JP2010060543A - 反射式散乱計 - Google Patents
反射式散乱計 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010060543A JP2010060543A JP2008256583A JP2008256583A JP2010060543A JP 2010060543 A JP2010060543 A JP 2010060543A JP 2008256583 A JP2008256583 A JP 2008256583A JP 2008256583 A JP2008256583 A JP 2008256583A JP 2010060543 A JP2010060543 A JP 2010060543A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- scatterometer
- optical axis
- parabolic
- receiver
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/4788—Diffraction
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/4738—Diffuse reflection, e.g. also for testing fluids, fibrous materials
- G01N21/474—Details of optical heads therefor, e.g. using optical fibres
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
- G03F7/70625—Dimensions, e.g. line width, critical dimension [CD], profile, sidewall angle or edge roughness
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2210/00—Aspects not specifically covered by any group under G01B, e.g. of wheel alignment, caliper-like sensors
- G01B2210/56—Measuring geometric parameters of semiconductor structures, e.g. profile, critical dimensions or trench depth
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/06—Illumination; Optics
- G01N2201/063—Illuminating optical parts
- G01N2201/0636—Reflectors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
【解決手段】反射式散乱計は放物面鏡、光源、第1反射鏡、第2反射鏡、及び受信器を包含する。放物面鏡は光軸と放物表面を具え、サンプルは放物表面の焦点に位置し、且つサンプルの法線方向は光軸に平行である。光源はコリメートビームの生成に適し、第1反射鏡はコリメートビームを放物表面に向けて反射し、且つ放物表面はコリメートビームをサンプルに向けて反射し、第1回折ビームを生成する。続いて放物表面が第1回折ビームを第2反射鏡に向けて反射し、且つ該第2反射鏡が第1回折ビームを受信器に向けて反射する。
【選択図】図3
Description
図6は本発明の第2実施例の反射式散乱計の構造表示図である。図6に示されるように、本実施例の反射式散乱計400aと前述の反射式散乱計300(図3)は類似しており、見やすいように、同じ機能の部品については同じ符号を用い、その差異は、反射式散乱計400aは第1受信器450aが前述の実施例の第2反射鏡340と受信器350の代わりに使用されている。
1.本発明の走査角度は70度角に達して大角度の走査を行なえ、これにより完全なデータ量を得て対比によりサンプルの構造を判読する。このほか、本発明は角度と波長の走査を同時に行なえる。
2.ビューウインドウを通した観察によりコリメートビームのサンプルへの入射の正確な位置を確認でき、これによりシステムの測定の精度をアップできる。
3.本発明は同時に第0級回折、第1級回折、第2級回折を測定し、リアルタイムで異なる回折レベルの反射効率グラフを得て、サンプル効率の効率を判読できる。
100、200 反射式散乱計 110、210 光源
112、212 コリメートビーム 114、214 回折ビーム
120 回転ブロック 130、230 分光鏡
140 焦点レンズ 150、250 受信器
220 アパーチャー 240 放物反射鏡
242 光軸 300、300a、400a、400b 反射式散乱計
310 放物面鏡 312 光軸
314 放物表面 320 光源
322 コリメートビーム 324 第1回折ビーム
326 第2回折ビーム 328 第3回折ビーム
330 第1反射鏡 340 第2反射鏡
350 受信器 450a 第1受信器
450b 第2受信器 W ビューウインドウ
Claims (9)
- サンプルの測定に適した反射式散乱計において、
光軸と放物表面を具えた放物面鏡と、
コリメートビーム発生に適した光源と、
該コリメートビームを該放物表面に向けて反射し、該放物表面に該コリメートビームを該サンプルに向けて反射させることで、第1回折ビームを発生させる第1反射鏡と、
該放物表面が反射した該第1回折ビームを反射する第2反射鏡と、
該第2反射鏡が反射した該第1回折ビームを受け取る受信器と、
を包含したことを特徴とする、反射式散乱計。 - 請求項1記載の反射式散乱計において、該サンプルの法線方向が該光軸に平行で、該サンプルが該放物表面の焦点に位置することを特徴とする、反射式散乱計。
- 請求項1記載の反射式散乱計において、該サンプルの法線方向が該光軸に平行で、該第1反射鏡が該光軸に垂直な方向において移動させることで、該コリメートビームの該サンプルへの入射の角度を変えられ、該コリメートビームの該第1反射鏡に入射前の光の経路方向は該光軸に垂直で、該コリメートビームの該第1反射鏡に反射された後の光の経路方向は該光軸と平行であることを特徴とする、反射式散乱計。
- 請求項1記載の反射式散乱計において、該放物面鏡はビューウインドウを具え、該ビューウインドウは該放物面鏡の中心位置に位置することを特徴とする、反射式散乱計。
- サンプルの測定に適した反射式散乱計において、
光軸と放物表面を具え、該サンプルの法線方向は該光軸に平行で、該サンプルが該放物表面の焦点に位置する、放物面鏡と、
コリメートビーム発生に適した光源と、
該コリメートビームを該放物表面に向けて反射し、該放物表面に該コリメートビームを該サンプルに向けて反射させることで、第1回折ビームと第2回折ビームを発生させる第1反射鏡と、
該放物表面が反射した該第1回折ビームと第2回折ビームを受け取る受信器と、
を包含したことを特徴とする、反射式散乱計。 - 請求項5記載の反射式散乱計において、該サンプルの法線方向が該光軸に平行で、該サンプルが該放物表面の焦点に位置することを特徴とする、反射式散乱計。
- 請求項5記載の反射式散乱計において、該第1受信器が線形CCDとされ、該第1受信器の法線方向が該光軸に平行であり、該第1回折ビームが第0級回折とされ、該第2回折ビームが第1級回折とされたことを特徴とする、反射式散乱計。
- 請求項7記載の反射式散乱計において、第2受信器を更に具え、該第2受信器は線形CCDとされ、該第2受信器の法線方向は該光軸に平行であり、該放物表面が該コリメートビームを該サンプルに向けて反射した後、第3回折ビームを発生し、該放物表面が該第3回折ビームを該第2受信器に向けて反射し、該第3回折ビームが第2級回折とされたことを特徴とする、反射式散乱計。
- 請求項5記載の反射式散乱計において、該放物面鏡がビューウインドウを具え、該ビューウインドウが該放物面鏡の中心位置に位置することを特徴とする、反射式散乱計。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW097133614A TWI408356B (zh) | 2008-09-02 | 2008-09-02 | 反射式散射儀 |
TW097133614 | 2008-09-02 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010060543A true JP2010060543A (ja) | 2010-03-18 |
JP4823289B2 JP4823289B2 (ja) | 2011-11-24 |
Family
ID=41724983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008256583A Expired - Fee Related JP4823289B2 (ja) | 2008-09-02 | 2008-10-01 | 反射式散乱計 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7864324B2 (ja) |
JP (1) | JP4823289B2 (ja) |
TW (1) | TWI408356B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012173076A (ja) * | 2011-02-21 | 2012-09-10 | Kyoto Univ | 光子ビーム走査装置及び光子ビーム走査方法 |
JP2014119448A (ja) * | 2012-12-17 | 2014-06-30 | Advantest Corp | 光線入射装置および反射光測定装置 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130018835A (ko) * | 2010-05-25 | 2013-02-25 | 가부시키가이샤 니노미야 쥬얼리 | 산란체의 특성을 측정하기 위한 장치, 보석의 원석들의 산란광에 관한 컬러 측정 장치, 보석의 원석들의 휘도를 측정하기 위한 장치, 및 발광 분포를 측정하기 위한 장치 |
WO2013124131A2 (en) * | 2012-02-21 | 2013-08-29 | Asml Netherlands B.V. | Inspection apparatus and method |
EP2693271A1 (en) * | 2012-08-02 | 2014-02-05 | LayTec AG | Apparatus and method for measuring the dimensions of 1-dimensional and 0-dimensional nanostructures in real-time during epitaxial growth |
DE102015221773A1 (de) * | 2015-11-05 | 2017-05-11 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung eines durch wenigstens einen Lithographieschritt strukturierten Wafers |
CN113675061A (zh) * | 2020-05-13 | 2021-11-19 | 聚束科技(北京)有限公司 | 一种扫描电子显微镜 |
JP2022096461A (ja) * | 2020-12-17 | 2022-06-29 | キヤノン株式会社 | 光学系及び面分光装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07103717A (ja) * | 1993-10-07 | 1995-04-18 | Hitachi Ltd | 膜厚および溝深さ検出装置 |
JP2000146830A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-05-26 | Sony Corp | 赤外顕微・ft―ir装置及び記録媒体の分析方法 |
JP2002277216A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Omron Corp | 膜厚測定方法およびその装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4988205A (en) * | 1987-10-09 | 1991-01-29 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Reflectometers |
US5532818A (en) * | 1993-12-27 | 1996-07-02 | Advantest Corporation | Difference dispersive double-path monochromator having wavelength-independent imaging point |
US5777729A (en) * | 1996-05-07 | 1998-07-07 | Nikon Corporation | Wafer inspection method and apparatus using diffracted light |
US5912741A (en) * | 1997-10-10 | 1999-06-15 | Northrop Grumman Corporation | Imaging scatterometer |
US6987568B2 (en) * | 2000-11-15 | 2006-01-17 | Rutgers, The State University Of New Jersey | Apparatus and method for measuring spatially varying bidirectional reflectance distribution function |
US6744505B1 (en) * | 2001-09-06 | 2004-06-01 | Therma-Wave, Inc. | Compact imaging spectrometer |
US7206442B1 (en) * | 2001-11-16 | 2007-04-17 | Rudolph Technologies, Inc. | Optical inspection method utilizing ultraviolet light |
IL149557A (en) * | 2002-05-09 | 2008-11-03 | Nova Measuring Instr Ltd | Optical system operating with variable angle of incidence |
US6768567B2 (en) * | 2002-06-05 | 2004-07-27 | Euv Llc | Synchrotron-based EUV lithography illuminator simulator |
US7656519B2 (en) * | 2007-08-30 | 2010-02-02 | Kla-Tencor Corporation | Wafer edge inspection |
-
2008
- 2008-09-02 TW TW097133614A patent/TWI408356B/zh not_active IP Right Cessation
- 2008-10-01 JP JP2008256583A patent/JP4823289B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-01-12 US US12/352,069 patent/US7864324B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07103717A (ja) * | 1993-10-07 | 1995-04-18 | Hitachi Ltd | 膜厚および溝深さ検出装置 |
JP2000146830A (ja) * | 1998-08-31 | 2000-05-26 | Sony Corp | 赤外顕微・ft―ir装置及び記録媒体の分析方法 |
JP2002277216A (ja) * | 2001-03-15 | 2002-09-25 | Omron Corp | 膜厚測定方法およびその装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012173076A (ja) * | 2011-02-21 | 2012-09-10 | Kyoto Univ | 光子ビーム走査装置及び光子ビーム走査方法 |
JP2014119448A (ja) * | 2012-12-17 | 2014-06-30 | Advantest Corp | 光線入射装置および反射光測定装置 |
US9568422B2 (en) | 2012-12-17 | 2017-02-14 | Advantest Corporation | Light beam incident device and reflected light measurement device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7864324B2 (en) | 2011-01-04 |
TW201011274A (en) | 2010-03-16 |
JP4823289B2 (ja) | 2011-11-24 |
US20100053627A1 (en) | 2010-03-04 |
TWI408356B (zh) | 2013-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4823289B2 (ja) | 反射式散乱計 | |
US10495446B2 (en) | Methods and apparatus for measuring height on a semiconductor wafer | |
CN102269623B (zh) | 垂直入射宽带偏振光谱仪和光学测量*** | |
US7483133B2 (en) | Multiple angle of incidence spectroscopic scatterometer system | |
TWI429896B (zh) | 橢圓偏光測定儀器及監控製程之方法 | |
US9170156B2 (en) | Normal-incidence broadband spectroscopic polarimeter containing reference beam and optical measurement system | |
CN108463877B (zh) | 用于扩展的红外线光谱椭偏测量的***及方法 | |
US9952140B2 (en) | Small spot size spectroscopic ellipsometer | |
KR102137295B1 (ko) | 최적화된 시스템 파라미터를 갖는 광 계측 장치 및 방법 | |
US20060285111A1 (en) | Apparatuses and methods for enhanced critical dimension scatterometry | |
US8289527B2 (en) | Optimization of ray tracing and beam propagation parameters | |
JP2015509591A (ja) | 磁場向上要素を備えたターゲットを使用した光計測 | |
KR20180005697A (ko) | 작은 조명 스팟 사이즈를 갖는 광학 계측 | |
US20110246141A1 (en) | Method of optical metrology optimization using ray tracing | |
US20110246400A1 (en) | System for optical metrology optimization using ray tracing | |
US11043239B2 (en) | Magneto-optic Kerr effect metrology systems | |
CN103162831B (zh) | 宽带偏振光谱仪及光学测量*** | |
US9709386B1 (en) | Apparatus and methods for measuring properties in a TSV structure using beam profile reflectometry | |
US12002698B2 (en) | Metrology apparatus and method based on diffraction using oblique illumination and method of manufacturing semiconductor device using the metrology method | |
CN103048047A (zh) | 包含相位元件的垂直入射宽带偏振光谱仪和光学测量*** | |
US7292341B2 (en) | Optical system operating with variable angle of incidence | |
US8027037B2 (en) | Method for evaluating microstructures on a workpiece based on the orientation of a grating on the workpiece | |
CN103185638B (zh) | 宽带偏振光谱仪和光学测量*** | |
CN103162830A (zh) | 包含参考光束的垂直入射光谱仪及光学测量*** |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110201 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110428 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110816 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110906 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4823289 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140916 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |