to 20 carbon atoms Mino group, C2-C20 silyl group, isocyanate group, isocyanide group, halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), hydroxyl group, cyano group, nitro group, onium group, acryloyl group, methacryloyl Group, and the like.
以下に、Ｘ１及びＸ２で表される２価の連結基の具体例を示す。 Specific examples of the divalent linking group represented by X 1 and X 2 are shown below.
本発明において、一般式（１）で表される化合物の中でも、感度向上の観点で、下記一般式（２）で表される化合物を用いることが好ましい。 In the present invention, among the compounds represented by the general formula (1), it is preferable to use a compound represented by the following general formula (2) from the viewpoint of improving sensitivity.
上記一般式（２）中、Ｚは酸基を有する２価の連結基を表し、Ｙ１及びＹ２は各々独立に３価の連結基を表し、Ｒ１〜Ｒ４は各々独立に水素原子又はメチル基を表す。 In the general formula (2), Z represents a divalent linking group having an acid group, Y 1 and Y 2 each independently represent a trivalent linking group, and R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom. Or represents a methyl group.
一般式（２）におけるＺは、前記一般式（１）におけるＺと同義であり、好ましい例も同様である。 Z in the general formula (2) has the same meaning as Z in the general formula (1), and preferred examples thereof are also the same.
また、一般式（２）におけるＹ１及びＹ２は各々独立に３価の連結基を表す。
３価の連結基としては、以下に示す１価の基及び多価の基を適宜組み合わせてなる基が好ましいものとして挙げられる。
Y 1 and Y 2 in the general formula (2) each independently represent a trivalent linking group.
Preferred examples of the trivalent linking group include groups formed by appropriately combining the following monovalent group and polyvalent group.
以下に、Ｙ１及びＹ２で表される３価の連結基の好ましい具体例を示す。
一般式（１）で表される化合物の具体例としては、以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include the following, but the present invention is not limited thereto.
本発明における特定重合性化合物は、例えば、以下のスキームで合成することができる。
なお、点線は水素原子又はメチル基を表す。
The specific polymerizable compound in the present invention can be synthesized, for example, by the following scheme.
The dotted line represents a hydrogen atom or a methyl group.
このような特定重合性化合物は、硬化感度と残渣発生のバランスの観点から、光硬化性組成物の全固形分中、５質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、７質量％以上６０質量％以下がより好ましく、１０質量％以上５０質量％以下が更に好ましい。
なお、特定重合性化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
Such a specific polymerizable compound is preferably 5% by mass or more and 70% by mass or less, and preferably 7% by mass or more and 60% by mass or less in the total solid content of the photocurable composition from the viewpoint of the balance between curing sensitivity and residue generation. More preferably, it is 10 mass% or less and 50 mass% or less is still more preferable.
In addition, a specific polymeric compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
−他の重合性化合物−
本発明の光硬化性組成物には、本発明の効果を損ねない範囲において、特定重合性化合物以外の他の重合性化合物を含有してもよい。
-Other polymerizable compounds-
The photocurable composition of the present invention may contain a polymerizable compound other than the specific polymerizable compound as long as the effects of the present invention are not impaired.
他の重合性化合物としては、特定重合性化合物以外の化合物であって、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物から選択することができる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。 The other polymerizable compound is a compound other than the specific polymerizable compound, which is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and preferably has at least one terminal ethylenically unsaturated bond. Can be selected from two or more compounds. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート等がある。 Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, isocyanuric acid There are EO-modified triacrylate and the like.
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。 Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
その他のエステルの例として、例えば、特公昭５１−４７３３４、特開昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。 Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241, and JP-A-2-226149. Those having the aromatic skeleton described above and those having an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。 In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ４）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（Ｒ５）ＯＨ （Ａ）
（ただし、一般式（Ａ）中、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ、Ｈ又はＣＨ３を示す。）
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, in general formula (A), R 4 and R 5 each represent H or CH 3. )
また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光硬化性組成物を得ることができる。 Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, It is possible to obtain a photocurable composition that is extremely excellent in photosensitive speed.
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に、日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。 Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337 and JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like can also be mentioned. . In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, the Japan Adhesion Association magazine vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.
これらの付加重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、光硬化性組成物の最終的な性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、２官能以上が好ましい。また、硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基（例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、本発明の光硬化性組成物に含有される他の成分（例えば、光重合開始剤、着色剤（顔料、染料）等、バインダーポリマー等）との相溶性、分散性に対しても、付加重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体などの硬質表面との密着性を向上させる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these addition polymerizable compounds, the details of usage, such as the structure, single use or combination, addition amount, etc., can be arbitrarily set according to the final performance design of the photocurable composition. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether compound). A method of adjusting both sensitivity and intensity by using a combination of these materials is also effective.
In addition, for compatibility with other components (for example, photopolymerization initiator, colorant (pigment, dye), binder polymer, etc.) contained in the photocurable composition of the present invention, dispersibility, The selection and use method of the addition polymerizable compound is an important factor. For example, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a hard surface such as a support.
本発明において、特定重合性化合物とその他の重合性化合物とを併用する場合、本発明の光硬化性組成物中の全重合性化合物に対して、特定重合性化合物を１０質量％以上含むことが好ましく、３０質量％以上含むことがより好ましい。 In the present invention, when the specific polymerizable compound and other polymerizable compound are used in combination, the specific polymerizable compound may be contained in an amount of 10% by mass or more based on the total polymerizable compound in the photocurable composition of the present invention. Preferably, it is more preferably 30% by mass or more.
〔（Ｂ）光重合開始剤〕
本発明の光硬化性組成物は、（Ｂ）光重合開始剤を含有する。
本発明における光重合開始剤は、光により分解し、前述の（Ａ）特定重合性化合物の重合を開始、促進する化合物であることが好ましく、特に、波長３００〜５００ｎｍの領域に吸収を有するものであることが好ましい。また、光重合開始剤は、単独で、又は２種以上を併用して用いることができる。
[(B) Photopolymerization initiator]
The photocurable composition of the present invention contains (B) a photopolymerization initiator.
The photopolymerization initiator in the present invention is preferably a compound that decomposes by light and initiates and accelerates the polymerization of the above-mentioned specific polymerizable compound (A), and particularly has an absorption in a wavelength region of 300 to 500 nm. It is preferable that Moreover, a photoinitiator can be used individually or in combination of 2 or more types.
光重合開始剤としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、オキシジアゾール化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン（オキシド）化合物が挙げられる。 Examples of the photopolymerization initiator include organic halogenated compounds, oxydiazole compounds, carbonyl compounds, ketal compounds, benzoin compounds, acridine compounds, organic peroxide compounds, azo compounds, coumarin compounds, azide compounds, metallocene compounds, hexaaryls. Examples include rubiimidazole compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, oxime ester compounds, onium salt compounds, and acylphosphine (oxide) compounds.
有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Ｂｕｌｌ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特公昭４６−４６０５号公報、特開昭４８−３６２８１号公報、特開昭５５−３２０７０号公報、特開昭６０−２３９７３６号公報、特開昭６１−１６９８３５号公報、特開昭６１−１６９８３７号公報、特開昭６２−５８２４１号公報、特開昭６２−２１２４０１号公報、特開昭６３−７０２４３号公報、特開昭６３−２９８３３９号公報、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ“Ｊｕｒｎａｌ ｏｆ Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”１（Ｎｏ３），（１９７０）等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。 Specific examples of the organic halogenated compounds include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605, Japanese Unexamined Patent Publication No. 48-36281, Japanese Unexamined Patent Publication No. 55-3070, Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-239736, Japanese Unexamined Patent Publication No. 61-169835, Japanese Unexamined Patent Publication No. 61-169837, Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-58241. JP, 62-21401, JP 63-70243, 63-298339, M.M. P. Examples include compounds described in Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry” 1 (No 3), (1970), and particularly, oxazole compounds substituted with a trihalomethyl group, and s-triazine compounds.
ｓ−トリアジン化合物として、より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、２，４，６−トリス（モノクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２―ｎ−プロピル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−トリクロロエチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３，４−エポキシフェニル）−４、６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔１−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ブタジエニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ｉ−プロピルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ナトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ベンジルチオ−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メトキシ−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。 As the s-triazine compound, more preferably, an s-triazine derivative in which at least one mono-, di-, or trihalogen-substituted methyl group is bonded to the s-triazine ring, specifically, for example, 2,4,6- Tris (monochloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloro) Methyl) -s-triazine, 2- (3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- [1- (p-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-natoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) s-triazine, 2-phenylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) ) -S-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6- Bis (tribromomethyl) -s-triazine and the like can be mentioned.
オキシジアゾール化合物としては、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（シアノスチリル）−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ナフト−１−イル）−１，３，４−オキソジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−スチリル）スチリル−１，３，４−オキソジアゾールなどが挙げられる。 Examples of the oxydiazole compound include 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (cyanostyryl) -1,3,4-oxodiazole, 2- Examples include trichloromethyl-5- (naphth-1-yl) -1,3,4-oxodiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-styryl) styryl-1,3,4-oxodiazole, and the like. .
カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−２−メチルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−メチルー（４’−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノ−１−プロパノン、１，１，１−トリクロロメチル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４−モルホリノブチロフェノン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。 Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy-2 -Phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenylketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy -1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) , Acetophenone derivatives such as 2-benzyl-2-dimethylamino-4-morpholinobutyrophenone, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone Thioxanthone derivatives such as 2,4-diisopropylthioxanthone, and benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.
ケタール化合物としては、ベンジルメチルケタール、ベンジル−β−メトキシエチルエチルアセタールなどを挙げることができる。 Examples of the ketal compound include benzyl methyl ketal and benzyl-β-methoxyethyl ethyl acetal.
ベンゾイン化合物としては、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、メチルｏ−ベンゾイルベンゾエートなどを挙げることができる。 Examples of the benzoin compound include benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin methyl ether, and methyl o-benzoylbenzoate.
アクリジン化合物としては、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタンなどを挙げることができる。 Examples of the acridine compound include 9-phenylacridine, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, and the like.
有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシオクタノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等が挙げられる。 Examples of the organic peroxide compound include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxide). Oxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroper Oxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2 , -Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate , Dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert- Butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4 '-Tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate) , Carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.
アゾ化合物としては、例えば、特開平８−１０８６２１号公報に記載のアゾ化合物等を挙げることができる。 Examples of the azo compound include azo compounds described in JP-A-8-108621.
クマリン化合物としては、例えば、３−メチル−５−アミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン、３−クロロ−５−ジエチルアミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン、３−ブチル−５−ジメチルアミノ−（（ｓ−トリアジン−２−イル）アミノ）−３−フェニルクマリン等を挙げることができる。 Examples of the coumarin compound include 3-methyl-5-amino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, 3-chloro-5-diethylamino-((s-triazin-2-yl). ) Amino) -3-phenylcoumarin, 3-butyl-5-dimethylamino-((s-triazin-2-yl) amino) -3-phenylcoumarin, and the like.
アジド化合物としては、米国特許第２８４８３２８号明細書、米国特許第２８５２３７９号明細書ならびに米国特許第２９４０８５３号明細書に記載の有機アジド化合物、２，６−ビス（４−アジドベンジリデン）−４−エチルシクロヘキサノン（ＢＡＣ−Ｅ）等が挙げられる。 Examples of the azide compound include organic azide compounds described in U.S. Pat. No. 2,848,328, U.S. Pat. No. 2,852,379 and U.S. Pat. No. 2,940,553, 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4-ethyl. And cyclohexanone (BAC-E).
メタロセン化合物としては、特開昭５９−１５２３９６号公報、特開昭６１−１５１１９７号公報、特開昭６３−４１４８４号公報、特開平２−２４９号公報、特開平２−４７０５号公報、特開平５−８３５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−１５２１０９号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。 Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di- Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentaful Lophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny -1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4 , 5,6-pentafluorophen-1-yl, iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109, and the like.
ビイミダゾール系化合物としては、例えば、ヘキサアリールビイミダゾール化合物（ロフィンダイマー系化合物）等が好ましい。
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公昭４５−３７３７７号公報、特公昭４４−８６５１６号公報記載のロフィンダイマー類、特公平６−２９２８５号公報、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号等の各明細書に記載の種々の化合物、具体的には、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル））４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイジダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
As the biimidazole compound, for example, a hexaarylbiimidazole compound (rophine dimer compound) is preferable.
Examples of the hexaarylbiimidazole compound include lophine dimers described in JP-B-45-37377 and JP-B-44-86516, JP-B-6-29285, U.S. Pat. No. 3,479,185, and the like. Various compounds described in each specification such as 4,311,783 and 4,622,286, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl)) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) ) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra (m-methoxyphenyl) vididazole, 2, 2'-bis (o , O′-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5 Examples include '-tetraphenylbiimidazole.
有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開平９−１８８６８５号、特開平９−１８８６８６号、特開平９−１８８７１０号、特開２０００−１３１８３７、特開２００２−１０７９１６、特許第２７６４７６９号、特願２０００−３１０８０８号等の各公報、及び、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ“Ｒａｄ Ｔｅｃｈ’９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ Ａｐｒｉｌ １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ”等に記載される有機ホウ酸塩、特開平６−１５７６２３号公報、特開平６−１７５５６４号公報、特開平６−１７５５６１号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平６−１７５５５４号公報、特開平６−１７５５５３号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平９−１８８７１０号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。 Examples of the organic borate compound include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188865, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, JP-A-2000. -131837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application No. 2000-310808, and Kunz, Martin “Rad Tech '98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”. Organoboron salts, organoboron sulfonium complexes or organoboron oxosulfonium complexes described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, JP-A-6-175554 Described in JP-A-6-175553 Organic boron iodonium complexes, organic boron phosphonium complexes described in JP-A-9-188710, JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-306527. Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes and the like disclosed in JP-A-7-292014.
ジスルホン化合物としては、特開昭６１−１６６５４４号公報、特願２００１−１３２３１８号明細書等に記載される化合物等が挙げられる。 Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A No. 61-166544 and Japanese Patent Application No. 2001-132318.
オキシムエステル化合物としては、Ｊ．Ｃ．Ｓ． Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ （１９７９ ）１６５３−１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ． Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ （１９７９）１５６−１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５）２０２−２３２、特開２０００−６６３８５号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報、特表２００４−５３４７９７号公報記載の化合物等が挙げられる。 Examples of oxime ester compounds include J.M. C. S. Perkin II (1979) 1653-1660), J. MoI. C. S. Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, JP-A 2000-66385, compounds described in JP-A 2000-80068, JP-T 2004-534797 Compounds and the like.
光重合開始剤としてのオキシム化合物は、感度、経時安定性、後加熱時の着色の観点から、下記一般式（３）で表される化合物がより好ましい。 The oxime compound as a photopolymerization initiator is more preferably a compound represented by the following general formula (3) from the viewpoints of sensitivity, temporal stability, and coloring during post-heating.
一般式（３）中、Ｒ及びＸは各々独立に一価の置換基を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。ｎは１〜５の整数である。 In general formula (3), R and X each independently represent a monovalent substituent, A represents a divalent organic group, and Ar represents an aryl group. n is an integer of 1-5.
前記Ｒで表される一価の置換基としては、以下に示す一価の非金属原子団であることが好ましい。
Ｒで表される一価の非金属原子団としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基、置換基を有してもよいホスフィノイル基、置換基を有してもよい複素環基、置換基を有してもよいアルキルチオカルボニル基、置換基を有してもよいアリールチオカルボニル基、置換基を有してもよいジアルキルアミノカルボニル基、置換基を有してもよいジアルキルアミノチオカルボニル基等が挙げられる。
The monovalent substituent represented by R is preferably a monovalent nonmetallic atomic group shown below.
Examples of the monovalent nonmetallic atomic group represented by R include an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkenyl group which may have a substituent, and a substituent. An alkynyl group which may have a substituent, an alkylsulfinyl group which may have a substituent, an arylsulfinyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, and a substituent An arylsulfonyl group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, an alkoxycarbonyl group which may have a substituent, an aryloxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent. Good phosphinoyl group, heterocyclic group which may have a substituent, alkylthiocarbonyl group which may have a substituent, arylthiocarbonyl group which may have a substituent, dialkyl which may have a substituent Aminocal Group, optionally dialkylaminothiocarbonyl group, or the like may have a substituent.
置換基を有してもよいアルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクダデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、２−エチルヘキシル基、フェナシル基、１−ナフトイルメチル基、２−ナフトイルメチル基、４−メチルスルファニルフェナシル基、４−フェニルスルファニルフェナシル基、４−ジメチルアミノフェナシル基、４−シアノフェナシル基、４−メチルフェナシル基、２−メチルフェナシル基、３−フルオロフェナシル基、３−トリフルオロメチルフェナシル基、３−ニトロフェナシル基等が挙げられる。 As the alkyl group which may have a substituent, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is preferable, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, Okudadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, 1-ethylpentyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, 2-ethylhexyl group, phenacyl group, 1-naphthoylmethyl group 2-naphthoylmethyl group, 4-methylsulfanylphenacyl group, 4-phenylsulfanylphenacyl group, 4-dimethylaminophenacyl group, 4-cyanophenacyl group, 4-methylphenacyl group, 2-methylphenacyl group , 3-fluorophenacyl group, 3-trifluoromethylphenacyl group, 3-nitro Enashiru group, and the like.
置換基を有してもよいアリール基としては、炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、フェニル基、ビフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、９−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−トリル基、キシリル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等が挙げられる。 As the aryl group which may have a substituent, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms is preferable, and a phenyl group, a biphenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-anthryl group, a 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 9-fluorenyl group, terphenyl group, quarterphenyl group, o-, m-, and p-tolyl group, xylyl group, o- , M-, and p-cumenyl group, mesityl group, pentarenyl group, binaphthalenyl group, turnaphthalenyl group, quarternaphthalenyl group, heptaenyl group, biphenylenyl group, indacenyl group, fluoranthenyl group, acenaphthylenyl group, aceanthrylenyl group, Phenalenyl, fluorenyl, anthryl, bianthracenyl, teranthraceni Group, quarter anthracenyl group, anthraquinolyl group, phenanthryl group, triphenylenyl group, pyrenyl group, chrysenyl group, naphthacenyl group, preadenyl group, picenyl group, perylenyl group, pentaphenyl group, pentacenyl group, tetraphenylenyl group, hexa Examples thereof include a phenyl group, a hexacenyl group, a rubicenyl group, a coronenyl group, a trinaphthylenyl group, a heptaphenyl group, a heptacenyl group, a pyranthrenyl group, and an oberenyl group.
置換基を有してもよいアルケニル基としては、炭素数２〜１０のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基等が挙げられる。 As an alkenyl group which may have a substituent, a C2-C10 alkenyl group is preferable, for example, a vinyl group, an allyl group, a styryl group etc. are mentioned.
置換基を有してもよいアルキニル基としては、炭素数２〜１０のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、プロピニル基、プロパルギル基等が挙げられる。 The alkynyl group which may have a substituent is preferably an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include an ethynyl group, a propynyl group, and a propargyl group.
置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基が好ましく、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、デカノイルスルフィニル基、ドデカノイルスルフィニル基、オクタデカノイルスルフィニル基、シアノメチルスルフィニル基、メトキシメチルスルフィニル基等が挙げられる。 The alkylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group, a propylsulfinyl group, an isopropylsulfinyl group, a butylsulfinyl group, and a hexylsulfinyl group. Group, cyclohexylsulfinyl group, octylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, decanoylsulfinyl group, dodecanoylsulfinyl group, octadecanoylsulfinyl group, cyanomethylsulfinyl group, methoxymethylsulfinyl group and the like.
置換基を有してもよいアリールスルフィニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルフィニル基が好ましく、例えば、フェニルスルフィニル基、１−ナフチルスルフィニル基、２−ナフチルスルフィニル基、２−クロロフェニルスルフィニル基、２−メチルフェニルスルフィニル基、２−メトキシフェニルスルフィニル基、２−ブトキシフェニルスルフィニル基、３−クロロフェニルスルフィニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、３−シアノフェニルスルフィニル基、３−ニトロフェニルスルフィニル基、４−フルオロフェニルスルフィニル基、４−シアノフェニルスルフィニル基、４−メトキシフェニルスルフィニル基、４−メチルスルファニルフェニルスルフィニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルフィニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等が挙げられる。 The arylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfinyl group, 1-naphthylsulfinyl group, 2-naphthylsulfinyl group, 2-chlorophenylsulfinyl group, 2-methylphenylsulfinyl group, 2-methoxyphenylsulfinyl group, 2-butoxyphenylsulfinyl group, 3-chlorophenylsulfinyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfinyl group, 3-cyanophenylsulfinyl group, 3-nitrophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-cyanophenylsulfinyl group, 4-methoxyphenylsulfinyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfinyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfuric group Iniru group, 4-dimethylaminophenyl sulfinyl group and the like.
置換基を有してもよいアルキルスルホニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基が好ましく、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、デカノイルスルホニル基、ドデカノイルスルホニル基、オクタデカノイルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基、パーフルオロアルキルスルホニル基等が挙げられる。 The alkylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a hexylsulfonyl group. Group, cyclohexylsulfonyl group, octylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, decanoylsulfonyl group, dodecanoylsulfonyl group, octadecanoylsulfonyl group, cyanomethylsulfonyl group, methoxymethylsulfonyl group, perfluoroalkylsulfonyl group, etc. It is done.
置換基を有してもよいアリールスルホニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルホニル基が好ましく、例えば、フェニルスルホニル基、１−ナフチルスルホニル基、２−ナフチルスルホニル基、２−クロロフェニルスルホニル基、２−メチルフェニルスルホニル基、２−メトキシフェニルスルホニル基、２−ブトキシフェニルスルホニル基、３−クロロフェニルスルホニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、３−シアノフェニルスルホニル基、３−ニトロフェニルスルホニル基、４−フルオロフェニルスルホニル基、４−シアノフェニルスルホニル基、４−メトキシフェニルスルホニル基、４−メチルスルファニルフェニルスルホニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルホニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等が挙げられる。 The arylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfonyl group, a 1-naphthylsulfonyl group, a 2-naphthylsulfonyl group, a 2-chlorophenylsulfonyl group, 2-methylphenylsulfonyl group, 2-methoxyphenylsulfonyl group, 2-butoxyphenylsulfonyl group, 3-chlorophenylsulfonyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, 3-cyanophenylsulfonyl group, 3-nitrophenylsulfonyl group, 4-fluorophenylsulfonyl group, 4-cyanophenylsulfonyl group, 4-methoxyphenylsulfonyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-dimethylaminopheny Sulfonyl group, and the like.
置換基を有してもよいアシル基としては、炭素数２〜２０のアシル基が好ましく、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロメチルカルボニル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、４−メチルスルファニルベンゾイル基、４−フェニルスルファニルベンゾイル基、４−ジメチルアミノベンゾイル基、４−ジエチルアミノベンゾイル基、２−クロロベンゾイル基、２−メチルベンゾイル基、２−メトキシベンゾイル基、２−ブトキシベンゾイル基、３−クロロベンゾイル基、３−トリフルオロメチルベンゾイル基、３−シアノベンゾイル基、３−ニトロベンゾイル基、４−フルオロベンゾイル基、４−シアノベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基等が挙げられる。 The acyl group which may have a substituent is preferably an acyl group having 2 to 20 carbon atoms, for example, acetyl group, propanoyl group, butanoyl group, trifluoromethylcarbonyl group, pentanoyl group, benzoyl group, 1-naphthoyl. Group, 2-naphthoyl group, 4-methylsulfanylbenzoyl group, 4-phenylsulfanylbenzoyl group, 4-dimethylaminobenzoyl group, 4-diethylaminobenzoyl group, 2-chlorobenzoyl group, 2-methylbenzoyl group, 2-methoxybenzoyl Group, 2-butoxybenzoyl group, 3-chlorobenzoyl group, 3-trifluoromethylbenzoyl group, 3-cyanobenzoyl group, 3-nitrobenzoyl group, 4-fluorobenzoyl group, 4-cyanobenzoyl group, 4-methoxybenzoyl Groups and the like.
置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基等が挙げられる。 The alkoxycarbonyl group which may have a substituent is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, octyl. Examples thereof include an oxycarbonyl group, a decyloxycarbonyl group, an octadecyloxycarbonyl group, and a trifluoromethyloxycarbonyl group.
置換基を有してもよいアリールオキシカルボニル基としては、フェノキシカルボニル基、１−ナフチルオキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基、４−メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、４−フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、４−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、４−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、２−クロロフェニルオキシカルボニル基、２−メチルフェニルオキシカルボニル基、２−メトキシフェニルオキシカルボニル基、２−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、３−クロロフェニルオキシカルボニル基、３−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、３−シアノフェニルオキシカルボニル基、３−ニトロフェニルオキシカルボニル基、４−フルオロフェニルオキシカルボニル基、４−シアノフェニルオキシカルボニル基、４−メトキシフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。 The aryloxycarbonyl group which may have a substituent includes a phenoxycarbonyl group, a 1-naphthyloxycarbonyl group, a 2-naphthyloxycarbonyl group, a 4-methylsulfanylphenyloxycarbonyl group, and a 4-phenylsulfanylphenyloxycarbonyl group. 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-chlorophenyloxycarbonyl group, 2-methylphenyloxycarbonyl group, 2-methoxyphenyloxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxycarbonyl group, 3 -Chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl group, 3-nitrophenyloxycarbonyl group, 4-fur B phenyloxycarbonyl group, 4-cyanophenyl oxycarbonyl group, and 4-methoxyphenyloxycarbonyl group.
置換基を有してもよいホスフィノイル基としては、総炭素数２〜５０のホスフィノイル基が好ましく、例えば、ジメチルホスフィノイル基、ジエチルホスフィノイル基、ジプロピルホスフィノイル基、ジフェニルホスフィノイル基、ジメトキシホスフィノイル基、ジエトキシホスフィノイル基、ジベンゾイルホスフィノイル基、ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィノイル基等が挙げられる。 The phosphinoyl group which may have a substituent is preferably a phosphinoyl group having 2 to 50 carbon atoms, for example, dimethylphosphinoyl group, diethylphosphinoyl group, dipropylphosphinoyl group, diphenylphosphinoyl group. Group, dimethoxyphosphinoyl group, diethoxyphosphinoyl group, dibenzoylphosphinoyl group, bis (2,4,6-trimethylphenyl) phosphinoyl group and the like.
置換基を有してもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、芳香族或いは脂肪族の複素環が好ましい。例えば、チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、ナフト［２，３−ｂ］チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、２Ｈ−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、３Ｈ−インドリル基、インドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、４Ｈ−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、４ａＨ−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントニル基等が挙げられる。 The heterocyclic group that may have a substituent is preferably an aromatic or aliphatic heterocyclic ring containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. For example, thienyl group, benzo [b] thienyl group, naphtho [2,3-b] thienyl group, thiantenyl group, furyl group, pyranyl group, isobenzofuranyl group, chromenyl group, xanthenyl group, phenoxathinyl group, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, indolizinyl group, isoindolyl group, 3H-indolyl group, indolyl group, 1H-indazolyl group, purinyl group, 4H- Quinolidinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxanilyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, pteridinyl group, 4aH-carbazolyl group, carbazolyl group, β-carbolinyl group, phenanthridinyl group, acridinyl group, perimidinyl group Nyl group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, phenalsadinyl group, isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, phenoxazinyl group, isochromanyl group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, pyrrolinyl group, imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group Group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group, quinuclidinyl group, morpholinyl group, thioxanthonyl group and the like.
置換基を有してもよいアルキルチオカルボニル基としては、例えば、メチルチオカルボニル基、プロピルチオカルボニル基、ブチルチオカルボニル基、ヘキシルチオカルボニル基、オクチルチオカルボニル基、デシルチオカルボニル基、オクタデシルチオカルボニル基、トリフルオロメチルチオカルボニル基等が挙げられる。 Examples of the alkylthiocarbonyl group which may have a substituent include, for example, methylthiocarbonyl group, propylthiocarbonyl group, butylthiocarbonyl group, hexylthiocarbonyl group, octylthiocarbonyl group, decylthiocarbonyl group, octadecylthiocarbonyl group, Examples thereof include a trifluoromethylthiocarbonyl group.
置換基を有してもよいアリールチオカルボニル基としては、１−ナフチルチオカルボニル基、２−ナフチルチオカルボニル基、４−メチルスルファニルフェニルチオカルボニル基、４−フェニルスルファニルフェニルチオカルボニル基、４−ジメチルアミノフェニルチオカルボニル基、４−ジエチルアミノフェニルチオカルボニル基、２−クロロフェニルチオカルボニル基、２−メチルフェニルチオカルボニル基、２−メトキシフェニルチオカルボニル基、２−ブトキシフェニルチオカルボニル基、３−クロロフェニルチオカルボニル基、３−トリフルオロメチルフェニルチオカルボニル基、３−シアノフェニルチオカルボニル基、３−ニトロフェニルチオカルボニル基、４−フルオロフェニルチオカルボニル基、４−シアノフェニルチオカルボニル基、４−メトキシフェニルチオカルボニル基等が挙げられる。 Examples of the arylthiocarbonyl group which may have a substituent include 1-naphthylthiocarbonyl group, 2-naphthylthiocarbonyl group, 4-methylsulfanylphenylthiocarbonyl group, 4-phenylsulfanylphenylthiocarbonyl group, 4-dimethyl. Aminophenylthiocarbonyl group, 4-diethylaminophenylthiocarbonyl group, 2-chlorophenylthiocarbonyl group, 2-methylphenylthiocarbonyl group, 2-methoxyphenylthiocarbonyl group, 2-butoxyphenylthiocarbonyl group, 3-chlorophenylthiocarbonyl group Group, 3-trifluoromethylphenylthiocarbonyl group, 3-cyanophenylthiocarbonyl group, 3-nitrophenylthiocarbonyl group, 4-fluorophenylthiocarbonyl group, 4-cyanophenylthiocarbonyl group Boniru group, 4-methoxyphenyl thiocarbonyl group.
置換基を有してもよいジアルキルアミノカルボニル基としては、ジメチルアミノカルボニル基、ジメエルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカルボニル基、ジブチルアミノカルボニル基等が挙げられる。 Examples of the dialkylaminocarbonyl group that may have a substituent include a dimethylaminocarbonyl group, a dimethylaminocarbonyl group, a dipropylaminocarbonyl group, and a dibutylaminocarbonyl group.
置換基を有してもよいジアルキルアミノチオカルボニル基としては、ジメチルアミノチオカルボニル基、ジプロピルアミノチオカルボニル基、ジブチルアミノチオカルボニル基等が挙げられる。 Examples of the dialkylaminothiocarbonyl group which may have a substituent include a dimethylaminothiocarbonyl group, a dipropylaminothiocarbonyl group, and a dibutylaminothiocarbonyl group.
中でも、高感度化の点から、Ｒとしてはアシル基がより好ましく、具体的には、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、トルイル基が好ましい。 Among them, from the viewpoint of increasing sensitivity, R is more preferably an acyl group, and specifically, an acetyl group, a propionyl group, a benzoyl group, and a toluyl group are preferable.
前記Ａで表される二価の有機基としては、置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキレン、置換基を有してもよいシクロヘキシレン、置換基を有してもよいアルキニレンが挙げられる。
これらの基に導入しうる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、ｐ−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、ｐ−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。
中でも、Ａとしては、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、無置換のアルキレン基、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ドデシル基）で置換されたアルキレン基、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基）で置換されたアルキレン基、アリール基（例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、スチリル基）で置換されたアルキレン基が好ましい。
Examples of the divalent organic group represented by A include alkylene having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, cyclohexylene which may have a substituent, and alkynylene which may have a substituent. Is mentioned.
Examples of the substituent that can be introduced into these groups include halogen groups such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and tert-butoxy group, phenoxy group, p- Aryloxy groups such as tolyloxy group, alkoxycarbonyl groups such as methoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, acyloxy groups such as acetoxy group, propionyloxy group, benzoyloxy group, acetyl group, benzoyl group, isobutyryl group, acryloyl group Group, acyl group such as methacryloyl group, methoxalyl group, methylsulfanyl group, alkylsulfanyl group such as tert-butylsulfanyl group, arylsulfanyl group such as phenylsulfanyl group, p-tolylsulfanyl group, methylamino group, Alkylamino groups such as rohexylamino group, dialkylamino groups such as dimethylamino group, diethylamino group, morpholino group and piperidino group, arylamino groups such as phenylamino group and p-tolylamino group, methyl group, ethyl group, tert- In addition to alkyl groups such as butyl group and dodecyl group, phenyl groups, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group and the like, hydroxy group, carboxy group, formyl group, mercapto Group, sulfo group, mesyl group, p-toluenesulfonyl group, amino group, nitro group, cyano group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, trimethylsilyl group, phosphinico group, phosphono group, trimethylammonium group, dimethylsulfonyl group Group, triphenylphenacylphos Niumiru group, and the like.
Among them, A is an alkylene substituted with an unsubstituted alkylene group or an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group, or a dodecyl group) from the viewpoint of increasing sensitivity and suppressing coloration due to heating. Group, alkylene group substituted with alkenyl group (for example, vinyl group, allyl group), aryl group (for example, phenyl group, p-tolyl group, xylyl group, cumenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group, styryl group) An alkylene group substituted with
前記Ａｒで表されるアリール基としては、炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、また、置換基を有していてもよい。
具体的には、フェニル基、ビフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、９−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−トリル基、キシリル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等が挙げられる。中でも、感度を高め、加熱経時による着色を抑制する点から、置換又は無置換のフェニル基が好ましい。
The aryl group represented by Ar is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms and may have a substituent.
Specifically, phenyl group, biphenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 9-anthryl group, 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group 9-fluorenyl group, terphenyl group, quarterphenyl group, o-, m-, and p-tolyl group, xylyl group, o-, m-, and p-cumenyl group, mesityl group, pentalenyl group, binaphthalenyl group, Turnaphthalenyl group, Quarter naphthalenyl group, Heptaenyl group, Biphenylenyl group, Indacenyl group, Fluoranthenyl group, Acenaphthylenyl group, Aceantrirenyl group, Phenalenyl group, Fluorenyl group, Anthryl group, Bianthracenyl group, Teranthracenyl group, Quarter Anthracenyl group, anthraquinolyl group, phenanthri Group, triphenylenyl group, pyrenyl group, chrysenyl group, naphthacenyl group, preadenyl group, picenyl group, perylenyl group, pentaphenyl group, pentacenyl group, tetraphenylenyl group, hexaphenyl group, hexacenyl group, rubicenyl group, coronenyl group, A trinaphthylenyl group, a heptaphenyl group, a heptacenyl group, a pyrantrenyl group, an obalenyl group, and the like can be given. Of these, a substituted or unsubstituted phenyl group is preferable from the viewpoint of increasing sensitivity and suppressing coloring due to heating.
上記フェニル基が置換基を有している場合、その置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メチルチオキシ基、エチルチオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオキシ基等のアルキルチオキシ基、フェニルチオキシ基、ｐ−トリルチオキシ基等のアリールチオオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、ｐ−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、ｐ−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。 When the phenyl group has a substituent, examples of the substituent include halogen groups such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and tert-butoxy group. Group, aryloxy group such as phenoxy group, p-tolyloxy group, methylthioxy group, ethylthioxy group, alkylthioxy group such as tert-butylthioxy group, arylthiooxy group such as phenylthioxy group, p-tolyloxy group, methoxycarbonyl Groups, butoxycarbonyl groups, alkoxycarbonyl groups such as phenoxycarbonyl groups, acyloxy groups such as acetoxy groups, propionyloxy groups, benzoyloxy groups, acetyl groups, benzoyl groups, isobutyryl groups, acryloyl groups, methacryloyl groups, methoxalyl groups, etc. Group, Alkylsulfanyl groups such as tilsulfanyl group, tert-butylsulfanyl group, arylsulfanyl groups such as phenylsulfanyl group, p-tolylsulfanyl group, alkylamino groups such as methylamino group, cyclohexylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, Dialkylamino groups such as morpholino group and piperidino group, arylamino groups such as phenylamino group and p-tolylamino group, alkyl groups such as ethyl group, tert-butyl group and dodecyl group, hydroxy group, carboxy group, formyl group, mercapto Group, sulfo group, mesyl group, p-toluenesulfonyl group, amino group, nitro group, cyano group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, trimethylsilyl group, phosphinico group, phosphono group, trimethylammonium group, di Chill sulfo Niu mill group, triphenyl phenacyl phosphonium Niu mill group, and the like.
一般式（３）においては、前記Ａｒと隣接するＳとで形成される「ＳＡｒ」の構造が、以下に示す構造であることが感度の点で好ましい。 In the general formula (3), it is preferable in terms of sensitivity that the structure of “SAr” formed by Ar and adjacent S is the following structure.
前記Ｘで表される一価の置換基としては、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオキシ基、置換基を有してもよいアリールチオキシ基、置換基を有してもよいアシルオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルファニル基、置換基を有してもよいアリールスルファニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいカルバモイル基、置換基を有してもよいスルファモイル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいホスフィノイル基、置換基を有してもよい複素環基、ハロゲン基等が挙げられる。 Examples of the monovalent substituent represented by X include an alkyl group that may have a substituent, an aryl group that may have a substituent, an alkenyl group that may have a substituent, and a substituent. An alkynyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylthioxy group which may have a substituent, and a substituent. Good arylthioxy group, acyloxy group which may have a substituent, alkylsulfanyl group which may have a substituent, arylsulfanyl group which may have a substituent, alkyl which may have a substituent A sulfinyl group, an arylsulfinyl group which may have a substituent, an alkylsulfonyl group which may have a substituent, an arylsulfonyl group which may have a substituent, an acyl group which may have a substituent, May have a substituent An alkoxycarbonyl group, an optionally substituted carbamoyl group, an optionally substituted sulfamoyl group, an optionally substituted amino group, an optionally substituted phosphinoyl group, and a substituent A heterocyclic group, a halogen group and the like which may have
置換基を有してもよいアルキル基としては、炭素数１〜３０のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクダデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１−エチルペンチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、２−エチルヘキシル基、フェナシル基、１−ナフトイルメチル基、２−ナフトイルメチル基、４−メチルスルファニルフェナシル基、４−フェニルスルファニルフェナシル基、４−ジメチルアミノフェナシル基、４−シアノフェナシル基４−メチルフェナシル基、２−メチルフェナシル基、３−フルオロフェナシル基、３−トリフルオロメチルフェナシル基、３−ニトロフェナシル基等が挙げられる。 As the alkyl group which may have a substituent, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms is preferable, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, Okudadecyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, 1-ethylpentyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, 2-ethylhexyl group, phenacyl group, 1-naphthoylmethyl group 2-naphthoylmethyl group, 4-methylsulfanylphenacyl group, 4-phenylsulfanylphenacyl group, 4-dimethylaminophenacyl group, 4-cyanophenacyl group 4-methylphenacyl group, 2-methylphenacyl group, 3-fluorophenacyl group, 3-trifluoromethylphenacyl group, 3-ni Rofenashiru group, and the like.
置換基を有してもよいアリール基としては、炭素数６〜３０のアリール基が好ましく、フェニル基、ビフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、９−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−トリル基、キシリル基、ｏ−、ｍ−、及びｐ−クメニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基等がある。 As the aryl group which may have a substituent, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms is preferable, and a phenyl group, a biphenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 9-anthryl group, a 9-phenanthryl group, 1-pyrenyl group, 5-naphthacenyl group, 1-indenyl group, 2-azurenyl group, 9-fluorenyl group, terphenyl group, quarterphenyl group, o-, m-, and p-tolyl group, xylyl group, o- , M-, and p-cumenyl group, mesityl group, pentarenyl group, binaphthalenyl group, turnaphthalenyl group, quarternaphthalenyl group, heptaenyl group, biphenylenyl group, indacenyl group, fluoranthenyl group, acenaphthylenyl group, aceanthrylenyl group, Phenalenyl, fluorenyl, anthryl, bianthracenyl, teranthraceni Group, quarter anthracenyl group, anthraquinolyl group, phenanthryl group, triphenylenyl group, pyrenyl group, chrysenyl group, naphthacenyl group, preadenyl group, picenyl group, perylenyl group, pentaphenyl group, pentacenyl group, tetraphenylenyl group, hexa Examples include a phenyl group, a hexacenyl group, a rubicenyl group, a coronenyl group, a trinaphthylenyl group, a heptaphenyl group, a heptacenyl group, a pyrantrenyl group, and an oberenyl group.
置換基を有してもよいアルケニル基としては、炭素数２〜１０のアルケニル基が好ましく、例えば、ビニル基、アリル基、スチリル基等が挙げられる。 As an alkenyl group which may have a substituent, a C2-C10 alkenyl group is preferable, for example, a vinyl group, an allyl group, a styryl group etc. are mentioned.
置換基を有してもよいアルキニル基としては、炭素数２〜１０のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、プロピニル基、プロパルギル基等が挙げられる。 The alkynyl group which may have a substituent is preferably an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include an ethynyl group, a propynyl group, and a propargyl group.
置換基を有してもよいアルコキシ基としては、炭素数１〜３０のアルコキシ基が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシキ、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、エトキシカルボニルメチル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニルメチルオキシ基、アミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−メチルアミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−エチルアミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−オクチルアミノカルボニルメチルオキシ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノカルボニルメチルオキシ基、ベンジルオキシ基、シアノメチルオキシ基等が挙げられる。 The alkoxy group which may have a substituent is preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, or a sec-butoxy group. Tert-butoxy group, pentyloxy group, isopentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, decyloxy group, dodecyloxy group, octadecyloxy group, ethoxycarbonylmethyl group, 2 -Ethylhexyloxycarbonylmethyloxy group, aminocarbonylmethyloxy group, N, N-dibutylaminocarbonylmethyloxy group, N-methylaminocarbonylmethyloxy group, N-ethylaminocarbonylmethyloxy group, N-octylaminocarb Methylpropenylmethyl group, N- methyl -N- benzylaminocarbonyl methyloxy group, a benzyloxy group, and a cyanomethyloxy group.
置換基を有してもよいアリールオキシ基としては、炭素数６〜３０のアリールオキシ基が好ましく、例えば、フェニルオキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、２−クロロフェニルオキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、２−メトキシフェニルオキシ基、２−ブトキシフェニルオキシ基、３−クロロフェニルオキシ基、３−トリフルオロメチルフェニルオキシ基、３−シアノフェニルオキシ基、３−ニトロフェニルオキシ基、４−フルオロフェニルオキシ基、４−シアノフェニルオキシ基、４−メトキシフェニルオキシ基、４−ジメチルアミノフェニルオキシ基、４−メチルスルファニルフェニルオキシ基、４−フェニルスルファニルフェニルオキシ基等がある。 The aryloxy group which may have a substituent is preferably an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenyloxy group, a 1-naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 2-chlorophenyloxy group, 2-methylphenyloxy group, 2-methoxyphenyloxy group, 2-butoxyphenyloxy group, 3-chlorophenyloxy group, 3-trifluoromethylphenyloxy group, 3-cyanophenyloxy group, 3-nitrophenyloxy group, Examples include 4-fluorophenyloxy group, 4-cyanophenyloxy group, 4-methoxyphenyloxy group, 4-dimethylaminophenyloxy group, 4-methylsulfanylphenyloxy group, 4-phenylsulfanylphenyloxy group and the like.
置換基を有してもよいアルキルチオキシ基としては、炭素数１〜３０のチオアルコキシ基が好ましく、例えば、メチルチオキシ基、エチルチオキシ基、プロピルチオキシ基、イソプロピルチオキシ基、ブチルチオキシ基、イソブチルチオキシ基、ｓｅｃ−ブチルチオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオキシ基、ペンチルチオキシ基、イソペンチルチオキシ基、ヘキシルチオキシキ、ヘプチルチオキシ基、オクチルチオキシ基、２−エチルヘキシルチオキシ基、デシルチオキシ基、ドデシルチオキシ基、オクタデシルチオキシ基、ベンジルチオキシ基等が挙げられる。 The alkylthioxy group which may have a substituent is preferably a thioalkoxy group having 1 to 30 carbon atoms. For example, a methylthioxy group, an ethylthioxy group, a propylthioxy group, an isopropylthioxy group, a butylthioxy group, an isobutylthio group. Oxy group, sec-butylthioxy group, tert-butylthioxy group, pentylthioxy group, isopentylthioxy group, hexylthioxoxy, heptylthioxy group, octylthioxy group, 2-ethylhexylthioxy group, decylthioxy group, dodecylchioxy group Examples thereof include an oxy group, an octadecylthioxy group, and a benzylthioxy group.
置換基を有してもよいアリールチオキシ基としては、炭素数６〜３０のアリールチオキシ基が好ましく、例えば、フェニルチオキシ基、１−ナフチルチオキシ基、２−ナフチルチオキシ基、２−クロロフェニルチオキシ基、２−メチルフェニルチオキシ基、２−メトキシフェニルチオキシ基、２−ブトキシフェニルチオキシ基、３−クロロフェニルチオキシ基、３−トリフルオロメチルフェニルチオキシ基、３−シアノフェニルチオキシ基、３−ニトロフェニルチオキシ基、４−フルオロフェニルチオキシ基、４−シアノフェニルチオキシ基、４−メトキシフェニルチオキシ基、４−ジメチルアミノフェニルチオキシ基、４−メチルスルファニルフェニルチオキシ基、４−フェニルスルファニルフェニルチオキシ基等がある。 The arylthioxy group which may have a substituent is preferably an arylthioxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylthioxy group, a 1-naphthylthioxy group, a 2-naphthylthioxy group, 2 -Chlorophenylthioxy group, 2-methylphenylthioxy group, 2-methoxyphenylthioxy group, 2-butoxyphenylthioxy group, 3-chlorophenylthioxy group, 3-trifluoromethylphenylthioxy group, 3-cyano Phenylthioxy group, 3-nitrophenylthioxy group, 4-fluorophenylthioxy group, 4-cyanophenylthioxy group, 4-methoxyphenylthioxy group, 4-dimethylaminophenylthioxy group, 4-methylsulfanyl Examples thereof include a phenylthioxy group and a 4-phenylsulfanylphenylthioxy group.
置換基を有してもよいアシルオキシ基としては、炭素数２〜２０のアシルオキシ基が好ましく、例えば、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、トリフルオロメチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、１−ナフチルカルボニルオキシ基、２−ナフチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。 The acyloxy group which may have a substituent is preferably an acyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, such as an acetyloxy group, a propanoyloxy group, a butanoyloxy group, a pentanoyloxy group, or trifluoromethylcarbonyloxy. Group, benzoyloxy group, 1-naphthylcarbonyloxy group, 2-naphthylcarbonyloxy group and the like.
置換基を有してもよいアルキルスルファニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルファニル基が好ましく、例えば、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基、シクロヘキシルスルファニル基、オクチルスルファニル基、２−エチルヘキシルスルファニル基、デカノイルスルファニル基、ドデカノイルスルファニル基、オクタデカノイルスルファニル基、シアノメチルスルファニル基、メトキシメチルスルファニル基等が挙げられる。 The alkylsulfanyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfanyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methylsulfanyl group, an ethylsulfanyl group, a propylsulfanyl group, an isopropylsulfanyl group, a butylsulfanyl group, or a hexylsulfanyl group. Group, cyclohexylsulfanyl group, octylsulfanyl group, 2-ethylhexylsulfanyl group, decanoylsulfanyl group, dodecanoylsulfanyl group, octadecanoylsulfanyl group, cyanomethylsulfanyl group, methoxymethylsulfanyl group and the like.
置換基を有してもよいアリールスルファニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルファニル基が好ましく、例えば、フェニルスルファニル基、１−ナフチルスルファニル基、２−ナフチルスルファニル基、２−クロロフェニルスルファニル基、２−メチルフェニルスルファニル基、２−メトキシフェニルスルファニル基、２−ブトキシフェニルスルファニル基、３−クロロフェニルスルファニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルファニル基、３−シアノフェニルスルファニル基、３−ニトロフェニルスルファニル基、４−フルオロフェニルスルファニル基、４−シアノフェニルスルファニル基、４−メトキシフェニルスルファニル基、４−メチルスルファニルフェニルスルファニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルファニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルファニル基等が挙げられる。 The arylsulfanyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfanyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfanyl group, 1-naphthylsulfanyl group, 2-naphthylsulfanyl group, 2-chlorophenylsulfanyl group, 2-methylphenylsulfanyl group, 2-methoxyphenylsulfanyl group, 2-butoxyphenylsulfanyl group, 3-chlorophenylsulfanyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfanyl group, 3-cyanophenylsulfanyl group, 3-nitrophenylsulfanyl group, 4-fluorophenylsulfanyl group, 4-cyanophenylsulfanyl group, 4-methoxyphenylsulfanyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfanyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfuric group Aniru group, 4-dimethylamino-phenylsulfanyl group and the like.
置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基が好ましく、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、デカノイルスルフィニル基、ドデカノイルスルフィニル基、オクタデカノイルスルフィニル基、シアノメチルスルフィニル基、メトキシメチルスルフィニル基等が挙げられる。 The alkylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfinyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group, a propylsulfinyl group, an isopropylsulfinyl group, a butylsulfinyl group, and a hexylsulfinyl group. Group, cyclohexylsulfinyl group, octylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, decanoylsulfinyl group, dodecanoylsulfinyl group, octadecanoylsulfinyl group, cyanomethylsulfinyl group, methoxymethylsulfinyl group and the like.
置換基を有してもよいアリールスルフィニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルフィニル基が好ましく、例えば、フェニルスルフィニル基、１−ナフチルスルフィニル基、２−ナフチルスルフィニル基、２−クロロフェニルスルフィニル基、２−メチルフェニルスルフィニル基、２−メトキシフェニルスルフィニル基、２−ブトキシフェニルスルフィニル基、３−クロロフェニルスルフィニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、３−シアノフェニルスルフィニル基、３−ニトロフェニルスルフィニル基、４−フルオロフェニルスルフィニル基、４−シアノフェニルスルフィニル基、４−メトキシフェニルスルフィニル基、４−メチルスルファニルフェニルスルフィニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルフィニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等が挙げられる。 The arylsulfinyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfinyl group, 1-naphthylsulfinyl group, 2-naphthylsulfinyl group, 2-chlorophenylsulfinyl group, 2-methylphenylsulfinyl group, 2-methoxyphenylsulfinyl group, 2-butoxyphenylsulfinyl group, 3-chlorophenylsulfinyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfinyl group, 3-cyanophenylsulfinyl group, 3-nitrophenylsulfinyl group, 4-fluorophenylsulfinyl group, 4-cyanophenylsulfinyl group, 4-methoxyphenylsulfinyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfinyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfuric group Iniru group, 4-dimethylaminophenyl sulfinyl group and the like.
置換基を有してもよいアルキルスルホニル基としては、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基が好ましく、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、デカノイルスルホニル基、ドデカノイルスルホニル基、オクタデカノイルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メトキシメチルスルホニル基等が挙げられる。 The alkylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms. For example, a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a hexylsulfonyl group. Group, cyclohexylsulfonyl group, octylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, decanoylsulfonyl group, dodecanoylsulfonyl group, octadecanoylsulfonyl group, cyanomethylsulfonyl group, methoxymethylsulfonyl group and the like.
置換基を有してもよいアリールスルホニル基としては、炭素数６〜３０のアリールスルホニル基が好ましく、例えば、フェニルスルホニル基、１−ナフチルスルホニル基、２−ナフチルスルホニル基、２−クロロフェニルスルホニル基、２−メチルフェニルスルホニル基、２−メトキシフェニルスルホニル基、２−ブトキシフェニルスルホニル基、３−クロロフェニルスルホニル基、３−トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、３−シアノフェニルスルホニル基、３−ニトロフェニルスルホニル基、４−フルオロフェニルスルホニル基、４−シアノフェニルスルホニル基、４−メトキシフェニルスルホニル基、４−メチルスルファニルフェニルスルホニル基、４−フェニルスルファニルフェニルスルホニル基、４−ジメチルアミノフェニルスルホニル基等が挙げられる。 The arylsulfonyl group which may have a substituent is preferably an arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenylsulfonyl group, a 1-naphthylsulfonyl group, a 2-naphthylsulfonyl group, a 2-chlorophenylsulfonyl group, 2-methylphenylsulfonyl group, 2-methoxyphenylsulfonyl group, 2-butoxyphenylsulfonyl group, 3-chlorophenylsulfonyl group, 3-trifluoromethylphenylsulfonyl group, 3-cyanophenylsulfonyl group, 3-nitrophenylsulfonyl group, 4-fluorophenylsulfonyl group, 4-cyanophenylsulfonyl group, 4-methoxyphenylsulfonyl group, 4-methylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-phenylsulfanylphenylsulfonyl group, 4-dimethylaminopheny Sulfonyl group, and the like.
置換基を有してもよいアシル基としては、炭素数２〜２０のアシル基が好ましく、例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフルオロメチルカルボニル基、ペンタノイル基、ベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、４−メチルスルファニルベンゾイル基、４−フェニルスルファニルベンゾイル基、４−ジメチルアミノベンゾイル基、４−ジエチルアミノベンゾイル基、２−クロロベンゾイル基、２−メチルベンゾイル基、２−メトキシベンゾイル基、２−ブトキシベンゾイル基、３−クロロベンゾイル基、３−トリフルオロメチルベンゾイル基、３−シアノベンゾイル基、３−ニトロベンゾイル基、４−フルオロベンゾイル基、４−シアノベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基等が挙げられる。 The acyl group which may have a substituent is preferably an acyl group having 2 to 20 carbon atoms, for example, acetyl group, propanoyl group, butanoyl group, trifluoromethylcarbonyl group, pentanoyl group, benzoyl group, 1-naphthoyl. Group, 2-naphthoyl group, 4-methylsulfanylbenzoyl group, 4-phenylsulfanylbenzoyl group, 4-dimethylaminobenzoyl group, 4-diethylaminobenzoyl group, 2-chlorobenzoyl group, 2-methylbenzoyl group, 2-methoxybenzoyl Group, 2-butoxybenzoyl group, 3-chlorobenzoyl group, 3-trifluoromethylbenzoyl group, 3-cyanobenzoyl group, 3-nitrobenzoyl group, 4-fluorobenzoyl group, 4-cyanobenzoyl group, 4-methoxybenzoyl Groups and the like.
置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基としては、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基が好ましく、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基、１−ナフチルオキシカルボニル基、２−ナフチルオキシカルボニル基、４−メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、４−フェニルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、４−ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、４−ジエチルアミノフェニルオキシカルボニル基、２−クロロフェニルオキシカルボニル基、２−メチルフェニルオキシカルボニル基、２−メトキシフェニルオキシカルボニル基、２−ブトキシフェニルオキシカルボニル基、３−クロロフェニルオキシカルボニル基、３−トリフルオロメチルフェニルオキシカルボニル基、３−シアノフェニルオキシカルボニル基、３−ニトロフェニルオキシカルボニル基、４−フルオロフェニルオキシカルボニル基、４−シアノフェニルオキシカルボニル基、４−メトキシフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。 The alkoxycarbonyl group which may have a substituent is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, octyl. Oxycarbonyl group, decyloxycarbonyl group, octadecyloxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, trifluoromethyloxycarbonyl group, 1-naphthyloxycarbonyl group, 2-naphthyloxycarbonyl group, 4-methylsulfanylphenyloxycarbonyl group, 4- Phenylsulfanylphenyloxycarbonyl group, 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 4-diethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-chlorophenyloxycarbonyl group Group, 2-methylphenyloxycarbonyl group, 2-methoxyphenyloxycarbonyl group, 2-butoxyphenyloxycarbonyl group, 3-chlorophenyloxycarbonyl group, 3-trifluoromethylphenyloxycarbonyl group, 3-cyanophenyloxycarbonyl group , 3-nitrophenyloxycarbonyl group, 4-fluorophenyloxycarbonyl group, 4-cyanophenyloxycarbonyl group, 4-methoxyphenyloxycarbonyl group and the like.
置換基を有してもよいカルバモイル基としては、総炭素数１〜３０のカルバモイル基が好ましく、例えば、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ−プロピルカルバモイル基、Ｎ−ブチルカルバモイル基、Ｎ−ヘキシルカルバモイル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル基、Ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−デシルカルバモイル基、Ｎ−オクタデシルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ−２−メチルフェニルカルバモイル基、Ｎ−２−クロロフェニルカルバモイル基、Ｎ−２−イソプロポキシフェニルカルバモイル基、Ｎ−２−（２−エチルヘキシル）フェニルカルバモイル基、Ｎ−３−クロロフェニルカルバモイル基、Ｎ−３−ニトロフェニルカルバモイル基、Ｎ−３−シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−メトキシフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−メチルスルファニルフェニルカルバモイル基、Ｎ−４−フェニルスルファニルフェニルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジブチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ−ジフェニルカルバモイル基等が挙げられる。 The carbamoyl group which may have a substituent is preferably a carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, for example, an N-methylcarbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, an N-propylcarbamoyl group, or an N-butylcarbamoyl group. N-hexylcarbamoyl group, N-cyclohexylcarbamoyl group, N-octylcarbamoyl group, N-decylcarbamoyl group, N-octadecylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N-2-methylphenylcarbamoyl group, N-2- Chlorophenylcarbamoyl group, N-2-isopropoxyphenylcarbamoyl group, N-2- (2-ethylhexyl) phenylcarbamoyl group, N-3-chlorophenylcarbamoyl group, N-3-nitrophenylcarbamoyl group, N-3-cyanophenyl Carbamoyl group N-4-methoxyphenylcarbamoyl group, N-4-cyanophenylcarbamoyl group, N-4-methylsulfanylphenylcarbamoyl group, N-4-phenylsulfanylphenylcarbamoyl group, N-methyl-N-phenylcarbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-dibutylcarbamoyl group, N, N-diphenylcarbamoyl group and the like can be mentioned.
置換基を有してもよいスルファモイル基としては、総炭素数０〜３０のスルファモイル基が好ましく、例えば、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモオイル基等が挙げられる。より具体的には、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイル基、Ｎ−オクチルスルファモイル基、Ｎ−２−エチルヘキシルスルファモイル基、Ｎ−デシルスルファモイル基、Ｎ−オクタデシルスルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基、Ｎ−２−メチルフェニルスルファモイル基、Ｎ−２−クロロフェニルスルファモイル基、Ｎ−２−メトキシフェニルスルファモイル基、Ｎ−２−イソプロポキシフェニルスルファモイル基、Ｎ−３−クロロフェニルスルファモイル基、Ｎ−３−ニトロフェニルスルファモイル基、Ｎ−３−シアノフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−メトキシフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−シアノフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−ジメチルアミノフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−メチルスルファニルフェニルスルファモイル基、Ｎ−４−フェニルスルファニルフェニルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルスルファモイル基等が挙げられる。 The sulfamoyl group which may have a substituent is preferably a sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms, for example, a sulfamoyl group, an N-alkylsulfamoyl group, an N-arylsulfamoyl group, N, N- Examples thereof include a dialkylsulfamoyl group, an N, N-diarylsulfamoyl group, and an N-alkyl-N-arylsulfamoyl group. More specifically, N-methylsulfamoyl group, N-ethylsulfamoyl group, N-propylsulfamoyl group, N-butylsulfamoyl group, N-hexylsulfamoyl group, N-cyclohexylsulfur group. Famoyl group, N-octylsulfamoyl group, N-2-ethylhexylsulfamoyl group, N-decylsulfamoyl group, N-octadecylsulfamoyl group, N-phenylsulfamoyl group, N-2- Methylphenylsulfamoyl group, N-2-chlorophenylsulfamoyl group, N-2-methoxyphenylsulfamoyl group, N-2-isopropoxyphenylsulfamoyl group, N-3-chlorophenylsulfamoyl group, N-3-nitrophenylsulfamoyl group, N-3-cyanophenylsulfamoyl group, N-4-methoxyphenyl Nylsulfamoyl group, N-4-cyanophenylsulfamoyl group, N-4-dimethylaminophenylsulfamoyl group, N-4-methylsulfanylphenylsulfamoyl group, N-4-phenylsulfanylphenylsulfamoyl Group, N-methyl-N-phenylsulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N, N-dibutylsulfamoyl group, N, N-diphenylsulfamoyl group and the like.
置換基を有してもよいアミノ基としては、総炭素数０〜５０のアミノ基が好ましく、例えば、−ＮＨ２、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ−アシルアミノ基、Ｎ−スルホニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジスルホニルアミノ基等が挙げられる。より具体的には、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ―ブチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−オクチルアミノ基、Ｎ−２−エチルヘキシルアミノ基、Ｎ−デシルアミノ基、Ｎ−オクタデシルアミノ基、Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−２−メチルフェニルアミノ基、Ｎ−２−クロロフェニルアミノ基、Ｎ−２−メトキシフェニルアミノ基、Ｎ−２−イソプロポキシフェニルアミノ基、Ｎ−２−（２−エチルヘキシル）フェニルアミノ基、Ｎ−３−クロロフェニルアミノ基、Ｎ−３−ニトロフェニルアミノ基、Ｎ−３−シアノフェニルアミノ基、Ｎ−３−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、Ｎ−４−メトキシフェニルアミノ基、Ｎ−４−シアノフェニルアミノ基、Ｎ−４−トリフルオロメチルフェニルアミノ基、Ｎ−４−メチルスルファニルフェニルアミノ基、Ｎ−４−フェニルスルファニルフェニルアミノ基、Ｎ−４−ジメチルアミノフェニルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジアセチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジベンゾイルアミノ基、Ｎ、Ｎ−（ジブチルカルボニル）アミノ基、Ｎ、Ｎ−（ジメチルスルホニル）アミノ基、Ｎ、Ｎ−（ジエチルスルホニル）アミノ基、Ｎ、Ｎ−（ジブチルスルホニル）アミノ基、Ｎ、Ｎ−（ジフェニルスルホニル）アミノ基、モルホリノ基、３，５−ジメチルモルホリノ基、カルバゾール基等が挙げられる。 The amino group which may have a substituent is preferably an amino group having 0 to 50 carbon atoms in total, for example, —NH 2 , N-alkylamino group, N-arylamino group, N-acylamino group, N— Examples include sulfonylamino group, N, N-dialkylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, N, N-disulfonylamino group and the like. More specifically, N-methylamino group, N-ethylamino group, N-propylamino group, N-isopropylamino group, N-butylamino group, N-tert-butylamino group, N-hexylamino group, N-cyclohexylamino group, N-octylamino group, N-2-ethylhexylamino group, N-decylamino group, N-octadecylamino group, N-benzylamino group, N-phenylamino group, N-2-methylphenylamino Group, N-2-chlorophenylamino group, N-2-methoxyphenylamino group, N-2-isopropoxyphenylamino group, N-2- (2-ethylhexyl) phenylamino group, N-3-chlorophenylamino group, N-3-nitrophenylamino group, N-3-cyanophenylamino group, N-3-trifluoromethylphenyla Group, N-4-methoxyphenylamino group, N-4-cyanophenylamino group, N-4-trifluoromethylphenylamino group, N-4-methylsulfanylphenylamino group, N-4-phenylsulfanylphenylamino Group, N-4-dimethylaminophenylamino group, N-methyl-N-phenylamino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group, N, N-dibutylamino group, N, N-diphenyl Amino group, N, N-diacetylamino group, N, N-dibenzoylamino group, N, N- (dibutylcarbonyl) amino group, N, N- (dimethylsulfonyl) amino group, N, N- (diethylsulfonyl) Amino group, N, N- (dibutylsulfonyl) amino group, N, N- (diphenylsulfonyl) amino group, morpholino group, 3, - dimethyl morpholino group, and a carbazolyl group.
置換基を有してもよいホスフィノイル基としては、総炭素数２〜５０のホスフィノイル基が好ましく、例えば、ジメチルホスフィノイル基、ジエチルホスフィノイル基、ジプロピルホスフィノイル基、ジフェニルホスフィノイル基、ジメトキシホスフィノイル基、ジエトキシホスフィノイル基、ジベンゾイルホスフィノイル基、ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィノイル基等が挙げられる。 The phosphinoyl group which may have a substituent is preferably a phosphinoyl group having 2 to 50 carbon atoms, for example, dimethylphosphinoyl group, diethylphosphinoyl group, dipropylphosphinoyl group, diphenylphosphinoyl group. Group, dimethoxyphosphinoyl group, diethoxyphosphinoyl group, dibenzoylphosphinoyl group, bis (2,4,6-trimethylphenyl) phosphinoyl group and the like.
置換基を有してもよい複素環基としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子を含む、芳香族或いは脂肪族の複素環が好ましい。例えば、チエニル基、ベンゾ［ｂ］チエニル基、ナフト［２，３−ｂ］チエニル基、チアントレニル基、フリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、２Ｈ−ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、３Ｈ−インドリル基、インドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、プリニル基、４Ｈ−キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、４ａＨ−カルバゾリル基、カルバゾリル基、β−カルボリニル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、フェノキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントニル基等がある。 The heterocyclic group that may have a substituent is preferably an aromatic or aliphatic heterocyclic ring containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. For example, thienyl group, benzo [b] thienyl group, naphtho [2,3-b] thienyl group, thiantenyl group, furyl group, pyranyl group, isobenzofuranyl group, chromenyl group, xanthenyl group, phenoxathinyl group, 2H-pyrrolyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, pyridyl group, pyrazinyl group, pyrimidinyl group, pyridazinyl group, indolizinyl group, isoindolyl group, 3H-indolyl group, indolyl group, 1H-indazolyl group, purinyl group, 4H- Quinolidinyl group, isoquinolyl group, quinolyl group, phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxanilyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, pteridinyl group, 4aH-carbazolyl group, carbazolyl group, β-carbolinyl group, phenanthridinyl group, acridinyl group, perimidinyl group Nyl group, phenanthrolinyl group, phenazinyl group, phenalsadinyl group, isothiazolyl group, phenothiazinyl group, isoxazolyl group, furazanyl group, phenoxazinyl group, isochromanyl group, chromanyl group, pyrrolidinyl group, pyrrolinyl group, imidazolidinyl group, imidazolinyl group, pyrazolidinyl group Group, pyrazolinyl group, piperidyl group, piperazinyl group, indolinyl group, isoindolinyl group, quinuclidinyl group, morpholinyl group, thioxanthonyl group and the like.
ハロゲン基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等がある。 Examples of the halogen group include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
更に、前述した置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオキシ基、置換基を有してもよいアリールチオキシ基、置換基を有してもよいアシルオキシ基、置換基を有してもよいアルキルスルファニル基、置換基を有してもよいアリールスルファニル基、置換基を有してもよいアルキルスルフィニル基、置換基を有してもよいアリールスルフィニル基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基、置換基を有してもよいアシル基、置換基を有してもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいカルバモイル基、置換基を有してもよいスルファモイル基、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよい複素環基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。 Furthermore, the alkyl group which may have a substituent mentioned above, the aryl group which may have a substituent, the alkenyl group which may have a substituent, the alkynyl group which may have a substituent, a substituent An alkoxy group that may have a substituent, an aryloxy group that may have a substituent, an alkylthioxy group that may have a substituent, an arylthioxy group that may have a substituent, and a substituent. An acyloxy group which may have a substituent, an alkylsulfanyl group which may have a substituent, an arylsulfanyl group which may have a substituent, an alkylsulfinyl group which may have a substituent, and a substituent. Good arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group which may have a substituent, arylsulfonyl group which may have a substituent, acyl group which may have a substituent, alkoxycarbonyl which may have a substituent Base The carbamoyl group which may have a substituent, the sulfamoyl group which may have a substituent, the amino group which may have a substituent, and the heterocyclic group which may have a substituent may be further substituted. It may be substituted with a group.
そのような置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン基、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等のアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基等のアシル基、メチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基等のアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、ｐ−トリルスルファニル基等のアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基等のアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基等のジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−トリルアミノ基等のアリールアミノ基、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ドデシル基等のアルキル基、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基等のアリール基等の他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、ｐ−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基、トリメチルアンモニウミル基、ジメチルスルホニウミル基、トリフェニルフェナシルホスホニウミル基等が挙げられる。 Examples of such a substituent include halogen groups such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group and tert-butoxy group, phenoxy group and p-tolyloxy group. Aryloxy group, alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, acyloxy group such as acetoxy group, propionyloxy group, benzoyloxy group, acetyl group, benzoyl group, isobutyryl group, acryloyl group, methacryloyl group , Acyl group such as methoxalyl group, alkylsulfanyl group such as methylsulfanyl group, tert-butylsulfanyl group, arylsulfanyl group such as phenylsulfanyl group, p-tolylsulfanyl group, methylamino group, cyclohexyl Alkylamino group such as mino group, dimethylamino group, diethylamino group, morpholino group, dialkylamino group such as piperidino group, arylamino group such as phenylamino group, p-tolylamino group, methyl group, ethyl group, tert-butyl group In addition to alkyl groups such as dodecyl group, phenyl groups, p-tolyl groups, xylyl groups, cumenyl groups, naphthyl groups, anthryl groups, phenanthryl groups, etc., hydroxy groups, carboxy groups, formyl groups, mercapto groups, Sulfo group, mesyl group, p-toluenesulfonyl group, amino group, nitro group, cyano group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, trimethylsilyl group, phosphinico group, phosphono group, trimethylammonium group, dimethylsulfonyl group, Triphenylphenacylphosphoniumyl group And the like.
これらの中でも、Ｘとしては、溶剤溶解性と長波長領域の吸収効率向上の点から、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルチオキシ基、置換基を有してもよいアリールチオキシ基、置換基を有してもよいアミノ基が好ましい。
また、一般式（３）におけるｎは０〜５の整数を表すが、０〜２の整数が好ましい。
Among these, X has an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, and a substituent from the viewpoint of improving solvent solubility and absorption efficiency in the long wavelength region. An alkenyl group which may have a substituent, an alkynyl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, an aryloxy group which may have a substituent, an alkylthioxy which may have a substituent A group, an arylthioxy group which may have a substituent, and an amino group which may have a substituent are preferable.
Moreover, although n in General formula (3) represents the integer of 0-5, the integer of 0-2 is preferable.
以下、一般式（３）で表されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, although the specific example of an oxime compound represented by General formula (3) is shown below, this invention is not limited to these.
一般式（３）で表されるオキシム化合物は、光により分解し、重合性化合物の重合を開始、促進する光重合開始剤としての機能を有する。特に、該オキシム化合物は３６５ｎｍや４０５ｎｍの光源に優れた感度を有する。 The oxime compound represented by the general formula (3) has a function as a photopolymerization initiator that decomposes by light and initiates and accelerates polymerization of the polymerizable compound. In particular, the oxime compound has excellent sensitivity to a light source of 365 nm or 405 nm.
オニウム塩化合物としては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号明細書、特開平４−３６５０４９号等に記載のアンモニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第１０４、１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号の各明細書、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号の各公報に記載のヨードニウム塩などが挙げられる。 Examples of onium salt compounds include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in U.S. Pat. No. 4,069,055, ammonium salts described in JP-A-4-365049, U.S. Pat. No. 4,069, No. 055, No. 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104 and 143, U.S. Pat. Nos. 339,049 and 410,201, JP Examples include iodonium salts described in JP-A No. -150848 and JP-A-2-296514.
本発明に好適に用いることのできるヨードニウム塩は、ジアリールヨードニウム塩であり、安定性の観点から、アルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基等の電子供与性基で２つ以上置換されていることが好ましい。また、その他の好ましいスルホニウム塩の形態として、トリアリールスルホニウム塩の１つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、３００ｎｍ以上に吸収を有するヨードニウム塩などが好ましい。 The iodonium salt that can be suitably used in the present invention is a diaryl iodonium salt, and is preferably substituted with two or more electron donating groups such as an alkyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group from the viewpoint of stability. . In addition, as another preferable form of the sulfonium salt, an iodonium salt in which one substituent of the triarylsulfonium salt has a coumarin or an anthraquinone structure and absorption at 300 nm or more is preferable.
本発明に好適に用いることのできるスルホニウム塩としては、欧州特許第３７０，６９３号、同３９０，２１４号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同１６１，８１１号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号の各明細書に記載のスルホニウム塩が挙げられ、安定性の感度点から好ましくは電子吸引性基で置換されていることが好ましい。電子吸引性基としては、ハメット値が０より大きいことが好ましい。好ましい電子吸引性基としては、ハロゲン原子、カルボン酸などが挙げられる。
また、その他の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩の１つの置換基がクマリン、アントアキノン構造を有し、３００ｎｍ以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。別の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩が、アリロキシ基、アリールチオ基を置換基に有する３００ｎｍ以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。
Examples of the sulfonium salt that can be suitably used in the present invention include European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, 297,442, and U.S. Pat. 933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, Germany Examples thereof include sulfonium salts described in the specifications of Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580, and 3,604,581, and are preferably electron withdrawing groups from the viewpoint of stability. It is preferably substituted. The electron withdrawing group preferably has a Hammett value greater than zero. Preferred electron-withdrawing groups include halogen atoms and carboxylic acids.
Other preferable sulfonium salts include sulfonium salts in which one substituent of the triarylsulfonium salt has a coumarin or anthraquinone structure and absorbs at 300 nm or more. As another preferable sulfonium salt, a sulfonium salt in which the triarylsulfonium salt has an allyloxy group or an arylthio group as a substituent and has absorption at 300 nm or more can be mentioned.
また、オニウム塩化合物としては、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。 Moreover, as an onium salt compound, J.M. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.
アシルホスフィン（オキシド）化合物としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製のイルガキュア８１９、ダロキュア４２６５、ダロキュアＴＰＯなどが挙げられる。 Examples of the acylphosphine (oxide) compound include Irgacure 819, Darocur 4265, Darocur TPO and the like manufactured by Ciba Specialty Chemicals.
本発明に用いられる（Ｂ）光重合開始剤としては、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン系化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、メタロセン化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム系化合物、ベンゾチアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体及びその塩、ハロメチルオキサジアゾール化合物、３−アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。 As the photopolymerization initiator (B) used in the present invention, from the viewpoint of exposure sensitivity, a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethyl ketal compound, an α-hydroxyketone compound, an α-aminoketone compound, an acylphosphine compound, phosphine Oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds and derivatives thereof, cyclopentadiene-benzene-iron complexes and salts thereof, halomethyl oxa Compounds selected from the group consisting of diazole compounds and 3-aryl substituted coumarin compounds are preferred.
更に好ましくは、トリハロメチルトリアジン系化合物、α−アミノケトン化合物、アシルホスフィン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、オニウム系化合物、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物であり、トリハロメチルトリアジン系化合物、α−アミノケトン化合物、オキシム系化合物、トリアリルイミダゾールダイマー、ベンゾフェノン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物が最も好ましい。 More preferably, they are trihalomethyltriazine compounds, α-aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, oxime compounds, triallylimidazole dimers, onium compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, and trihalo. Most preferred is at least one compound selected from the group consisting of a methyltriazine compound, an α-aminoketone compound, an oxime compound, a triallylimidazole dimer, and a benzophenone compound.
特に、本発明の光硬化性組成物をカラーフィルタの固体撮像素子の作製に使用する場合には、微細な画素をシャープな形状で形成する必要があるために、硬化性とともに未露光部に残渣がなく現像されることが重要である。このような観点からは、オキシム系化合物が特に好ましい。特に、固体撮像素子において微細な画素を形成する場合、硬化用露光にステッパー露光を用いるが、この露光機はハロゲンにより損傷される場合があり、光重合開始剤の添加量も低く抑える必要があるため、これらの点を考慮すれば、固体撮像素子の如き微細着色パターンを形成するには（Ｂ）光重合開始剤としては、オキシム系化合物を用いるのが最も好ましいといえる。 In particular, when the photocurable composition of the present invention is used for the production of a solid-state image pickup device for a color filter, it is necessary to form fine pixels with a sharp shape, so that a residue is left in the unexposed area along with the curability. It is important that there is no development. From such a viewpoint, an oxime compound is particularly preferable. In particular, when fine pixels are formed in a solid-state imaging device, stepper exposure is used for curing exposure, but this exposure machine may be damaged by halogen, and the amount of photopolymerization initiator added must be kept low. Therefore, in view of these points, it can be said that it is most preferable to use an oxime compound as the photopolymerization initiator (B) to form a finely colored pattern such as a solid-state imaging device.
本発明の光硬化性組成物に含有される（Ｂ）光重合開始剤の含有量は、光硬化性組成物の全固形分に対し０．１質量％〜５０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５質量％〜３０質量％、更に好ましくは１質量％〜２０質量％である。この範囲で、良好な感度とパターン形成性が得られる。 The content of the (B) photopolymerization initiator contained in the photocurable composition of the present invention is preferably 0.1% by mass to 50% by mass with respect to the total solid content of the photocurable composition, More preferably, it is 0.5 mass%-30 mass%, More preferably, it is 1 mass%-20 mass%. Within this range, good sensitivity and pattern formability can be obtained.
〔（Ｃ）着色剤〕
本発明の光硬化性組成物は（Ｃ）着色剤を含有することが好ましい。着色剤を含有することにより、所望色の着色光硬化性組成物を得ることができる。
なお、本発明の光硬化性組成物は、優れた硬化感度を有する（Ａ）特定重合性化合物を含有するため、着色剤を高濃度に含有する場合にも高感度に硬化することができる。
[(C) Colorant]
The photocurable composition of the present invention preferably contains (C) a colorant. By containing a colorant, a colored photocurable composition having a desired color can be obtained.
In addition, since the photocurable composition of this invention contains the (A) specific polymeric compound which has the outstanding hardening sensitivity, even when it contains a coloring agent in high concentration, it can harden | cure with high sensitivity.
本発明の光硬化性組成物において用いられる着色剤は特に限定されるものではなく、従来公知の種々の染料や顔料を１種又は２種以上混合して用いることができ、これらは光硬化性組成物の用途に応じて適宜選択される。本発明の光硬化性組成物は、カラーフィルタ製造に適用するものであるため、カラーフィルタの色画素を形成するＲ、Ｇ、Ｂ等の有彩色系の着色剤、及びブラックマトリクス形成用に一般に用いられている黒色系の着色剤のいずれをも用いることができる。 The colorant used in the photocurable composition of the present invention is not particularly limited, and various conventionally known dyes and pigments can be used singly or as a mixture of two or more, and these are photocurable. It is suitably selected according to the use of the composition. Since the photocurable composition of the present invention is applied to the production of color filters, it is generally used for the formation of chromatic colorants such as R, G, and B that form color pixels of color filters, and black matrices. Any of the black colorants used can be used.
以下、本発明の光硬化性組成物に適用しうる着色剤について、カラーフィルタ用途に好適な着色剤を例に詳述する。 Hereinafter, the colorant that can be applied to the photocurable composition of the present invention will be described in detail using a colorant suitable for a color filter application as an example.
有彩色系の顔料としては、従来公知の種々の無機顔料又は有機顔料を用いることができる。また、無機顔料であれ有機顔料であれ、高透過率であることが好ましいことを考慮すると、なるべく細かいものの使用が好ましく、ハンドリング性をも考慮すると、上記顔料の平均粒子径は、０．０１μｍ以上０．１μｍ以下が好ましく、０．０１μｍ以上０．０５μｍ以下がより好ましい。 As the chromatic pigment, various conventionally known inorganic pigments or organic pigments can be used. Further, considering that it is preferable to have a high transmittance, whether it is an inorganic pigment or an organic pigment, it is preferable to use a fine one as much as possible, and considering the handling property, the average particle diameter of the pigment is 0.01 μm or more. 0.1 μm or less is preferable, and 0.01 μm or more and 0.05 μm or less is more preferable.
無機顔料としては、金属酸化物、金属錯塩等で示される金属化合物を挙げることができ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモン等の金属酸化物、及び前記金属の複合酸化物を挙げることができる。 Examples of inorganic pigments include metal compounds represented by metal oxides, metal complex salts, and the like. Specifically, iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, antimony, etc. And metal oxides of the above metals.
有機顔料としては、例えば、
Ｃ．Ｉ．ピグメント イエロー １１， ２４， ３１， ５３， ８３， ９３， ９９， １０８， １０９， １１０， １３８， １３９， １４７， １５０， １５１， １５４， １５５， １６７， １８０， １８５， １９９， ；
Ｃ．Ｉ．ピグメント オレンジ３６， ３８， ４３， ７１；
Ｃ．Ｉ．ピグメント レッド８１， １０５， １２２， １４９， １５０， １５５， １７１， １７５， １７６， １７７，２０９， ２２０， ２２４， ２４２， ２５４， ２５５， ２６４， ２７０；
Ｃ．Ｉ．ピグメント バイオレット １９， ２３， ３２， ３９；
Ｃ．Ｉ．ピグメント ブルー １， ２， １５， １５：１， １５：３， １５：６， １６， ２２， ６０， ６６；
Ｃ．Ｉ．ピグメント グリーン ７， ３６， ３７；
Ｃ．Ｉ．ピグメント ブラウン ２５， ２８；
Ｃ．Ｉ．ピグメント ブラック １， ７；
カーボンブラック等を挙げることができる。
As an organic pigment, for example,
C. I. Pigment Yellow 11, 24, 31, 53, 83, 93, 99, 108, 109, 110, 138, 139, 147, 150, 151, 154, 155, 167, 180, 185, 199,;
C. I. Pigment orange 36, 38, 43, 71;
C. I. Pigment Red 81, 105, 122, 149, 150, 155, 171, 175, 176, 177, 209, 220, 224, 242, 254, 255, 264, 270;
C. I. Pigment violet 19, 23, 32, 39;
C. I. Pigment blue 1, 2, 15, 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66;
C. I. Pigment green 7, 36, 37;
C. I. Pigment brown 25, 28;
C. I. Pigment black 1, 7;
Examples thereof include carbon black.
本発明では、特に顔料の構造式中に塩基性のＮ原子をもつものを好ましく用いることができる。これら塩基性のＮ原子をもつ顔料は光硬化性組成物中で良好な分散性を示す。その原因については十分解明されていないが、感光性重合成分と顔料との親和性の良さが影響しているものと推定される。 In the present invention, those having a basic N atom in the structural formula of the pigment can be preferably used. These pigments having a basic N atom exhibit good dispersibility in the photocurable composition. Although the cause is not fully elucidated, it is presumed that the good affinity between the photosensitive polymerization component and the pigment has an influence.
本発明において好ましく用いることができる顔料として、以下のものを挙げることができる。但し本発明は、これらに限定されるものではない。 Examples of the pigment that can be preferably used in the present invention include the following. However, the present invention is not limited to these.
Ｃ．Ｉ．ピグメント イエロー １１， ２４， １０８， １０９， １１０， １３８， １３９， １５０， １５１， １５４， １６７， １８０， １８５，
Ｃ．Ｉ．ピグメント オレンジ３６， ７１，
Ｃ．Ｉ．ピグメント レッド １２２， １５０， １７１， １７５， １７７， ２０９， ２２４， ２４２， ２５４， ２５５， ２６４，
Ｃ．Ｉ．ピグメント バイオレット １９， ２３， ３２，
Ｃ．Ｉ．ピグメント ブルー １５：１， １５：３， １５：６， １６， ２２， ６０， ６６，
Ｃ．Ｉ．ピグメント ブラック １
C. I. Pigment Yellow 11, 24, 108, 109, 110, 138, 139, 150, 151, 154, 167, 180, 185
C. I. Pigment orange 36, 71,
C. I. Pigment Red 122, 150, 171, 175, 177, 209, 224, 242, 254, 255, 264
C. I. Pigment violet 19, 23, 32,
C. I. Pigment Blue 15: 1, 15: 3, 15: 6, 16, 22, 60, 66,
C. I. Pigment Black 1
これら有機顔料は、単独で、若しくは、色純度を上げるため種々組合せて用いることができる。組合せの具体例を以下に示す。
例えば、赤の顔料として、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料を単独で用いてもよいが、それらの少なくとも１種と、ジスアゾ系黄色顔料、イソインドリン系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、又は、ペリレン系赤色顔料、アントラキノン系赤色顔料、ジケトピロロピロール系赤色顔料と、の混合を行ってもよい。例えば、アントラキノン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７が挙げられ、ペリレン系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２２４が挙げられ、ジケトピロロピロール系顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４が挙げられ、色再現性の点で、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、又はＣ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７との混合が好ましい。
また、黄色顔料の赤色顔料に対する質量比（黄色顔料／赤色顔料）は、５／１００〜５０／１００が好ましい。５／１００未満では４００ｎｍから５００ｎｍの光透過率を抑えることが困難で色純度を上げることができない場合がある。また、５０／１００を超えると主波長が短波長よりになり、ＮＴＳＣ目標色相からのずれが大きくなる場合がある。特に、上記質量比としては、１０／１００〜３０／１００の範囲が最適である。なお、赤色顔料同士の組み合わせの場合は、色度に併せて調整することができる。
These organic pigments can be used alone or in various combinations in order to increase color purity. Specific examples of combinations are shown below.
For example, as a red pigment, anthraquinone pigments, perylene pigments, diketopyrrolopyrrole pigments may be used alone, but at least one of them, a disazo yellow pigment, an isoindoline yellow pigment, a quinophthalone pigment A yellow pigment, or a perylene red pigment, an anthraquinone red pigment, or a diketopyrrolopyrrole red pigment may be mixed. For example, as an anthraquinone pigment, C.I. I. Pigment Red 177, and perylene pigments include C.I. I. Pigment red 155, C.I. I. Pigment Red 224, and diketopyrrolopyrrole pigments include C.I. I. Pigment Red 254, and C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 139, or C.I. I. Mixing with Pigment Red 177 is preferred.
The mass ratio of the yellow pigment to the red pigment (yellow pigment / red pigment) is preferably 5/100 to 50/100. If it is less than 5/100, it is difficult to suppress the light transmittance from 400 nm to 500 nm, and the color purity may not be increased. On the other hand, if it exceeds 50/100, the dominant wavelength becomes shorter and the deviation from the NTSC target hue may become large. In particular, the mass ratio is optimally in the range of 10/100 to 30/100. In addition, in the case of the combination of red pigments, it can adjust according to chromaticity.
また、緑の顔料としては、ハロゲン化フタロシアニン系顔料を単独で用いてもよいが、これと、ジスアゾ系黄色顔料、キノフタロン系黄色顔料、アゾメチン系黄色顔料、若しくはイソインドリン系黄色顔料と、の混合を行ってもよい。例えば、このような例としては、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７，３６，３７と、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８０、又はＣ．Ｉ．ピグメント・イエロー１８５との混合が好ましい。
黄色顔料の緑色顔料に対する質量比（黄色顔料／緑顔料）は、５／１００〜１５０／１００の範囲が好ましい。上記質量比が５／１００未満では４００ｎｍ〜４５０ｎｍの光透過率を抑えることが困難となり色純度を上げることが出来ない場合がある。また、１５０／１００を越えると主波長が長波長よりになりＮＴＳＣ目標色相からのずれが大きくなる場合がある。上記質量比としては３０／１００〜１２０／１００の範囲が特に好ましい。
As the green pigment, a halogenated phthalocyanine pigment may be used alone, but a mixture of this with a disazo yellow pigment, a quinophthalone yellow pigment, an azomethine yellow pigment, or an isoindoline yellow pigment. May be performed. For example, C.I. I. Pigment Green 7, 36, 37 and C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 180, or C.I. I. Mixing with Pigment Yellow 185 is preferred.
The mass ratio of the yellow pigment to the green pigment (yellow pigment / green pigment) is preferably in the range of 5/100 to 150/100. If the mass ratio is less than 5/100, it is difficult to suppress the light transmittance of 400 nm to 450 nm, and the color purity may not be increased. On the other hand, if it exceeds 150/100, the dominant wavelength becomes longer and the deviation from the NTSC target hue may become large. The mass ratio is particularly preferably in the range of 30/100 to 120/100.
青の顔料としては、フタロシアニン系顔料を単独で用いてもよいが、これとジオキサジン系紫色顔料との混合を行ってもよい。特に好適な例として、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６とＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３との混合を挙げることができる。
紫色顔料の青色顔料に対する質量比（紫色顔料／青色顔料）は、０／１００〜３０／１００の範囲が好ましく、より好ましくは１０／１００以下である。
As the blue pigment, a phthalocyanine pigment may be used alone, but it may be mixed with a dioxazine purple pigment. As a particularly preferred example, C.I. I. Pigment blue 15: 6 and C.I. I. A mixture with pigment violet 23 can be mentioned.
The mass ratio of purple pigment to blue pigment (purple pigment / blue pigment) is preferably in the range of 0/100 to 30/100, more preferably 10/100 or less.
また、ブラックマトリックス用途に好適な顔料としては、カーボンブラック、グラファイト、チタンブラック、酸化鉄、酸化チタン単独又は混合を用いることができ、カーボンブラックとチタンブ
ラックとの組合せが好ましい。
また、カーボンブラックとチタンブラックとの質量比は、１００：０〜１００：６０の範囲が好ましい。１００：６０を超えてチタンブラックが多いと、分散安定性が低下する場合がある。
Moreover, as a pigment suitable for black matrix use, carbon black, graphite, titanium black, iron oxide, titanium oxide alone or a mixture thereof can be used, and a combination of carbon black and titanium black is preferable.
The mass ratio of carbon black to titanium black is preferably in the range of 100: 0 to 100: 60. If the amount of titanium black exceeds 100: 60, the dispersion stability may decrease.
本発明の光硬化性組成物において、着色剤が染料である場合には、組成物中に均一に溶解した状態の着色組成物を得ることができる。 In the photocurable composition of the present invention, when the colorant is a dye, a colored composition in a state of being uniformly dissolved in the composition can be obtained.
本発明の光硬化性組成物に含有される着色剤として使用できる染料は、特に制限はなく、従来カラーフィルタ用として公知の染料が使用できる。例えば、特開昭６４−９０４０３号公報、特開昭６４−９１１０２号公報、特開平１−９４３０１号公報、特開平６−１１６１４号公報、特登２５９２２０７号、米国特許第４，８０８，５０１号明細書、米国特許第５，６６７，９２０号明細書、米国特許第５，０５９，５００号明細書、特開平５−３３３２０７号公報、特開平６−３５１８３号公報、特開平６−５１１１５号公報、特開平６−１９４８２８号公報、特開平８−２１１５９９号公報、特開平４−２４９５４９号公報、特開平１０−１２３３１６号公報、特開平１１−３０２２８３号公報、特開平７−２８６１０７号公報、特開２００１−４８２３号公報、特開平８−１５５２２号公報、特開平８−２９７７１号公報、特開平８−１４６２１５号公報、特開平１１−３４３４３７号公報、特開平８−６２４１６号公報、特開２００２−１４２２０号公報、特開２００２−１４２２１号公報、特開２００２−１４２２２号公報、特開２００２−１４２２３号公報、特開平８−３０２２２４号公報、特開平８−７３７５８号公報、特開平８−１７９１２０号公報、特開平８−１５１５３１号公報等に開示されている色素が使用できる。 The dye that can be used as the colorant contained in the photocurable composition of the present invention is not particularly limited, and conventionally known dyes for color filters can be used. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-90403, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-91102, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-94301, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-11614, No. 2592207, US Pat. No. 4,808,501. Specification, US Pat. No. 5,667,920, US Pat. No. 5,059,500, JP-A-5-333207, JP-A-6-35183, JP-A-6-51115 JP-A-6-194828, JP-A-8-21599, JP-A-4-249549, JP-A-10-123316, JP-A-11-302283, JP-A-7-286107, JP 2001-4823, JP-A-8-15522, JP-A-8-29771, JP-A-8-146215, JP-A-11-3434. 7, JP-A-8-62416, JP-A-2002-14220, JP-A-2002-14221, JP-A-2002-14222, JP-A-2002-14223, JP-A-8-302224 The dyes disclosed in JP-A-8-73758, JP-A-8-179120, JP-A-8-151531, and the like can be used.
化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサテン系、フタロシアニン系、ペンゾピラン系、インジゴ系等の染料が使用できる。 The chemical structure is pyrazole azo, anilino azo, triphenyl methane, anthraquinone, anthrapyridone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, Xanthene-based, phthalocyanine-based, benzopyran-based and indigo-based dyes can be used.
また、本発明の光硬化性組成物が、水又はアルカリ現像を行うレジスト系の場合、現像により光未照射部のバインダー及び／又は染料を完全に除去するという観点では、酸性染料及び／又はその誘導体が好適に使用できる場合がある。 In the case where the photocurable composition of the present invention is a resist system that performs water or alkali development, from the viewpoint of completely removing the binder and / or dye in the non-light-irradiated part by development, the acid dye and / or the dye In some cases, a derivative can be suitably used.
その他、直接染料、塩基性染料、媒染染料、酸性媒染染料、アゾイック染料、分散染料、油溶染料、食品染料、及び／又は、これらの誘導体等も有用に使用することができる。 In addition, direct dyes, basic dyes, mordant dyes, acid mordant dyes, azoic dyes, disperse dyes, oil-soluble dyes, food dyes, and / or derivatives thereof can also be used effectively.
酸性染料は、スルホン酸やカルボン酸等の酸性基を有するものであれば特に限定されないが、有機溶剤や現像液に対する溶解性、塩基性化合物との塩形成性、吸光度、組成物中の他の成分との相互作用、耐光性、耐熱性等の必要とされる性能の全てを考慮して選択される。
以下に酸性染料の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。例えば、
ａｃｉｄ ａｌｉｚａｒｉｎ ｖｉｏｌｅｔ Ｎ；ａｃｉｄ ｂｌａｃｋ １，２，２４，４８；ａｃｉｄ ｂｌｕｅ １，７，９，１５，１８，２３，２５，２７，２９，４０，４５，６２，７０，７４，８０，８３，８６，８７，９０，９２，１０３，１１２，１１３，１２０，１２９，１３８，１４７，１５８，１７１，１８２，１９２，２４３，３２４：１；ａｃｉｄ ｃｈｒｏｍｅ ｖｉｏｌｅｔ Ｋ；ａｃｉｄ Ｆｕｃｈｓｉｎ；ａｃｉｄ ｇｒｅｅｎ １，３，５，９，１６，２５，２７，５０；ａｃｉｄ ｏｒａｎｇｅ ６，７，８，１０，１２，５０，５１，５２，５６，６３，７４，９５；ａｃｉｄ ｒｅｄ １，４，８，１４，１７，１８，２６，２７，２９，３１，３４，３５，３７，４２，４４，５０，５１，５２，５７，６６，７３，８０，８７，８８，９１，９２，９４，９７，１０３，１１１，１１４，１２９，１３３，１３４，１３８，１４３，１４５，１５０，１５１，１５８，１７６，１８３，１９８，２１１，２１５，２１６，２１７，２４９，２５２，２５７，２６０，２６６，２７４；ａｃｉｄ ｖｉｏｌｅｔ ６Ｂ，７，９，１７，１９；ａｃｉｄ ｙｅｌｌｏｗ １，３，７，９，１１，１７，２３，２５，２９，３４，３６，４２，５４，７２，７３，７６，７９，９８，９９，１１１，１１２，１１４，１１６，１８４，２４３；Ｆｏｏｄ Ｙｅｌｌｏｗ ３；及びこれらの染料の誘導体が挙げられる。
The acidic dye is not particularly limited as long as it has an acidic group such as sulfonic acid or carboxylic acid, but is soluble in an organic solvent or a developer, salt-forming with a basic compound, absorbance, and other components in the composition. It is selected in consideration of all required performance such as interaction with components, light resistance, heat resistance and the like.
Specific examples of the acid dye are shown below, but are not limited thereto. For example,
acid alizarin violet N; acid black 1, 2, 24, 48; acid blue 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 45, 62, 70, 74, 80, 83, 86 , 87, 90, 92, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 158, 171, 182, 192, 243, 324: 1; acid chroma violet K; acid Fuchsin; acid green 1, 3, 5 , 9, 16, 25, 27, 50; acid orange 6, 7, 8, 10, 12, 50, 51, 52, 56, 63, 74, 95; acid red 1, 4, 8, 14, 17, 18 , 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 0, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 183, 198, 211, 215, 216 217,249,252,257,260,266,274; acid violet 6B, 7,9,17,19; acid yellow 1,3,7,9,11,17,23,25,29,34,36, 42, 54, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 114, 116, 184, 243; Food Yellow 3; and derivatives of these dyes.
この中でも酸性染料としては、ａｃｉｄ ｂｌａｃｋ ２４；ａｃｉｄ ｂｌｕｅ ２３，２５，２９，６２，８０，８６，８７，９２，１３８，１５８，１８２，２４３，３２４：１；ａｃｉｄ ｏｒａｎｇｅ ８，５１，５６，６３，７４；ａｃｉｄ ｒｅｄ １，４，８，３４，３７，４２，５２，５７，８０，９７，１１４，１４３，１４５，１５１，１８３，２１７；ａｃｉｄ ｖｉｏｌｅｔ ７；ａｃｉｄ ｙｅｌｌｏｗ １７，２５，２９，３４，４２，７２，７６，９９，１１１，１１２，１１４，１１６，１８４，２４３；ａｃｉｄｇｒｅｅｎ ２５等の染料及びこれらの染料の誘導体が好ましい。
また、上記以外の、アゾ系、キサンテン系、フタロシアニン系の酸性染料も好ましく、Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ ４４、３８；Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ ｏｒａｎｇｅ ４５；Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ Ｂ、Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ １１０等の酸性染料及びこれらの染料の誘導体も好ましく用いられる。
Among these, acid black 24; acid blue 23, 25, 29, 62, 80, 86, 87, 92, 138, 158, 182, 243, 324: 1; acid orange 8, 51, 56, 63 , 74; acid red 1,4,8,34,37,42,52,57,80,97,114,143,145,151,183,217; acid violet 7; acid yellow 17, 25, 29, 34 , 42, 72, 76, 99, 111, 112, 114, 116, 184, 243; acidgreen 25 and the like and derivatives of these dyes are preferred.
Other than the above, azo, xanthene and phthalocyanine acid dyes are also preferred. I. Solvent Blue 44, 38; C.I. I. Solvent orange 45; Rhodamine B, Rhodamine 110 and other acid dyes and derivatives of these dyes are also preferably used.
なかでも、着色剤としては、トリアリルメタン系、アントラキノン系、アゾメチン系、ベンジリデン系、オキソノール系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、アンスラピリドン系から選ばれる着色剤であることが好ましい。 Among these, as colorants, triallylmethane, anthraquinone, azomethine, benzylidene, oxonol, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, xanthene, phthalocyanine, benzopyran, indigo, pyrazole azo It is preferable that the colorant is selected from a series, an anilinoazo series, a pyrazolotriazole azo series, a pyridone azo series, and an anthrapyridone series.
本発明の光硬化性組成物において使用しうる着色剤としては、染料、若しくは、平均粒子径ｒ（単位ｎｍ）は、２０≦ｒ≦３００、好ましくは１２５≦ｒ≦２５０、特に好ましくは３０≦ｒ≦２００を満たす顔料が望ましい。このような平均粒子径ｒの顔料を用いることにより、高コントラスト比であり、かつ高光透過率の赤色及び緑色の画素を得ることができる。ここでいう「平均粒子径」とは、顔料の一次粒子（単微結晶）が集合した二次粒子についての平均粒子径を意味する。 As a colorant that can be used in the photocurable composition of the present invention, a dye or an average particle diameter r (unit: nm) is 20 ≦ r ≦ 300, preferably 125 ≦ r ≦ 250, particularly preferably 30 ≦. A pigment satisfying r ≦ 200 is desirable. By using a pigment having such an average particle diameter r, red and green pixels having a high contrast ratio and a high light transmittance can be obtained. Here, the “average particle size” means the average particle size of secondary particles in which primary particles (single crystallites) of the pigment are aggregated.
また、本発明において使用しうる顔料の二次粒子の粒子径分布（以下、単に「粒子径分布」という。）は、（平均粒子径±１００）ｎｍに入る二次粒子が全体の７０質量％以上、好ましくは８０質量％以上であることが望ましい。 The particle size distribution of the secondary particles of the pigment that can be used in the present invention (hereinafter, simply referred to as “particle size distribution”) is 70% by mass of secondary particles having an average particle size of ± 100 nm. As mentioned above, it is desirable that it is 80 mass% or more.
前記した平均粒子径及び粒子径分布を有する顔料は、市販の顔料を、場合により使用される他の顔料（平均粒子径は通常、３００ｎｍを越える。）と共に、好ましくは分散剤及び溶媒と混合した顔料混合液として、例えばビーズミル、ロールミル等の粉砕機を用いて、粉砕しつつ混合・分散することにより調製することができる。このようにして得られる顔料は、通常、顔料分散液の形態をとる。 The pigment having the above average particle size and particle size distribution is preferably a commercially available pigment mixed with other pigments to be used (the average particle size usually exceeds 300 nm), preferably with a dispersant and a solvent. The pigment mixture can be prepared by mixing and dispersing while pulverizing using a pulverizer such as a bead mill or a roll mill. The pigment thus obtained is usually in the form of a pigment dispersion.
本発明の光硬化性組成物に含有される着色剤の含有量としては、光硬化性組成物の全固形分中、５０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、５５質量％以上８５質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上８０質量％であることがより好ましい。 As content of the coloring agent contained in the photocurable composition of this invention, it is preferable that it is 50 to 90 mass% in the total solid of a photocurable composition, and is 55 to 85 mass%. It is preferable that it is mass% or less, and it is more preferable that it is 60 mass% or more and 80 mass%.
着色剤が少なすぎると、本発明の光硬化性組成物によりカラーフィルタを作製した際に、適度な色度が得られなくなる傾向がある。一方、多すぎると光硬化が充分に進まず膜としての強度が低下したり、また、アルカリ現像の際の現像ラチチュードが狭くなる傾向があるが、本発明における（Ａ）特定重合性化合物は、露光部での硬化性を良好に保ちつつ、未露光部でのアルカリ溶解性が高いため、現像時の残渣を低減することが可能であるため、光硬化性組成物中に着色剤を高濃度に含有し、残渣が出やすい場合であっても、残渣低減効果が発揮される。 If the amount of the colorant is too small, there is a tendency that an appropriate chromaticity cannot be obtained when a color filter is produced from the photocurable composition of the present invention. On the other hand, if the amount is too large, photocuring does not proceed sufficiently and the strength as a film is reduced, or the development latitude during alkali development tends to be narrow, but the (A) specific polymerizable compound in the present invention is Since the alkali solubility in the unexposed area is high while keeping the curability in the exposed area good, it is possible to reduce residues during development, so the colorant is highly concentrated in the photocurable composition. Even if it is a case where a residue tends to come out, the residue reduction effect is exhibited.
〔（Ｄ）顔料分散剤〕
本発明の光硬化性組成物が（Ｃ）着色剤として顔料を含有する場合、該顔料の分散性を向上させる観点から、（Ｄ）顔料分散剤を添加することが好ましい。
[(D) Pigment dispersant]
When the photocurable composition of the present invention contains a pigment as (C) a colorant, it is preferable to add (D) a pigment dispersant from the viewpoint of improving the dispersibility of the pigment.
本発明に用いうる顔料分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、ポリアミドアミンとその塩、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕、及び、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルカノールアミン、顔料誘導体等を挙げることができる。
高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
Examples of pigment dispersants that can be used in the present invention include polymer dispersants [for example, polyamidoamines and salts thereof, polycarboxylic acids and salts thereof, high molecular weight unsaturated acid esters, modified polyurethanes, modified polyesters, and modified poly (meth) acrylates. , (Meth) acrylic copolymers, naphthalenesulfonic acid formalin condensates], polyoxyethylene alkyl phosphate esters, polyoxyethylene alkyl amines, alkanol amines, pigment derivatives, and the like.
The polymer dispersant can be further classified into a linear polymer, a terminal-modified polymer, a graft polymer, and a block polymer from the structure thereof.
高分子分散剤は顔料の表面に吸着し、再凝集を防止するように作用する。そのため、顔料表面へのアンカー部位を有する末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子が好ましい構造として挙げることができる。
一方で、顔料誘導体は顔料表面を改質することで、高分子分散剤の吸着を促進させる効果を有する。
The polymer dispersant is adsorbed on the surface of the pigment and acts to prevent reaggregation. Therefore, a terminal-modified polymer, a graft polymer and a block polymer having an anchor site to the pigment surface can be mentioned as preferred structures.
On the other hand, the pigment derivative has an effect of promoting the adsorption of the polymer dispersant by modifying the pigment surface.
本発明に用いうる顔料分散剤の具体例としては、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１（ポリアミドアミン燐酸塩）、１０７（カルボン酸エステル）、１１０（酸基を含む共重合物）、１３０（ポリアミド）、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０（高分子共重合物）」、「ＢＹＫ−Ｐ１０４、Ｐ１０５（高分子量不飽和ポリカルボン酸）、ＥＦＫＡ社製「ＥＦＫＡ４０４７、４０５０、４０１０、４１６５（ポリウレタン系）、ＥＦＫＡ４３３０、４３４０（ブロック共重合体）、４４００、４４０２（変性ポリアクリレート）、５０１０（ポリエステルアミド）、５７６５（高分子量ポリカルボン酸塩）、６２２０（脂肪酸ポリエステル）、６７４５（フタロシアニン誘導体）、６７５０（アゾ顔料誘導体）」、味の素ファンテクノ社製「アジスパーＰＢ８２１、ＰＢ８２２」、共栄社化学社製「フローレンＴＧ−７１０（ウレタンオリゴマー）」、「ポリフローＮｏ．５０Ｅ、Ｎｏ．３００（アクリル系共重合体）」、楠本化成社製「ディスパロンＫＳ−８６０、８７３ＳＮ、８７４、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル）、ＤＡ−７０３−５０、ＤＡ−７０５、ＤＡ−７２５」、花王社製「デモールＲＮ、Ｎ（ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物）、ＭＳ、Ｃ、ＳＮ−Ｂ（芳香族スルホン酸ホルマリン重縮合物）」、「ホモゲノールＬ−１８（高分子ポリカルボン酸）」、「エマルゲン９２０、９３０、９３５、９８５（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル）」、「アセタミン８６（ステアリルアミンアセテート）」、ルーブリゾール社製「ソルスパース５０００（フタロシアニン誘導体）、２２０００（アゾ顔料誘導体）、１３２４０（ポリエステルアミン）、３０００、１７０００、２７０００（末端部に機能部を有する高分子）、２４０００、２８０００、３２０００、３８５００（グラフト型高分子）」、日光ケミカル者製「ニッコールＴ１０６（ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート）、ＭＹＳ−ＩＥＸ（ポリオキシエチレンモノステアレート）」等が挙げられる。 Specific examples of the pigment dispersant that can be used in the present invention include “Disperbyk-101 (polyamidoamine phosphate), 107 (carboxylic acid ester), 110 (copolymer containing an acid group), 130 (polyamide) manufactured by BYK Chemie. ), 161, 162, 163, 164, 165, 166, 170 (polymer copolymer) ”,“ BYK-P104, P105 (high molecular weight unsaturated polycarboxylic acid) ”,“ EFKA 4047, 4050, 4010, manufactured by EFKA, 4165 (polyurethane series), EFKA4330, 4340 (block copolymer), 4400, 4402 (modified polyacrylate), 5010 (polyesteramide), 5765 (high molecular weight polycarboxylate), 6220 (fatty acid polyester), 6745 (phthalocyanine) Derivatives), 6750 (azo) "Adisper PB821, PB822" manufactured by Ajinomoto Fan Techno Co., "Floren TG-710 (urethane oligomer)" manufactured by Kyoeisha Chemical Co., "Polyflow No. 50E, No. 300 (acrylic copolymer)", “Disparon KS-860, 873SN, 874, # 2150 (aliphatic polycarboxylic acid), # 7004 (polyetherester), DA-703-50, DA-705, DA-725” manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., Kao “Demol RN, N (Naphthalenesulfonic acid formalin polycondensate), MS, C, SN-B (aromatic sulfonic acid formalin polycondensate)”, “Homogenol L-18 (polymer polycarboxylic acid)”, “ Emulgen 920, 930, 935, 985 (polyoxyethylene nonylphenyl ether) ”,“ acetamine 86 (stearylamine acetate) ", Lubrizol" Solsperse 5000 (phthalocyanine derivative), 22000 (azo pigment derivative), 13240 (polyesteramine), 3000, 17000, 27000 (polymer having a functional part at the end), 24000, 28000, 32000, 38500 (graft type polymer) ”,“ Nikkor T106 (polyoxyethylene sorbitan monooleate), MYS-IEX (polyoxyethylene monostearate) ”manufactured by Nikko Chemicals, and the like.
これらの分散剤は、単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。本発明においては、特に、顔料誘導体と高分子分散剤とを組み合わせて使用することが好ましい。 These dispersants may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, it is particularly preferable to use a combination of a pigment derivative and a polymer dispersant.
本発明の光硬化性組成物における分散剤の含有量としては、顔料に対して、１質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上７０質量％以下がより好ましく、１０質量％以上６０質量％以下が更に好ましい。 As content of the dispersing agent in the photocurable composition of this invention, it is preferable that they are 1 mass% or more and 80 mass% or less with respect to a pigment, 5 mass% or more and 70 mass% or less are more preferable, and 10 masses. % To 60% by mass is more preferable.
具体的には、高分子分散剤を用いる場合であれば、その使用量としては、顔料に対して、５質量％以上１００質量％以下の範囲が好ましく、１０質量％以上８０質量％以下の範囲がより好ましい。
また、顔料誘導体を使用する場合であれば、その使用量としては、顔料に対し１質量％以上３０質量％以下の範囲にあることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下の範囲にあることがより好ましく、５質量％以上１５質量％以下の範囲にあることが特に好ましい。
Specifically, if a polymer dispersant is used, the amount used is preferably in the range of 5% by mass to 100% by mass with respect to the pigment, and in the range of 10% by mass to 80% by mass. Is more preferable.
In the case of using a pigment derivative, the amount used is preferably in the range of 1% by mass to 30% by mass and preferably in the range of 3% by mass to 20% by mass with respect to the pigment. Is more preferable, and is particularly preferably in the range of 5% by mass or more and 15% by mass or less.
本発明の光硬化性組成物において、着色剤としての顔料と分散剤とを用いる場合、硬化感度、色濃度の観点から、着色剤及び分散剤の含有量の総和が、光硬化性組成物を構成する全固形分に対して３０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以上８５質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以上８０質量％以下であることが更に好ましい。 In the photocurable composition of the present invention, when using a pigment and a dispersant as a colorant, from the viewpoint of curing sensitivity and color density, the total content of the colorant and the dispersant is the photocurable composition. It is preferably 30% by mass or more and 90% by mass or less, more preferably 40% by mass or more and 85% by mass or less, and further preferably 50% by mass or more and 80% by mass or less with respect to the total solid content. preferable.
〔（Ｅ）増感剤〕
本発明の光硬化性組成物は、光重合開始剤からのラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。
本発明に用いることができる増感剤としては、前記した（Ｂ）光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。
[(E) Sensitizer]
The photocurable composition of the present invention may contain a sensitizer for the purpose of improving radical generation efficiency from the photopolymerization initiator and increasing the photosensitive wavelength.
As the sensitizer that can be used in the present invention, a sensitizer that sensitizes the above-described (B) photopolymerization initiator by an electron transfer mechanism or an energy transfer mechanism is preferable.
増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、且つ、３００ｎｍ〜４５０ｎｍの波長領域に吸収波長を有するものが好ましいものとして挙げられる。
即ち、例えば、多核芳香族類（例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、９，１０−ジアルコキシアントラセン）、キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、チオキサントン類（イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン）、シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、フタロシアニン類、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、アクリジンオレンジ、クマリン類（例えば、７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン）、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、Ｎ−アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。
Preferred examples of the sensitizer include those belonging to the compounds listed below and having an absorption wavelength in the wavelength region of 300 nm to 450 nm.
That is, for example, polynuclear aromatics (for example, phenanthrene, anthracene, pyrene, perylene, triphenylene, 9,10-dialkoxyanthracene), xanthenes (for example, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), Thioxanthones (isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, chlorothioxanthone), cyanines (eg thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg merocyanine, carbomerocyanine), phthalocyanines, thiazines (eg thionine, methylene blue, Toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine), anthraquinones (eg, anthraquinone), squaryu (Eg, squalium), acridine orange, coumarins (eg, 7-diethylamino-4-methylcoumarin), ketocoumarins, phenothiazines, phenazines, styrylbenzenes, azo compounds, diphenylmethane, triphenylmethane, distyrylbenzenes Carbazoles, porphyrins, spiro compounds, quinacridone, indigo, styryl, pyrylium compounds, pyromethene compounds, pyrazolotriazole compounds, benzothiazole compounds, barbituric acid derivatives, thiobarbituric acid derivatives, acetophenone, benzophenone, thioxanthone, Michler's ketone, etc. Examples include aromatic ketone compounds and heterocyclic compounds such as N-aryloxazolidinones.
本発明に用いうる増感剤として、より好ましい例としては、下記一般式（ｅ−１）〜（ｅ−４）で表される化合物が挙げられる。 More preferred examples of the sensitizer that can be used in the present invention include compounds represented by the following general formulas (e-1) to (e-4).
式（ｅ−１）中、Ａ１は硫黄原子又はＮＲ５０を表し、Ｒ５０はアルキル基又はアリール基を表し、Ｌ１は隣接するＡ１及び隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ５１及びＲ５２はそれぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、Ｒ５１及びＲ５２は互いに結合して、色素の酸性核を形成してもよい。Ｗは酸素原子又は硫黄原子を表す。 In formula (e-1), A 1 represents a sulfur atom or NR 50 , R 50 represents an alkyl group or an aryl group, and L 1 represents a basic nucleus of the dye in combination with adjacent A 1 and an adjacent carbon atom. R 51 and R 52 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, and R 51 and R 52 are bonded to each other to form an acidic nucleus of the dye. May be. W represents an oxygen atom or a sulfur atom.
式（ｅ−２）中、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ独立に、アリール基を表し、−Ｌ２−による結合を介して連結している。ここで−Ｌ２−は−Ｏ−又は−Ｓ−を表す。また、Ｗは式（ｅ−１）に示したものと同義である。 In formula (e-2), Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aryl group and are linked via a bond with —L 2 —. Here -L 2 - represents -O- or -S-. Moreover, W is synonymous with what was shown to Formula (e-1).
式（ｅ−３）中、Ａ２は硫黄原子又はＮＲ５９を表し、Ｌ３は隣接するＡ２及び炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５７及びＲ５８はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団の基を表し、Ｒ５９はアルキル基又はアリール基を表す。 In the formula (e-3), A 2 represents a sulfur atom or NR 59 , L 3 represents a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus of the dye together with the adjacent A 2 and carbon atom, and R 53 , R 54 , R 55 , R 56 , R 57 and R 58 each independently represents a group of a monovalent nonmetallic atomic group, and R 59 represents an alkyl group or an aryl group.
式（ｅ−４）中、Ａ３及びＡ４はそれぞれ独立に、−Ｓ−又は−ＮＲ６２を表し、Ｒ６２は置換若しくは非置換のアルキル基、又は、置換若しくは非置換のアリール基を表し、Ｌ４及びＬ５はそれぞれ独立に、隣接するＡ３、Ａ４及び隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表し、Ｒ６０及びＲ６１はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、又は互いに結合して脂肪族性又は芳香族性の環を形成することができる。 In formula (e-4), A 3 and A 4 each independently represent —S— or —NR 62 , and R 62 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. , L 4 and L 5 each independently represent a nonmetallic atomic group that forms a basic nucleus of a dye in cooperation with adjacent A 3 , A 4 and adjacent carbon atoms, and R 60 and R 61 each independently Represents a monovalent non-metallic atomic group, or can be bonded to each other to form an aliphatic or aromatic ring.
また、本発明の光硬化性組成物に含有しうる好ましい増感剤としては、上記増感剤の他、下記一般式（II）で表される化合物、及び、下記一般式（III）で表される化合物から選択される少なくとも一種が挙げられる。
これらは一種単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
Moreover, as a preferable sensitizer which can be contained in the photocurable composition of the present invention, in addition to the above sensitizer, a compound represented by the following general formula (II), and a compound represented by the following general formula (III) And at least one selected from the following compounds.
These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
一般式（II）中、Ｒ１１及びＲ１２は、各々独立に一価の置換基を表し、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１６は、各々独立に水素原子又は一価の置換基を表す。ｎは０〜５の整数を表し、ｎ’は０〜５の整数を表し、ｎ及びｎ’が両方とも０となることはない。ｎが２以上である場合、複数存在するＲ１１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。ｎ’が２以上である場合、複数存在するＲ１２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。なお、一般式（II）において二重結合による異性体については、どちらかに限定されるものではない In general formula (II), R 11 and R 12 each independently represents a monovalent substituent, and R 13 , R 14 , R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. To express. n represents an integer of 0 to 5, n ′ represents an integer of 0 to 5, and n and n ′ are not both 0. When n is 2 or more, a plurality of R 11 may be the same or different. When n ′ is 2 or more, a plurality of R 12 may be the same or different. In the general formula (II), the isomer by the double bond is not limited to either.
一般式（II）で表される化合物としては、波長３６５ｎｍにおけるモル吸光係数εが５００ｍｏｌ−１・Ｌ・ｃｍ−１以上であることが好ましく、波長３６５ｎｍにおけるεが３０００ｍｏｌ−１・Ｌ・ｃｍ−１以上であることがより好ましく、波長３６５ｎｍにおけるεが２００００ｍｏｌ−１・Ｌ・ｃｍ−１以上であることが最も好ましい。各波長でのモル吸光係数εの値が上記範囲であると、光吸収効率の観点から感度向上効果が高く好ましい。 The compound represented by the general formula (II) preferably has a molar extinction coefficient ε at a wavelength of 365 nm of 500 mol −1 · L · cm −1 or more, and ε at a wavelength of 365 nm of 3000 mol −1 · L · cm −. 1 or more is more preferable, and ε at a wavelength of 365 nm is most preferably 20000 mol −1 · L · cm −1 or more. It is preferable that the value of the molar extinction coefficient ε at each wavelength is in the above range because the sensitivity improvement effect is high from the viewpoint of light absorption efficiency.
一般式（II）で表される化合物の好ましい具体例を以下に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、本明細書においては、化学式は簡略構造式により記載することもあり、特に元素や置換基の明示がない実線等は、炭化水素基を表す。
Although the preferable specific example of a compound represented by general formula (II) is illustrated below, this invention is not limited to these.
Note that in this specification, a chemical formula may be described by a simplified structural formula, and a solid line or the like that does not clearly indicate an element or a substituent particularly represents a hydrocarbon group.
一般式（III）中、Ａは置換基を有してもよい芳香族環又はヘテロ環を表し、Ｘ２は酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ２３）−を表し、Ｙは酸素原子、硫黄原子、又は＝Ｎ（Ｒ２３）を表す。Ｒ２１、Ｒ２２、及びＲ２３は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、Ａ、Ｒ２１、Ｒ２２、及びＲ２３は、それぞれ互いに結合して、脂肪族性又は芳香族性の環を形成してもよい。 In general formula (III), A represents an aromatic ring or a hetero ring which may have a substituent, X 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N (R 23 ) —, and Y represents an oxygen atom. , A sulfur atom, or = N (R 23 ). R 21 , R 22 , and R 23 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group, and A, R 21 , R 22 , and R 23 are bonded to each other to form an aliphatic group Or you may form an aromatic ring.
一般式（III）において、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表す。Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３が一価の非金属原子団を表す場合、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のアルケニル基、置換若しくは非置換の芳香族複素環残基、置換若しくは非置換のアルコキシ基、置換若しくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、又は、ハロゲン原子であることが好ましい。 In the general formula (III), R 21 , R 22 and R 23 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group. When R 21 , R 22 and R 23 represent a monovalent nonmetallic atomic group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted alkenyl group, a substituted or unsubstituted fragrance It is preferably a group heterocyclic residue, a substituted or unsubstituted alkoxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a hydroxyl group, or a halogen atom.
一般式（III）で表される化合物は、光重合開始剤の分解効率向上の観点から、Ｙは酸素原子、又は＝Ｎ（Ｒ２３）が好ましい。Ｒ２３は、水素原子又は一価の非金属原子団を表す。更に、Ｙは＝Ｎ（Ｒ２３）であることが最も好ましい。 In the compound represented by the general formula (III), Y is preferably an oxygen atom or ═N (R 23 ) from the viewpoint of improving the decomposition efficiency of the photopolymerization initiator. R 23 represents a hydrogen atom or a monovalent nonmetallic atomic group. Furthermore, Y is most preferably ═N (R 23 ).
以下、一般式（III）で表される化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。また、酸性核と塩基性核を結ぶ２重結合による異性体については明らかでなく、本発明はどちらかの異性体に限定されるものでもない。 Hereinafter, although the preferable specific example of a compound represented by general formula (III) is shown, this invention is not limited to this. Further, it is not clear about an isomer by a double bond connecting an acidic nucleus and a basic nucleus, and the present invention is not limited to either isomer.
本発明の光硬化性組成物中における増感剤の含有量は、深部への光吸収効率と開始分解効率の観点から、固形分換算で、０．１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜１５質量％がより好ましい。
増感剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
The content of the sensitizer in the photocurable composition of the present invention is 0.1% by mass to 20% by mass in terms of solid content from the viewpoint of light absorption efficiency to the deep part and initiation decomposition efficiency. Preferably, 0.5 mass%-15 mass% is more preferable.
A sensitizer may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
〔（Ｆ）共増感剤〕
本発明の光硬化性組成物は、更に（Ｆ）共増感剤を含有することも好ましい。
本発明において共増感剤は、（Ｂ）光重合開始剤や（Ｅ）増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、或いは、酸素による（Ａ）特定重合性化合物の重合阻害を抑制する等の作用を有する。
[(F) Co-sensitizer]
The photocurable composition of the present invention preferably further contains (F) a co-sensitizer.
In the present invention, the co-sensitizer further improves the sensitivity of (B) the photopolymerization initiator and (E) the sensitizer to active radiation, or suppresses the inhibition of polymerization of the (A) specific polymerizable compound by oxygen. Etc.
このような共増感剤の例としては、アミン類、例えば、Ｍ．Ｒ．Ｓａｎｄｅｒら著「Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｏｃｉｅｔｙ」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４−２０１８９号公報、特開昭５１−８２１０２号公報、特開昭５２−１３４６９２号公報、特開昭５９−１３８２０５号公報、特開昭６０−８４３０５号公報、特開昭６２−１８５３７号公報、特開昭６４−３３１０４号公報、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ ３３８２５号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ホルミルジメチルアニリン、ｐ−メチルチオジメチルアニリン等が挙げられる。 Examples of such cosensitizers include amines such as M.I. R. Sander et al., “Journal of Polymer Society”, Vol. 10, 3173 (1972), Japanese Patent Publication No. 44-20189, Japanese Patent Publication No. 51-82102, Japanese Patent Publication No. 52-134692, Japanese Patent Publication No. 59-138205. No. 60-84305, JP-A 62-18537, JP-A 64-33104, Research Disclosure 33825, and the like. Specific examples include triethanolamine. P-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-formyldimethylaniline, p-methylthiodimethylaniline and the like.
共増感剤の別の例としては、チオール及びスルフィド類、例えば、特開昭５３−７０２号公報、特公昭５５−５００８０６号公報、特開平５−１４２７７２号公報記載のチオール化合物、特開昭５６−７５６４３号公報のジスルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等が挙げられる。 Other examples of co-sensitizers include thiols and sulfides such as thiol compounds described in JP-A-53-702, JP-B-55-500806, JP-A-5-142772, No. 56-75643, such as 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-4 (3H) -quinazoline, β-mercapto. And naphthalene.
また、共増感剤の別の例としては、アミノ酸化合物（例、Ｎ−フェニルグリシン等）、特公昭４８−４２９６５号公報記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテート等）、特公昭５５−３４４１４号公報記載の水素供与体、特開平６−３０８７２７号公報記載のイオウ化合物（例、トリチアン等）等が挙げられる。 Other examples of the co-sensitizer include amino acid compounds (eg, N-phenylglycine), organometallic compounds described in JP-B-48-42965 (eg, tributyltin acetate), JP-B 55- Examples include a hydrogen donor described in Japanese Patent No. 34414, a sulfur compound (eg, trithiane) described in Japanese Patent Laid-Open No. 6-308727, and the like.
これら共増感剤の含有量は、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、本発明の光硬化性組成物の全固形分の質量に対し、０．１質量％以上３０質量％以下の範囲が好ましく、１質量％以上２５質量％以下の範囲がより好ましく、１．５質量％以上２０質量％以下の範囲が更に好ましい。 The content of these co-sensitizers is 0.1% by mass or more based on the total solid content of the photocurable composition of the present invention, from the viewpoint of improving the curing rate by balancing the polymerization growth rate and chain transfer. The range of 30% by mass or less is preferable, the range of 1% by mass to 25% by mass is more preferable, and the range of 1.5% by mass to 20% by mass is further preferable.
また、本発明の光硬化性組成物は、共増感剤として、チオール化合物を含有することが好ましい。光硬化性組成物に含有しうるチオール化合物としては、下記一般式（VI）で表される化合物が好ましい。 Moreover, it is preferable that the photocurable composition of this invention contains a thiol compound as a co-sensitizer. The thiol compound that can be contained in the photocurable composition is preferably a compound represented by the following general formula (VI).
一般式（VI）中、Ｘ６は、硫黄原子、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ６０３）−を表し、Ｒ６０３は、水素原子炭素数１〜５のアルキル基、又は炭素数６〜１３のアリール基を表す。Ｒ６０１及びＲ６０２は、各々独立に、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基、ニトロ基、炭素数１〜８のアルキル基を有するアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、アセチル基、又はカルボキシル基を表し、また、Ｒ６０１、Ｒ６０２及びこれらが結合している二重結合を併せてベンゼン環を形成してもよく、Ｒ６０１及びＲ６０２が結合している二重結合は、水素添加されていてもよい。 In general formula (VI), X 6 represents a sulfur atom, an oxygen atom or —N (R 603 ) —, and R 603 represents a hydrogen atom having 1 to 5 carbon atoms or an aryl having 6 to 13 carbon atoms. Represents a group. R 601 and R 602 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a phenyl group optionally substituted with an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms. , A nitro group, an alkoxycarbonyl group having an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a phenoxycarbonyl group, an acetyl group, or a carboxyl group, and R 601 , R 602 and a double bond to which these are bonded May form a benzene ring, and the double bond to which R 601 and R 602 are bonded may be hydrogenated.
また、チオール化合物としては、例えば、特開昭５３−７０２号公報、特公昭５５−５００８０６号公報、特開平５−１４２７７２号公報に記載のチオール化合物に記載の化合物が挙げられる。 Moreover, as a thiol compound, the compound as described in the thiol compound of Unexamined-Japanese-Patent No. 53-702, Japanese Patent Publication No.55-500806, and Unexamined-Japanese-Patent No. 5-142772 is mentioned, for example.
更に、光硬化性組成物に好適なチオール化合物は、下記一般式（VII）で表されるものであることが好ましい。 Furthermore, it is preferable that the thiol compound suitable for a photocurable composition is what is represented by the following general formula (VII).
一般式（VII）中、Ｒ７０１は、アルキル基、又はアリール基を表し、Ａ７は、Ｎ＝Ｃ−Ｎと共にヘテロ環を形成する原子団を表す。 In General Formula (VII), R 701 represents an alkyl group or an aryl group, and A 7 represents an atomic group that forms a heterocycle with N═C—N.
一般式（VII）において、Ｒ７０１は、アルキル基、又はアリール基を表す。
Ｒ７０１で表されるアルキル基としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基を挙げることができ、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、並びに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基等を挙げることができる。
In the general formula (VII), R 701 represents an alkyl group or an aryl group.
Examples of the alkyl group represented by R 701 include a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a linear or carbon atom having 1 to 12 carbon atoms. A branched alkyl group having 3 to 12 atoms and a cyclic alkyl group having 5 to 10 carbon atoms are more preferable. Specific examples thereof include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group. , Eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group , 2-norbornyl group and the like.
Ｒ７０１で表されるアリール基としては、単環構造のものに加え、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものなどを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基等を挙げることができ、これらの中では、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。 As the aryl group represented by R 701 , in addition to a monocyclic structure, one to three benzene rings form a condensed ring, or a benzene ring and a five-membered unsaturated ring form a condensed ring Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenabutenyl group, a fluorenyl group, and the like. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are exemplified. More preferred.
これらのアルキル基やアリール基は、更に置換基を有していてもよく、導入しうる置換基としては、炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素原子数２〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルケニル基、炭素原子数２〜２０のアルキニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数１〜２０のアシルオキシ基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素原子数７〜２０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素原子数１〜２０のカルバモイルオキシ基、炭素原子数１〜２０のカルボンアミド基、炭素原子数１〜２０のスルホンアミド基、炭素原子数１〜２０のカルバモイル基、スルファモイル基、炭素原子数１〜２０の置換スルファモイル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、炭素原子数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素原子数１〜２０のＮ−アシルスルファモイル基、炭素原子数１〜２０のＮ−スルファモイルカルバモイル基、炭素原子数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素原子数６〜２０のアリールスルホニル基、炭素原子数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基、アミノ基、炭素原子数１〜２０の置換アミノ基、炭素原子数１〜２０のイミノ基、炭素原子数３〜２０のアンモニオ基、カルボキシル基、スルホ基、オキシ基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基、炭素原子数６〜２０のアリールスルフィニル基、炭素原子数１〜２０のアルキルチオ基、炭素原子数６〜２０のアリールチオ基、炭素原子数１〜２０のウレイド基、炭素原子数２〜２０のヘテロ環基、炭素原子数１〜２０のアシル基、スルファモイルアミノ基、炭素原子数１〜２の置換スルファモイルアミノ基、炭素原子数２〜２０のシリル基、イソシアネート基、イソシアニド基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ニトロ基、オニウム基等が挙げられる。 These alkyl groups and aryl groups may further have a substituent. Examples of the substituent that can be introduced include linear, branched or cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, and the number of carbon atoms. A linear, branched or cyclic alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, and 2 carbon atoms -20 alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group having 7-20 carbon atoms, carbamoyloxy group having 1-20 carbon atoms, carbonamido group having 1-20 carbon atoms, 1-20 carbon atoms Sulfonamide group, carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, sulfamoyl group, substituted sulfamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, carbon atom An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, an aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, an N-acylsulfamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, and 1 carbon atom -20 N-sulfamoylcarbamoyl group, C1-C20 alkylsulfonyl group, C6-C20 arylsulfonyl group, C2-C20 alkoxycarbonylamino group, C7-20 Aryloxycarbonylamino group, amino group, substituted amino group having 1 to 20 carbon atoms, imino group having 1 to 20 carbon atoms, ammonio group having 3 to 20 carbon atoms, carboxyl group, sulfo group, oxy group, Mercapto group, alkylsulfinyl group having 1 to 20 carbon atoms, arylsulfinyl group having 6 to 20 carbon atoms, and 1-2 carbon atoms Alkylthio group, arylthio group having 6 to 20 carbon atoms, ureido group having 1 to 20 carbon atoms, heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, acyl group having 1 to 20 carbon atoms, sulfamoylamino group A substituted sulfamoylamino group having 1 to 2 carbon atoms, a silyl group having 2 to 20 carbon atoms, an isocyanate group, an isocyanide group, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, A nitro group, an onium group, etc. are mentioned.
また、一般式（VII）において、Ａ７は、Ｎ＝Ｃ−Ｎと共にヘテロ環を形成する原子団を表す。
この原子団を構成する原子としては、炭素原子、窒素原子、水素原子、硫黄原子、セレン原子等が挙げられる。
なお、Ａ７とＮ＝Ｃ−Ｎとで形成されるヘテロ環は、更に置換基を有していてもよく、導入しうる置換基としては、上記アルキル基やアリール基に導入可能な置換基と同様のものが挙げられる。
In General Formula (VII), A 7 represents an atomic group that forms a heterocycle with N═C—N.
Examples of atoms constituting this atomic group include a carbon atom, a nitrogen atom, a hydrogen atom, a sulfur atom, and a selenium atom.
The heterocyclic ring formed by A 7 and N═C—N may further have a substituent, and the substituent that can be introduced is a substituent that can be introduced into the alkyl group or aryl group. The same thing is mentioned.
また、光硬化性組成物に好適なチオール化合物としては、下記一般式（VIII）又は一般式（IX）で表されるものがより好ましい。 Moreover, as a thiol compound suitable for a photocurable composition, what is represented by the following general formula (VIII) or general formula (IX) is more preferable.
一般式（VIII）中、Ｒ８０１は、アリール基を表し、Ｘ８は、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、又はアリール基を表す。 In General Formula (VIII), R 801 represents an aryl group, and X 8 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, or an aryl group.
一般式（IX）中、Ｒ９０１は、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｘ９は、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、又はアリール基を表す。 In General Formula (IX), R 901 represents an alkyl group or an aryl group, and X 9 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, or an aryl group.
一般式（VIII）及び（IX）におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましい。 As a halogen atom in general formula (VIII) and (IX), a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are preferable.
一般式（VIII）及び（IX）におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメチルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基等が挙げられる。 As the alkoxy group in the general formulas (VIII) and (IX), methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, dodecyloxy group, benzyloxy group, allyloxy group Phenethyloxy group, carboxyethyloxy group, methoxycarbonylethyloxy group, ethoxycarbonylethyloxy group, methoxyethoxy group, phenoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, morpholinoethoxy group, morpholinopropyloxy group, ant Loxyethoxyethoxy group, phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, mesityloxy group, cumyloxy group, methoxyphenyloxy group, ethoxyphenyloxy group, chlorophenyloxy group Group, bromophenyl group, acetyloxy group, benzoyloxy group, naphthyloxy group and the like.
一般式（VIII）及び（IX）におけるアルキル基は、一般式（VII）におけるＲ７０１で表されるアルキル基と同義であり、その好ましい範囲も同様である。
また、一般式（（VIII）及び（IX）におけるアリール基は、一般式（VII）におけるＲ７０１で表されるアリール基と同義であり、その好ましい範囲も同様である。
The alkyl group in general formula (VIII) and (IX) is synonymous with the alkyl group represented by R701 in general formula (VII), and its preferable range is also the same.
Further, the aryl group in the general formula ((VIII) and (IX) has the same meaning as the aryl group represented by R 701 in formula (VII), is the same preferred ranges thereof.
一般式（VIII）及び（IX）における各基は、更に置換基を有していてもよく、その置換基としては、一般式（VII）におけるＲ７０１で表されるアルキル基やアリール基に導入可能な置換基として挙げられているものと同様である。 Each group in the general formulas (VIII) and (IX) may further have a substituent, and the substituent is introduced into the alkyl group or aryl group represented by R701 in the general formula (VII). Similar to those listed as possible substituents.
一般式（VIII）中のＸ８、及び一般式（IX）中のＸ９は、水素原子であることが、ＰＧＭＥＡ溶解性の観点でより好ましい。
一般式（VIII）中、Ｒ８０１は、フェニル基であることが、感度とＰＧＭＥＡ溶解性の観点で最も好ましい。
一般式（IX）中、Ｒ９０１は、メチル基、エチル基、フェニル基、ベンジル基であることが、感度とＰＧＭＥＡ溶解性の観点でより好ましい。
X 8 in general formula (VIII) and X 9 in general formula (IX) are more preferably a hydrogen atom from the viewpoint of PGMEA solubility.
In general formula (VIII), R 801 is most preferably a phenyl group from the viewpoints of sensitivity and PGMEA solubility.
In general formula (IX), R 901 is more preferably a methyl group, an ethyl group, a phenyl group or a benzyl group from the viewpoints of sensitivity and PGMEA solubility.
一般式（VIII）及び（IX）の中で、ＰＧＭＥＡ溶解性の観点で、一般式（IX）で表される化合物が最も好ましい。 Of the general formulas (VIII) and (IX), the compound represented by the general formula (IX) is most preferable from the viewpoint of PGMEA solubility.
以下、本発明に用いうるチオール化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、本明細書においては、化学式は簡略構造式により記載することもあり、特に元素や置換基の明示がない実線等は、炭化水素基を表す。また、下記具体例において、Ｍｅはメチル基を表す。
Hereinafter, although the preferable specific example of the thiol compound which can be used for this invention is shown, this invention is not limited to these.
Note that in this specification, a chemical formula may be described by a simplified structural formula, and a solid line or the like that does not clearly indicate an element or a substituent particularly represents a hydrocarbon group. In the following specific examples, Me represents a methyl group.
これらチオール化合物のＰＧＭＥＡ溶媒に対する溶解度は、塗膜均一性の観点から２０ｇ／Ｌ以上であることが好ましく、より好ましくは２０ｇ／Ｌ以上〜５０ｇ／Ｌ以下であり、更に好ましくは２０ｇ／Ｌ以上〜４０ｇ／Ｌ以下である。 The solubility of these thiol compounds in the PGMEA solvent is preferably 20 g / L or more, more preferably 20 g / L to 50 g / L, and still more preferably 20 g / L or more, from the viewpoint of coating film uniformity. 40 g / L or less.
−溶解度測定方法−
本明細書において、チオール化合物の溶解度は、以下のように定義する
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）溶媒５ｍＬに特定チオール化合物を加え、２５℃で１時間攪拌したときに完全に溶けうる特定チオール化合物の最大量を溶解度とした。
-Solubility measurement method-
In the present specification, the solubility of the thiol compound is defined as follows. The specific thiol compound that can be completely dissolved when the specific thiol compound is added to 5 mL of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) solvent and stirred at 25 ° C. for 1 hour. The maximum amount was taken as solubility.
これらのチオール化合物は、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，３４、２２０３−２２０７（１９６１）に記載の方法で合成することができる。 These thiol compounds are described in J. Org. Appl. Chem. , 34, 2203-2207 (1961).
チオール化合物は、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
チオール化合物を併用する場合、前記した一般式のいずれかで表される化合物のみを２種以上併用してもよいし、異なる一般式で表される化合物を併用してもよい。組み合わせの態様としては、例えば、一般式（VIII）で表される化合物から選択される化合物と、一般式（IX）で表される化合物から選択される化合物とを併用する態様がある。
A thiol compound may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
When a thiol compound is used in combination, only two or more compounds represented by any of the general formulas described above may be used in combination, or compounds represented by different general formulas may be used in combination. As an aspect of the combination, for example, there is an aspect in which a compound selected from the compound represented by the general formula (VIII) and a compound selected from the compound represented by the general formula (IX) are used in combination.
本発明の光硬化性組成物がチオール化合物を含有する場合、その含有量としては、重合成長速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、光硬化性組成物の全固形分の質量に対し、０．５質量％以上３０質量％以下の範囲が好ましく、１質量％以上２５質量％以下の範囲がより好ましく、３質量％以上２０質量％以下の範囲が更に好ましい。 When the photocurable composition of the present invention contains a thiol compound, the content thereof is the mass of the total solid content of the photocurable composition from the viewpoint of improving the curing rate due to the balance between polymerization growth rate and chain transfer. On the other hand, the range of 0.5 mass% or more and 30 mass% or less is preferable, the range of 1 mass% or more and 25 mass% or less is more preferable, and the range of 3 mass% or more and 20 mass% or less is still more preferable.
〔（Ｇ）バインダーポリマー〕
本発明の光硬化性組成物においては、皮膜特性向上などの目的で、必要に応じて、更にバインダーポリマーを使用することができる。
バインダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好ましい。このような「線状有機ポリマー」としては、公知のものを任意に使用できる。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とするために、水或いは弱アルカリ水に可溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。線状有機ポリマーは、皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或いは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号に記載されているもの、すなわち、カルボキシル基を有するモノマーを単独或いは共重合させた樹脂、酸無水物を有するモノマーを単独或いは共重合させ酸無水物ユニットを加水分解若しくはハーフエステル化若しくはハーフアミド化させた樹脂、エポキシ樹脂を不飽和モノカルボン酸及び酸無水物で変性させたエポキシアクリレート等が挙げられる。カルボキシル基を有するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、４−カルボキシルスチレン等があげられ、酸無水物を有するモノマーとしては、無水マレイン酸等が挙げられる。
また、同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
[(G) Binder polymer]
In the photocurable composition of the present invention, a binder polymer can be further used as necessary for the purpose of improving the film properties.
It is preferable to use a linear organic polymer as the binder. As such a “linear organic polymer”, a known one can be arbitrarily used. Preferably, a linear organic polymer that is soluble or swellable in water or weak alkaline water is selected in order to enable water development or weak alkaline water development. The linear organic polymer is selected and used not only as a film forming agent but also according to the use as water, weak alkaline water or an organic solvent developer. For example, when a water-soluble organic polymer is used, water development becomes possible. Examples of such linear organic polymers include radical polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, and JP-B-54-25957. , JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, JP-A-59-71048, ie, a resin obtained by homo- or copolymerization of a monomer having a carboxyl group, acid anhydride Resins in which acid anhydride units are hydrolyzed, half-esterified or half-amidated, or epoxy acrylate modified with unsaturated monocarboxylic acid and acid anhydride, etc. It is done. Examples of the monomer having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, 4-carboxylstyrene, and the monomer having an acid anhydride includes maleic anhydride. It is done.
Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group are useful.
アルカリ可溶性樹脂を共重合体として用いる場合、共重合させる化合物として、先にあげたモノマー以外の他のモノマーを用いることもできる。他のモノマーの例としては、下記（１）〜（１２）の化合物が挙げられる。 When an alkali-soluble resin is used as a copolymer, a monomer other than the above-mentioned monomers can also be used as the compound to be copolymerized. Examples of other monomers include the following compounds (1) to (12).
（１）２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
（２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、ビニルアクリレート、２−フェニルビニルアクリレート、１−プロペニルアクリレート、アリルアクリレート、２−アリロキシエチルアクリレート、プロパルギルアクリレート等のアルキルアクリレート。
(1) 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as
(2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, isobutyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, acrylic acid-2- Alkyl acrylates such as chloroethyl, glycidyl acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate, vinyl acrylate, 2-phenylvinyl acrylate, 1-propenyl acrylate, allyl acrylate, 2-allyloxyethyl acrylate, propargyl acrylate;
（３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート、ビニルメタクリレート、２−フェニルビニルメタクリレート、１−プロペニルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−アリロキシエチルメタクリレート、プロパルギルメタクリレート等のアルキルメタクリレート。
（４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、ビニルアクリルアミド、ビニルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアリルメタクリルアミド、アリルアクリルアミド、アリルメタクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(3) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, methacrylic acid-2- Alkyl methacrylates such as chloroethyl, glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, vinyl methacrylate, 2-phenylvinyl methacrylate, 1-propenyl methacrylate, allyl methacrylate, 2-allyloxyethyl methacrylate, and propargyl methacrylate.
(4) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide, vinylacrylamide, vinylmethacrylamide, N, N-diallylacrylamide, N, N-diallylmethacrylamide, allylacrylamide, allylmethacrylamide.
（５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレン等のスチレン類。
（８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(5) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(6) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
(7) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene, and p-acetoxystyrene.
(8) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(9) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, and isoprene.
（１０）Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
（１２）α位にヘテロ原子が結合したメタクリル酸系モノマー。例えば、特願２００１−１１５５９５号明細書、特願２００１−１１５５９８号明細書等に記載されている化合物を挙げる事ができる。
(10) N-vinylpyrrolidone, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(11) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
(12) A methacrylic acid monomer having a hetero atom bonded to the α-position. For example, compounds described in Japanese Patent Application No. 2001-115595, Japanese Patent Application No. 2001-115598, and the like can be mentioned.
これらの中で、側鎖にアリル基やビニルエステル基とカルボキシル基を有する（メタ）アクリル樹脂及び特開２０００−１８７３２２号公報、特開２００２−６２６９８号公報に記載されている側鎖に二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂や、特開２００１−２４２６１２号公報に記載されている側鎖にアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。 Among these, a (meth) acrylic resin having an allyl group, a vinyl ester group, and a carboxyl group in the side chain and a side chain described in JP-A Nos. 2000-187322 and 2002-62698 are doubled. An alkali-soluble resin having a bond and an alkali-soluble resin having an amide group in the side chain described in JP-A No. 2001-242612 are preferable because of excellent balance of film strength, sensitivity, and developability.
また、特公平７−１２００４号、特公平７−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特願平１０−１１６２３２号等に記載される酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーや、特開２００２−１０７９１８に記載される酸基と二重結合を側鎖に有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、欧州特許９９３９６６、欧州特許１２０４０００、特開２００１−３１８４６３等に記載の酸基を有するアセタール変性ポリビニルアルコール系バインダーポリマーは、膜強度、現像性のバランスに優れており、好適である。
更にこの他に水溶性線状有機ポリマーとして、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
In addition, Japanese Patent Publication No. 7-2004, Japanese Patent Publication No. 7-120041, Japanese Patent Publication No. 7-120042, Japanese Patent Publication No. 8-12424, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287944, Japanese Patent Laid-Open No. 63-287947, Japanese Patent Laid-Open No. Urethane binder polymers containing acid groups as described in JP 271741 and Japanese Patent Application No. 10-116232, and urethane binder polymers having acid groups and double bonds in side chains as described in JP-A No. 2002-107918 Is excellent in strength, and is advantageous in terms of printing durability and suitability for low exposure.
In addition, the acetal-modified polyvinyl alcohol-based binder polymer having an acid group described in European Patent 993966, European Patent 1204000, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-318463, and the like is preferable because of its excellent balance of film strength and developability.
In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. In order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.
本発明の光硬化性組成物で使用しうるバインダーポリマーの重量平均分子量としては、好ましくは５、０００以上であり、更に好ましくは１万〜３０万の範囲であり、数平均分子量については好ましくは１、０００以上であり、更に好ましくは２、０００〜２５万の範囲である。多分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は１以上が好ましく、更に好ましくは１．１〜１０の範囲である。
これらのバインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい。
The weight average molecular weight of the binder polymer that can be used in the photocurable composition of the present invention is preferably 5,000 or more, more preferably in the range of 10,000 to 300,000, and the number average molecular weight is preferably It is 1,000 or more, More preferably, it is the range of 2,000-250,000. The polydispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1 or more, and more preferably 1.1 to 10.
These binder polymers may be any of random polymers, block polymers, graft polymers and the like.
本発明で用いうるバインダーポリマーは、従来公知の方法により合成できる。合成する際に用いられる溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で又は２種以上混合して用いられる。
本発明の光硬化性組成物において用いうるバインダーポリマーを合成する際に用いられるラジカル重合開始剤としては、アゾ系開始剤、過酸化物開始剤等公知の化合物が挙げられる。
The binder polymer that can be used in the present invention can be synthesized by a conventionally known method. Solvents used in the synthesis include, for example, tetrahydrofuran, ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone, methanol, ethanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 2-methoxyethyl acetate, diethylene glycol dimethyl ether, 1-methoxy. Examples include 2-propanol, 1-methoxy-2-propyl acetate, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, toluene, ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, dimethyl sulfoxide, and water. These solvents are used alone or in combination of two or more.
Examples of the radical polymerization initiator used when synthesizing the binder polymer that can be used in the photocurable composition of the present invention include known compounds such as an azo initiator and a peroxide initiator.
〔（Ｈ）重合禁止剤〕
本発明の光硬化性組成物においては、光硬化性組成物の製造中或いは保存中において、（Ａ）特定光重合性化合物等の重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。
[(H) polymerization inhibitor]
In the photocurable composition of the present invention, during the production or storage of the photocurable composition, (A) a small amount of heat is used in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound such as the specific photopolymerizable compound. It is desirable to add a polymerization inhibitor.
本発明に用いうる熱重合防止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。 Examples of the thermal polymerization inhibitor that can be used in the present invention include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6). -T-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like.
熱重合防止剤の添加量は、本発明の光硬化性組成物の全固形分に対し約０．０１〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で塗布膜の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５〜約１０質量％が好ましい。 The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01 to about 5% by mass with respect to the total solid content of the photocurable composition of the present invention. If necessary, higher fatty acid derivatives such as behenic acid and behenic acid amide may be added to prevent polymerization inhibition by oxygen, and may be unevenly distributed on the surface of the coating film during the drying process after coating. . The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5 to about 10% by mass of the total composition.
〔（Ｉ）密着向上剤〕
本発明の光硬化性組成物においては、支持体などの硬質表面との密着性を向上させるために、密着向上剤を添加することができる。密着向上剤としては、シラン系カップリング剤、チタンカップリング剤等が挙げられる。
[(I) Adhesion improver]
In the photocurable composition of the present invention, an adhesion improver can be added in order to improve adhesion to a hard surface such as a support. Examples of the adhesion improver include a silane coupling agent and a titanium coupling agent.
シラン系カップリング剤としては、例えば、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、アミノシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライド、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、ビスアリルトリメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、フェニルトリメトキシシラン、Ｎ−（３−アクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、（メタクリロキシメチル）メチルジエトキシシラン、（アクリロキシメチル）メチルジメトキシシラン、等が挙げられる。中でも、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、が好ましく、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが最も好ましい。 Examples of the silane coupling agent include γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxy. Silane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyl Triethoxysilane, γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane / hydrochloride, γ-glycidoxypro Pyrtrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, aminosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ- Chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, γ-anilinopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl ] Ammonium chloride, γ-chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, methyltrichlorosilane, dimethyldichlorosilane, trimethyl Chlorosilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, bisallyltrimethoxysilane, tetraethoxysilane, bis (trimethoxysilyl) hexane, phenyltrimethoxysilane, N- (3-acryloxy-2-hydroxy Propyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N- (3-methacryloxy-2-hydroxypropyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, (methacryloxymethyl) methyldiethoxysilane, (acryloxymethyl) methyldimethoxysilane , Etc. Among them, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyl Triethoxysilane and phenyltrimethoxysilane are preferable, and γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane is most preferable.
密着向上剤の添加量は、本発明の光硬化性組成物の全固形分中０．５質量％以上３０質量％以下が好ましく、０．７質量％以上２０質量％以下がより好ましい。 The addition amount of the adhesion improver is preferably 0.5% by mass or more and 30% by mass or less, and more preferably 0.7% by mass or more and 20% by mass or less in the total solid content of the photocurable composition of the present invention.
〔（Ｊ）希釈剤〕
本発明の光硬化性組成物は、希釈剤として、種々の有機溶剤を用いてもよい。
ここで使用する有機溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。
これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。有機溶剤に対する固形分の濃度は、２質量％以上６０質量％以下であることが好ましい。
[(J) Diluent]
The photocurable composition of the present invention may use various organic solvents as a diluent.
The organic solvent used here is acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether. , Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether , Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are ethyl and the like.
These solvents can be used alone or in combination. The concentration of the solid content relative to the organic solvent is preferably 2% by mass or more and 60% by mass or less.
〔（Ｋ）その他の添加剤〕
更に、本発明の光硬化性組成物に対しては、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤や、可塑剤、感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、重合性化合物とバインダーポリマーとの合計質量に対し１０質量％以下添加することができる。
[(K) Other additives]
Furthermore, in order to improve the physical properties of the cured film, known additives such as inorganic fillers, plasticizers, and sensitizers may be added to the photocurable composition of the present invention.
Examples of plasticizers include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, and triacetyl glycerin. , 10% by mass or less can be added with respect to the total mass of the polymerizable compound and the binder polymer.
以上、本発明の光硬化性組成物は、（Ａ）特定重合性化合物を含むことから、露光部での硬化性を良好に保ちつつ、未露光部でのアルカリ溶解性が高いため、残渣を低減することが可能となり、光硬化性組成物中に着色剤を高濃度に含有する場合であっても、顕著に残渣低減効果が発揮される。また、上記のように、露光部での硬化性が良好で、且つ、未露光部の除去性に優れることから、本発明の光硬化性組成物は、パターン形成性に優れるものである。
このような本発明の光硬化性組成物は、（Ａ）特定重合性化合物、（Ｂ）光重合開始剤、及び（Ｃ）着色剤を含有させてカラーフィルタ用光硬化性組成物（本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物）として用いることが好ましい。
As mentioned above, since the photocurable composition of the present invention contains (A) the specific polymerizable compound, the alkali solubility in the unexposed area is high while maintaining good curability in the exposed area. Even if it is a case where a coloring agent is contained in a high concentration in a photocurable composition, the residue reduction effect is exhibited notably. Moreover, since the curability in an exposed part is favorable as mentioned above and it is excellent in the removability of an unexposed part, the photocurable composition of this invention is excellent in pattern formation property.
Such a photocurable composition of the present invention comprises (A) a specific polymerizable compound, (B) a photopolymerization initiator, and (C) a colorant. It is preferably used as a color filter photocurable composition.
＜カラーフィルタ及びその製造方法＞
次に、本発明のカラーフィルタ及びその製造方法について説明する。
本発明のカラーフィルタは、支持体上に、本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物を用いてなる着色パターンを有することを特徴とする。
以下、本発明のカラーフィルタについて、その製造方法（本発明のカラーフィルタの製造方法）を通じて詳述する。
<Color filter and manufacturing method thereof>
Next, the color filter of the present invention and the manufacturing method thereof will be described.
The color filter of the present invention has a colored pattern formed on the support using the photocurable composition for a color filter of the present invention.
Hereinafter, the color filter of the present invention will be described in detail through its manufacturing method (color filter manufacturing method of the present invention).
本発明のカラーフィルタの製造方法は、支持体上に、本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物を塗布して着色光硬化性組成物層を形成する工程（以下、適宜「着色光硬化性組成物層形成工程」と略称する。）と、前記着色光硬化性組成物層をマスクを介して露光する工程（以下、適宜「露光工程」と略称する。）と、露光後の前記光硬化性組成物層を現像して着色パターンを形成する工程（以下、適宜「現像工程」と略称する。）と、を含むことを特徴とする。 The method for producing a color filter of the present invention comprises a step of forming a colored photocurable composition layer on a support by applying the photocurable composition for a color filter of the present invention (hereinafter referred to as “colored photocurable” as appropriate). Abbreviated as “composition layer forming step”), a step of exposing the colored photocurable composition layer through a mask (hereinafter abbreviated as “exposure step” as appropriate), and the photocuring after exposure. And a step of developing the composition layer to form a colored pattern (hereinafter abbreviated as “development step” as appropriate).
具体的には、本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物を、直接又は他の層を介して支持体（基板）上に塗布して、光硬化性組成物層を形成し（着色光硬化性組成物層形成工程）、所定のマスクパターンを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させ（露光工程）、現像液で現像することによって（現像工程）、各色（３色或いは４色）の画素からなるパターン状皮膜を形成し、本発明のカラーフィルタを製造することができる。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法における各工程について説明する。
Specifically, the photocurable composition for a color filter of the present invention is applied on a support (substrate) directly or via another layer to form a photocurable composition layer (colored photocuring). The composition layer forming step), exposing through a predetermined mask pattern, curing only the light-irradiated coating film portion (exposure step), and developing with a developer (developing step), each color (three colors) Alternatively, the color filter of the present invention can be manufactured by forming a patterned film composed of pixels of four colors).
Hereinafter, each process in the manufacturing method of the color filter of this invention is demonstrated.
〔着色光硬化性組成物層形成工程〕
着色光硬化性組成物層形成工程では、支持体上に、本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物を塗布して着色光硬化性組成物層を形成する。
[Colored photocurable composition layer forming step]
In the colored photocurable composition layer forming step, the colored photocurable composition layer of the present invention is applied on the support to form the colored photocurable composition layer.
本工程に用いうる支持体としては、例えば、液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等や、相補性金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）等が挙げられる。これらの基板は、各画素を隔離するブラックストライプが形成されている場合もある。
また、これらの支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
As the support that can be used in this step, for example, soda glass, Pyrex (registered trademark) glass, quartz glass, and those obtained by attaching a transparent conductive film to these glasses, imaging elements, etc. Examples of the photoelectric conversion element substrate include a silicon substrate and a complementary metal oxide semiconductor (CMOS). These substrates may have black stripes that separate pixels.
Further, an undercoat layer may be provided on these supports, if necessary, in order to improve adhesion to the upper layer, prevent diffusion of substances, or flatten the substrate surface.
支持体上への本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物の塗布方法としては、スリット塗布、インクジェット法、回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スクリーン印刷法等の各種の塗布方法を適用することができる。 As a coating method of the photocurable composition for a color filter of the present invention on a support, various coating methods such as slit coating, ink jet method, spin coating, cast coating, roll coating, and screen printing method are applied. be able to.
カラーフィルタ用光硬化性組成物の塗布膜厚としては、０．１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．２μｍ〜５μｍがより好ましく、０．２μｍ〜３μｍが更に好ましい。
また、固体撮像素子用のカラーフィルタを製造する際には、カラーフィルタ用光硬化性組成物の塗布膜厚としては、解像度と現像性の観点から、０．３５μｍ〜１．５μｍが好ましく、０．４０μｍ〜１．０μｍがより好ましい。
As a coating film thickness of the photocurable composition for color filters, 0.1 μm to 10 μm is preferable, 0.2 μm to 5 μm is more preferable, and 0.2 μm to 3 μm is still more preferable.
Moreover, when manufacturing the color filter for solid-state image sensors, as a coating film thickness of the photocurable composition for color filters, 0.35 micrometers-1.5 micrometers are preferable from a viewpoint of resolution and developability, 0 More preferably, it is 40 μm to 1.0 μm.
支持体上に塗布されたカラーフィルタ用光硬化性組成物は、通常、７０℃〜１１０℃で２分〜４分程度の条件下で乾燥され、着色光硬化性組成物層が形成される。 The photocurable composition for a color filter applied on a support is usually dried at 70 ° C. to 110 ° C. for about 2 minutes to 4 minutes to form a colored photocurable composition layer.
〔露光工程〕
露光工程では、前記着色光硬化性組成物層形成工程において形成された着色光硬化性組成物層をマスクを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させる。
露光は放射線の照射により行うことが好ましく、露光に際して用いることができる放射線としては、特に、ｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線が好ましく用いられ、高圧水銀灯がより好まれる。照射強度は５ｍＪ／ｃｍ２〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２が最も好ましい。
[Exposure process]
In the exposure step, the colored photocurable composition layer formed in the colored photocurable composition layer forming step is exposed through a mask, and only the coating film portion irradiated with light is cured.
The exposure is preferably performed by irradiation of radiation, and as radiation that can be used for exposure, ultraviolet rays such as g-line, h-line, and i-line are preferably used, and a high-pressure mercury lamp is more preferable. The irradiation intensity is more preferably 5mJ / cm 2 ~1500mJ / cm 2 is preferably 10mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 , 10mJ / cm 2 ~800mJ / cm 2 being most preferred.
〔現像工程〕
露光工程に次いで、アルカリ現像処理（現像工程）を行い、露光工程における光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させる。これにより、光硬化した部分だけが残る。
現像液としては、下地の回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましい。現像温度としては通常２０℃〜３０℃であり、現像時間は２０〜９０秒である。
[Development process]
Subsequent to the exposure step, an alkali development treatment (development step) is performed, and the light non-irradiated part in the exposure step is eluted in an alkaline aqueous solution. Thereby, only the photocured part remains.
As the developer, an organic alkali developer that does not damage the underlying circuit or the like is desirable. The development temperature is usually 20 ° C. to 30 ° C., and the development time is 20 to 90 seconds.
現像液に用いるアルカリとしては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ−［５、４、０］−７− ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物を濃度が０．００１〜１０質量％、好ましくは０．０１〜１質量％となるように純水で希釈したアルカリ性水溶液が使用される。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、一般に現像後純水で洗浄（リンス）する。 Examples of the alkali used in the developer include ammonia water, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5, 4, 0. ] -7- An alkaline aqueous solution obtained by diluting an organic alkaline compound such as undecene with pure water to a concentration of 0.001 to 10% by mass, preferably 0.01 to 1% by mass is used. In the case where a developer composed of such an alkaline aqueous solution is used, it is generally washed (rinsed) with pure water after development.
なお、本発明のカラーフィルタの製造方法においては、上述した、光硬化性組成物層形成工程、露光工程、及び現像工程を行った後に、必要により、形成された着色パターンを加熱及び／又は露光により硬化する硬化工程を含んでいてもよい。 In the method for producing a color filter of the present invention, after the above-described photocurable composition layer forming step, exposure step, and development step are performed, the formed colored pattern is heated and / or exposed as necessary. It may include a curing step of curing by.
以上説明した、着色光硬化性組成物層形成工程、露光工程、及び現像工程（更に、必要により硬化工程）を所望の色相数だけ繰り返すことにより、所望の色相よりなるカラーフィルタが作製される。 By repeating the above-described colored photocurable composition layer forming step, exposure step, and developing step (and, if necessary, the curing step) for the desired number of hues, a color filter having a desired hue is produced.
ここで、本発明のカラーフィルタの製造方法として、カラーフィルタの着色パターンを形成する際に本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物を用いる態様を中心に説明したが、本発明はこの態様に限定されるものではない。例えば、本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物は、カラーフィルタを構成する着色パターン（画素）を隔離するブラックマトリックスの形成にも適用することができる。
また、本発明のカラーフィルタの製造方法における着色光硬化性組成物層形成工程、露光工程、及び現像工程（更に、必要により硬化工程）は、基板上のブラックマトリックスの形成する際にも適用される。具体的には、カーボンブラック、チタンブラックなどの黒色着色剤を含有する本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物を用い、上述のように、着色光硬化性組成物層形成工程、露光工程、及び現像工程（更に、必要により硬化工程）を行うことにより、基板上にはブラックマトリクス（黒色パターン）を形成することができる。
Here, as a method for producing the color filter of the present invention, the embodiment of using the photocurable composition for a color filter of the present invention when forming a color pattern of the color filter has been mainly described. It is not limited. For example, the photocurable composition for a color filter of the present invention can also be applied to the formation of a black matrix that isolates the colored pattern (pixels) constituting the color filter.
In addition, the colored photocurable composition layer forming step, the exposure step, and the developing step (and, if necessary, the curing step) in the method for producing a color filter of the present invention are also applied when forming a black matrix on a substrate. The Specifically, using the photocurable composition for a color filter of the present invention containing a black colorant such as carbon black and titanium black, as described above, a colored photocurable composition layer forming step, an exposure step, Further, a black matrix (black pattern) can be formed on the substrate by performing a development process (and a curing process if necessary).
本発明のカラーフィルタは、本発明のカラーフィルタ用光硬化性組成物を用いているため、着色剤を高濃度で含有する場合であっても高感度で硬化すると共に、未硬化部については除去性（現像性）に優れる組成物である。このため、本発明のカラーフィルタ用光重合性組成物を用いて得られたカラーフィルタは、所望の断面形状を有する高解像度の着色パターンを有し、且つ、着色パターンの非形成領域においては現像残渣が効果的に抑止されたものとなる。
従って、本発明のカラーフィルタは、液晶表示素子やＣＣＤ等の固体撮像素子に好適に用いることができ、特に１００万画素を超えるような高解像度のＣＣＤ素子やＣＭＯＳ等に好適である。つまり、本発明のカラーフィルタは、固体撮像素子に適用されることが好ましい。本発明のカラーフィルタは、例えば、ＣＣＤを構成する各画素の受光部と集光するためのマイクロレンズとの間に配置されるカラーフィルタとして用いることができる。
Since the color filter of the present invention uses the photocurable composition for a color filter of the present invention, it cures with high sensitivity even when it contains a colorant at a high concentration, and removes uncured portions. Composition (developability). For this reason, the color filter obtained by using the photopolymerizable composition for a color filter of the present invention has a high-resolution colored pattern having a desired cross-sectional shape, and is developed in a region where the colored pattern is not formed. Residue is effectively suppressed.
Accordingly, the color filter of the present invention can be suitably used for a solid-state imaging device such as a liquid crystal display device or a CCD, and is particularly suitable for a high-resolution CCD device or a CMOS that exceeds 1 million pixels. That is, the color filter of the present invention is preferably applied to a solid-state image sensor. The color filter of the present invention can be used as, for example, a color filter disposed between a light receiving portion of each pixel constituting a CCD and a microlens for condensing light.
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist thereof.
まず、下記表１及び表２に、実施例及び比較例に用いる（Ａ）特定重合性化合物（化合物１〜化合物６）及び比較化合物（比較化合物１、比較化合物２）の詳細を示す。 First, Tables 1 and 2 below show details of (A) specific polymerizable compounds (Compound 1 to Compound 6) and comparative compounds (Comparative Compound 1 and Comparative Compound 2) used in Examples and Comparative Examples.
上記表１中の特定重合性化合物化合物１〜化合物６を以下に示す方法で合成した。 The specific polymerizable compound compounds 1 to 6 in Table 1 were synthesized by the following method.
（合成例１：化合物１の合成）
２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸（７．０ｇ、５２．２ｍｍｏｌ）、及びカレンズＢＥＩ（昭和電工製）（２４．９７ｇ、１０４．４ｍｍｏｌ）をアセトニトリル１００ｍｌに加え、そこへジ−ｎ−ブチルスズジラウレートを１００ｍｇ加え、８０℃で１２時間加熱還流する。アセトニトリルを減圧溜去し、目的とする特定重合性化合物である化合物１を３１．９７ｇ得た。
(Synthesis Example 1: Synthesis of Compound 1)
2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid (7.0 g, 52.2 mmol) and Karenz BEI (manufactured by Showa Denko) (24.97 g, 104.4 mmol) were added to 100 ml of acetonitrile, and di-n- Add 100 mg of butyltin dilaurate and heat to reflux at 80 ° C. for 12 hours. Acetonitrile was distilled off under reduced pressure to obtain 31.97 g of Compound 1, which is the target specific polymerizable compound.
（合成例２：化合物２の合成）
合成例１と同様の合成法を用い、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸をＢＥＳ（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）に変更し、化合物２を合成した。
(Synthesis Example 2: Synthesis of Compound 2)
Using the same synthesis method as in Synthesis Example 1, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid was changed to BES (manufactured by Aldrich) to synthesize Compound 2.
（合成例３：化合物３の合成）
合成例１と同様の合成法を用い、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸を２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸テトラブチルアンモニウム塩に変更し、化合物３を合成した。
(Synthesis Example 3: Synthesis of Compound 3)
Using the same synthesis method as in Synthesis Example 1, 2,3-bis (hydroxymethyl) propionic acid was changed to 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid tetrabutylammonium salt to synthesize Compound 3.
（合成例４：化合物４の合成）
合成例１と同様の合成法を用い、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸をＢＥＳ（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）のテトラブチルアンモニウム塩に変更し、化合物４を合成した。
(Synthesis Example 4: Synthesis of Compound 4)
Using the same synthesis method as in Synthesis Example 1, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid was changed to tetrabutylammonium salt of BES (manufactured by Aldrich) to synthesize Compound 4.
（合成例５：化合物５の合成）
合成例２と同様の合成法を用い、カレンズＢＥＩをカレンズＡＯＩ（昭和電工製）に変更し、化合物５を合成した。
(Synthesis Example 5: Synthesis of Compound 5)
Using the same synthesis method as in Synthesis Example 2, Karenz BEI was changed to Karenz AOI (manufactured by Showa Denko), and Compound 5 was synthesized.
（合成例６：化合物６の合成）
合成例１と同様の合成法を用い、カレンズＢＥＩをカレンズＡＯＩ（昭和電工製）に変更し、特定化合物６を合成した。
(Synthesis Example 6: Synthesis of Compound 6)
Using the same synthesis method as in Synthesis Example 1, Karenz BEI was changed to Karenz AOI (manufactured by Showa Denko), and specific compound 6 was synthesized.
次に、実施例及び比較例で用いる（Ｂ）光重合性化合物の詳細を示す。
実施例及び比較例の（Ｂ）光重合性化合物としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ３６９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、化合物Ｘ、及びＬＤ−５（保土ヶ谷化学社製）である。これらの化合物の構造は以下に示す通りである。
Next, the detail of the (B) photopolymerizable compound used by an Example and a comparative example is shown.
Examples and (B) photopolymerizable compounds of Examples and Comparative Examples include IRGACURE OXE 01 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), IRGACURE OXE 02 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), IRGACURE 369 (Ciba Specialty Chemicals). Company X), Compound X, and LD-5 (Hodogaya Chemical Co., Ltd.). The structures of these compounds are as shown below.
［実施例１−１］
〔１．着色光硬化性組成物Ａ−１の調製〕
カラーフィルタ形成用光硬化性組成物として、着色剤（顔料）を含有するネガ型の着色光硬化性組成物Ａ−１を調製し、これを用いてカラーフィルタを作製した。
[Example 1-1]
[1. Preparation of colored photocurable composition A-1]
As a photocurable composition for forming a color filter, a negative colored photocurable composition A-1 containing a colorant (pigment) was prepared, and a color filter was produced using this.
１−１．顔料分散液（Ｐ１）の調製
顔料としてＣ．Ｉ．ピグメント グリーン３６とＣ．Ｉ．ピグメント イエロー２１９との３０／７０（質量比）混合物４０質量部、分散剤としてＢＹＫ２００１（Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ ：ビックケミー（ＢＹＫ）社製、固形分濃度４５．１質量％）１０質量部（固形分換算約４．５１質量部）、及び溶媒として３−エトキシプロピオン酸エチル１５０質量部からなる混合液を、ビーズミルにより１５時間混合・分散して、顔料分散液（Ｐ１）を調製した。
1-1. Preparation of pigment dispersion (P1) C.I. I. Pigment Green 36 and C.I. I. 40 parts by mass of a 30/70 (mass ratio) mixture with CI Pigment Yellow 219, and 10 parts by mass (approximately 4. 51 parts by mass) and 150 parts by mass of ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent were mixed and dispersed by a bead mill for 15 hours to prepare a pigment dispersion (P1).
得られた顔料分散液（Ｐ１）について、顔料の平均粒径を動的光散乱法により測定したところ、２００ｎｍであった。 With respect to the obtained pigment dispersion (P1), the average particle diameter of the pigment was measured by a dynamic light scattering method and found to be 200 nm.
１−２．着色光硬化性組成物Ａ−１（塗布液）の調製
下記組成Ａ−１の成分を混合して溶解し着色光硬化性組成物Ａ−１を調製した。
1-2. Preparation of colored photocurable composition A-1 (coating liquid) The components of the following composition A-1 were mixed and dissolved to prepare a colored photocurable composition A-1.
＜組成Ａ−１＞
・顔料分散液（Ｐ１） ６００質量部
・アルカリ可溶性樹脂 ２００質量部
（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ｍｏｌ比：８０／１０／１０、Ｍｗ：１００００）
・特定重合性化合物：化合物１ ３０質量部
・重合性化合物：Ａ−ＤＰＨ（比較化合物１） ３０質量部
・光重合開始剤：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１ ６０質量部
・溶媒：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート １０００質量部
・界面活性剤（商品名：テトラニック１５０Ｒ１、ＢＡＳＦ社） １質量部
・γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン ５質量部
<Composition A-1>
Pigment dispersion (P1) 600 parts by mass Alkali-soluble resin 200 parts by mass (benzyl methacrylate / methacrylic acid / hydroxyethyl methacrylate copolymer, mol ratio: 80/10/10, Mw: 10,000)
Specific polymerizable compound: 30 parts by mass of Compound 1 Polymerizable compound: 30 parts by mass of A-DPH (Comparative Compound 1) Photopolymerization initiator: 60 parts by mass of IRGACURE OXE 01 Solvent: 1000 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate・ Surfactant (trade name: Tetranic 150R1, BASF) 1 part by mass ・ γ-methacryloxypropyltriethoxysilane 5 parts by mass
〔２．カラーフィルタの作製〕
２−１．光硬化性組成物層の形成
上記により得られた顔料を含有する着色光硬化性組成物Ａ−１をレジスト溶液として、５５０ｍｍ×６５０ｍｍのガラス基板に下記条件でスリット塗布した後、１０分間そのままの状態に保持し、真空乾燥とプレベーク（ｐｒｅｂａｋｅ）（１００℃８０秒）を施して光硬化性組成物塗膜（光硬化性組成物層）を形成した。
[2. (Production of color filter)
2-1. Formation of a photocurable composition layer The colored photocurable composition A-1 containing a pigment obtained as described above was applied as a resist solution to a 550 mm × 650 mm glass substrate by slit coating under the following conditions, and then left for 10 minutes. While maintaining the state, vacuum drying and prebaking (100 ° C., 80 seconds) were performed to form a photocurable composition coating film (photocurable composition layer).
（スリット塗布条件）
塗布ヘッド先端の開口部の間隙：５０μｍ
塗布速度：１００ｍｍ／秒
基板と塗布ヘッドとのクリヤランス：１５０μｍ
塗布厚（乾燥厚）：２μｍ
塗布温度：２３℃
(Slit application conditions)
Gap at the opening at the tip of the coating head: 50 μm
Coating speed: 100 mm / second Clearance between substrate and coating head: 150 μm
Application thickness (dry thickness): 2 μm
Application temperature: 23 ° C
２−２．露光、現像
その後、２．５ｋＷの超高圧水銀灯を用いて、光硬化性組成物層をパターン状に露光した。露光後の光硬化性組成物層の全面を、無機系現像液（商品名：ＣＤ、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）の１０％水溶液で被い、６０秒間静止した。
2-2. Exposure and Development Thereafter, the photocurable composition layer was exposed in a pattern using a 2.5 kW ultra-high pressure mercury lamp. The entire surface of the photocurable composition layer after the exposure was covered with a 10% aqueous solution of an inorganic developer (trade name: CD, manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) and left still for 60 seconds.
２−３．加熱処理
その後、光硬化性組成物層上に純水をシャワー状に噴射して現像液を洗い流し、次いで、２２０℃のオーブンにて１時間加熱した（ポストベーク）。これにより、ガラス基板上に着色パターンを有するカラーフィルタを得た。
2-3. Heat treatment Subsequently, pure water was sprayed onto the photocurable composition layer in a shower to wash away the developer, and then heated in an oven at 220 ° C. for 1 hour (post-bake). Thereby, a color filter having a colored pattern on the glass substrate was obtained.
〔３．性能評価〕
着色光硬化性組成物の保存安定性及び露光感度、着色光硬化性組成物を用いてガラス基板上に着色パターンを形成した際の現像残渣、及び得られた着色パターンの断面形状について、下記のようにして評価した。
評価結果をまとめて表４に示す。
[3. (Performance evaluation)
The storage stability and exposure sensitivity of the colored photocurable composition, the development residue when the colored pattern is formed on the glass substrate using the colored photocurable composition, and the cross-sectional shape of the obtained colored pattern are as follows: Evaluation was performed as described above.
The evaluation results are summarized in Table 4.
３−１．着色光硬化性組成物の保存安定性
着色光硬化性組成物を室温で１ケ月保存した後、異物の析出度合いを下記判定基準に従って目視により評価した。
−判定基準−
○：析出は認められなかった。
△：僅かに析出が認められた。
×：析出が認められた。
3-1. Storage Stability of Colored Photocurable Composition After the colored photocurable composition was stored at room temperature for 1 month, the degree of precipitation of foreign matters was visually evaluated according to the following criteria.
-Criteria-
○: No precipitation was observed.
Δ: Slight precipitation was observed.
X: Precipitation was recognized.
３−２．着色光硬化性組成物の露光感度
着色光硬化性組成物を、ガラス基板上にスピンコート塗布後、乾燥して膜厚１．０μｍの塗膜を形成した。スピンコート条件は、３００ｒｐｍで５秒の後、８００ｒｐｍで２０秒とし、乾燥条件は１００℃で８０秒とした。次に、得られた塗膜を、線幅２．０μｍのテスト用のフォトマスクを用い、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株）製）により、１０ｍＪ／ｃｍ２〜１６００ｍＪ／ｃｍ２の種々の露光量で露光した。次に、１％に希釈したＣＤＫ−１（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）現像液を使用して、露光後の塗膜を、２５℃、６０秒間の条件で現像した。その後、流水で２０秒間リンスした後、スプレー乾燥しパターニングを完了した。
露光感度の評価は、露光工程において光が照射された領域の現像後の膜厚が、露光前の膜厚１００％に対して９５％以上であった最小の露光量を露光感度として評価した。露光感度の値が小さいほど感度が高いことを示す。
3-2. Exposure sensitivity of colored photocurable composition The colored photocurable composition was spin-coated on a glass substrate and then dried to form a coating film having a thickness of 1.0 µm. The spin coating conditions were 300 rpm for 5 seconds, 800 rpm for 20 seconds, and the drying conditions were 100 ° C. for 80 seconds. Next, the obtained coating film was 10 mJ / cm by a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having a super high pressure mercury lamp using a test photomask having a line width of 2.0 μm. It exposed with various exposure amount of 2 ~1600mJ / cm 2. Next, the exposed coating film was developed under the conditions of 25 ° C. and 60 seconds using a CDK-1 (Fuji Film Electronics Materials Co., Ltd.) developer diluted to 1%. Then, after rinsing with running water for 20 seconds, spray drying was performed to complete patterning.
Evaluation of exposure sensitivity evaluated the minimum exposure amount that the film thickness after the development of the area irradiated with light in the exposure process was 95% or more with respect to the film thickness 100% before exposure as the exposure sensitivity. A smaller exposure sensitivity value indicates higher sensitivity.
３−３．現像残渣、パターン断面形状
「２−３．加熱処理」においてポストベークを行った後の基板表面及び断面形状を、光学顕微鏡及びＳＥＭ写真観察により通常の方法で確認することにより、現像性、基板密着性、及びパターン断面形状の評価を行った。評価方法の詳細は以下の通りである。
3-3. Development residue, pattern cross-sectional shape By confirming the substrate surface and cross-sectional shape after post-baking in "2-3. Heat treatment" with an optical microscope and SEM photograph observation by a normal method, developability, substrate adhesion And pattern cross-sectional shape were evaluated. Details of the evaluation method are as follows.
＜現像残渣の評価＞
露光工程において、光が照射されなかった領域（未露光部）の残渣の有無を観察し、現像残渣を評価した。評価基準は以下の通りである。
−評価基準−
○：未露光部には、残渣がまったく確認されなかった
△：未露光部に、残渣がわずかに確認されたが、実用上問題のない程度であった
×：未露光部に、残渣が著しく確認された
<Evaluation of development residue>
In the exposure process, the presence or absence of residues in the area not irradiated with light (unexposed portions) was observed to evaluate development residues. The evaluation criteria are as follows.
-Evaluation criteria-
○: Residue was not confirmed at all in the unexposed area. Δ: Residue was slightly confirmed at the unexposed area, but there was no practical problem. confirmed
＜パターン断面形状＞
形成されたパターンの断面形状を観察して評価した。パターンの断面形状は矩形が最も好ましく、順テーパーが次に好ましい。逆テーパーは好ましくない。
<Pattern cross-sectional shape>
The cross-sectional shape of the formed pattern was observed and evaluated. The cross-sectional shape of the pattern is most preferably rectangular, and a forward taper is next preferred. Reverse taper is not preferred.
［実施例１−２〜１−１９、比較例１−１〜１−３］
実施例１−１での着色光硬化性組成物Ａ−１の調製に用いた組成Ａ−１において、化合物１（特定重合性化合物）：Ａ−ＤＰＨ（重合性化合物）＝１：１（３０質量部：３０質量部）であったものを下記表３及び表４に示される各化合物及び量比（質量比）に代え、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１（光重合開始剤）を下記表３及び表４に示される各化合物及び量に代え、実施例１−１２〜１−１９については、更に、増感剤及び／又は共増感剤を下記表３及び表４に示される種類及び量で加えた以外は、すべて実施例１−１と同様にして、着色光硬化性組成物Ａ−２〜Ａ−１９及びＡ’−１〜Ａ’−３を調製し、カラーフィルタを得た。
なお、下記表３及び表４中、重合性化合物として１種のみが記載されている箇所があるが、これは、実施例１−７では化合物１を６０質量部、比較例１−１では比較化合物１を６０質量部、更に、比較例１−２では比較化合物を６０質量部用いたことを意味する。
更に、実施例２−１と同様の評価を行った。結果を表３及び表４に示す。
[Examples 1-2 to 1-19, Comparative Examples 1-1 to 1-3]
In composition A-1 used for preparation of colored photocurable composition A-1 in Example 1-1, compound 1 (specific polymerizable compound): A-DPH (polymerizable compound) = 1: 1 (30 In the following Tables 3 and 4, IRGACURE OXE 01 (photopolymerization initiator) was changed to the following Tables 3 and 4 instead of the compounds shown in Tables 3 and 4 below and the quantitative ratios (mass ratios). For Examples 1-12 to 1-19, in place of the compounds and amounts shown, except that sensitizers and / or co-sensitizers were further added in the types and amounts shown in Tables 3 and 4 below. In the same manner as in Example 1-1, colored photocurable compositions A-2 to A-19 and A′-1 to A′-3 were prepared to obtain color filters.
In addition, in the following Table 3 and Table 4, there is a place where only one type is described as the polymerizable compound, but this is a comparison in Example 1-7 with 60 parts by mass of Compound 1 and Comparative Example 1-1. It means that 60 parts by mass of Compound 1 was used, and that 60 parts by mass of Comparative Compound were used in Comparative Example 1-2.
Furthermore, the same evaluation as in Example 2-1 was performed. The results are shown in Tables 3 and 4.
前記表３及び表４中に示される、増感剤Ａ１〜Ａ３、共増感剤Ｆ１〜Ｆ３は、以下に示す化合物である。 Sensitizers A1 to A3 and cosensitizers F1 to F3 shown in Tables 3 and 4 are compounds shown below.
前記表３及び表４の結果から、特定重合性化合物（化合物１〜化合物６）を含有する各実施例の着色光硬化性組成物は保存安定性（経時安定性）に優れたものであることが判る。また、これらの着色光硬化性組成物は露光感度が高く、カラーフィルタの着色パターンを形成に用いた際の現像残渣も見られず、得られた着色パターンの断面形状にも優れていることが判る。 From the results shown in Tables 3 and 4, the colored photocurable compositions of the Examples containing the specific polymerizable compounds (Compound 1 to Compound 6) are excellent in storage stability (time stability). I understand. In addition, these colored photocurable compositions have high exposure sensitivity, no development residue is observed when the color pattern of the color filter is used for formation, and the cross-sectional shape of the obtained color pattern is excellent. I understand.
［実施例２−１］
〔１．レジスト液の調製〕
下記組成の成分を混合して溶解し、レジスト液を調製した。
−レジスト液の組成−
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）１９．２０質量部
・乳酸エチル ３６．６７質量部
・樹脂 ３０．５１質量部
〔メタクリル酸ベンジル／メタクリル酸／メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル共重合体（モル比＝６０／２２／１８）の４０％ＰＧＭＥＡ溶液〕
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（重合性化合物） １２．２０質量部
・重合禁止剤（ｐ−メトキシフェノール） ０．００６１質量部
・フッ素系界面活性剤 ０．８３質量部
（Ｆ−４７５、大日本インキ化学工業（株）製）
・光重合開始剤 ０．５８６質量部
（ＴＡＺ−１０７（トリハロメチルトリアジン系の光重合開始剤）、みどり化学（株）製）
[Example 2-1]
[1. Preparation of resist solution
Components of the following composition were mixed and dissolved to prepare a resist solution.
-Composition of resist solution-
-Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) 19.20 parts by mass-Ethyl lactate 36.67 parts by mass-Resin 30.51 parts by mass [benzyl methacrylate / methacrylic acid / -2-hydroxyethyl methacrylate copolymer (molar ratio) = 40/22/18) 40% PGMEA solution]
Dipentaerythritol hexaacrylate (polymerizable compound) 12.20 parts by mass Polymerization inhibitor (p-methoxyphenol) 0.0061 parts by mass Fluorosurfactant 0.83 parts by mass (F-475, Dainippon Ink Chemical Industry Co., Ltd.)
-Photopolymerization initiator 0.586 parts by mass (TAZ-107 (trihalomethyltriazine photopolymerization initiator), manufactured by Midori Chemical Co., Ltd.)
〔２．下塗り層付シリコンウエハー基板の作製〕
６ｉｎｃｈシリコンウエハーをオーブン中で２００℃のもと３０分加熱処理した。次いで、このシリコンウエハー上に前記レジスト液を乾燥膜厚が２μｍになるように塗布し、更に２２０℃のオーブン中で１時間加熱乾燥させて下塗り層を形成し、下塗り層付シリコンウエハー基板を得た。
[2. Fabrication of silicon wafer substrate with undercoat layer]
A 6 inch silicon wafer was heat-treated in an oven at 200 ° C. for 30 minutes. Next, the resist solution is applied onto the silicon wafer so as to have a dry film thickness of 2 μm, and further heated and dried in an oven at 220 ° C. for 1 hour to form an undercoat layer, thereby obtaining a silicon wafer substrate with an undercoat layer. It was.
〔３．着色光硬化性組成物Ｂ−１の調製〕
下記組成Ｂ−１の成分を混合して溶解し、着色剤（染料）を含有する着色光硬化性組成物Ｂ−１を調製した。
[3. Preparation of colored photocurable composition B-1]
The component of the following composition B-1 was mixed and melt | dissolved, and the colored photocurable composition B-1 containing a coloring agent (dye) was prepared.
＜組成Ｂ−１＞
・シクロヘキサノン ８０質量部
・着色剤 Ｃ．Ｉ．Ａｃｉｄ Ｂｌｕｅ １０８ ７．５質量部
・着色剤 Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー１６２ ２．５質量部
・特定重合性化合物：化合物１ ３．５質量部
・重合性化合物：Ａ−ＤＰＨ（比較化合物１） ３．５質量部
・光重合開始剤：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１ ２．５質量部
・グリセロールプロポキシレート ０．５質量部
（数平均分子量Ｍｎ：１５００、モル吸光係数ε＝０）
<Composition B-1>
-80 parts by mass of cyclohexanone-Colorant C.I. I. Acid Blue 108 7.5 parts by mass / colorant C.I. I. Solvent Yellow 162 2.5 parts by mass-Specific polymerizable compound: Compound 1 3.5 parts by mass-Polymerizable compound: A-DPH (Comparative Compound 1) 3.5 parts by mass-Photopolymerization initiator: IRGACURE OXE 01 5 parts by mass / glycerol propoxylate 0.5 parts by mass (number average molecular weight Mn: 1500, molar extinction coefficient ε = 0)
〔４．着色光硬化性組成物Ｂ−１（塗布液）の保存安定性評価〕
着色光硬化性組成物Ｂ−１を室温で１ケ月保存した後、異物の析出度合いを下記判定基準に従って目視により評価した。結果を下記表６及び表７に示す。
−判定基準−
○：析出は認められなかった。
△：僅かに析出が認められた。
×：析出が認められた。
[4. Evaluation of Storage Stability of Colored Photocurable Composition B-1 (Coating Liquid)]
After the colored photocurable composition B-1 was stored at room temperature for 1 month, the degree of precipitation of foreign matters was visually evaluated according to the following criteria. The results are shown in Tables 6 and 7 below.
-Criteria-
○: No precipitation was observed.
Δ: Slight precipitation was observed.
X: Precipitation was recognized.
〔５．着色光硬化性組成物Ｂ−１によるカラーフィルタの作製及び評価〕
前記３．で調製した着色光硬化性組成物Ｂ−１を、前記２．で得られた下塗り層付シリコンウエハー基板の下塗り層上に塗布し、光硬化性の塗布膜を形成した。そして、この塗布膜の乾燥膜厚が０．９μｍになるように、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行なった。
次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長でパターンが２μｍ四方のＩｓｌａｎｄパターンマスクを通して１０〜１６００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射した。
その後、照射された塗布膜が形成されているシリコンウエハー基板をスピン・シャワー現像機（ＤＷ−３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、ＣＤ−２０００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行ない、シリコンウエハー基板上に着色パターンを形成した。
[5. Production and Evaluation of Color Filter Using Colored Photocurable Composition B-1]
3 above. The colored photocurable composition B-1 prepared in 1. It was applied on the undercoat layer of the silicon wafer substrate with the undercoat layer obtained in (1) to form a photocurable coating film. Then, a heat treatment (pre-baking) was performed for 120 seconds using a hot plate at 100 ° C. so that the dry film thickness of the coating film became 0.9 μm.
Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.), irradiation was performed at an exposure dose of 10 to 1600 mJ / cm 2 through an Island pattern mask having a pattern of 2 μm square at a wavelength of 365 nm.
Thereafter, the silicon wafer substrate on which the irradiated coating film is formed is placed on a horizontal rotary table of a spin shower developing machine (DW-30 type, manufactured by Chemitronics Co., Ltd.), and CD-2000 (FUJIFILM Corporation). Paddle development was performed at 23 ° C. for 60 seconds using Electronics Materials Co., Ltd. to form a colored pattern on the silicon wafer substrate.
着色パターンが形成されたシリコンウエハー基板を真空チャック方式で前記水平回転テーブルに固定し、回転装置によって該シリコンウエハー基板を回転数５０ｒ．ｐ．ｍ．で回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スプレー乾燥した。
以上のようにして、基板上に着色パターンが形成されたカラーフィルタを得た。
A silicon wafer substrate on which a colored pattern is formed is fixed to the horizontal rotary table by a vacuum chuck method, and the silicon wafer substrate is rotated at a rotational speed of 50 r. p. m. While being rotated, pure water was supplied from the upper part of the rotation center in the form of a shower through a spray nozzle, followed by rinsing treatment, and then spray drying.
As described above, a color filter having a colored pattern formed on the substrate was obtained.
＜露光感度、及びパターンサイズ＞
露光工程において光が照射された領域の現像後の膜厚が、露光前の膜厚１００％に対して９５％以上であった最小の露光量を露光感度として評価した。露光感度の値が小さいほど感度が高いことを示す。
またその際の、測長ＳＥＭ「Ｓ−９２６０Ａ」（日立ハイテクノロジーズ（株）製）を用いて、着色パターンのサイズを測定した。パターンサイズが２μｍに近いほど、硬化性が充分で感度が良好であることを示す。
結果を下記表６及び表７に示す。
<Exposure sensitivity and pattern size>
The minimum exposure amount in which the film thickness after development of the region irradiated with light in the exposure step was 95% or more with respect to 100% of the film thickness before exposure was evaluated as the exposure sensitivity. A smaller exposure sensitivity value indicates higher sensitivity.
In addition, the size of the colored pattern was measured using a length measurement SEM “S-9260A” (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). The closer the pattern size is to 2 μm, the better the curability and the better the sensitivity.
The results are shown in Tables 6 and 7 below.
＜現像残渣＞
現像残渣の評価は以下のようにして行った。結果を下記表６及び表７に示す。
即ち、測長ＳＥＭ（日立Ｓ−９２６０Ｓ）を用い、露光量７０００Ｊ／ｍ２のときの１．５μｍ角の正方形ピクセルパターンのパターン周辺部、及びパターン間（着色パターン非形成領域）を観察し、何らかの付着物や溶け残り、すなわち現像残渣の発生状態を観察した。
観察した結果を、程度の良い方から順に（すなわち、残渣の発生が抑制されている方から順に）、Ｔｙｐｅ−Ａ、Ｔｙｐｅ−Ｂ、及びＴｙｐｅ−Ｃの３段階に分類して評価した。分類の方法の詳細を下記表５に示す。また、Ｔｙｐｅ−Ａ、Ｔｙｐｅ−Ｂ、及びＴｙｐｅ−Ｃにおける現像残渣の発生状態を図１に示す。
<Development residue>
Evaluation of the development residue was performed as follows. The results are shown in Tables 6 and 7 below.
That is, using a length measurement SEM (Hitachi S-9260S), observe the pattern peripheral part of a 1.5 μm square pixel pattern when the exposure amount is 7000 J / m 2 , and between patterns (colored pattern non-formation region), The appearance of any deposits or undissolved residue, that is, development residue was observed.
The observed results were evaluated by classifying them into three stages of Type-A, Type-B, and Type-C in order from the most appropriate level (that is, in order from the order in which the generation of the residue is suppressed). Details of the classification method are shown in Table 5 below. Moreover, the generation | occurrence | production state of the development residue in Type-A, Type-B, and Type-C is shown in FIG.
［実施例２−２〜２−１９、比較例２−１〜２−３］
実施例２−１での着色光硬化性組成物Ｂ−１の調製に用いた組成Ｂ−１において、化合物１（特定重合性化合物）：Ａ−ＤＰＨ（重合性化合物）＝１：１（３．５質量部：３．５質量部）であったものを下記表６及び表７に示される各化合物及び量比（質量比）に代え、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１（光重合開始剤）を下記表６及び表７に示される各化合物及び量に代え、実施例２−１２〜２−１９については、更に、増感剤及び／又は共増感剤を下記表６及び表７に示される種類及び量で加えた以外は、すべて実施例２−１と同様にして、着色光硬化性組成物Ｂ−２〜Ｂ−１９及びＢ’−１〜Ｂ’−３を調製し、カラーフィルタを得た。
なお、下記表６及び表７中、重合性化合物として１種のみが記載されている箇所があるが、これは、実施例２−７では化合物１を７．０質量部、比較例２−１では比較化合物１を７．０質量部、更に、比較例２−２では比較化合物を７．０質量部用いたことを意味する。
更に、実施例２−１と同様の評価を行った。結果を表６及び表７に示す。
[Examples 2-2 to 2-19, Comparative examples 2-1 to 2-3]
In composition B-1 used for the preparation of colored photocurable composition B-1 in Example 2-1, compound 1 (specific polymerizable compound): A-DPH (polymerizable compound) = 1: 1 (3 .5 parts by mass: 3.5 parts by mass), instead of each compound and quantity ratio (mass ratio) shown in Table 6 and Table 7 below, IRGACURE OXE 01 (photopolymerization initiator) was changed to Table 6 below. For Examples 2-12 to 2-19, the sensitizers and / or co-sensitizers were further replaced with the compounds and amounts shown in Table 7 and the types and amounts shown in Tables 6 and 7 below. Colored photocurable compositions B-2 to B-19 and B′-1 to B′-3 were prepared in the same manner as in Example 2-1, except that the color filter was obtained.
In addition, in the following Table 6 and Table 7, there is a place where only one kind is described as the polymerizable compound, but in Example 2-7, 7.0 parts by mass of Compound 1 and Comparative Example 2-1 This means that 7.0 parts by mass of the comparative compound 1 was used, and 7.0 parts by mass of the comparative compound was used in the comparative example 2-2.
Furthermore, the same evaluation as in Example 2-1 was performed. The results are shown in Tables 6 and 7.
なお、上記表６及び表７に示される、増感剤Ａ１〜Ａ３、共増感剤Ｆ１〜Ｆ３は前記した化合物である。 In addition, the sensitizers A1 to A3 and the cosensitizers F1 to F3 shown in Tables 6 and 7 are the compounds described above.
前記表６及び表７の結果から、特定重合性化合物（化合物１〜化合物６）を含有する各実施例の着色光硬化性組成物は、露光感度が高く、カラーフィルタの着色パターンを形成に用いた際、現像残渣の発生も抑制されており、得られた着色パターンのパターン断面形状も優れていることが判る。また、これらの着色光硬化性組成物は、保存安定性（経時安定性）に優れたものであることが判る。 From the results of Table 6 and Table 7, the colored photocurable composition of each Example containing the specific polymerizable compound (Compound 1 to Compound 6) has high exposure sensitivity and is used for forming the color pattern of the color filter. The occurrence of development residue is also suppressed, and the pattern cross-sectional shape of the obtained colored pattern is found to be excellent. Moreover, it turns out that these colored photocurable compositions are excellent in storage stability (time stability).
［実施例３−１］
下記組成Ｃ−１の成分を混合して溶解し、着色剤（顔料）を含有する着色光硬化性組成物Ｃ−１を調製した。
[Example 3-1]
The components of the following composition C-1 were mixed and dissolved to prepare a colored photocurable composition C-1 containing a colorant (pigment).
＜組成Ｃ−１＞
・３−エトキシプロピオン酸エチル〔溶剤〕 １７．９質量部
・着色剤 Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ ２５４の分散液 ２６．７質量部
（固形分：１５質量％、固形分中の顔料含有率：６０％）
・着色剤 Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＹｅｌｌｏｗ １３９の分散液 １７．８質量部
（固形分：１５質量％、固形分中の顔料含有率：６０％）
・特定重合性化合物：化合物１ １．７５質量部
・重合性化合物：Ａ−ＤＰＨ（比較化合物１） １．７５質量部
・光重合開始剤：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１ ０．５質量部
・ベンジルメタアクリレート／メタアクリル酸共重合体 ２．０質量部
（モル比＝７０／３０）
<Composition C-1>
-Ethyl 3-ethoxypropionate [solvent] 17.9 parts by mass-Colorant C.I. I. Pigment Red 254 dispersion 26.7 parts by mass (solid content: 15% by mass, pigment content in the solid content: 60%)
-Colorant C.I. I. 17.8 parts by weight of Pigment Yellow 139 dispersion (solid content: 15% by mass, pigment content in the solid content: 60%)
Specific polymerizable compound: Compound 1 1.75 parts by weight Polymerizable compound: A-DPH (Comparative compound 1) 1.75 parts by weight Photopolymerization initiator: IRGACURE OXE 01 0.5 parts by weight Benzyl methacrylate / Methacrylic acid copolymer 2.0 parts by mass (molar ratio = 70/30)
＜着色光重合性組成物Ｃ−１の保存安定性＞
着色光重合性組成物Ｂ−１を着色感光性組成物Ｃ−１に代えた以外は、実施例２−１と同様にして、着色光重合性組成物Ｃ−１の保存安定性を評価した。結果を下記表８及表９に示す。
<Storage stability of colored photopolymerizable composition C-1>
The storage stability of the colored photopolymerizable composition C-1 was evaluated in the same manner as in Example 2-1, except that the colored photopolymerizable composition B-1 was replaced with the colored photosensitive composition C-1. . The results are shown in Table 8 and Table 9 below.
＜着色光重合性組成物Ｃ−１によるカラーフィルタの作製及び評価＞
着色光重合性組成物Ｂ−１を着色光重合性組成物Ｃ−１に代えた以外は、実施例２−１と同様にして実施例４−１のカラーフィルタを作製し、実施例２−１と同様の評価を行なった。結果を下記表８及表９に示す。
<Production and Evaluation of Color Filter Using Colored Photopolymerizable Composition C-1>
A color filter of Example 4-1 was produced in the same manner as in Example 2-1, except that the colored photopolymerizable composition B-1 was replaced with the colored photopolymerizable composition C-1, and Example 2- Evaluation similar to 1 was performed. The results are shown in Table 8 and Table 9 below.
［実施例３−２〜３−１６、比較例３−１〜３−３］
実施例３−１での着色光硬化性組成物Ｃ−１の調製に用いた組成Ｃ−１において、化合物１（特定重合性化合物）：Ａ−ＤＰＨ（重合性化合物）＝１：１（１．７５質量部：１．７５質量部）であったものを下記表８及び表９に示される各化合物及び量比（質量比）に代え、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１（光重合開始剤）を下記表８及び表９に示される各化合物及び量に代え、実施例３−１２〜３−１６については、更に、増感剤及び／又は共増感剤を下記表８及び表９に示される種類及び量で加えた以外は、すべて実施例３−１と同様にして、着色光硬化性組成物Ｃ−２〜Ｃ−１６及びＣ’−１〜Ｃ’−３を調製し、カラーフィルタを得た。
なお、下記表８及び表９中、重合性化合物として１種のみが記載されている箇所があるが、これは、実施例３−７では化合物１を３．５質量部、比較例３−１では比較化合物１を３．５質量部、更に、比較例３−２では比較化合物を３．５質量部用いたことを意味する。
更に、実施例３−１と同様の評価を行った。結果を表８及び表９に示す。
[Examples 3-2 to 3-16, Comparative examples 3-1 to 3-3]
In the composition C-1 used for the preparation of the colored photocurable composition C-1 in Example 3-1, compound 1 (specific polymerizable compound): A-DPH (polymerizable compound) = 1: 1 (1 IRGACURE OXE 01 (photopolymerization initiator) was changed to the following Table 8 instead of each compound and the amount ratio (mass ratio) shown in Table 8 and Table 9 below. For Examples 3-12 to 3-16, the sensitizers and / or co-sensitizers are further classified into the types and amounts shown in Tables 8 and 9 below instead of the respective compounds and amounts shown in Table 9 and Table 9. The colored photocurable compositions C-2 to C-16 and C′-1 to C′-3 were prepared in the same manner as in Example 3-1, except that the color filter was obtained.
In addition, in the following Table 8 and Table 9, there is a place where only one kind is described as the polymerizable compound, but in Example 3-7, this is 3.5 parts by mass of Compound 1 and Comparative Example 3-1. In Comparative Example 1, this means that 3.5 parts by mass of Comparative Compound 1 was used, and in Comparative Example 3-2, 3.5 parts by mass of Comparative Compound was used.
Furthermore, the same evaluation as in Example 3-1 was performed. The results are shown in Table 8 and Table 9.
なお、上記表８及び表９に示される、増感剤Ａ１〜Ａ３、共増感剤Ｆ１は前記した化合物である。 In addition, the sensitizers A1 to A3 and the co-sensitizer F1 shown in Table 8 and Table 9 are the compounds described above.
前記表８及び表９の結果から、特定重合性化合物（化合物１〜化合物６）を含有する各実施例の着色光硬化性組成物は、露光感度が高く、カラーフィルタの着色パターンを形成に用いた際、現像残渣の発生も抑制されており、得られた着色パターンのパターン断面形状も優れていることが判る。また、これらの着色光硬化性組成物は、保存安定性（経時安定性）に優れたものであることが判る。 From the results of Table 8 and Table 9, the colored photocurable composition of each Example containing the specific polymerizable compound (Compound 1 to Compound 6) has high exposure sensitivity and is used for forming the color pattern of the color filter. The occurrence of development residue is also suppressed, and the pattern cross-sectional shape of the obtained colored pattern is found to be excellent. Moreover, it turns out that these colored photocurable compositions are excellent in storage stability (time stability).
［実施例４−１］
下記組成Ｄ−１の化合物を混合して溶解し、着色剤（顔料）を含有する着色光硬化性組成物Ｄ−１を調製した。
[Example 4-1]
A compound having the following composition D-1 was mixed and dissolved to prepare a colored photocurable composition D-1 containing a colorant (pigment).
＜組成Ｄ−１＞
・３−エトキシプロピオン酸エチル〔溶剤〕 １７．９質量部
・着色剤 Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ ２５４の分散液 ３３．３４質量部
（固形分：１５質量％、固形分中の顔料含有率：６０％）
・着色剤 Ｃ．Ｉ．ＰｉｇｍｅｎｔＹｅｌｌｏｗ １３９の分散液 ２２．２３質量部
（固形分：１５質量％、固形分中の顔料含有率：６０％）
・特定重合性化合物：化合物１ １．２５質量部
・重合性化合物：Ａ−ＤＰＨ（比較化合物１） １．２５質量部
・光重合開始剤：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１ ０．５質量部
・ベンジルメタアクリレート／メタアクリル酸共重合体 ２．０質量部
（モル比＝７０／３０）
<Composition D-1>
-Ethyl 3-ethoxypropionate [solvent] 17.9 parts by mass-Colorant C.I. I. Pigment Red 254 dispersion 33.34 parts by mass (solid content: 15% by mass, pigment content in the solid content: 60%)
-Colorant C.I. I. Pigment Yellow 139 dispersion 22.23 parts by mass (solid content: 15% by mass, pigment content in the solid content: 60%)
Specific polymerizable compound: Compound 1 1.25 parts by mass Polymerizable compound: A-DPH (Comparative Compound 1) 1.25 parts by mass Photoinitiator: IRGACURE OXE 01 0.5 part by mass Benzyl methacrylate / Methacrylic acid copolymer 2.0 parts by mass (molar ratio = 70/30)
［実施例４−２〜４−１４、比較例４−１〜４−３］
実施例４−１での着色光硬化性組成物Ｄ−１の調製に用いた組成Ｄ−１において、化合物１（特定重合性化合物）：Ａ−ＤＰＨ（重合性化合物）＝１：１（１．２５質量部：１．２５質量部）であったものを下記表１０及び表１１に示される各化合物及び量比（質量比）に代え、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１（光重合開始剤）を下記表１０及び表１１に示される各化合物及び量に代え、実施例４−７〜４−１１については、更に、増感剤及び／又は共増感剤を下記表１０及び表１１に示される種類及び量で加えた以外は、すべて実施例４−１と同様にして、着色光硬化性組成物Ｄ−２〜Ｃ−１４及びＤ’−１〜Ｄ’−３を調製し、カラーフィルタを得た。
なお、下記表１０及び表１１中、重合性化合物として１種のみが記載されている箇所があるが、これは、比較例１−１では比較化合物１を２．５質量部、更に、比較例１−２では比較化合物を２．５質量部用いたことを意味する。
更に、実施例３−１と同様の評価を行った。結果を表１０及び表１１に示す。
[Examples 4-2 to 4-14, Comparative examples 4-1 to 4-3]
In the composition D-1 used for the preparation of the colored photocurable composition D-1 in Example 4-1, Compound 1 (specific polymerizable compound): A-DPH (polymerizable compound) = 1: 1 (1 .25 parts by mass: 1.25 parts by mass) was replaced with each compound and quantity ratio (mass ratio) shown in Table 10 and Table 11, and IRGACURE OXE 01 (photopolymerization initiator) was changed to Table 10 below. For Examples 4-7 to 4-11, the sensitizers and / or co-sensitizers were further replaced with the compounds and amounts shown in Table 11 and the types and amounts shown in Table 10 and Table 11 below. Colored photocurable compositions D-2 to C-14 and D′-1 to D′-3 were prepared in the same manner as in Example 4-1, except that the color filter was obtained.
In addition, in the following Table 10 and Table 11, there is a place where only one kind is described as the polymerizable compound. In Comparative Example 1-1, this is 2.5 parts by mass of Comparative Compound 1, and Comparative Example 1-2 means that 2.5 parts by mass of the comparative compound was used.
Furthermore, the same evaluation as in Example 3-1 was performed. The results are shown in Table 10 and Table 11.
なお、上記表１０及び表１１に示される、増感剤Ａ１、Ａ２、共増感剤Ｆ１〜Ｆ３は前記した化合物である。 In addition, the sensitizers A1 and A2 and the co-sensitizers F1 to F3 shown in Table 10 and Table 11 are the compounds described above.
前記表１０及び表１１の結果から、特定重合性化合物（化合物１〜化合物６）を含有する各実施例の着色光硬化性組成物は、露光感度が高く、カラーフィルタの着色パターンを形成に用いた際、現像残渣の発生も抑制されており、得られた着色パターンのパターン断面形状も優れていることが判る。また、これらの着色光硬化性組成物は、保存安定性（経時安定性）に優れたものであることが判る。 From the results of Table 10 and Table 11, the colored photocurable composition of each Example containing the specific polymerizable compound (Compound 1 to Compound 6) has high exposure sensitivity and is used for forming the color pattern of the color filter. The occurrence of development residue is suppressed, and the pattern cross-sectional shape of the obtained colored pattern is found to be excellent. Moreover, it turns out that these colored photocurable compositions are excellent in storage stability (time stability).
［実施例５］
＜フルカラーのカラーフィルタの作製＞
−ブラックマトリックスの形成−
前記実施例２−１の着色光重合性組成物Ｂ−１の調製において、着色剤計１０．０質量部を、カーボンブラック１０質量部に代えた以外は同様にして、ブラックマトリックス用の黒色光重合性組成物Ｋ−１を調製した。
更に、前記実施例２−１の着色パターンの形成において、着色光重合性組成物Ｂ−１を調製した黒色光重合性組成物Ｋ−１に代えた以外は同様にしてブラックマトリックスを形成した。
[Example 5]
<Production of full-color color filter>
-Formation of black matrix-
In the preparation of the colored photopolymerizable composition B-1 of Example 2-1, the black light for the black matrix was similarly obtained except that 10.0 parts by mass of the colorant was replaced with 10 parts by mass of carbon black. A polymerizable composition K-1 was prepared.
Further, a black matrix was formed in the same manner as in Example 2-1 except that the colored photopolymerizable composition B-1 was replaced with the prepared black photopolymerizable composition K-1 in the formation of the colored pattern.
上記のようにして得られたブラックマトリックス上に、前記着色光重合性組成物Ｂ−１を用いて、実施例２−１に記載の方法と同じ要領で２μｍ四方の緑色（Ｇ）の着色パターンを形成した。更に、前記着色光重合性組成物Ａ−１において、顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメント グリーン３６と、Ｃ．Ｉ．ピグメント イエロー２１９との３０／７０〔質量比〕混合物）のみを、青色顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメント ブルー１５：６とＣ．Ｉ．ピグメント バイオレット２３との３０／７０〔質量比〕混合物）と、赤色顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメント レッド２５４）と、にそれぞれ変更した他は同様にして青色（Ｂ）、赤色（Ｒ）の着色光重合性組成物を調製した。
上記基板にまず、緑色（Ｇ）光重合性組成物Ｂ−１で実施したのと同様にして、２μｍ四方の青色（Ｂ）、赤色（Ｒ）パターンを順次形成して固体撮像素子用のカラーフィルタを作製した。
Using the colored photopolymerizable composition B-1 on the black matrix obtained as described above, a 2 μm square green (G) colored pattern in the same manner as described in Example 2-1. Formed. Further, in the colored photopolymerizable composition A-1, only the pigment (30/70 [mass ratio] mixture of CI Pigment Green 36 and CI Pigment Yellow 219) is used as a blue pigment (C CI Pigment Blue 15: 6 and CI Pigment Violet 23 (30/70 [mass ratio] mixture) and red pigment (CI Pigment Red 254), respectively. A colored photopolymerizable composition of blue (B) and red (R) was prepared.
First, a 2 μm square blue (B) and red (R) pattern is sequentially formed on the substrate in the same manner as in the case of the green (G) photopolymerizable composition B-1, so that a color for a solid-state imaging device is obtained. A filter was produced.
得られたフルカラーのカラーフィルタについて、実施例１−１と同じ方法で、ブラックマトリックスパターンとＲＧＢ各色の着色パターンそれぞれの断面形状及び現像残渣について評価したところ、いずれのパターンも矩形であり、現像残渣も見られず、更に、いずれもパターン欠損が無く、基板密着性に優れていることも分かった。 About the obtained full-color color filter, when the cross-sectional shape and development residue of each of the black matrix pattern and the colored patterns of RGB colors were evaluated in the same manner as in Example 1-1, each pattern was rectangular, and the development residue Further, it was also found that none of them had pattern loss and excellent substrate adhesion.
［実施例６］
＜固体撮像素子の作製＞
実施例５にて得られたフルカラーのカラーフィルタを固体撮像素子に組み込んだところ、該固体撮像素子は、高解像度で、色分離性に優れることが確認された。
[Example 6]
<Production of solid-state image sensor>
When the full-color color filter obtained in Example 5 was incorporated into a solid-state imaging device, it was confirmed that the solid-state imaging device had high resolution and excellent color separation.
Claims (8)
前記光硬化性組成物層をマスクを介して露光する工程と、
露光後の前記光硬化性組成物層を現像して着色パターンを形成する工程と、
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 A step of applying a photocurable composition for a color filter according to claim 5 to form a photocurable composition layer on a support,
Exposing the photocurable composition layer through a mask;
Developing the photocurable composition layer after exposure to form a colored pattern; and
A method for producing a color filter, comprising:
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2008
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