JP2010067640A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板50を保持する基板保持部30と、研磨剤とミストを混合した混合ミストを噴出する噴射部15と、噴射部15と前記基板50とを相対的に移動させる位置制御部23とを備えており、基板50の処理対象部に研磨剤を含む混合ミストを噴射(ミスト液を霧状にして研磨剤と一緒に噴射)して、基板50に形成された不要な薄膜その他の不要物を除去する。
【選択図】図1
Description
図3に示すミト生成部14−2は、噴射部15及び混合ミスト液供給部12に加えて、純水供給部40を備えており、さらに切換電磁バルブ43を備えている。純水供給部40には純水41が貯蔵されており、切換電磁バルブ43を純水供給部40に切り換えることにより、純水供給部40から純水供給管42を介して純水41をミスト液供給管19に供給して、純水のミストを噴射することが可能である。
11 高圧気体供給部
12 混合ミスト液供給部
13 電磁弁
14、14−2 ミスト生成部
15 噴射部
16 結合空隙
17 狭通路
18 開放空間部
19 ミスト液供給管
20 噴射ノズル
21 噴射ガイド
23 位置制御部
24 制御部
25 移動レール
26 キャリア
28 混合ミスト液
30 支持部
31 モータ
40 純水供給部
41 純水
42 純水供給管
43 切換電磁バルブ
50 基板
Claims (9)
- 被処理基板に形成された薄膜その他の不要物を除去する基板処理装置であって、
前記基板を保持する基板保持部と、
研磨剤とミストを混合した混合ミストを噴出する噴射部と、
前記噴射ノズルと前記基板とを相対的に移動させる位置制御部と、
を備える基板処理装置。 - 前記基板保持部は、前記基板を回転可能に保持し、
前記位置制御部は、前記基板を回転させる回転駆動部と、前記噴射部を前記基板の処理対象部分に移動させる駆動部を備えることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記研磨材は、粒径が0.5μm〜3.0μmの範囲であることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記噴射部を複数備えることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記噴射部は、前記混合ミストまたは純水ミストを選択的に噴出可能であることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- さらに、混合ミストの侵入領域を規制する侵入防止手段を備えることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- さらに、前記噴射部及び前記位置制御部を所定の手順で制御することにより、前記基板上の前記薄膜その他の不要物を前記混合ミストにより除去するシーケンス制御部を備えることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 被処理基板に形成された薄膜その他の不要物を除去する基板処理方法であって、
前記基板を回転させながら、前記基板上の前記薄膜その他の不要物に対して、研磨材とミストを混合した混合ミストを所定の圧力で噴射して、前記薄膜その他の不要物を剥離して除去する剥離除去工程と、
前記基板を洗浄することにより、前記剥離除去した不要物を洗い流す洗浄工程と、
を備えることを特徴とする基板処理方法。 - 前記洗浄工程は、純水のミストを加圧して噴射することにより、前記基板を洗浄することを特徴とする請求項8に記載の基板処理方法。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59191096U (ja) * | 1984-04-11 | 1984-12-18 | 広中 重信 | 研掃装置のノズル |
JPH10335562A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-18 | Miyagi Oki Denki Kk | バリ取り装置 |
JP2003092283A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2006229057A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Anchor Business Systems Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59191096U (ja) * | 1984-04-11 | 1984-12-18 | 広中 重信 | 研掃装置のノズル |
JPH10335562A (ja) * | 1997-05-30 | 1998-12-18 | Miyagi Oki Denki Kk | バリ取り装置 |
JP2003092283A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-03-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2006229057A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Anchor Business Systems Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
JP2008124383A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Bridgestone Corp | シリコンウェーハの表面加工方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011224541A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | I Tac Giken Kk | 混合流体噴射装置 |
KR101629471B1 (ko) * | 2014-12-30 | 2016-06-10 | 주식회사 케이씨텍 | 기판세정장치 |
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