JP2010064216A

JP2010064216A - Abrasive cloth

Info

Publication number: JP2010064216A
Application number: JP2008234600A
Authority: JP
Inventors: Fumio Miyazawa; 文雄宮澤; Koji Ando; 興司安藤
Original assignee: Fujibo Holdins Inc
Current assignee: Fujibo Holdins Inc
Priority date: 2008-09-12
Filing date: 2008-09-12
Publication date: 2010-03-25
Anticipated expiration: 2028-09-12
Also published as: JP5222069B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an abrasive cloth adapted to improve the flatness of an object to be polished by suppressing clogging while ensuring the retainability of a polishing fluid. <P>SOLUTION: The abrasive cloth includes a textile sheet 2 having a polishing surface P for polishing an object to be polished. The textile sheet 2 is formed by a plain weave structure of horizontal threads 7a and vertical threads 7b each using an elastic thread 7. A clearance 3 is formed between the horizontal thread 7a and the vertical thread 7b. A multifilament as a bundle of monofilaments containing polyurethane and acetyl cellulose is used as the elastic thread 7. In the monofilament forming the elastic thread 7, the extension modulus during 1.2 times extension is adjusted to the range of 0.03-0.5 cN/Dtex. Irregularities owing to the plain weave structure are substantially uniformly formed on the polishing surface P, and the clearance 3 is continuously formed. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は研磨布に係り、特に、被研磨物を研磨加工するための研磨面を有する研磨層を備えた研磨布に関する。 The present invention relates to an abrasive cloth, and more particularly to an abrasive cloth provided with an abrasive layer having an abrasive surface for polishing an object to be polished.

半導体デバイスやハードディスク、液晶ディスプレイ用ガラス基板等の材料（被研磨物）の表面（加工面）では、平坦性が求められるため、研磨布を使用した研磨加工が行われている。半導体デバイスでは半導体回路の集積度が急激に増大するにつれて高密度化を目的とした微細化や多層配線化が進み、ハードディスクでも記憶容量が増大するにつれて高密度化が進み、加工面を一層高度に平坦化する技術が重要となっている。一方、液晶ディスプレイ用ガラス基板では、液晶ディスプレイの大型化に伴い、加工面のより高度な平坦性が要求されている。 Since the surface (processed surface) of a material (object to be polished) such as a semiconductor device, a hard disk, or a glass substrate for a liquid crystal display requires flatness, polishing using a polishing cloth is performed. In semiconductor devices, as the degree of integration of semiconductor circuits increases rapidly, miniaturization and multi-layer wiring have progressed for the purpose of higher density, and even for hard disks, the density has increased as the storage capacity has increased, and the processing surface has become more sophisticated. Flattening technology is important. On the other hand, with a glass substrate for a liquid crystal display, higher flatness of a processed surface is required with an increase in the size of the liquid crystal display.

一般に、これら半導体デバイス等の表面を平坦化する方法としては、化学的機械的研磨（ＣｈｅｍｉｃａｌＭｅｃｈａｎｉｃａｌＰｏｌｉｓｈｉｎｇ、以下、ＣＭＰと略記する。）法が用いられている。ＣＭＰ法では、通常、研磨加工時に、砥粒（研磨粒子）をアルカリ溶液等に分散させたスラリ（研磨液）を供給する、いわゆる遊離砥粒方式が採用されている。すなわち、被研磨物（の加工面）は、スラリ中の砥粒による機械的作用と、アルカリ溶液等による化学的作用とで研磨加工される。加工面に要求される平坦性の高度化に伴い、研磨加工における研磨精度や研磨効率等の研磨特性、換言すれば、研磨布に要求される性能も高まっている。一般に、研磨加工に用いられる研磨布では、加工面を研磨加工するための研磨面を有する研磨層を備えている。研磨層は、研磨加工時にスラリを保持しつつ、研磨面と加工面との間に研磨液を略均等に放出するために発泡構造を有しており、研削処理等により研磨面に開孔が形成されている。 In general, a chemical mechanical polishing (hereinafter abbreviated as CMP) method is used as a method for planarizing the surface of these semiconductor devices and the like. In the CMP method, a so-called free abrasive grain method is generally employed in which a slurry (polishing liquid) in which abrasive grains (polishing particles) are dispersed in an alkaline solution or the like is supplied during polishing. That is, the object to be polished (the processed surface thereof) is polished by a mechanical action by abrasive grains in the slurry and a chemical action by an alkaline solution or the like. As the flatness required for the processed surface becomes higher, polishing characteristics such as polishing accuracy and polishing efficiency in polishing processing, in other words, performance required for the polishing cloth is also increasing. In general, a polishing cloth used for polishing includes a polishing layer having a polishing surface for polishing the processed surface. The polishing layer has a foam structure in order to release the polishing liquid substantially evenly between the polishing surface and the processing surface while holding the slurry during polishing processing. Is formed.

発泡構造を有するシート状のウレタン系樹脂を形成するために、例えば、樹脂製の外殻を有する中空球状微粒子を混合する技術（特許文献１〜特許文献５参照）、水を添加する技術（特許文献６参照）、不活性気体を混合する技術（特許文献７参照）、水溶性微粒子を混合する技術（特許文献８参照）が開示されている。ところが、研磨面に開孔が形成されていると、研磨加工時に供給される研磨液中の砥粒や研磨加工に伴う研磨屑により開孔が目詰まりし研磨レートが低下することがある。このため、研磨加工中に研磨面にドレス処理を施す必要があり、却って研磨効率を低下させるばかりではなく、研磨屑等により加工面に予期せぬ研磨傷（スクラッチ）の発生を招きやすくなる。そこで、目詰まりや研磨傷の発生を解消するために、砥粒を低減するか、または、含まない状態で、アルカリ溶液等による化学的作用を主とした研磨加工技術の開発が進められており、例えば、織物または編物を研磨層とした研磨布を用い、砥粒を含まない研磨液で化学的に研磨加工する技術が開示されている（特許文献９参照）。 In order to form a sheet-like urethane resin having a foam structure, for example, a technique of mixing hollow spherical fine particles having a resin outer shell (see Patent Documents 1 to 5), a technique of adding water (patent) Patent Document 6), a technique for mixing an inert gas (see Patent Document 7), and a technique for mixing water-soluble fine particles (see Patent Document 8) are disclosed. However, if an opening is formed on the polishing surface, the opening may be clogged by abrasive grains in the polishing liquid supplied at the time of polishing or polishing debris accompanying the polishing, and the polishing rate may decrease. For this reason, it is necessary to perform a dressing process on the polished surface during the polishing process. On the contrary, not only the polishing efficiency is lowered, but also unexpected polishing scratches (scratches) are likely to occur on the processed surface due to polishing scraps and the like. Therefore, in order to eliminate the occurrence of clogging and polishing flaws, the development of polishing technology that is mainly based on chemical action with an alkaline solution or the like is being carried out in a state where abrasive grains are reduced or not included. For example, a technique is disclosed in which a polishing cloth using a woven or knitted fabric as a polishing layer is used and chemically polished with a polishing liquid that does not contain abrasive grains (see Patent Document 9).

特許３０１３１０５号公報Japanese Patent No. 3013105 特許３４２５８９４号公報Japanese Patent No. 3425894 特許３８０１９９８号公報Japanese Patent No. 3801998 特開２００６−１８６３９４号公報JP 2006-186394 A 特開２００７−１８４６３８号公報JP 2007-184638 A 特開２００５−６８１６８号公報JP 2005-68168 A 特許３４５５２０８号公報Japanese Patent No. 3455208 特開２０００−３４４１６号公報JP 2000-34416 A 特開２００２−８６３４８号公報JP 2002-86348 A

しかしながら、特許文献９の技術では、織物または編物を構成する糸として基本的にポリエステルのような非弾性糸が用いられるため、砥粒を含まない研磨液を用いたとしても、被研磨物から生ずる研磨屑等により目詰まりを生じる。このため、局所的に被研磨物にかかる圧力（研磨圧）が上昇し、加工面にスクラッチを発生させることとなる。また、砥粒を含まない研磨液では研磨レートや平坦化の点で不十分となり、少量の砥粒を含む研磨液を用いる場合には、スクラッチの発生が更に増加するおそれがある。また、特許文献９では非弾性糸以外にポリウレタンが挙げられているが、通常のポリウレタンの糸では伸長モジュラスが小さく、高伸長で過度の弾性特性を示すため、製編織時のテンションコントロールが難しくなる。このため、安定的に織物や編物を得ることができず、加工面の平坦性向上を目的とする研磨加工に使用することは難しい。 However, in the technique of Patent Document 9, since an inelastic yarn such as polyester is basically used as a yarn constituting a woven fabric or a knitted fabric, even if a polishing liquid containing no abrasive grains is used, the yarn is generated from the object to be polished. Clogging occurs due to polishing debris. For this reason, the pressure (polishing pressure) applied to the object to be polished locally increases, and scratches are generated on the processed surface. In addition, a polishing liquid that does not contain abrasive grains is insufficient in terms of polishing rate and planarization, and when a polishing liquid that contains a small amount of abrasive grains is used, there is a possibility that the generation of scratches may further increase. Patent Document 9 mentions polyurethane in addition to non-elastic yarns, but ordinary polyurethane yarns have a low elongation modulus, high elongation and excessive elastic properties, making it difficult to control tension during weaving and weaving. . For this reason, a woven fabric or a knitted fabric cannot be stably obtained, and it is difficult to use it for polishing for the purpose of improving the flatness of the processed surface.

本発明は上記事案に鑑み、研磨液の保持性を確保しつつ目詰まりを抑制し被研磨物の平坦性向上を図ることができる研磨布を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a polishing cloth capable of suppressing clogging and improving the flatness of an object to be polished while ensuring retention of a polishing liquid.

上記課題を解決するために、本発明は、被研磨物を研磨加工するための研磨面を有する研磨層を備えた研磨布において、前記研磨層は弾性糸の織物シートまたは編物シートで形成されており、前記弾性糸は１．２倍伸長時の伸長モジュラスが０．０３ｃＮ／デシテックス〜０．５ｃＮ／デシテックスの範囲の少なくとも１本の単繊維で構成されたことを特徴とする。 In order to solve the above problems, the present invention provides a polishing cloth having a polishing layer having a polishing surface for polishing an object to be polished, wherein the polishing layer is formed of a woven or knitted sheet of elastic yarn. The elastic yarn is composed of at least one single fiber having an elongation modulus at the time of 1.2-fold elongation in a range of 0.03 cN / decitex to 0.5 cN / decitex.

本発明では、研磨層が弾性糸の織物シートまたは編物シートで形成されたため、研磨面に織組織または編組織による窪みが略均等に形成され弾性糸間に連続的な間隙が形成されることから、研磨加工時に研磨液の保持性を確保しつつ目詰まりを抑制することができ、弾性糸を構成する少なくとも１本の単繊維が１．２倍伸長時の伸長モジュラスが０．０３ｃＮ／デシテックス〜０．５ｃＮ／デシテックスの範囲のため、弾性糸の伸縮性が制限されることで研磨層の歪みが抑制されると共に、研磨層の弾性により被研磨物に対する押圧力が均等化されるので、被研磨物の平坦性向上を図ることができる。 In the present invention, since the abrasive layer is formed of a woven or knitted sheet of elastic yarns, the woven or knitted fabric dents are formed substantially evenly on the polished surface, and a continuous gap is formed between the elastic yarns. Further, it is possible to suppress clogging while ensuring the retention of the polishing liquid during the polishing process, and the elongation modulus when the at least one single fiber constituting the elastic yarn is stretched 1.2 times is 0.03 cN / dtex. The range of 0.5 cN / decitex restricts the stretchability of the elastic yarn, thereby suppressing distortion of the polishing layer and equalizing the pressing force against the object to be polished by the elasticity of the polishing layer. The flatness of the polished product can be improved.

この場合において、少なくとも１本の単繊維の繊度を５デシテックス〜５０デシテックスの範囲としてもよい。弾性糸を１本〜１２５本の単繊維で形成することができる。また、少なくとも１本の単繊維には、ポリウレタン重合体が含有されていることが好ましい。単繊維が、ポリウレタン重合体に対し、該ポリウレタン重合体の溶媒に可溶で、かつ、水に不溶のポリマが１０重量％〜７０重量％の割合で含有され形成されていてもよい。このとき、ポリマをアクリル樹脂系ポリマ、アクリロニトリル系ポリマおよびアセチルセルロースから選択される少なくとも１種とすることができる。また、織物シートまたは編物シートが弾性糸同士の重なり部分で融着されていてもよい。織物シートまたは編物シートが研磨面側ないし研磨面と反対の面側をバフ処理されていてもよい。また、織物シートまたは編物シートの研磨面と反対の面側に貼り合わされた基材を更に備えるようにしてもよい。 In this case, the fineness of at least one single fiber may be in the range of 5 dtex to 50 dtex. The elastic yarn can be formed of 1 to 125 single fibers. Moreover, it is preferable that at least one single fiber contains a polyurethane polymer. A single fiber may be formed by containing a polymer that is soluble in a solvent of the polyurethane polymer and insoluble in water in a proportion of 10% by weight to 70% by weight with respect to the polyurethane polymer. At this time, the polymer can be at least one selected from an acrylic resin polymer, an acrylonitrile polymer, and acetyl cellulose. Further, the woven sheet or the knitted sheet may be fused at the overlapping portion of the elastic yarns. The woven or knitted sheet may be buffed on the polishing surface side or the surface side opposite to the polishing surface. Moreover, you may make it further provide the base material bonded together on the surface opposite to the grinding | polishing surface of a textile sheet or a knitted sheet.

本発明によれば、研磨層が弾性糸の織物シートまたは編物シートで形成されたため、研磨面に織組織または編組織による窪みが略均等に形成され弾性糸間に連続的な間隙が形成されることから、研磨加工時に研磨液の保持性を確保しつつ目詰まりを抑制することができ、弾性糸を構成する少なくとも１本の単繊維が１．２倍伸長時の伸長モジュラスが０．０３ｃＮ／デシテックス〜０．５ｃＮ／デシテックスの範囲のため、弾性糸の伸縮性が制限されることで研磨層の歪みが抑制されると共に、研磨層の弾性により被研磨物に対する押圧力が均等化されるので、被研磨物の平坦性向上を図ることができる、という効果を得ることができる。 According to the present invention, since the polishing layer is formed of a woven or knitted sheet of elastic yarn, the woven structure or knitted structure is formed substantially uniformly on the polishing surface, and a continuous gap is formed between the elastic yarns. Therefore, it is possible to suppress clogging while ensuring the retention of the polishing liquid during the polishing process, and the elongation modulus when the at least one single fiber constituting the elastic yarn is expanded by 1.2 times is 0.03 cN / Since it is in the range of decitex to 0.5 cN / decitex, the elasticity of the elastic yarn is limited, so that the distortion of the polishing layer is suppressed, and the pressing force on the object to be polished is equalized by the elasticity of the polishing layer. Thus, the effect of improving the flatness of the object to be polished can be obtained.

以下、図面を参照して、本発明を適用した研磨布の実施の形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of a polishing cloth to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings.

（研磨布）
図１に示すように、本実施形態の研磨布１０は、被研磨物を研磨加工するための研磨面Ｐを有する研磨層としての織物シート２を備えている。織物シート２は、弾性糸で形成された１枚の織物であり、弾性糸間には間隙が形成されている。 (Polishing cloth)
As shown in FIG. 1, the polishing pad 10 of this embodiment includes a woven fabric sheet 2 as a polishing layer having a polishing surface P for polishing an object to be polished. The woven fabric sheet 2 is a single woven fabric formed of elastic yarns, and a gap is formed between the elastic yarns.

図２に示すように、織物シート２は、弾性糸７を用いた経糸７ａおよび緯糸７ｂが１本ずつ交互に交差した平織組織で形成されている。このため、研磨面Ｐ側、研磨面Ｐと反対の面側では、経糸７ａ、緯糸７ｂの交差によりそれぞれ略均等な凹凸が形成されている。隣り合う経糸７ａの間および隣り合う緯糸７ｂの間には間隙３が形成されている。間隙３は、経糸７ａおよび緯糸７ｂの交差により連続的に形成されている。経糸７ａと緯糸７ｂとが重なる部分では、弾性糸７同士が熱融着され融着部８が形成されている。なお、図２では、間隙３をわかりやすくするため、隣り合う経糸７ａの間隔、隣り合う緯糸７ｂの間隔をそれぞれ誇張して示している。 As shown in FIG. 2, the woven fabric sheet 2 is formed of a plain weave structure in which warp yarns 7a and weft yarns 7b using elastic yarns 7 are alternately crossed one by one. For this reason, on the polishing surface P side and the surface side opposite to the polishing surface P, substantially uniform irregularities are formed by the intersection of the warp yarns 7a and the weft yarns 7b. A gap 3 is formed between adjacent warps 7a and between adjacent wefts 7b. The gap 3 is continuously formed by the intersection of the warp 7a and the weft 7b. At the portion where the warp yarn 7a and the weft yarn 7b overlap, the elastic yarns 7 are heat-sealed to form a fused portion 8. In FIG. 2, for easy understanding of the gap 3, the interval between the adjacent warp yarns 7 a and the interval between the adjacent weft yarns 7 b are exaggerated.

弾性糸７は、ポリウレタン重合体を含有させた紡糸原液を紡糸することで形成されたモノフィラメント（単繊維）の１〜１２５本が束ねられ構成されている。このモノフィラメントは、繊度が５〜５０デシテックス（Ｄｔｅｘ）の範囲となるように紡糸されている。モノフィラメントの繊度や本数を変えることで、織物シート２の厚みを１００〜２０００μｍ程度に調整することができる。本例では、弾性糸７として、１５デシテックスのモノフィラメントが５本束ねられた、いわゆるマルチフィラメントが用いられている。 The elastic yarn 7 is configured by bundling 1 to 125 monofilaments (single fibers) formed by spinning a spinning solution containing a polyurethane polymer. This monofilament is spun so that the fineness is in the range of 5 to 50 dtex. By changing the fineness and number of monofilaments, the thickness of the fabric sheet 2 can be adjusted to about 100 to 2000 μm. In this example, a so-called multifilament in which five 15 decitex monofilaments are bundled is used as the elastic yarn 7.

モノフィラメントには、ポリウレタン重合体の溶媒に可溶で、水に不溶のポリマが配合されている。このポリマとしては、アクリル樹脂系ポリマ、アクリロニトリル系ポリマおよびアセチルセルロースから選択される少なくとも１種が用いられる。ポリマの配合量は、ポリウレタン重合体に対し１０〜７０重量％の範囲に設定されている。ポリマの配合量が１０重量％に満たないと、モノフィラメントの伸長モジュラスが小さくなりすぎ、高伸長で過度の弾性特性を示すため、製編織時のテンションコントロールが難しくなりやすく、安定した製編織性が得られなくなる。反対に、配合量が７０重量％を超えると、弾性特性が低下し、伸長モジュラスが大きくなりすぎるため、研磨傷の発生を抑制できなくなる。伸長モジュラスや生産上の観点を考慮すれば、ポリマの配合量を３０〜５０重量％の範囲とすることが好ましい。 The monofilament is blended with a polymer that is soluble in the solvent of the polyurethane polymer and insoluble in water. As this polymer, at least one selected from an acrylic resin polymer, an acrylonitrile polymer, and acetyl cellulose is used. The blending amount of the polymer is set in the range of 10 to 70% by weight with respect to the polyurethane polymer. If the blending amount of the polymer is less than 10% by weight, the elongation modulus of the monofilament becomes too small, and the elastic property is excessively high at high elongation. Therefore, it is difficult to control the tension during weaving, and stable weaving property is achieved. It can no longer be obtained. On the other hand, when the blending amount exceeds 70% by weight, the elastic characteristics are lowered and the elongation modulus becomes too large, so that the generation of polishing scratches cannot be suppressed. Considering the elongation modulus and production viewpoint, the blending amount of the polymer is preferably in the range of 30 to 50% by weight.

アクリル樹脂系ポリマとしては、アクリル酸系モノマの単独重合体やアクリル酸系モノマとアクリルアミド等の不飽和モノマとの共重合体を用いることができる。アクリル酸系モノマとしては、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸、メタクリル酸のほか、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル類、クロトン酸等の一塩基酸類、フマール酸、マレイン酸、イソフタル酸等の二塩基酸類、および、これらの部分エステルを挙げることができる。また、アクリルアミド以外の不飽和モノマとしては、例えば、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン等を挙げることができる。 As the acrylic resin polymer, a homopolymer of an acrylic acid monomer or a copolymer of an acrylic monomer and an unsaturated monomer such as acrylamide can be used. The acrylic acid monomer is not particularly limited. For example, in addition to acrylic acid and methacrylic acid, acrylic acid esters such as methyl acrylate and ethyl acrylate, and methacrylic acid such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate. Examples thereof include acid esters, monobasic acids such as crotonic acid, dibasic acids such as fumaric acid, maleic acid and isophthalic acid, and partial esters thereof. Examples of unsaturated monomers other than acrylamide include N-methylolacrylamide, styrene, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, and the like.

アクリロニトリル系ポリマとしては、アクリロニトリルの単独重合体やアクリロニトリルを主成分とする共重合体を用いることができる。アクリロニトリルと共重合させる成分としては、通常のアクリル繊維を構成する共重合モノマを用いることができる。このような共重合モノマとして、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル類、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン等の不飽和モノマを挙げることができる。 As the acrylonitrile-based polymer, a homopolymer of acrylonitrile or a copolymer containing acrylonitrile as a main component can be used. As a component to be copolymerized with acrylonitrile, a copolymerized monomer constituting a normal acrylic fiber can be used. Examples of such copolymer monomers include acrylic acid esters such as methyl acrylate and ethyl acrylate, methacrylic acid esters such as methyl methacrylate and ethyl methacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, acrylamide, N -Unsaturated monomers such as methylolacrylamide, styrene, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride.

アセチルセルロースとしては、例えば、α−セルロース含有量が９０〜９７％の木材パルプやリンターパルプを、硫酸触媒法、メチレンクロライド法、酢酸法等の一般的な方法で処理して得られるものであれば特に制限されるものではない。上述したように、ポリウレタン重合体の溶媒に対する溶解性を考慮すれば、酢化度（アセチル化度）３０〜６２．５％、重合度２００〜４００のジアセチルセルロースないしトリアセチルセルロースを用いることが好ましく、酢化度４５〜６２、重合度２００〜３５０のアセチルセルロースを用いることがより好ましい。本例では、ポリウレタン重合体に配合するポリマとして、α−セルロース含有量が９０〜９７％の木材パルプを酢酸法で処理して得られたアセチルセルロースで、酢化度５０％、重合度３００のジアセチルセルロースないしトリアセチルセルロースが用いられている。このアセチルセルロースがポリウレタン重合体に対し３０重量％の割合で配合されている。 Examples of acetyl cellulose include those obtained by treating wood pulp or linter pulp having an α-cellulose content of 90 to 97% by a general method such as a sulfuric acid catalyst method, a methylene chloride method, or an acetic acid method. There is no particular limitation. As described above, considering the solubility of the polyurethane polymer in the solvent, it is preferable to use diacetyl cellulose or triacetyl cellulose having an acetylation degree (acetylation degree) of 30 to 62.5% and a polymerization degree of 200 to 400. It is more preferable to use acetylcellulose having an acetylation degree of 45 to 62 and a polymerization degree of 200 to 350. In this example, the polymer blended in the polyurethane polymer is acetyl cellulose obtained by treating wood pulp having an α-cellulose content of 90 to 97% by the acetic acid method, having an acetylation degree of 50% and a polymerization degree of 300. Diacetyl cellulose or triacetyl cellulose is used. This acetyl cellulose is blended in a proportion of 30% by weight with respect to the polyurethane polymer.

ポリウレタン重合体とアセチルセルロースとを含有したモノフィラメントは、１．２倍の長さに伸長したときの伸長モジュラスが０．０３〜０．５ｃＮ（センチニュートン）／Ｄｔｅｘの範囲となるように調整されている。伸長モジュラスは、ポリウレタン重合体の濃度やアセチルセルロースの配合量を変えることで、調整することができる。 The monofilament containing the polyurethane polymer and acetylcellulose is adjusted so that the elongation modulus when stretched to 1.2 times the length is in the range of 0.03 to 0.5 cN (centinewton) / Dtex. Yes. The elongation modulus can be adjusted by changing the concentration of the polyurethane polymer and the blending amount of acetyl cellulose.

図１に示すように、織物シート２の研磨面Ｐと反対の面側には、研磨機に研磨布１０を装着するための両面テープ５が貼り合わされている。両面テープ５は、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略記する。）製フィルム等の基材５ａの両面に接着剤が塗着され接着剤層（不図示）が形成されている。織物シート２の研磨面Ｐと反対の面側に形成された凹凸を平坦化し、両面テープ５との接着面積を大きくするため、織物シート２の研磨面Ｐと反対の面側にバフ処理が施されている。両面テープ５は、一面側の接着剤層で織物シート２と貼り合わされ、他面側の接着剤層が剥離紙５ｂで覆われている。 As shown in FIG. 1, a double-sided tape 5 for attaching a polishing cloth 10 to a polishing machine is bonded to the surface of the fabric sheet 2 opposite to the polishing surface P. The double-sided tape 5 has an adhesive layer (not shown) formed by applying an adhesive to both surfaces of a base material 5a such as a polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) film. In order to flatten the unevenness formed on the surface opposite to the polishing surface P of the fabric sheet 2 and increase the adhesion area with the double-sided tape 5, a buff treatment is applied to the surface opposite to the polishing surface P of the fabric sheet 2. Has been. The double-sided tape 5 is bonded to the fabric sheet 2 with an adhesive layer on one side, and the adhesive layer on the other side is covered with a release paper 5b.

（研磨布の製造）
研磨布１０は、ポリウレタン重合体とアセチルセルロースとを含有させた紡糸原液を紡糸し、マルチフィラメントの弾性糸７を得る紡糸工程、弾性糸７で織物シート２を形成する織成工程、織物シート２の研磨面Ｐと反対の面側にバフ処理を施すバフ処理工程、織物シート２と両面テープ５とを貼り合わせるラミネート工程、を経て製造される。以下、工程順に説明する。 (Manufacture of polishing cloth)
The polishing cloth 10 is a spinning process in which a spinning stock solution containing a polyurethane polymer and acetyl cellulose is spun to obtain a multifilament elastic yarn 7, a weaving process in which the fabric sheet 2 is formed from the elastic yarn 7, and the fabric sheet 2 It is manufactured through a buffing process in which a surface opposite to the polishing surface P is buffed, and a laminating process in which the fabric sheet 2 and the double-sided tape 5 are bonded together. Hereinafter, it demonstrates in order of a process.

（紡糸工程）
紡糸工程では、ポリウレタン重合体とアセチルセルロースとを含有させた紡糸原液を調製した後、紡糸ノズルから高温雰囲気中に吐出してモノフィラメントを乾式紡糸し、マルチフィラメントの弾性糸７を作製する。紡糸原液は、有機ジイソシアネート化合物とジオール化合物とを反応させたイソシアネート基末端プレポリマ（以下、単に、プレポリマという。）に、鎖伸長剤および末端停止剤を有機溶媒中で反応させて調製したポリウレタン重合体溶液と、同じ有機溶媒を用いて調製したアセチルセルロース溶液と、を混合し調製する。 (Spinning process)
In the spinning step, a spinning stock solution containing a polyurethane polymer and acetylcellulose is prepared, and then the monofilament is dry-spun by discharging it from a spinning nozzle into a high-temperature atmosphere to produce a multifilament elastic yarn 7. The spinning dope is a polyurethane polymer prepared by reacting an isocyanate group-terminated prepolymer (hereinafter simply referred to as prepolymer) obtained by reacting an organic diisocyanate compound and a diol compound in an organic solvent. A solution is mixed with an acetylcellulose solution prepared using the same organic solvent.

プレポリマの製造に用いられるジオール化合物としては、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシペンタメチレングリコール、ポリオキシヘキサメチレングリコール、ポリオキシプロピレンテトラメチレングリコール等のポリエーテルジオールと、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸等のジカルボン酸の１種または２種以上との反応で生成されるポリエステルジオール化合物、ポリエーテルポリエステルジオール化合物、ポリラクトンジオール化合物、ポリカーボネートジオール化合物、ポリエステルポリカーボネートジオール化合物等の高分子ジオール化合物から選ばれる１種または２種以上を挙げることができる。用いるジオール化合物は、数平均分子量が１０００〜２５００の範囲であればよい。また、ジオール化合物にエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール等の低分子ジオール化合物やブタノール、ヘキサノール等のモノオール化合物を少量添加、混合してもよいが、上述した高分子ジオール化合物の割合が８０重量％に満たないと、鎖伸長反応が十分に進行しないため、好ましくない。本例では、ポリエーテルジオール化合物の中から、数平均分子量が２０００のポリオキシテトラメチレングリコールが用いられる。 Examples of the diol compound used in the production of the prepolymer include polyether diols such as polyoxyethylene glycol, polyoxypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyoxypentamethylene glycol, polyoxyhexamethylene glycol, and polyoxypropylene tetramethylene glycol. Polyester diol compound, polyether polyester diol compound, polylactone diol compound, polycarbonate diol compound, polyester polycarbonate diol produced by a reaction of one or more dicarboxylic acids such as adipic acid, sebacic acid and maleic acid One type or two or more types selected from polymer diol compounds such as compounds can be mentioned. The diol compound to be used may have a number average molecular weight in the range of 1000 to 2500. In addition, diol compounds include low molecular diol compounds such as ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butanediol, and 2,3-butanediol, and monool compounds such as butanol and hexanol. May be added and mixed in a small amount, but if the proportion of the above-mentioned polymer diol compound is less than 80% by weight, the chain extension reaction does not proceed sufficiently, which is not preferable. In this example, polyoxytetramethylene glycol having a number average molecular weight of 2000 is used among the polyether diol compounds.

また、プレポリマの製造に用いられる有機ジイソシアネート化合物としては、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の１種または２種以上の組み合わせを挙げることができる。本例では、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートが用いられる。 Moreover, as an organic diisocyanate compound used for manufacture of a prepolymer, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 3,3'-dichloro-4,4'-diphenylmethane diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate , 2,6-tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, or a combination of two or more. In this example, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate is used.

プレポリマの製造では、ジオール化合物と有機ジイソシアネート化合物とを、夫々が固化しない温度にて混合し、９０℃以下の温度環境下で３０〜１２０分間反応を行い、末端に２個のイソシアネート基を有するプレポリマを得る。このとき、ジオール化合物に対する有機ジイソシアネート化合物の量は、１１０〜２１０モル％の範囲、好ましくは１５０〜１９０モル％の範囲に調整する。ジオール化合物に対する有機ジイソシアネート化合物の量が１１０モル％に満たないと、得られるポリウレタンモノフィラメントの強度が不十分となり、紡糸工程で糸切れを起こしやすいので好ましくなく、反対に、２１０モル％を超えると、プレポリマ中に未反応の有機ジイソシアネート化合物が多く残留するため、鎖伸長反応を行っても得られるポリウレタン重合体中に占める低分子鎖ポリウレタンの割合が多くなり好ましくない。 In the production of a prepolymer, a diol compound and an organic diisocyanate compound are mixed at a temperature at which they do not solidify, and reacted at a temperature environment of 90 ° C. or lower for 30 to 120 minutes to have a prepolymer having two isocyanate groups at the ends. Get. At this time, the amount of the organic diisocyanate compound relative to the diol compound is adjusted to a range of 110 to 210 mol%, preferably 150 to 190 mol%. If the amount of the organic diisocyanate compound relative to the diol compound is less than 110 mol%, the resulting polyurethane monofilament has insufficient strength, and is not preferred because yarn breakage tends to occur in the spinning process. Conversely, if it exceeds 210 mol%, Since a large amount of unreacted organic diisocyanate compound remains in the prepolymer, the proportion of the low molecular chain polyurethane in the polyurethane polymer obtained even when the chain extension reaction is carried out is not preferable.

得られたプレポリマに、イソシアネート基と反応しうる活性水素基を２個以上有する鎖伸長剤、および、イソシアネート基と反応しうる活性水素基を１個有する末端停止剤を有機溶媒中で重合反応させて、ポリウレタン重合体溶液を調製する。重合方法としては、特に制限されるものではないが、例えば、バッチ式重合法や紡糸ノズルに直結して連続的に供給する連続重合法も採用できる。重合時間としては、重合反応が終了する時間であればよく、例えば、バッチ式重合法では、通常３０〜９０分間反応させればよい。重合温度は、０〜７０℃の範囲で行うことが好ましい。重合温度が低すぎると重合に長時間を要し効率が悪くなり、反対に、高すぎると副反応が促進されるため好ましくない。 The resulting prepolymer is polymerized in an organic solvent with a chain extender having two or more active hydrogen groups capable of reacting with isocyanate groups and a terminal terminator having one active hydrogen group capable of reacting with isocyanate groups. To prepare a polyurethane polymer solution. The polymerization method is not particularly limited, and for example, a batch polymerization method or a continuous polymerization method that is directly connected to a spinning nozzle and continuously supplied can also be employed. The polymerization time may be a time at which the polymerization reaction is completed. For example, in the batch polymerization method, the reaction may be usually performed for 30 to 90 minutes. The polymerization temperature is preferably performed in the range of 0 to 70 ° C. If the polymerization temperature is too low, the polymerization takes a long time and the efficiency is deteriorated. On the contrary, if the polymerization temperature is too high, side reactions are promoted, which is not preferable.

重合反応に用いられる鎖伸長剤としては、エチレンジアミン、１，２−プロピレンジアミン、１，３−プロピレンジアミン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、４，４’−ジフェニルメタンジアミン、シクロヘキシレンジアミン、２，４−トリレンジアミン、２，６−トリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヒドラジン、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール等の１種または２種以上の組み合わせを挙げることができる。また、末端停止剤としては、ジメチルアミン、メチルエチルアミン、ジエチルアミン、メチル−ｎ−プロピルアミン、メチルイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン等を挙げることができる。本例では、鎖伸長剤としてエチレンジアミン、末端停止剤としてジエチルアミンがそれぞれ用いられる。 Examples of chain extenders used in the polymerization reaction include ethylenediamine, 1,2-propylenediamine, 1,3-propylenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 4,4′-diphenylmethanediamine, and cyclohexylenediamine. , 2,4-tolylenediamine, 2,6-tolylenediamine, hexamethylenediamine, hydrazine, ethylene glycol, 1,4-butanediol, and the like. Examples of the end terminator include dimethylamine, methylethylamine, diethylamine, methyl-n-propylamine, methylisopropylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, di-n-hexylamine, and dicyclohexylamine. it can. In this example, ethylenediamine is used as a chain extender and diethylamine is used as a terminal terminator.

ポリウレタン重合体溶液の調製に用いられる有機溶媒は、上述したプレポリマ、鎖伸長剤、末端停止剤および反応生成物であるポリウレタン重合体を溶解することができ、通常用いられる条件下で各物質および反応生成物に対して不活性な極性溶媒であれば特に限定されるものではない。このような有機溶媒として、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等を挙げることができる。本例では、有機溶媒としてＤＭＡｃが用いられる。 The organic solvent used for the preparation of the polyurethane polymer solution can dissolve the above-mentioned prepolymer, chain extender, end terminator and reaction product polyurethane polymer. Any polar solvent that is inert to the product is not particularly limited. Examples of such an organic solvent include N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc), dimethyl sulfoxide (DMSO), N-methylpyrrolidone (NMP), and the like. In this example, DMAc is used as the organic solvent.

一方、ポリウレタン重合体溶液と混合するアセチルセルロース溶液は、アセチルセルロースをＤＭＦに溶解させ調製する。本例で用いたアセチルセルロースは、酢化度５０％、重合度３００のため、ポリウレタン重合体溶液の調製に用いた有機溶媒のＤＭＦに可溶で、かつ、水に不溶である。アセチルセルロース溶液の濃度は、ポリウレタン重合体溶液に十分に混合できる範囲で、モノフィラメントとして紡出可能な範囲であれば特に制限されるものではないが、概ね１５〜４０重量％の濃度とすることが好ましい。アセチルセルロースの配合量は、ポリウレタン重合体に対し、１０〜７０重量％となるように調整する。 On the other hand, the acetylcellulose solution to be mixed with the polyurethane polymer solution is prepared by dissolving acetylcellulose in DMF. The acetylcellulose used in this example has an acetylation degree of 50% and a polymerization degree of 300, so that it is soluble in the organic solvent DMF used for the preparation of the polyurethane polymer solution and insoluble in water. The concentration of the acetylcellulose solution is not particularly limited as long as it can be sufficiently mixed with the polyurethane polymer solution and can be spun as a monofilament, but may be approximately 15 to 40% by weight. preferable. The compounding quantity of acetylcellulose is adjusted so that it may become 10 to 70 weight% with respect to a polyurethane polymer.

得られたポリウレタン重合体溶液とアセチルセルロース溶液とを略均一に混合攪拌して紡糸原液を調製する。混合するタイミングとしては、ポリウレタン重合体の重合反応が終了した時点以降であればよい。混合時の攪拌方法は特に制限されるものではなく、一般的な攪拌装置を用いることができる。なお、紡糸原液中に必要に応じてポリウレタン系の弾性糸の製造に通常用いられる、艶消剤、耐光剤、紫外線吸収剤、ガス変色防止剤等を添加混合させてもよい。 The obtained polyurethane polymer solution and acetylcellulose solution are mixed and stirred substantially uniformly to prepare a spinning dope. The mixing timing may be after the point when the polymerization reaction of the polyurethane polymer is completed. The stirring method during mixing is not particularly limited, and a general stirring device can be used. In addition, a matting agent, a light-resistant agent, an ultraviolet absorber, a gas discoloration preventing agent, etc., which are usually used in the production of polyurethane-based elastic yarns may be added and mixed in the spinning dope as necessary.

調製した紡糸原液を、紡糸ノズルから高温雰囲気中に吐出してポリウレタンモノフィラメントを乾式紡糸する。このときの紡糸条件としては、特に制限されるものではなく、通常用いられる条件であればよい。紡糸ノズルの孔径や紡糸原液の吐出速度と巻取速度、高温雰囲気中の溶媒濃度や温度によりモノフィラメントの繊度を調整することができ、紡糸ノズルの孔数により所望の本数のマルチフィラメントを得ることができる。本例では、１５デシテックスのモノフィラメントが得られるように紡糸ノズルの孔径が設定されており、孔数が５個に設定されている。すなわち、５本のモノフィラメントが引き揃えられて紡糸されることで、マルチフィラメントの弾性糸７が得られる。得られた弾性糸７は仮撚りしながら糸管に巻き取られ巻糸体とされる。 The prepared spinning dope is discharged from a spinning nozzle into a high temperature atmosphere to dry-spin the polyurethane monofilament. The spinning conditions at this time are not particularly limited, and may be those usually used. The fineness of the monofilament can be adjusted by the hole diameter of the spinning nozzle, the discharge speed and winding speed of the spinning dope, the solvent concentration and temperature in the high temperature atmosphere, and the desired number of multifilaments can be obtained by the number of holes in the spinning nozzle. it can. In this example, the hole diameter of the spinning nozzle is set so that a 15 dtex monofilament is obtained, and the number of holes is set to five. That is, the multi-filament elastic yarn 7 is obtained by drawing and spinning the five monofilaments. The obtained elastic yarn 7 is wound around a yarn tube while false twisting to form a wound body.

（織成工程）
織成工程では、紡糸工程で得られた弾性糸７を経糸７ａおよび緯糸７ｂとし、平織組織の織物シート２を形成する。 (Weaving process)
In the weaving step, the elastic yarn 7 obtained in the spinning step is used as the warp yarn 7a and the weft yarn 7b to form the woven fabric sheet 2 having a plain weave structure.

織物シート２の形成では、織物の作製（織成）に用いられる一般的な織機、例えば、シャトル織機、エアジェット織機、ウォータージェット織機、レピア織機等を用いることができる。一般に、ポリウレタン等の弾性糸では、伸縮性を有するため、織成することが難しい。すなわち、シャトル織機では弾性糸を緯糸として打ち込む際に弾性糸が伸びきってしまい打ち込みができなくなり、エアジェット織機やウォータージェット織機では緯糸を入れるときに切断が生じ、レピア織機では緯糸の受け渡しが不安定となる。従来弾性糸の織成では、弾性糸をポリエステル糸やナイロン糸等の非弾性糸でカバリングしたカバリング糸とし、弾性糸の伸縮性を安定的に維持、制限した状態で織成されている。 In the formation of the woven sheet 2, a general loom used for production (weaving) of a woven fabric, for example, a shuttle loom, an air jet loom, a water jet loom, a rapier loom, or the like can be used. Generally, elastic yarns such as polyurethane are difficult to weave because they have stretchability. In other words, the shuttle loom stretches when the elastic yarn is driven as a weft, and the elastic yarn stretches and cannot be driven.In the air jet loom or the water jet loom, the weft is cut, and the rapier loom does not deliver the weft. It becomes stable. Conventionally, in the weaving of elastic yarns, the elastic yarns are covered yarns covered with non-elastic yarns such as polyester yarns and nylon yarns, and the elastic yarns are woven in a state where the stretchability of the elastic yarns is stably maintained and limited.

上述した紡糸工程で得られた弾性糸７では、モノフィラメントの伸長モジュラスが０．０３〜０．５ｃＮ／Ｄｔｅｘの範囲となるように調整されている。このため、ポリウレタン弾性糸７の伸縮性が制限されることから、カバリング糸とすることなく織成することができる。すなわち、弾性糸７の巻糸体から、通常のビーム成経で経糸７ａを準備し、緯糸７ｂを準備した後、織機を用いて織成する。織成した織物シート２を、ホットプレートで熱プレスすることや、対向配置された熱ローラ間を通過させることで、経糸７ａおよび緯糸７ｂの交差する部分を熱融着させ融着部８を形成する。このとき、ホットプレートや熱ローラの温度は、弾性糸７が加熱により粘着性を発現する温度（粘着温度）より高く、融点より少なくとも１０℃程度低い温度に設定する。温度が弾性糸７の粘着温度を下回ると十分な融着ができず融着部８が形成されないこととなる。反対に、融点に近すぎると、融着部８が大きくなりすぎて間隙３を狭めることとなり、フィラメント切れを起こしてしまうため、好ましくない。得られた平織組織の織物シート２は、ロール状に巻き取られる。 In the elastic yarn 7 obtained by the spinning process described above, the elongation modulus of the monofilament is adjusted to be in the range of 0.03 to 0.5 cN / Dtex. For this reason, since the stretchability of the polyurethane elastic yarn 7 is limited, it can be woven without using a covering yarn. That is, from the wound body of the elastic yarn 7, the warp yarn 7a is prepared by normal beam warp, the weft yarn 7b is prepared, and then woven using a loom. The woven fabric sheet 2 is hot-pressed with a hot plate or passed between heat rollers arranged opposite to each other so that the intersecting portions of the warp yarns 7a and the weft yarns 7b are thermally fused to form the fused portion 8. . At this time, the temperature of the hot plate or the heat roller is set to a temperature that is higher than the temperature (adhesion temperature) at which the elastic yarn 7 exhibits adhesiveness by heating and at least about 10 ° C. lower than the melting point. If the temperature is lower than the adhesion temperature of the elastic yarn 7, sufficient fusion cannot be performed and the fused portion 8 will not be formed. On the other hand, if the temperature is too close to the melting point, the fused portion 8 becomes too large and the gap 3 is narrowed, which causes the filament to break. The obtained plain woven fabric sheet 2 is wound into a roll.

（バフ処理工程）
バフ処理工程では、織成工程で得られた織物シート２の研磨面Ｐと反対の面側にバフ処理が施される。織物シート２では、経糸７ａおよび緯糸７ｂの交差により、研磨面Ｐと反対の面側に凹凸が形成されている。このため、後述するラミネート工程で両面テープ５との接着強度が若干低下する可能性がある。研磨面Ｐと反対の面側にバフ処理を施すことで、両面テープ５との接着面積を増大させ、接着強度を確保することができる。織物シート２をバフ処理するときは、織成工程でロール状に巻き取られた織物シート２を引き出し、研磨面Ｐ側に、表面平坦性を有する圧接ローラ等の表面を圧接させ、研磨面Ｐと反対の面側にバフローラでバフ処理を施す。バフ処理された織物シート２は、再度ロール状に巻き取られる。 (Buffing process)
In the buffing process, the buffing process is performed on the surface side opposite to the polishing surface P of the woven fabric sheet 2 obtained in the weaving process. In the woven fabric sheet 2, irregularities are formed on the surface side opposite to the polishing surface P by the intersection of the warp yarns 7 a and the weft yarns 7 b. For this reason, the adhesive strength with the double-sided tape 5 may be slightly lowered in the laminating process described later. By buffing the surface opposite to the polishing surface P, the adhesive area with the double-sided tape 5 can be increased, and the adhesive strength can be ensured. When buffing the woven sheet 2, the woven sheet 2 wound up in a roll shape in the weaving process is pulled out, and the surface of the pressure roller or the like having surface flatness is brought into pressure contact with the polishing surface P side. Buffing is performed on the opposite surface side with a buffalo. The buffed fabric sheet 2 is wound up into a roll again.

（ラミネート工程）
ラミネート工程では、バフ処理された織物シート２の研磨面Ｐと反対の面（バフ処理された面）側に、両面テープ５の一面側の接着剤層が貼り合わされる。このとき、両面テープ５の他面側には剥離紙５ｂが残されている。その後、円形等の所望の形状、サイズに裁断した後、汚れや異物等の付着がないことを確認する等の検査を行い、研磨布１０を完成させる。 (Lamination process)
In the laminating step, the adhesive layer on one side of the double-sided tape 5 is bonded to the surface (the surface subjected to buffing) opposite to the polishing surface P of the buffed fabric sheet 2. At this time, the release paper 5b is left on the other side of the double-sided tape 5. Thereafter, after cutting into a desired shape and size such as a circle, an inspection such as confirming that there is no adhesion of dirt or foreign matter is performed, and the polishing pad 10 is completed.

被研磨物の研磨加工を行うときは、研磨機の研磨定盤に研磨布１０を装着する。研磨定盤に研磨布１０を装着するときは、両面テープ５の剥離紙５ｂを取り除き、露出した接着剤層で研磨定盤に接着固定する。研磨定盤と対向するように配置された保持定盤に保持させた被研磨物を研磨面Ｐ側へ押圧すると共に、外部からスラリ（研磨粒子を含む研磨液）を供給しながら研磨定盤ないし保持定盤を回転させることで、被研磨物の加工面が研磨加工される。 When polishing an object to be polished, the polishing cloth 10 is attached to the polishing surface plate of the polishing machine. When the polishing cloth 10 is attached to the polishing surface plate, the release paper 5b of the double-sided tape 5 is removed, and the adhesive surface is adhered and fixed to the polishing surface plate with the exposed adhesive layer. While pressing an object to be polished held on a holding surface plate disposed so as to face the polishing surface plate toward the polishing surface P side, while supplying slurry (polishing liquid containing abrasive particles) from the outside, the polishing surface plate or The processed surface of the workpiece is polished by rotating the holding surface plate.

（作用等）
次に、本実施形態の研磨布１０の作用等について説明する。 (Action etc.)
Next, the operation and the like of the polishing pad 10 of this embodiment will be described.

本実施形態では、織物シート２を用いたため、研磨面Ｐに平織組織による凹凸が略均等に形成される。このため、窪み部分が略均等に形成されるので、研磨加工時に供給される研磨液の保持性を確保することができる。この織物シート２では、弾性糸７同士の間に間隙３が連続的に形成される。また、弾性糸７として、５本のモノフィラメントが束ねられたマルチフィラメントが用いられているため、モノフィラメント間にも連続的な間隙が形成される。間隙３やモノフィラメント間に形成された間隙を通じて研磨液や研磨加工に伴い生成する研磨屑が移動するので、研磨面Ｐの窪み部分の目詰まりを抑制することができる。従って、被研磨物を略均等に研磨加工することができ、被研磨物の加工面の平坦性を向上させることができる。更に、研磨面Ｐに凹凸が形成され、モノフィラメント間に間隙が形成されることから、被研磨物を擦る効果（ワイピング効果）を発揮するため、研磨粒子を使用せずに化学的に研磨加工することも可能である。 In this embodiment, since the woven fabric sheet 2 is used, the unevenness | corrugation by a plain weave structure | tissue is formed in the grinding | polishing surface P substantially equally. For this reason, since a hollow part is formed substantially equally, the retainability of the polishing liquid supplied at the time of a grinding | polishing process can be ensured. In the fabric sheet 2, the gap 3 is continuously formed between the elastic yarns 7. Further, since a multifilament in which five monofilaments are bundled is used as the elastic yarn 7, a continuous gap is also formed between the monofilaments. Since the polishing liquid and the polishing waste generated with the polishing process move through the gap 3 and the gap formed between the monofilaments, clogging of the recessed portion of the polishing surface P can be suppressed. Therefore, the workpiece can be polished substantially evenly, and the flatness of the processed surface of the workpiece can be improved. Furthermore, since the unevenness is formed on the polishing surface P and a gap is formed between the monofilaments, chemical polishing is performed without using abrasive particles in order to exert an effect of rubbing the object to be polished (wiping effect). It is also possible.

また、本実施形態では、研磨面Ｐに形成される窪み部分が織物シート２の平織組織によるため、窪み部分の大きさが略均一となる。従来研磨層に用いられる発泡構造のポリウレタンシートでは、発泡の大きさにバラツキが生じる可能性があるのに対して、織物シート２では窪み部分の大きさが均一化されている。また、織物シート２では、従来発泡構造を形成するためにポリウレタンシートに含有される中空微粒子等を用いていないため、研磨加工に対して異物となる成分が含まれていない。発泡の大きさにバラツキが生じると、研磨粒子や研磨屑で目詰まりし被研磨物に研磨傷（スクラッチ）を生じさせ、異物となる成分が含まれると、予期せぬ研磨不良を招くこととなる。従って、織物シート２を用いた研磨布１０では、窪み部分の大きさが均一化され、異物となる成分が含まれていないため、予期せぬ研磨不良を招くことなく安定した研磨加工を行うことができる。 Moreover, in this embodiment, since the hollow part formed in the grinding | polishing surface P is based on the plain weave structure | tissue of the woven fabric sheet 2, the magnitude | size of a hollow part becomes substantially uniform. In the polyurethane sheet having a foam structure conventionally used for the polishing layer, the size of the foam may vary, whereas in the woven sheet 2, the size of the recessed portion is made uniform. In addition, since the fabric sheet 2 does not use hollow fine particles or the like contained in the polyurethane sheet in order to form a conventional foamed structure, it does not contain a component that becomes a foreign substance with respect to the polishing process. If there is variation in the size of the foam, it will be clogged with abrasive particles and polishing debris, causing scratches on the object to be polished (scratches), and if it contains foreign substances, it may lead to unexpected polishing defects. Become. Therefore, in the polishing cloth 10 using the woven fabric sheet 2, since the size of the recessed portion is made uniform and does not include a component that becomes a foreign substance, stable polishing is performed without causing unexpected polishing failure. Can do.

更に、本実施形態では、弾性糸７を形成するモノフィラメントが１．２倍伸長時の伸長モジュラスが０．０３〜０．５ｃＮ／Ｄｔｅｘの範囲となるように調整されている。伸長モジュラスが０．０３ｃＮ／Ｄｔｅｘに満たないと、弾性糸７が軟らくなりすぎるため、被研磨物の平坦性を低下させやすくなる。反対に、伸長モジュラスが０．５ｃＮ／Ｄｔｅｘを超えると、弾性糸７が硬くなりすぎ、研磨加工時にモノフィラメントの切断が生じてしまうため、被研磨物に研磨傷が生じやすくなる。伸長モジュラスを上述した範囲とすることで、弾性糸７の伸縮性を適度に制限し、研磨加工時の織物シート２の歪みを抑制することができる。さらには、織物シート２では、融着部８が形成されているため、間隙３の大きさを確保することができる。また、織物シート２が弾性糸７による弾性を発揮するため、研磨加工時に被研磨物に対する押圧力を均等化することができる。従って、織物シート２の間隙３で研磨液を保持しつつ、略均等な押圧力で研磨加工を行うことができ、被研磨物の平坦性向上を図ることができる。 Further, in the present embodiment, the monofilament forming the elastic yarn 7 is adjusted so that the elongation modulus at the time of 1.2-fold elongation is in the range of 0.03 to 0.5 cN / Dtex. If the elongation modulus is less than 0.03 cN / Dtex, the elastic yarn 7 becomes too soft, and the flatness of the object to be polished is easily lowered. On the other hand, if the elongation modulus exceeds 0.5 cN / Dtex, the elastic yarn 7 becomes too hard, and the monofilament is cut during the polishing process, so that polishing scratches are easily generated on the object to be polished. By setting the elongation modulus within the above-described range, the stretchability of the elastic yarn 7 can be appropriately limited, and distortion of the woven fabric sheet 2 during polishing can be suppressed. Furthermore, since the fusion sheet 8 is formed in the fabric sheet 2, the size of the gap 3 can be ensured. Further, since the fabric sheet 2 exhibits elasticity by the elastic yarn 7, the pressing force against the object to be polished can be equalized during the polishing process. Accordingly, the polishing process can be performed with a substantially uniform pressing force while holding the polishing liquid in the gap 3 of the fabric sheet 2, and the flatness of the workpiece can be improved.

また更に、本実施形態では、弾性糸７を構成するモノフィラメントにポリウレタン重合体とアセチルセルロースとが含有されている。このため、モノフィラメントの伸長モジュラスを上述した範囲に調整することができる。これにより、弾性糸７の伸縮性が制限されるため、織物シート２の織成時に一般的な織機を用いることができる。従来弾性糸の織成では、弾性糸を非弾性糸でカバリングしたカバリング糸が用いられるのに対して、弾性糸７では、カバリング糸とすることなくそのまま織成することができる。従って、製造工程を簡略化することができ、低コスト化を図ることができる。 Furthermore, in the present embodiment, the monofilament constituting the elastic yarn 7 contains a polyurethane polymer and acetyl cellulose. For this reason, the elongation modulus of the monofilament can be adjusted to the above-described range. Thereby, since the stretchability of the elastic yarn 7 is limited, a general loom can be used when the fabric sheet 2 is woven. Conventionally, in the weaving of elastic yarns, a covering yarn obtained by covering an elastic yarn with an inelastic yarn is used, whereas the elastic yarn 7 can be woven without being made a covering yarn. Therefore, the manufacturing process can be simplified and the cost can be reduced.

なお、本実施形態では、平織組織の織物シート２を例示したが本発明はこれに限定されるものではない。例えば、織物シートの組織としては、斜紋織や繻子織としてもよく、変化組織とすることも可能である。また、織物シートに代えて編物シートとしてもよい。この場合、例えば、図３に示すように、編物シート１２は、弾性糸７に用いたモノフィラメントで構成した弾性糸１７を平編み（天竺編み）した平編組織で形成することができる。弾性糸１７が重なる部分に融着部１８が形成されており、弾性糸１７同士の間には間隙１３が形成されている。また、平編組織に代えて、ゴム編（フライス）組織、パール編組織とすることもできる。更に、織物シート２の織り密度や編物シート１２の編み密度については、特に制限されるものではなく、被研磨物の特性や研磨精度等を考慮して間隙３、１３の大きさを適度に設定できるようにすればよい。 In addition, in this embodiment, although the textile sheet 2 of the plain weave structure was illustrated, this invention is not limited to this. For example, the texture of the woven fabric sheet may be a striated pattern or a satin weave, or a changed structure. Further, a knitted sheet may be used instead of the woven sheet. In this case, for example, as shown in FIG. 3, the knitted sheet 12 can be formed of a flat knitted structure in which the elastic yarns 17 made of the monofilaments used for the elastic yarns 7 are flat knitted. A fused portion 18 is formed at a portion where the elastic yarn 17 overlaps, and a gap 13 is formed between the elastic yarns 17. Further, instead of the flat knitting structure, a rubber knitting (milling) structure or a pearl knitting structure may be used. Furthermore, the weaving density of the woven sheet 2 and the knitting density of the knitted sheet 12 are not particularly limited, and the sizes of the gaps 3 and 13 are set appropriately in consideration of the characteristics of the object to be polished and the polishing accuracy. You can do it.

また、本実施形態では、弾性糸７をそのまま織成する例を示したが、本発明はこれに制限されるものではない。例えば、弾性糸７の伸縮性によりテンション（張力）にバラツキが生じるような場合は、弾性を有していない非弾性糸でカバリングしたカバリング糸を用いて織成するようにしてもよい。非弾性糸としては、織成後、適当な溶媒で溶解除去できる繊維、例えば、ナイロン糸やポリビニルアルコール（ＰＶＡ）糸を用いることができる。すなわち、ナイロン糸では塩酸、ＰＶＡ糸では温水でそれぞれ溶解除去することができる。非弾性糸を溶解除去できない場合には、得られる織物シートの弾性を低下させることとなる。カバリング糸としては、例えば、弾性糸７を芯糸とし、この芯糸をナイロン糸等の他の繊維で鞘状に被覆したコアスパンヤーン、ポリウレタン弾性糸７と他のフィラメント状の繊維とを撚り合わせたフィラメントツイストヤ−ン等を挙げることができる。カバリング糸を用いて得られた織物シート２では、カバリングに用いた非弾性糸を溶解除去した部分に間隙が形成され、上述した間隙３と同様の機能を果たすことができる。 In the present embodiment, the example in which the elastic yarn 7 is woven as it is, but the present invention is not limited to this. For example, when the tension (tension) varies due to the stretchability of the elastic yarn 7, it may be woven using a covering yarn covered with a non-elastic yarn that does not have elasticity. As the inelastic yarn, a fiber that can be dissolved and removed with a suitable solvent after weaving, for example, a nylon yarn or a polyvinyl alcohol (PVA) yarn can be used. That is, the nylon yarn can be dissolved and removed with hydrochloric acid and the PVA yarn with warm water. If the non-elastic yarn cannot be dissolved and removed, the elasticity of the resulting fabric sheet will be reduced. As the covering yarn, for example, a core spun yarn in which the elastic yarn 7 is used as a core yarn, and the core yarn is covered in a sheath shape with other fibers such as nylon yarn, the polyurethane elastic yarn 7 and other filamentous fibers are twisted. A combined filament twist yarn can be used. In the woven fabric sheet 2 obtained using the covering yarn, a gap is formed in the portion where the inelastic yarn used for covering is dissolved and removed, and the same function as the gap 3 described above can be achieved.

更に、本実施形態では、弾性糸７として、１５デシテックスのモノフィラメントが５本束ねられたマルチフィラメントを用いる例を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、モノフィラメントの繊度としては５〜５０デシテックスの範囲であればよく、マルチフィラメントの本数としては２〜１２５本の範囲とすることができる。もちろん、モノフィラメントを１本で用いることも可能である。被研磨物の加工面を一層高精度に研磨加工する精密研磨加工の場合は、間隙３の大きさや表面（研磨面Ｐ）の粗さに対する均一性の要求が高まることから、１０〜２０デシテックス程度のモノフィラメントをそのまま用いるか、または、モノフィラメントを２本束ねたマルチフィラメントとして用いることが好ましい。また、本実施形態では、特に言及していないが、モノフィラメントの断面形状としては、特に制限されるものではなく、円形状や円形状以外の異形状としてもよい。 Further, in the present embodiment, an example is shown in which a multifilament in which five 15 decitex monofilaments are bundled is used as the elastic yarn 7, but the present invention is not limited to this. For example, the fineness of the monofilament may be in the range of 5 to 50 dtex, and the number of multifilaments may be in the range of 2 to 125. Of course, it is also possible to use a single monofilament. In the case of precision polishing that polishes the processed surface of an object to be polished with higher accuracy, the demand for uniformity with respect to the size of the gap 3 and the roughness of the surface (polishing surface P) is increased, so about 10 to 20 decitex. These monofilaments are preferably used as they are or as multifilaments in which two monofilaments are bundled. In the present embodiment, although not particularly mentioned, the cross-sectional shape of the monofilament is not particularly limited, and may be a circular shape or a different shape other than a circular shape.

また更に、本実施形態では、特に言及していないが、織成工程で織機を用い織成することから、紡糸工程では得られた弾性糸７に鉱物油やシリコーン油等の油剤を付着させている。このため、得られた織物シート２を熱ローラ等で加熱して融着部８を形成する際に、付着油剤により融着部８の形成が不十分となる可能性がある。このような場合は、加熱する前に、通常の洗浄（精錬）処理等により付着油剤を除去するようにしてもよい。また、ラミネート工程で両面テープ５と貼り合わされることを考慮すれば、融着部８を形成することなく研磨布２０を作製するようにしても、上述した効果を得ることができる。 Further, although not particularly mentioned in the present embodiment, since weaving is performed using a loom in the weaving process, an oil agent such as mineral oil or silicone oil is adhered to the elastic yarn 7 obtained in the spinning process. Yes. For this reason, when the obtained woven fabric sheet 2 is heated with a heat roller or the like to form the fused portion 8, there is a possibility that the formation of the fused portion 8 is insufficient due to the adhered oil agent. In such a case, the adhering oil agent may be removed by a normal cleaning (refining) process or the like before heating. Further, in consideration of being bonded to the double-sided tape 5 in the laminating process, the above-described effects can be obtained even if the polishing pad 20 is produced without forming the fused portion 8.

更にまた、本実施形態では、紡糸工程で調製した紡糸原液を紡糸ノズルから高温雰囲気中に吐出することで、モノフィラメントを乾式紡糸する例を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。紡糸原液を、例えば、ポリウレタン重合体やアセチルセルロースに対して貧溶媒である水を主成分とする凝固浴中に吐出することで、湿式紡糸することも可能である。 Furthermore, in the present embodiment, an example in which the monofilament is dry-spun by discharging the spinning stock solution prepared in the spinning process into a high-temperature atmosphere from the spinning nozzle is shown, but the present invention is not limited to this. . It is also possible to perform wet spinning by discharging the spinning solution into, for example, a coagulation bath containing water, which is a poor solvent for polyurethane polymers and acetylcellulose.

また、本実施形態では、ポリウレタン重合体に酢化度５０％、重合度３００のアセチルセルロースを配合する例を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ポリウレタン重合体の溶媒に可溶で、水に不溶のポリマを配合することができる。例えば、アセチルセルロースとしては、上述した酢化度や重合度のものを用いることができる。また、アセチルセルロース以外に上述したアクリル樹脂系ポリマやアクリロニトリル系ポリマを用いるようにしてもよい。 Moreover, in this embodiment, although the example which mix | blends acetyl cellulose of 50% of acetylation degree and a polymerization degree 300 was shown to the polyurethane polymer, this invention is not limited to this, The solvent of a polyurethane polymer is shown. Soluble and insoluble polymers can be blended. For example, as the acetyl cellulose, those having the above-described acetylation degree and polymerization degree can be used. Further, in addition to acetyl cellulose, the above-mentioned acrylic resin polymer or acrylonitrile polymer may be used.

更に、本実施形態では、織物シート２と両面テープ５とを貼り合わせる例を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、織物シート２と両面テープ５との間にＰＥＴ製フィルム等の基材を更に貼り合わせるようにしてもよい。このようにすれば、柔軟な織物シート２を取扱いやすくすることができる。また、織物シート２と両面テープ５との接着性を高めるために、織物シート２の研磨面Ｐと反対の面側をバフ処理する例を示したが、本発明はこれに制限されるものではない。両面テープ５の接着剤層が十分な接着性を有していれば、バフ処理をしなくてもよい。また、研磨面Ｐ側をバフ処理するようにすれば、織物シート２の厚み精度を向上させることもできる。 Furthermore, in this embodiment, although the example which bonds the woven fabric sheet 2 and the double-sided tape 5 was shown, this invention is not limited to this, The film made from PET between the woven fabric sheet 2 and the double-sided tape 5 is shown. A base material such as the above may be further bonded. If it does in this way, the flexible textile sheet 2 can be made easy to handle. Moreover, although the example which buffs the surface side opposite to the grinding | polishing surface P of the fabric sheet 2 was shown in order to improve the adhesiveness of the fabric sheet 2 and the double-sided tape 5, this invention is not restrict | limited to this. Absent. If the adhesive layer of the double-sided tape 5 has sufficient adhesiveness, it is not necessary to buff. Moreover, if the polishing surface P side is buffed, the thickness accuracy of the fabric sheet 2 can be improved.

次に、本実施形態に従い製造した研磨布１０の実施例について説明する。なお、比較のために製造した比較例の研磨布についても併記する。 Next, examples of the polishing pad 10 manufactured according to the present embodiment will be described. In addition, it writes together also about the polishing cloth of the comparative example manufactured for the comparison.

（実施例１）
実施例１では、次のようにして紡糸原液を調製し、得られた弾性糸７で織物シート２を織成し研磨布１０を製造した。すなわち、数平均分子量１８００のポリオキシテトラメチレングリコールの２８７０部、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネートの５９５部を４５℃にて混合した後、７５℃にて８０分間反応させて、プレポリマの３４６５部を得た。このときのイソシアネート基含有量はプレポリマ１００ｇ中１８８０ｇであった。これとは別に、鎖伸長剤としてエチレンジアミンの４４部と末端停止剤としてジエチルアミンの６部とを、０℃に冷やしたＤＭＡｃの１２６２部に加えて十分に攪拌し、鎖伸長剤と末端停止剤との混合溶液を得た。 Example 1
In Example 1, a spinning dope was prepared as follows, and the fabric sheet 2 was woven with the obtained elastic yarn 7 to produce an abrasive cloth 10. That is, 2870 parts of polyoxytetramethylene glycol having a number average molecular weight of 1800 and 595 parts of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate were mixed at 45 ° C. and reacted at 75 ° C. for 80 minutes to obtain 3465 parts of prepolymer. Obtained. The isocyanate group content at this time was 1880 g in 100 g of the prepolymer. Separately, 44 parts of ethylenediamine as a chain extender and 6 parts of diethylamine as a terminal terminator are added to 1262 parts of DMAc cooled to 0 ° C. and stirred well to obtain a chain extender and a terminal terminator. A mixed solution of was obtained.

先に得たプレポリマの３４００部を、０℃に冷やしたＤＭＡｃの５８９６部に加え、十分に攪拌した後、プレポリマのイソシアネート基に対して、鎖伸長剤と末端停止剤との活性水素基が等モルとなるように鎖伸長剤と末端停止剤との混合溶液を添加し反応させて濃度３５％のポリウレタン重合体溶液を得た。 After 3400 parts of the prepolymer obtained above was added to 5896 parts of DMAc cooled to 0 ° C. and sufficiently stirred, the active hydrogen groups of the chain extender and the end terminator were equal to the isocyanate group of the prepolymer. A mixed solution of a chain extender and a terminal terminator was added so as to have a molar ratio and reacted to obtain a polyurethane polymer solution having a concentration of 35%.

一方、アセチルセルロース（酢化度５０％、重合度３００）をＤＭＡｃに溶解させて、濃度３０％のアセチルセルロース溶液を得た。先に得たポリウレタン重合体溶液にアセチルセルロース溶液を添加混合して紡糸原液を得た。このとき、アセチルセルロースがポリウレタン重合体に対し３０重量％となるように混合した。得られた紡糸原液を直径０．２ｍｍのオリフィスを５個有する紡糸ノズルを用いて乾式紡糸した。紡糸速度を３００ｍ／分に設定し、２０％伸長しながら仮撚りをかけてポリウレタン弾性糸に用いられているポリジメチルシロキサン系仕上げ油剤を３％を付着させた後、紙管に巻き取り、７８Ｄｔｅｘ（フィラメント数５本）の弾性糸７の巻糸体を得た。この弾性糸７で織物シート２を織成し、精錬処理により油剤を除去した後、１４０℃のホットプレートにて荷重８．４ｇ／ｃｍ^２をかけながら１分間圧着させ、研磨布１０を製造した。 On the other hand, acetylcellulose (acetylation degree 50%, polymerization degree 300) was dissolved in DMAc to obtain an acetylcellulose solution having a concentration of 30%. An acetylcellulose solution was added to and mixed with the previously obtained polyurethane polymer solution to obtain a spinning dope. At this time, it mixed so that acetylcellulose might be 30 weight% with respect to a polyurethane polymer. The obtained spinning dope was dry-spun using a spinning nozzle having five orifices having a diameter of 0.2 mm. The spinning speed was set at 300 m / min, false twisting was performed while stretching 20%, 3% of the polydimethylsiloxane finishing oil used in the polyurethane elastic yarn was adhered, and then wound on a paper tube, and 78 Dtex A wound body of the elastic yarn 7 having 5 filaments was obtained. The woven fabric sheet 2 was woven with this elastic yarn 7, and the oil agent was removed by refining treatment, followed by pressure bonding with a hot plate at 140 ° C. for 1 minute while applying a load of 8.4 g / cm ² , thereby producing a polishing cloth 10.

（比較例１）
比較例１では、アセチルセルロースを含有させない以外は実施例１と同様にして、ポリウレタン製の７８Ｄｔｅｘ（フィラメント数５本）の弾性糸を得た。この弾性糸を用いて織成した織物シートで研磨布を製造した。この場合、弾性糸の伸縮性が大きすぎるため、そのまま織成することが難しかったため、ＰＶＡ糸でカバリングしたカバリング糸を作製し織物シートを作製した。織成後の織物シートを温湯で処理してＰＶＡを溶解除去した後、研磨布を製造した。 (Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, an elastic yarn of 78Dtex made of polyurethane (5 filaments) was obtained in the same manner as Example 1 except that acetylcellulose was not contained. An abrasive cloth was produced from a woven fabric sheet woven using this elastic yarn. In this case, since the elasticity of the elastic yarn was too large, it was difficult to weave as it was, so a covering yarn covered with PVA yarn was produced to produce a woven sheet. After the woven fabric sheet was treated with warm water to dissolve and remove PVA, an abrasive cloth was produced.

（比較例２）
比較例２では、弾性糸７に代えて７５Ｄｔｅｘのポリエステルマルチフィラメント（フィラメント数７２本）を用いた以外は実施例１と同様にして研磨布を製造した。 (Comparative Example 2)
In Comparative Example 2, a polishing cloth was produced in the same manner as in Example 1 except that 75 Dtex polyester multifilament (72 filaments) was used instead of the elastic yarn 7.

（評価）
各実施例および比較例の研磨布を構成するモノフィラメントについて、伸長モジュラスを測定した。伸長モジュラスの測定では、引張試験装置（オリエンテック社製、テンシロンＲＴＡ−１００）を用い、マルチフィラメントに初荷重（繊度（Ｄｔｅｘ）の１／１０００ｇ）をかけたときの繊維長（元の糸長）に対して１．２倍に伸長したときの伸長荷重を測定し、マルチフィラメントの繊度で除してモノフィラメントの伸長モジュラスを算出した。 (Evaluation)
The elongation modulus was measured for the monofilaments constituting the polishing cloths of the examples and comparative examples. In the measurement of the elongation modulus, the fiber length (original yarn length) when an initial load (1/1000 g of the fineness (Dtex)) was applied to the multifilament using a tensile tester (Orientec, Tensilon RTA-100). ) Was measured by dividing the elongation load by 1.2 times, and divided by the fineness of the multifilament to calculate the elongation modulus of the monofilament.

この結果、比較例１で用いた弾性糸を構成するモノフィラメントでは、伸長モジュラスが０．２５ｃＮ／Ｄｔｅｘを示した。これに対して、実施例１で用いた弾性糸７を構成するモノフィラメントでは、伸長モジュラスが０．０１ｃＮ／Ｄｔｅｘを示した。このことから、アセチルセルロースを配合することで弾性糸７の伸縮性が制限されることが明らかとなった。一方、比較例２で用いたポリエステルモノフィラメントでは、１．２倍に伸長することができず、非弾性を示した。 As a result, the monofilament constituting the elastic yarn used in Comparative Example 1 exhibited an elongation modulus of 0.25 cN / Dtex. In contrast, the monofilament constituting the elastic yarn 7 used in Example 1 exhibited an elongation modulus of 0.01 cN / Dtex. From this, it became clear that the elasticity of the elastic yarn 7 is limited by blending acetylcellulose. On the other hand, the polyester monofilament used in Comparative Example 2 could not be stretched 1.2 times and showed inelasticity.

（研磨性能評価）
次に、各実施例及び比較例の研磨布を用いて、以下の研磨条件でハードディスク用のアルミニウム基板の研磨加工を行い、研磨レートを測定した。研磨レートは、１分間当たりの研磨量を厚さで表したものであり、研磨加工前後のアルミニウム基板の重量減少から求めた研磨量、アルミニウム基板の研磨面積および比重から算出した。また、目視にてスクラッチの有無を判定した。研磨レートおよびスクラッチの測定結果を下表１に示す。
（研磨条件）
使用研磨機：スピードファム社製、９Ｂ−５Ｐポリッシングマシン
研磨速度（回転数）：３０ｒｐｍ
加工圧力：１００ｇ／ｃｍ^２
スラリ：アルミナスラリ（ｐＨ：２．０）
スラリ供給量：１００ｃｃ／ｍｉｎ
被研磨物：ハードディスク用アルミニウム基板
（外径９５ｍｍφ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２７ｍｍ） (Polishing performance evaluation)
Next, using the polishing cloths of the examples and comparative examples, the aluminum substrate for hard disk was polished under the following polishing conditions, and the polishing rate was measured. The polishing rate is the amount of polishing per minute expressed by thickness, and was calculated from the polishing amount obtained from the weight reduction of the aluminum substrate before and after polishing, the polishing area of the aluminum substrate, and the specific gravity. Moreover, the presence or absence of the scratch was determined visually. The measurement results of the polishing rate and scratch are shown in Table 1 below.
(Polishing conditions)
Polishing machine used: Speedfam, 9B-5P polishing machine Polishing speed (rotation speed): 30 rpm
Processing pressure: 100 g / cm ²
Slurry: Alumina slurry (pH: 2.0)
Slurry supply amount: 100cc / min
Workpiece: Aluminum substrate for hard disk (outer diameter 95mmφ, inner diameter 25mm, thickness 1.27mm)

表１に示すように、比較例１の研磨布では、研磨レートが０．０９５μｍ／ｍｉｎを示し、十分な研磨加工を行うことができなかった。また、比較例２の研磨布では、研磨レートが０．１２５μｍ／ｍｉｎを示し、比較例１より良好であったが、被研磨物の加工面には多数のスクラッチが認められた。これに対して、実施例１の研磨布１０では、研磨レートが０．１８５μｍ／ｍｉｎを示し、十分な研磨加工を行うことができた。また、加工面にスクラッチが認められず、優れた平坦性の得られることが確認できた。 As shown in Table 1, with the polishing cloth of Comparative Example 1, the polishing rate was 0.095 μm / min, and sufficient polishing could not be performed. Further, the polishing cloth of Comparative Example 2 showed a polishing rate of 0.125 μm / min and was better than Comparative Example 1, but many scratches were observed on the processed surface of the object to be polished. In contrast, with the polishing pad 10 of Example 1, the polishing rate was 0.185 μm / min, and sufficient polishing could be performed. Further, no scratch was observed on the processed surface, and it was confirmed that excellent flatness was obtained.

本発明は研磨液の保持性を確保しつつ目詰まりを抑制し被研磨物の平坦性向上を図ることができる研磨布を提供するため、研磨布の製造、販売に寄与するので、産業上の利用可能性を有する。 The present invention provides an abrasive cloth that can prevent clogging and improve the flatness of an object to be polished while ensuring the retention of the polishing liquid, and contributes to the manufacture and sale of the abrasive cloth. Has availability.

本発明を適用した実施形態の研磨布を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the abrasive cloth of embodiment to which this invention is applied. 実施形態の研磨布を構成する研磨層の織物シートを模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the textile fabric sheet | seat of the grinding | polishing layer which comprises the polishing cloth of embodiment. 本発明を適用可能な研磨布を構成する研磨層の編物シートを模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the knitted sheet | seat of the abrasive layer which comprises the abrasive cloth which can apply this invention.

符号の説明Explanation of symbols

２織物シート（研磨層）
３間隙
７弾性糸
７ａ経糸
７ｂ緯糸
１０研磨布 2 Woven sheet (polishing layer)
3 Gap 7 Elastic yarn 7a Warp 7b Weft 10 Polishing cloth

Claims

被研磨物を研磨加工するための研磨面を有する研磨層を備えた研磨布において、前記研磨層は弾性糸の織物シートまたは編物シートで形成されており、前記弾性糸は１．２倍伸長時の伸長モジュラスが０．０３ｃＮ／デシテックス〜０．５ｃＮ／デシテックスの範囲の少なくとも１本の単繊維で構成されたことを特徴とする研磨布。 In a polishing cloth provided with a polishing layer having a polishing surface for polishing an object to be polished, the polishing layer is formed of a woven or knitted sheet of elastic yarn, and the elastic yarn is stretched 1.2 times A polishing cloth characterized by comprising an elongation modulus of at least one single fiber in a range of 0.03 cN / dtex to 0.5 cN / dtex.

前記少なくとも１本の単繊維は、繊度が５デシテックス〜５０デシテックスの範囲であることを特徴とする請求項１に記載の研磨布。 The polishing cloth according to claim 1, wherein the at least one single fiber has a fineness in a range of 5 dtex to 50 dtex.

前記弾性糸は、１本〜１２５本の前記単繊維で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の研磨布。 The abrasive cloth according to claim 1, wherein the elastic yarn is formed of 1 to 125 single fibers.

前記少なくとも１本の単繊維には、ポリウレタン重合体が含有されていることを特徴とする請求項１に記載の研磨布。 The polishing cloth according to claim 1, wherein the at least one single fiber contains a polyurethane polymer.

前記少なくとも１本の単繊維は、前記ポリウレタン重合体に対し、該ポリウレタン重合体の溶媒に可溶で、かつ、水に不溶のポリマが１０重量％〜７０重量％の割合で含有され形成されていることを特徴とする請求項４に記載の研磨布。 The at least one single fiber is formed by containing, in the polyurethane polymer, a polymer that is soluble in a solvent of the polyurethane polymer and insoluble in water in a proportion of 10% by weight to 70% by weight. The abrasive cloth according to claim 4, wherein

前記ポリマは、アクリル樹脂系ポリマ、アクリロニトリル系ポリマおよびアセチルセルロースから選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項５に記載の研磨布。 The abrasive cloth according to claim 5, wherein the polymer is at least one selected from an acrylic resin polymer, an acrylonitrile polymer, and acetylcellulose.

前記織物シートまたは編物シートは、前記弾性糸同士が重なり部分で融着されたことを特徴とする請求項１に記載の研磨布。 The abrasive cloth according to claim 1, wherein the woven or knitted sheet has the elastic yarns fused together at an overlapping portion.

前記織物シートまたは編物シートは、前記研磨面側ないし前記研磨面と反対の面側がバフ処理されていることを特徴とする請求項１に記載の研磨布。 The abrasive cloth according to claim 1, wherein the woven sheet or the knitted sheet is buffed on the polishing surface side or the surface side opposite to the polishing surface.

前記織物シートまたは編物シートの前記研磨面と反対の面側に貼り合わされた基材を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の研磨布。 The polishing cloth according to claim 1, further comprising a base material bonded to the surface of the woven or knitted sheet opposite to the polishing surface.