JP2010070867A - Nanofiber and method for producing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、それぞれの直径が数ナノ〜数十ナノメートルの複数個のナノファイバーが、３次元的に相互接続された状態で基板上に自立して形成されたナノファイバー、及びその製造法に関するものである。 The present invention relates to a nanofiber in which a plurality of nanofibers each having a diameter of several nanometers to several tens of nanometers are independently formed on a substrate in a state of being three-dimensionally interconnected, and a method for producing the same. Is.
ナノファイバーには超比表面積効果やナノサイズ効果があり、分子認識や吸着特性、光学・電気特性の点で従来にない優れた特性が発揮されるため、ナノメッシュやナノフィルター、高効率触媒等への応用が期待されている(例えば、非特許文献１を参照)。その一方でナノファイバーは近年急速に発展を遂げた先進材料であり、その安全性の評価はまだ十分とは言えず、アスベスト等のように人の健康と環境に有害な影響を及ぼすことが懸念されている。 Nanofibers have an ultra-specific surface area effect and a nanosize effect, and exhibit excellent properties that have never been seen in terms of molecular recognition, adsorption properties, optical and electrical properties, so nanomesh, nanofilters, highly efficient catalysts, etc. (See, for example, Non-Patent Document 1). On the other hand, nanofiber is an advanced material that has developed rapidly in recent years, and its safety evaluation has not yet been sufficient, and there is concern that it may have a harmful effect on human health and the environment, such as asbestos. Has been.
ナノオーダーの加工法として、収束したイオンビームにより微細な切削加工を行う収束イオンビーム(ＦＩＢ)法やフォトリソグラフィーによるエッチング加工法などが知られているが、直径がナノオーダーの繊維(ナノファイバー)を形成することは極めて困難であった。そこで、高分子材料を溶媒にとかし、細いノズルから引き出すと同時に、帯電させて電場中で延伸することで50nm〜lμm程度のナノファイバーを合成する方法や、気相中で触媒元素を基点としてナノファイバーを成長させる合成法が見いだされた。これらの方法では、ナノファイバーは基板上にランダムに堆積し、不織布状に形成されるため、ナノファイバーすべてを固定することは困難であり、太さ、長さ、形成量などを自在に制御することはできなかった。 As nano-order processing methods, the focused ion beam (FIB) method, which performs fine cutting with a focused ion beam, and the etching processing method by photolithography, etc. are known, but the nano-order diameter fiber (nanofiber) It was extremely difficult to form. Therefore, the polymer material is dissolved in a solvent and drawn out from a thin nozzle, and at the same time, charged and stretched in an electric field to synthesize nanofibers of about 50 nm to 1 μm, or nano-based using catalytic elements in the gas phase. Synthetic methods have been found to grow fibers. In these methods, since nanofibers are randomly deposited on the substrate and formed into a nonwoven fabric, it is difficult to fix all the nanofibers, and the thickness, length, formation amount, etc. can be freely controlled. I couldn't.
一方、イオンビームを用いて高分子材料からナノファイバーを形成する製造法が本願発明者らによって見いだされた(例えば、特許文献１を参照)。これは、イオンビームを高分子材料に照射した際、高分子材料内の個々のイオンの飛跡により形成される直径ナノメートルオーダーの円筒架橋部からナノファイバーを製造する技術である。具体的には、基板上に高分子材料を用いて高分子薄膜を形成し、イオンビームを照射する。その際、個々のイオンが高分子薄膜を貫通した飛跡に沿ってエネルギーが付与され、飛跡近傍の分子鎖が一旦切断された後再結合(架橋)する。この結合点(架橋点)は、イオンの飛跡に沿って分布し、その密度は飛跡の中心から半径方向に離れるほど減少する。このため高分子薄膜内には、イオンの飛跡に沿って円筒架橋部が形成される。これを溶媒で洗浄すると円筒架橋部以外は溶解して除去され、円筒架橋部のみからなる高分子材料を得ることが可能となる。これが高分子ナノファイバーである。 On the other hand, a manufacturing method for forming nanofibers from a polymer material using an ion beam has been found by the present inventors (see, for example, Patent Document 1). This is a technique for producing nanofibers from a cylindrical cross-linked portion having a diameter of nanometer order formed by tracks of individual ions in the polymer material when the ion beam is irradiated to the polymer material. Specifically, a polymer thin film is formed on a substrate using a polymer material and irradiated with an ion beam. At that time, energy is imparted along the tracks through which individual ions have penetrated the polymer thin film, and the molecular chains in the vicinity of the tracks are once cut and then recombined (crosslinked). The bonding points (crosslinking points) are distributed along the track of the ions, and the density decreases as the distance from the center of the track increases in the radial direction. For this reason, in the polymer thin film, a cylindrical bridge portion is formed along the track of ions. When this is washed with a solvent, the portion other than the cylindrical cross-linked portion is dissolved and removed, and a polymer material consisting only of the cylindrical cross-linked portion can be obtained. This is a polymer nanofiber.
この形成法では、イオンの入射数により高分子ナノファイバーの形成数を、高分子薄膜の膜厚によりその長さを、高分子材料の分子量や放射線に対する反応性、或いはイオンの入射エネルギーによりその太さを任意に制御できる。また、原料高分子材料としてポリカルボシラン等のセラミック前駆体高分子を用いることで、有機−無機転換反応によってセラミックナノファイバーを形成することも可能である。
イオンビームによるナノファイバーの製造法は、電解紡糸法等の方法で製造可能な下限値よりさらに細い数ナノメートルオーダーまでナノファイバーを細径化でき、より比表面積効果やナノサイズ効果の大きいナノメッシュやナノフィルター、高効率触媒等への応用が可能である。しかし、イオンビーム法では、溶媒による洗浄工程において、ナノファイバーが基板表面に倒れて積み重なり、その比表面積効果が十分発揮されないという課題があった。 The nanofiber manufacturing method using ion beams can reduce the diameter of nanofibers to a few nanometers, which is even smaller than the lower limit that can be manufactured by electrospinning, etc. And can be applied to nanofilters and high-efficiency catalysts. However, the ion beam method has a problem in that the nanofibers are collapsed and stacked on the substrate surface in a cleaning process using a solvent, and the specific surface area effect is not sufficiently exhibited.
本発明の目的は、ナノファイバーの優れた特長を発揮させるため、複数個のナノファイバーが、３次元的に相互接続された状態で基板上に自立して形成されていると共に、形成されたナノファイバーの一端が基板表面に固定された、飛散等が無い安全なナノファイバー及びその製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to form a plurality of nanofibers independently on a substrate in a three-dimensionally interconnected state in order to exhibit the excellent features of nanofibers. An object of the present invention is to provide a safe nanofiber in which one end of the fiber is fixed to the substrate surface and free from scattering, and a method for manufacturing the nanofiber.
本発明の一つの観点によれば、基板上に高分子薄膜を形成し、高分子薄膜に対して、飛跡が前記基板に到達可能なイオンビームを複数の方向から照射し、高分子薄膜内に、３次元的に相互接続され、かつ一端が前記基板表面に固定されている複数個の円筒架橋部を形成した後、これを溶媒で洗浄する工程を経てナノファイバーを製造することにより、溶媒洗浄後のナノファイバーの飛散を防止するようにしている。 According to one aspect of the present invention, a polymer thin film is formed on a substrate, and an ion beam that allows a track to reach the substrate is irradiated from a plurality of directions to the polymer thin film. Solvent cleaning is performed by forming a plurality of cylindrical cross-linking portions that are three-dimensionally interconnected and one end of which is fixed to the substrate surface, and then manufacturing the nanofibers through a step of cleaning the same with a solvent. The nanofibers are prevented from scattering later.
さらに、本発明の他の観点によれば、基板上に高分子薄膜を形成し、飛跡が前記基板に到達可能なイオンビームを単一方向から複数照射し、前記高分子薄膜内に一端が前記基板表面に固定された複数個の円筒架橋部を形成した後、これを溶媒に浸漬させ、溶媒の凝集によりナノファイバーが３次元的に相互接続された構造を形成する工程を経てナノファイバーを製造することにより、溶媒洗浄後のナノファイバーの飛散を防止するようにしている。 Further, according to another aspect of the present invention, a polymer thin film is formed on a substrate, and a plurality of ion beams are irradiated from a single direction so that tracks can reach the substrate. After forming a plurality of cylindrical bridges fixed on the substrate surface, the nanofibers are manufactured through a process of immersing them in a solvent and forming a structure in which the nanofibers are three-dimensionally interconnected by aggregation of the solvent. By doing so, scattering of nanofibers after solvent washing is prevented.
ここで、多角度照射法とは、原料高分子材料を塗布した基板に対して、複数の角度（方向）からイオンビームを照射し、イオンビームの飛跡を高分子薄膜内で交錯させ、複数個の円筒架橋部を立体的に相互接続された状態で形成する方法である。これを溶媒洗浄することで、相互接続された状態で円筒架橋部をナノファイバー化することが可能であり、基板上に倒れない自立状態のナノファイバーが形成できる。 Here, the multi-angle irradiation method means that a substrate coated with a raw material polymer material is irradiated with an ion beam from a plurality of angles (directions), and the tracks of the ion beam are crossed in a polymer thin film, and a plurality of This is a method of forming the cylindrical bridge portion in a state of being three-dimensionally interconnected. By washing this with a solvent, it is possible to turn the cylindrical cross-linked portion into a nanofiber in an interconnected state, and a self-supporting nanofiber that does not fall on the substrate can be formed.
また、溶媒洗浄法とは、原料高分子材料を塗布した基板に対して単一方向からイオンビームを複数照射して複数個の円筒架橋部を形成し、溶媒で未架橋部を洗浄除去する際に、近接するナノファイバーを溶媒の凝集作用によりやぐら状に接続して基板への倒れを抑制し、自立状態のナノファイバーを形成する方法である。 The solvent cleaning method is a method for irradiating a substrate coated with a raw polymer material with a plurality of ion beams from a single direction to form a plurality of cylindrical cross-linked portions and washing and removing uncross-linked portions with a solvent. In addition, it is a method of forming a self-supporting nanofiber by connecting adjacent nanofibers in a tower shape by the coagulation action of the solvent and suppressing falling to the substrate.
以上のような製造方法によって製造されたナノファイバーは、基板上の高分子薄膜内に形成された、複数個のナノファイバーが３次元的に相互接続されているナノファイバーであって、前記複数個のナノファイバーの一端が前記基板表面に固定されているナノファイバーとなる。 The nanofibers manufactured by the manufacturing method as described above are nanofibers formed in a polymer thin film on a substrate, in which a plurality of nanofibers are interconnected three-dimensionally, One end of the nanofiber is a nanofiber fixed to the substrate surface.
本発明のさらに他の観点によれば、セラミック前駆体である高分子の薄膜を使用し、前述の各製造方法の最終工程においてアルゴンガス等の不活性ガス中でセラミックに焼成することにより、セラミックナノファイバーを得ることもできる。 According to still another aspect of the present invention, a ceramic thin film that is a ceramic precursor is used and fired into a ceramic in an inert gas such as argon gas in the final step of each of the above-described manufacturing methods. Nanofibers can also be obtained.
本発明によれば、複数個のナノファイバーが互いに立体的に接続されている上、それらのナノファイバーの一端が前記基板表面に固定されているので、大気環境中に飛散しない、安全性の高いナノファイバー及びその製造方法が得られる。 According to the present invention, a plurality of nanofibers are three-dimensionally connected to each other, and one end of each nanofiber is fixed to the surface of the substrate. A nanofiber and a manufacturing method thereof are obtained.
背景技術において説明したように、すでにイオンビーム照射法によってナノファイバーを得る技術は本願発明者らによって確立されていたが、安全性がより一層高く、かつ自立状態にあるナノファイバーを得ることはできていなかった。本発明者らは、その後の更なる研究により、今回、ナノファイバーの形成工程において、イオンビームの多角度照射法または溶媒洗浄法を用いて、複数個の円筒架橋部（ナノファイバー）を立体的に接続することによって、基板上に自立状態のナノファイバーを形成することができることを見出した。 As described in the background art, the technology for obtaining nanofibers by the ion beam irradiation method has already been established by the present inventors. However, it is possible to obtain nanofibers with higher safety and in an independent state. It wasn't. Based on further research, the present inventors have used a multi-angle irradiation method of ion beams or a solvent cleaning method to form a plurality of cylindrical cross-linking portions (nanofibers) three-dimensionally. It was found that a self-supporting nanofiber can be formed on a substrate by connecting to the substrate.
以下、図１から図５を参照して、本発明に係るナノファイバーの製造方法の一例、及びその製造方法で得られた自立したナノファイバーについて説明する。図１は、本発明の多角度照射法によるナノファイバーの製造方法の一例を示している。 Hereinafter, with reference to FIG. 1 to FIG. 5, an example of a nanofiber manufacturing method according to the present invention and a self-supporting nanofiber obtained by the manufacturing method will be described. FIG. 1 shows an example of a method for producing nanofibers by the multi-angle irradiation method of the present invention.
最初の工程で、高分子材料を溶媒に溶かし、基板上に、スピンコート、ディッピングなどの方法で高分子薄膜を作製する。ポリスチレン等の構造材料用高分子、ポリシラン等の機能性高分子、アルブミン等の生体高分子等、放射線架橋する高分子材料による高分子薄膜の作製が可能なものであれば、本手法を幅広く適用可能である。また、高分子材料としてポリカルボシラン等のセラミック前駆体高分子を使用することで、自立状態のセラミックナノファイバーを製造することができる。基板としては、表面が平滑で塗布液中の溶媒により侵されない材料であれば良い。例えば、シリコンウェハ、ガラス等の無機材料、あるいはポリイミドやポリエチレン等の高分子材料が適用できる。ここまでの工程は、本願発明者らが先に出願した特許文献１の工程と同じである。
＜複数ナノファイバーの立体的接続法＞
In the first step, a polymer material is dissolved in a solvent, and a polymer thin film is produced on the substrate by a method such as spin coating or dipping. This method can be widely applied if it is possible to produce polymer thin films with polymer materials that cross-link with radiation, such as polymers for structural materials such as polystyrene, functional polymers such as polysilane, and biopolymers such as albumin. Is possible. In addition, by using a ceramic precursor polymer such as polycarbosilane as the polymer material, ceramic nanofibers in a self-supporting state can be produced. The substrate may be any material that has a smooth surface and is not affected by the solvent in the coating solution. For example, an inorganic material such as a silicon wafer or glass, or a polymer material such as polyimide or polyethylene can be applied. The process up to here is the same as the process of
<Three-dimensional connection method of multiple nanofibers>
イオンビーム照射工程において、個々のイオンの飛跡に沿ってケイ素系高分子薄膜中に円筒架橋部を形成する。この際、図1に示されたように異なる複数の方向から斜めにイオンビームを照射する。基板への倒れを抑制するため、基本的には３方向以上からの照射を行い、複数個の円筒架橋部を立体的に接続しておくことが望ましい。イオンビームの傾斜角度が基板に平行(θ=90°)及び、垂直(θ=0°)の場合、イオンの飛跡が交錯しない。従ってθは0<θ<90°となる必要がある。効率よく接続するためには、ナノファイバーが交錯しやすい30〜60°の傾斜角度が適している。
＜ナノファイバーの基板への固定法＞
In the ion beam irradiation step, a cylindrical bridge is formed in the silicon-based polymer thin film along the tracks of individual ions. At this time, the ion beam is irradiated obliquely from a plurality of different directions as shown in FIG. In order to suppress the collapse to the substrate, it is basically desirable to perform irradiation from three or more directions and connect a plurality of cylindrical bridge portions in a three-dimensional manner. When the tilt angle of the ion beam is parallel (θ = 90 °) and perpendicular (θ = 0 °) to the substrate, the ion tracks do not intersect. Therefore, θ needs to be 0 <θ <90 °. In order to connect efficiently, an inclination angle of 30 to 60 ° where nanofibers are easy to cross is suitable.
<Method of fixing nanofiber to substrate>
本行程において、ナノファイバーの一端を基板に固定するには、高分子薄膜中でのイオンビーム飛跡を基板まで到達させる。この場合、高分子薄膜中でのイオンビームの飛程(到達距離)をR、薄膜に対して垂直方向を基準としたイオンビームの飛跡の傾斜角度をθとすると、高分子薄膜の厚さtは、R×cosθ未満でなければならない。この際のナノファイバーの長さLはt×cosθであり、膜厚と照射角度により任意の値に制御可能である。また、高分子薄膜の厚さtをR× cosθより大きくすることでナノファイバーを基板に固定せず、立体的に接続されたメッシュ状のナノファイバーを溶媒洗浄工程で基板から剥離することも可能である。 In this process, in order to fix one end of the nanofiber to the substrate, an ion beam track in the polymer thin film reaches the substrate. In this case, if the ion beam trajectory (reach distance) in the polymer thin film is R and the inclination angle of the ion beam track with respect to the direction perpendicular to the thin film is θ, the thickness t of the polymer thin film Must be less than R × cos θ. The length L of the nanofiber at this time is t × cos θ, and can be controlled to an arbitrary value by the film thickness and the irradiation angle. In addition, the nanofibers can be fixed to the substrate by making the thickness t of the polymer thin film larger than R × cosθ, and the three-dimensionally connected mesh-like nanofibers can be peeled off from the substrate in the solvent washing process. It is.
本工程では、入射した単一のイオンにより、その飛跡に沿ってケイ素系高分子薄膜に高密度にエネルギーが付与され、円筒架橋部が形成される。その半径rは、イオンの飛跡に沿ってエネルギーが付与される範囲、架橋により固定される分子の大きさ、同じエネルギー付与に対する架橋点の生成のしやすさにより決定される。これらはそれぞれ、イオン飛跡に沿って高分子材料に付与されるエネルギー量、高分子材料の分子量、高分子材料の放射線に対する反応性に依存しており、それらを人為的に操作することで円筒架橋部、すなわちナノファイバーの半径を制御できる。 In this step, energy is imparted to the silicon-based polymer thin film at a high density along the tracks by the incident single ions, and a cylindrical bridge portion is formed. The radius r is determined by the range in which energy is applied along the ion track, the size of the molecule fixed by cross-linking, and the ease of generation of cross-linking points for the same energy application. These depend on the amount of energy applied to the polymer material along the ion track, the molecular weight of the polymer material, and the reactivity of the polymer material to radiation. Part, that is, the radius of the nanofiber can be controlled.
イオンビームの飛跡は、高分子薄膜中を平行に貫通するため、高分子薄膜の体積に占める円筒架橋部の体積の総計の割合は、イオンビーム飛跡に対して垂直面における単位面積中の、円筒架橋部の断面積の総計の割合と同一になる。従って、ナノファイバーの半径をr、単位面積あたりのイオンの照射量をf個とすると、その割合はπ×r2×fで表わされる。この円筒架橋部の占める割合が過大である場合、隣接する円筒架橋部が平行に結合し、また立体に接続されて形成される網目構造が密になりすぎるため、内部の未架橋高分子材料が溶媒洗浄では除去不能になることがあるため、高分子薄膜の体積に占める円筒架橋部の占める割合であるπ×r2×fの値は0.5以下にする必要がある。 Since the track of the ion beam penetrates the polymer thin film in parallel, the ratio of the total volume of the cylindrical bridge portion in the volume of the polymer thin film is the cylinder in the unit area in the plane perpendicular to the ion beam track. This is the same as the ratio of the total cross-sectional area of the bridge. Accordingly, assuming that the radius of the nanofiber is r and the irradiation amount of ions per unit area is f, the ratio is represented by π × r2 × f. If the ratio of the cylindrical bridge portion is excessive, the adjacent cylindrical bridge portions are connected in parallel, and the network structure formed by being connected in three dimensions becomes too dense. Since removal may not be possible by solvent cleaning, the value of π × r2 × f, which is the ratio of the cylindrical cross-linking portion in the volume of the polymer thin film, needs to be 0.5 or less.
照射後、未架橋部分を溶媒により洗浄して除去し、立体的にナノファイバーが相互接続された自立高分子ナノファイバーが得られる。溶媒としては、塗布した高分子材料が溶解可能なものであれば良い。スピンコート法やディップ法の塗布液に使用した同一溶媒が適用可能である。溶媒洗浄の際に、ナノファイバーが膨潤して切断したり、形成された立体構造が崩れたりする場合には、溶媒の温度を下げる、或いは溶媒を薄める手段により、これらが抑制可能である。溶媒洗浄は、例えば、溶媒が入っているビーカー等の容器に基板を入れて１分程度静置し、取り出してから自然乾燥させる工程で行われる。 After irradiation, the uncrosslinked portion is removed by washing with a solvent to obtain free-standing polymer nanofibers in which the nanofibers are sterically interconnected. Any solvent may be used as long as it can dissolve the applied polymer material. The same solvent used for the coating liquid of the spin coat method or the dip method can be applied. When the nanofibers swell and cut or the formed three-dimensional structure collapses during solvent washing, these can be suppressed by means of lowering the solvent temperature or diluting the solvent. The solvent washing is performed, for example, in a process in which the substrate is placed in a container such as a beaker containing a solvent, left to stand for about 1 minute, taken out, and then naturally dried.
原料高分子材料が、ポリカルボシラン等のセラミック前駆体高分子材料である場合、溶媒洗浄により得られた自立高分子ナノファイバーは、原料高分子材料の融点温度以上に加熱しても融解しない。従って、アルゴンや窒素等の不活性雰囲気下で焼成することで有機一無機転換反応により自立セラミックナノファイバーヘ転換することができる。 When the raw material polymer material is a ceramic precursor polymer material such as polycarbosilane, the self-supporting polymer nanofibers obtained by solvent washing do not melt even when heated to a temperature higher than the melting point temperature of the material polymer material. Therefore, it can be converted into a self-supporting ceramic nanofiber by an organic-inorganic conversion reaction by firing in an inert atmosphere such as argon or nitrogen.
次に、図２を参照する。図２は、本発明の溶媒凝集法による製造工程の一例を示している。原料の高分子材料及び高分子薄膜の作製工程は多角度照射法のそれと同一である。イオンビーム照射の工程では、高分子薄膜に対して単一方向からイオンビームを複数照射し、個々のイオン飛跡に沿ってケイ素系高分子薄膜中に平行に円筒架橋部を形成する。ナノファイバーの一端を基板に固定するためには、高分子薄膜中でのイオンビームの飛跡が基板に到達する必要がある。従って、高分子薄膜中でのイオンビームの飛程をR、高分子薄膜の厚さtとするとR>tでなければならない。 Reference is now made to FIG. FIG. 2 shows an example of the production process by the solvent aggregation method of the present invention. The raw polymer material and the polymer thin film manufacturing process are the same as those of the multi-angle irradiation method. In the ion beam irradiation step, the polymer thin film is irradiated with a plurality of ion beams from a single direction, and a cylindrical bridge portion is formed in parallel in the silicon-based polymer thin film along each ion track. In order to fix one end of the nanofiber to the substrate, the track of the ion beam in the polymer thin film needs to reach the substrate. Therefore, if the range of the ion beam in the polymer thin film is R, and the thickness t of the polymer thin film is, R> t.
照射後、イオンビームにより架橋されなかった部分を溶媒洗浄により除去し、円筒架橋部をナノファイバー化する。溶媒が乾燥する際、表面張力により凝集するため、その作用でナノファイバーもやぐら状に集まり、立体的に接続されて自立ナノファイバーが得られる。平行に隣接する円筒架橋部を溶媒の凝集力で接続するため、隣接する距離はある値よりも小さくなければならない。従って、実施例１で述べた高分子薄膜の体積に占める円筒架橋部の占める割合であるπ×r2×fの値は、0.5以上に保たれる必要がある。 After irradiation, the portion not cross-linked by the ion beam is removed by solvent washing, and the cylindrical cross-linked portion is made into nanofibers. When the solvent dries, it aggregates due to the surface tension, so that the nanofibers gather in the shape of a tower and are sterically connected to obtain self-supporting nanofibers. In order to connect the adjacent cylindrical bridges in parallel with the cohesive force of the solvent, the adjacent distance must be smaller than a certain value. Therefore, the value of π × r2 × f, which is the ratio of the cylindrical cross-linking portion to the volume of the polymer thin film described in Example 1, needs to be maintained at 0.5 or more.
原料高分子材料としてセラミック前駆体高分子材料を用い、有機―無機転換反応により自立したセラミックナノファイバーヘ転換することもできる。その工程に関しては、多角度照射法の場合と同一である。 A ceramic precursor polymer material can be used as a raw material polymer material, and can be converted into a self-supporting ceramic nanofiber by an organic-inorganic conversion reaction. The process is the same as in the case of the multi-angle irradiation method.
以下,実施例を挙げて本発明をより一層具体的に示す。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
ナノファイバーの原料高分子材料として、SiCセラミックスの前駆体高分子材料であるポリカルボシラン(分子量Mn:約2000)を用いた。これをトルエンに溶解させて5 mass%溶液とし、片面研磨シリコンウェハ基板上にスピンコート法により塗布した。得られたポリカルボシラン薄膜の膜厚は230 nmである。 Polycarbosilane (molecular weight Mn: about 2000), which is a precursor polymer material of SiC ceramics, was used as a raw material polymer material for nanofibers. This was dissolved in toluene to give a 5 mass% solution, and applied on a single-side polished silicon wafer substrate by spin coating. The resulting polycarbosilane thin film has a thickness of 230 nm.
高分子薄膜を塗布した基板を図３に示される照射装置に取付け、イオンビームを照射した。図３において、（ａ）はイオンビーム照射用真空容器、（ｂ）は回転照射台、そして（ｃ）は多角度照射用試料ホルダーを示す。高分子材料を塗布した基板を固定する多角度照射用試料ホルダーは、円盤状のホルダー部分が回転する構造を持っている。この回転軸を傾ける機構(図中のS方向)によりイオンビームの傾斜角を調節し、試料ホルダーの回転機構(図中のD方向)により照射方向を調節できる。この多角度照射用試料ホルダーを３個と、垂直照射試料ホルダーを2個有する回転照射台を、イオンビーム照射用真空容器に装着し、イオンビームを照射した。 The substrate coated with the polymer thin film was attached to the irradiation apparatus shown in FIG. 3 and irradiated with an ion beam. In FIG. 3, (a) shows a vacuum vessel for ion beam irradiation, (b) shows a rotary irradiation table, and (c) shows a sample holder for multi-angle irradiation. A sample holder for multi-angle irradiation that fixes a substrate coated with a polymer material has a structure in which a disk-shaped holder portion rotates. The tilt angle of the ion beam can be adjusted by a mechanism for tilting the rotation axis (S direction in the figure), and the irradiation direction can be adjusted by a rotation mechanism for the sample holder (D direction in the figure). A rotary irradiation table having three sample holders for multi-angle irradiation and two sample holders for vertical irradiation was mounted on an ion beam irradiation vacuum vessel and irradiated with an ion beam.
本実施例では、サイクロトロンで加速されたエネルギー450 MeVのゼノン(Xe)イオンビームを高分子薄膜中に形成される円筒架橋部の分布が均一になるよう上下左右にスキャンしながら照射した。イオンビームの傾斜角（図３のＳ方向）は45°である。一定線量を照射後、照射方向（図３のＤ方向）を初回の照射を基準として９０°回転し、再び初回と同一線量照射した。これを４回繰り返すことで、45°の照射角度で0、90、180、270°の４方向からイオンビームを照射した。ポリカルボシラン(分子量Mn:約2000)に450 MeVのXeイオンにより形成されるナノファイバーの直径はおよそ15 nmである。高分子薄膜に対して円筒架橋部の占める体積の割合が0.5以下となるよう、照射量の総計が、1x1011 ions/cm2となるようにした。４方向からの照射となる本実施例では、各方向のそれぞれの照射量は、2.5x1011ions/cm2である。照射後、トルエン溶媒で洗浄して未架橋部分を除去し、十分乾燥してポリカルボシランを原料とするナノファイバーを得た。 In this example, irradiation with a 450 MeV xenon (Xe) ion beam accelerated by a cyclotron was performed while scanning vertically and horizontally so that the distribution of the cylindrical bridge formed in the polymer thin film was uniform. The tilt angle of the ion beam (the S direction in FIG. 3) is 45 °. After irradiation with a fixed dose, the irradiation direction (direction D in FIG. 3) was rotated by 90 ° with respect to the first irradiation, and the same dose was irradiated again as the first time. By repeating this four times, the ion beam was irradiated from four directions of 0, 90, 180, and 270 ° at an irradiation angle of 45 °. The diameter of the nanofiber formed by 450 MeV Xe ions on polycarbosilane (molecular weight Mn: about 2000) is about 15 nm. The total amount of irradiation was set to 1 × 10 11 ions / cm 2 so that the ratio of the volume occupied by the cylindrical bridge portion to the polymer thin film was 0.5 or less. In the present embodiment in which irradiation is performed from four directions, the amount of irradiation in each direction is 2.5 × 10 11 ions / cm 2 . After irradiation, it was washed with a toluene solvent to remove uncrosslinked portions, and sufficiently dried to obtain nanofibers using polycarbosilane as a raw material.
この走査型プローブ顕微鏡の表面形状像を図４に示す。図４は、膜厚230 nmのポリカルボシラン薄膜から本発明の多角度照射法により形成された自立ナノファイバーの走査型プローブ顕微鏡の表面形状像であって、（ａ）は、本発明による多角度照射法により形成したポリカルボシランの自立ナノファイバーであり、（ｂ）は、従来法の垂直単一方向照射により、同一の線量までイオンビームを照射して形成したポリカルボシランナノファイバーである。（ｂ）の従来法では、基板からの高さは約50 nmであるが、（ａ）の多角度照射法では約100 nmと２倍以上の高さを示しており、ナノファイバーの基板上への倒れが抑制された自立状態のポリカルボシランのナノファイバーが形成できた。また、（ｃ）は、（ａ）のポリカルボシランナノファイバーをアルゴン雰囲気中で1000 ℃まで熱処理したものである。ナノファイバー構造を保持したまま、ポリカルボシランからSiCセラミックスヘ焼成転換可能であり、自立セラミックナノファイバーが形成できた。なお、図４の（ａ）及び（ｂ）において、紙面に向かって右側の黒塗りの部分は低部すなわち基板であり、白いほぼ円形状に見える部分がナノファイバの頂部であり、それらの中間にある灰色の部分が頂部から底部に向かって延びている周面である。このことは、次に説明する図５の（ａ）からより鮮明に理解できる。 FIG. 4 shows a surface shape image of this scanning probe microscope. FIG. 4 is a surface shape image of a scanning probe microscope of a self-supporting nanofiber formed from a polycarbosilane thin film having a film thickness of 230 nm by the multi-angle irradiation method of the present invention, and FIG. Polycarbosilane nanofibers formed by angle irradiation method, and (b) is a polycarbosilane nanofiber formed by irradiating an ion beam to the same dose by conventional vertical unidirectional irradiation. . In the conventional method of (b), the height from the substrate is about 50 nm, but in the multi-angle irradiation method of (a), the height is about 100 nm, which is more than twice as high. The nanofiber of the polycarbosilane of the self-supporting state where the fall to the side was suppressed was able to be formed. Further, (c) is obtained by heat-treating the polycarbosilane nanofiber of (a) up to 1000 ° C. in an argon atmosphere. While maintaining the nanofiber structure, firing conversion from polycarbosilane to SiC ceramics was possible, and free-standing ceramic nanofibers could be formed. 4 (a) and 4 (b), the black-painted portion on the right side of the paper is the lower portion, that is, the substrate, and the white portion that appears to be substantially circular is the top of the nanofiber, and the middle of them. The gray part which exists in is a peripheral surface extended toward the bottom part from the top part. This can be understood more clearly from FIG.
ナノファイバーの原料高分子として、SiCセラミックス前駆体高分子材料のポリカルボシランを用いた。分子量Mnは約2000である。これをトルエンに溶解させて5 mass%の溶液とし、片面研磨シリコンウェハ基板にスピンコート法により塗布した。得られたポリカルボシラン薄膜の膜厚は230 nmである。 Polycarbosilane, a SiC ceramic precursor polymer material, was used as a raw material polymer for nanofibers. The molecular weight Mn is about 2000. This was dissolved in toluene to give a 5 mass% solution, and applied to a single-side polished silicon wafer substrate by spin coating. The resulting polycarbosilane thin film has a thickness of 230 nm.
本実施例では、サイクロトロンで加速されたエネルギー450 MeVのゼノン(Xe)イオンビームの断面を約lcmの円形に調節した後、基板に対して垂直な単一方向から上下左右にスキャンしながら、基板に均一に塗布した高分子薄膜に照射した。このポリカルボシラン薄膜に450 MeVのXeイオンにより形成されるナノファイバー直径はおよそ15 nmである。高分子薄膜に対して円筒架橋部の占める体積の割合が0.5以上となるよう、イオンの照射量は、5x10H bns/cm2とした。照射後、トルエン溶媒で洗浄して未架橋部分を除去し、十分乾燥させることにより、ポリカルボシランナノファイバーを得た。 In this example, after adjusting the cross section of a Zenon (Xe) ion beam with an energy of 450 MeV accelerated by a cyclotron to a circular shape of about 1 cm, the substrate is scanned vertically and horizontally from a single direction perpendicular to the substrate. The polymer thin film uniformly applied to was irradiated. The nanofiber diameter formed by 450 MeV Xe ions in this polycarbosilane thin film is approximately 15 nm. The ion irradiation amount was set to 5 × 10 H bns / cm 2 so that the ratio of the volume occupied by the cylindrical bridge portion to the polymer thin film was 0.5 or more. After irradiation, it was washed with a toluene solvent to remove the uncrosslinked portion and sufficiently dried to obtain polycarbosilane nanofibers.
図５は、膜厚230nmのポリカルボシラン薄膜から本発明の溶媒凝集法により形成された自立ナノファイバーの走査型プローブ顕微鏡の表面形状像を示している。図５において、(a)は溶媒凝集法により形成された自立ポリカルボシランナノファイバー、（ｂ）は（ａ）をアルゴン雰囲気中、1100℃で焼成して得られたSiCセラミック自立ナノファイバーを示す。図５の下部に示されたスケールから、ほぼ円形の白い部分はその高さが約200 nmであり、やぐら状構造の頂部であることがわかる。また、黒い部分すなわち高さ0 nmの部分は底部であり、円形の白い部分すなわち頂部から底部に延びている、周囲に広がっている灰色の部分がやぐら状構造の周面であることが理解できる。
したがって、図５の（ａ）から、基板からの高さが約200 nmの複数のナノファイバーがやぐら状すなわち円錐状に接続された構造が形成されていることがわかり、自立ナノファイバーの形成が確認できた。
FIG. 5 shows a surface shape image of a scanning probe microscope of a self-supporting nanofiber formed from a polycarbosilane thin film having a thickness of 230 nm by the solvent aggregation method of the present invention. In FIG. 5, (a) is a self-supporting polycarbosilane nanofiber formed by a solvent aggregation method, and (b) is a SiC ceramic self-supporting nanofiber obtained by firing (a) at 1100 ° C. in an argon atmosphere. . From the scale shown in the lower part of FIG. 5, it can be seen that the substantially circular white part has a height of about 200 nm and is the top of the tower structure. In addition, it can be understood that the black portion, that is, the portion having a height of 0 nm is the bottom portion, and the circular white portion, that is, the gray portion extending from the top portion to the bottom portion and spreading to the periphery is the peripheral surface of the tower-like structure. .
Therefore, from FIG. 5A, it can be seen that a structure in which a plurality of nanofibers having a height of about 200 nm from the substrate are connected in a tower shape, that is, a conical shape, is formed. It could be confirmed.
また、溶媒接続法により形成した自立ポリカルボシランのナノファイバーをアルゴン雰囲気中1100 ℃で焼成し、自立セラミックナノファイバーヘと転換した(図5の(b)参照)。焼成に伴う収縮により、高さは140 nmに減少しているが、やぐら上に接続された自立構造を保持したまま、SiCセラミックスヘと転換できることが分かった。 In addition, the self-supporting polycarbosilane nanofibers formed by the solvent connection method were fired at 1100 ° C. in an argon atmosphere to convert into self-supporting ceramic nanofibers (see FIG. 5 (b)). Although the height decreased to 140 nm due to shrinkage due to firing, it was found that it could be converted to SiC ceramics while retaining the free-standing structure connected to the tower.
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