JP2010060439A - Method and device for analyzing impurities of wafer - Google Patents

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フーバー アントン
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To analyze an end region of a wafer, in a method and a device for analyzing impurities of the wafer. <P>SOLUTION: This method of analyzing the impurities of the wafer 1 comprises a step of preparing a liquid drop 10 between a lower drop cage 2 and an upper drop cage 3 so that the lower surface of the drop 10 comes into contact with the lower drop cage 2 and the top surface of the drop 10 comes into contact with the upper drop cage 3, a step of scanning the wafer 1 with the drop 10 while the wafer 1 is brought into contact with one surface of the drop 10, and a step of sucking and analyzing the drop 10. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液体の滴をウエハーにまず接触させ、その後この液滴を分析するウエハーの不純物を分析するための方法または装置に関する。   The present invention relates to a method or apparatus for analyzing impurities on a wafer in which a droplet of liquid is first contacted with a wafer and then analyzed.

このような方法は、特許文献１に記載されており、この方法では、ウエハーの疎水性の表面を液滴によって走査してウエハーの不純物を滴中に集める。その後、滴を吸引し、滴に取り込まれたウエハー表面の不純物を試験することができる。この場合、滴の表面張力により、滴はウエハーの表面上を動く際もまとまった形状を維持し、壊されることなく表面に対して相対的に移動可能である。この場合、滴のために使用される液体は、通常は高純度のフッ化水素溶液でできており、フッ化水素溶液はウエハーの疎水性の表面を湿らせることはない。   Such a method is described in Patent Document 1, and in this method, a hydrophobic surface of a wafer is scanned with droplets, and impurities on the wafer are collected in the droplets. The drop can then be aspirated and the wafer surface impurities incorporated into the drop can be tested. In this case, due to the surface tension of the drop, the drop maintains a uniform shape as it moves over the surface of the wafer and can move relative to the surface without breaking. In this case, the liquid used for the drops is usually made of a high purity hydrogen fluoride solution, which does not wet the hydrophobic surface of the wafer.

このため、ウエハー表面は疎水性であることが重要である。この場合は、ウエハーの表面を疎水性にするために、ウエハーの表面をフッ化水素（ＨＦ）によってまずスチーミングしてもよく、これによって、ウエハーの表面に存在する酸化膜を除去することができる。   For this reason, it is important that the wafer surface is hydrophobic. In this case, in order to make the wafer surface hydrophobic, the wafer surface may be first steamed with hydrogen fluoride (HF), thereby removing the oxide film present on the wafer surface. it can.

特許文献１において知られている方法では、ピペットの下を通過するようにウエハーを回転させる間、通常はピペットによって液滴をウエハー表面上に塗布して保持する。相応のピペット頭部は、特許文献２および特許文献３に記載されている。もしくは、この方法は、逆の配置で行われてもよい。その場合、液滴は浅い窪みにあり、ウエハーの表面を液滴の上面に上方から接触させる。
欧州特許出願公開第７８７９８１号明細書 特開２００３−３４４２４３号公報 特開２００４−１７０２２２号公報 In the method known in US Pat. No. 6,057,049, while the wafer is rotated so as to pass under the pipette, droplets are usually applied and held on the wafer surface by the pipette. Corresponding pipette heads are described in US Pat. Alternatively, this method may be performed in the reverse arrangement. In that case, the droplet is in a shallow depression, and the surface of the wafer is brought into contact with the upper surface of the droplet from above.
European Patent Application No. 787981 JP 2003-344243 A JP 2004-170222 A

しかしながら、一つには、知られている方法では、柔軟性、妨害作用からの保護、および、構造的な置換についての問題がある。さらには、知られている方法は、ウエハーの表面の内部領域の分析のみを対象としており、ウエハーの縁領域すなわち端部領域については機能を発揮しない。   For one thing, however, the known methods have problems with flexibility, protection from disturbing effects, and structural substitution. Furthermore, the known methods are only intended for the analysis of the inner area of the wafer surface and do not function for the edge or edge area of the wafer.

したがって、本発明の目的は、ウエハーの端部領域を分析できる、ウエハーの不純物を分析するための方法および装置を提供することである。さらに、本発明の目的は、知られている方法を柔軟性および妨害作用からの保護について改善し、簡単で確実に置換可能な構造を実現することである。   Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method and apparatus for analyzing impurities on a wafer that can analyze the edge region of the wafer. Furthermore, it is an object of the present invention to improve the known method with respect to flexibility and protection from disturbing effects and to realize a simple and reliable replaceable structure.

この目的は、請求項１に記載の方法によって本発明に基づいて達成される。ウエハーの不純物を分析するためのこの方法は、液体の滴を、下部滴保持器と上部滴保持器との間に、滴の下面が下部滴保持器に接触し、滴の上面が上部滴保持器に接触するように用意するステップと、ウエハーの端部を、滴の一方の面に接触させながら、滴によって走査するステップと、滴を吸引し、分析するステップとを含んでいる。   This object is achieved according to the invention by the method according to claim 1. This method for analyzing impurities on a wafer can be used for liquid drops between a lower drop holder and an upper drop holder, with the lower face of the drop contacting the lower drop holder and the upper face of the drop holding the upper drop. Preparing to contact the vessel, scanning the edge of the wafer with the drop while contacting one side of the drop, and aspirating and analyzing the drop.

本発明の方法によって初めて、ウエハーの端部を、滴によって不純物について検査できるようになる。端部を滴で走査する際に、端部は滴を貫通して動き、その結果、ウエハーの剥ぎ取られた不純物は滴の液体中に集められる。この場合、滴は、下部および上部の滴保持器の間にあり、したがって、ウエハーの端部を滴に簡単に浸すことができるようになる。この際、端部自体に繋がるウエハーの上面および下面の縁領域も滴に接触する。ウエハーの表面は、疎水性なので滴の液体に湿らされることはない。その結果、滴は、その表面張力によりそのままであり、側方の窪みを形成する。この窪みに、ウエハーの端部がある。これに対し、滴は、上部滴保持器に接触していなければ、ウエハーの下面の縁領域のみに接触するが、ウエハーの上面の縁領域に接触することはないであろう。   Only by the method of the present invention can the wafer edge be inspected for impurities by droplets. As the edge is scanned with the drop, the edge moves through the drop so that the stripped impurities of the wafer are collected in the drop liquid. In this case, the drop is between the lower and upper drop holders, thus allowing the edge of the wafer to be easily immersed in the drop. At this time, the edge regions of the upper surface and the lower surface of the wafer connected to the end portion itself also contact the droplet. Since the surface of the wafer is hydrophobic, it is not wetted by the droplet liquid. As a result, the drops remain intact due to their surface tension and form lateral depressions. In this recess is the edge of the wafer. In contrast, if the drop is not in contact with the upper drop holder, it will contact only the edge area of the lower surface of the wafer, but not the edge area of the upper surface of the wafer.

さらに、上部滴保持器がなければ、滴は、本発明のように上部および下部の滴保持器の間にしっかりと保持される代わりに、滴の内部を通過するようにウエハーの端部を動かしている間に下部滴保持器のウエハーの端部から簡単に引き離されてしまうであろう。本発明では、滴が下部および上部の滴保持器に接触し、ウエハーの端部との接触点の上方でも下方でも安定化されるので、端部の動きによる滴の破壊は確実に防止される。   In addition, without the upper drop holder, the drop moves the edge of the wafer to pass inside the drop instead of being held firmly between the upper and lower drop holders as in the present invention. During this time, it will easily be pulled away from the edge of the lower drop holder wafer. In the present invention, the drop contacts the lower and upper drop holders and is stabilized both above and below the point of contact with the edge of the wafer, thus reliably preventing breakage of the drop due to movement of the edge. .

さらに、本発明では、滴と接触することになるウエハーの端部が疎水性である方がよく、このために、端部を、従来技術で既に知られているように、同じくフッ化水素によってスチーミングしてそこに存在するであろう酸化物層を除去してもよい。   Furthermore, in the present invention, it is better that the edge of the wafer that comes into contact with the droplet is hydrophobic, so that the edge is also made of hydrogen fluoride, as already known in the prior art. Steaming may remove the oxide layer that would be present there.

この場合、端部を滴で走査することは、ウエハーの端部を滴の一方の面に接触させながら、ウエハーの端部を滴を貫通するように動かすことによって行える。この際、滴保持器は、動かされないままでよく、一方、ウエハーを例えば回転装置によって回転させる。   In this case, scanning the edge with a drop can be done by moving the edge of the wafer through the drop while the edge of the wafer is in contact with one side of the drop. At this time, the drop holder may remain unmoved while the wafer is rotated, for example, by a rotating device.

本発明の方法において滴を用意するステップは、滴を下部滴保持器上に塗布するステップと、滴の上面を上部滴保持器に接触させるステップとを含むことが有利である。   Advantageously, the step of preparing a drop in the method of the present invention comprises the steps of applying the drop onto a lower drop holder and contacting the upper surface of the drop with the upper drop holder.

このため、下部滴保持器上に滴をまず塗布することができ、その後、上部滴保持器を動かすことによって滴の上面と上部滴保持器の下面とを初めて接触させるように、下部滴保持器と上部滴保持器とが互いに対して相対的に移動可能であることが有利である。上部と下部の滴保持器の間の可動性によって、非常に柔軟且つ確実に滴が保持され、このことにより、滴を確実に用意し、下部および上部の滴保持器の間に保持することができる。   For this reason, the lower drop holder can be applied first on the lower drop holder, and then the upper drop holder is moved so that the upper surface of the drop and the lower surface of the upper drop holder are in contact for the first time. Advantageously, the upper drop holder and the upper drop holder are movable relative to each other. The mobility between the upper and lower drop holders ensures that the drops are held very softly and reliably, which ensures that the drops are prepared and held between the lower and upper drop holders. it can.

さらに、上部滴保持器は、下部滴保持器に対して、特に垂直方向に移動可能であることが有利である。そうすれば、滴が置かれる下部および上部の滴保持器の間の隙間の高さを、例えば、滴の液量、ウエハーの回転速度、および、滴と接触する必要のある端部領域の大きさに関して最適に調整することができる。   Furthermore, it is advantageous that the upper drop holder is movable in a particularly vertical direction with respect to the lower drop holder. That way, the height of the gap between the lower and upper drop holders where the drops are placed, for example, the amount of drop liquid, the rotation speed of the wafer, and the size of the edge area that needs to be in contact with the drops. Can be optimally adjusted for

さらに、上部滴保持器は、下部滴保持器に対して、水平方向に移動可能であることが有利である。そうすれば、下部滴保持器に対する上部滴保持器の可動性により、滴は非常に簡単にアクセス可能であり、滴を例えば確実に吸引することができる。したがって、特に滴を塗布または吸引するための装置は、滴保持器に組み込まれている必要はなく、別々に構成されてもよい。それ以外にも、上部滴保持器の下部滴保持器に対する相対的な可動性によって、本方法の実施の際に柔軟性が高まる。   Furthermore, the upper drop holder is advantageously movable in a horizontal direction relative to the lower drop holder. Then, due to the mobility of the upper drop holder with respect to the lower drop holder, the drops are very easily accessible and can for example be reliably aspirated. Therefore, the device for applying or sucking drops in particular need not be incorporated in the drop holder and may be configured separately. Besides that, the relative mobility of the upper drop holder with respect to the lower drop holder increases the flexibility in carrying out the method.

この場合、滴の一方の面に対するウエハーの端部の接触は、下部滴保持器上に滴を塗布すると同時に、または、下部滴保持器上に滴を塗布した後に、または、滴の上面が上部滴保持器に接触した後に行われる。しかしながら、滴によるウエハーの端部の走査は、滴が下部滴保持器にも上部滴保持器にも接触して定位置に保持されてから初めて行われる。   In this case, the contact of the edge of the wafer to one side of the drop can occur either at the same time as applying the drop on the lower drop holder, after applying the drop on the lower drop holder, or when the top of the drop is at the top. This is done after contacting the drop holder. However, the scanning of the edge of the wafer with the droplets is not performed until the droplets are held in place in contact with the lower and upper droplet holders.

さらに、本発明の方法では、分離ピペット（separaten pipette）によって下部滴保持器上に滴を塗布することが有利である。下部および上部の滴保持器に加えて分離ピペットを使用することで、個々の構成要素をそれぞれその課題のために最適に仕立てることができるが、それにもかかわらず、個々の構成要素は比較的簡単に構成されている。さらに、動作していない要素を非動作の期間中にその都度洗浄できるようになり、このことによっても、妨害作用が最小化される。この場合、上部滴保持器の下部滴保持器に対する相対的な可動性は、重要な利点である。なぜなら、上部滴保持器が下部滴保持器から取り退けた状態で、分離ピペットを用いて非常に簡単に滴を塗布または吸引することができるからである。   Furthermore, in the method according to the invention, it is advantageous to apply drops on the lower drop holder by means of a separation pipette. By using separate pipettes in addition to the lower and upper drop holders, each individual component can be tailored optimally for that task, but nevertheless the individual components are relatively simple It is configured. In addition, non-operating elements can be cleaned each time during periods of inactivity, which also minimizes disturbing effects. In this case, the relative mobility of the upper drop holder with respect to the lower drop holder is an important advantage. This is because, with the upper drop holder retracted from the lower drop holder, drops can be applied or aspirated very easily using a separation pipette.

さらに、本発明の方法では、上部滴保持器を滴の上面に接触させるため、上部滴保持器を側部領域から下部滴保持器の上方の領域へ動かすことが有利である。つまり、例えば分離ピペットによって下部滴保持器上に滴を塗布する間は、上部滴保持器はまず側部領域にある。その後、上部滴保持器を、下部滴保持器の上方の領域へ動かし、そこで、例えば下へ動かすことにより滴の上面に接触させる。このやり方は、上部滴保持器が側部領域にある間に上部滴保持器を洗浄することができる、という利点をさらに有している。このことによっても、本発明の方法の測定精度および妨害作用に対する安全性が高まる。   Furthermore, in the method of the present invention, it is advantageous to move the upper drop holder from the side area to the area above the lower drop holder in order to bring the upper drop holder into contact with the upper surface of the drop. That is, while applying drops onto the lower drop holder, for example with a separation pipette, the upper drop holder is first in the side region. The upper drop holder is then moved to the area above the lower drop holder where it is brought into contact with the top surface of the drop, for example by moving down. This approach has the further advantage that the upper drop holder can be cleaned while it is in the side area. This also increases the measurement accuracy and the safety against disturbing effects of the method of the invention.

さらに、本発明の方法では、滴を用意するステップが、下部滴保持器の上方の領域へピペットを動かすステップと、ピペットによって下部滴保持器上に滴を塗布するステップと、ピペットを下部滴保持器の上方の領域から取り退けるステップと、上部滴保持器を下部滴保持器の上方の領域へ動かすステップと、滴の上面に上部滴保持器を接触させるステップとを含んでいることが有利である。   Further, in the method of the present invention, the step of preparing the drop comprises moving the pipette to an area above the lower drop holder, applying a drop onto the lower drop holder by the pipette, and holding the pipette at the lower drop holder. Advantageously including the steps of withdrawing from the area above the vessel, moving the upper drop holder to the area above the lower drop holder, and contacting the upper drop holder with the upper surface of the drop. is there.

つまり、本発明の方法では、ピペットと上部滴保持器とを下部滴保持器の上方の領域へ交互に動かして、下部滴保持器上に次々と滴を塗布し、滴を貫通するようにウエハーの端部を動かしている間は上部滴保持器との接触によりこの領域に滴を固定する。本発明の方法では、使用される要素の各々が、ただ１つの特定機能を実施すればよく、その結果、全ての要素をその機能のために最適に設計することができるが、それにもかかわらず、全ての要素は比較的簡単に構成され、それゆえ、低コストで信頼のおける動作が可能となる。   In other words, in the method of the present invention, the pipette and the upper drop holder are alternately moved to the upper area of the lower drop holder, and drops are successively applied onto the lower drop holder, and the wafer is penetrated through the drops. While moving the end of the drop, the drop is fixed in this area by contact with the upper drop holder. In the method of the present invention, each element used needs to perform only one specific function, so that all elements can be optimally designed for that function, nonetheless. , All elements are relatively simple to construct, thus allowing reliable operation at low cost.

さらに、本発明の方法は、滴を通るようにウエハーの端部を動かした後、上部滴保持器を下部滴保持器の上方の領域から取り退けるステップと、ピペットを下部滴保持器の上方の領域へ動かすステップと、滴をピペットによって吸引するステップと、液滴を分析するステップとを含んでいることが有利である。   Further, the method of the present invention includes the steps of moving the edge of the wafer through the drop and then withdrawing the upper drop holder from the area above the lower drop holder; and the pipette above the lower drop holder. Advantageously, the method includes the steps of moving to the area, aspirating the drop with a pipette, and analyzing the drop.

これによっても、個々の要素間で最適な仕事分担を行え、これにより、信頼のおける動作とともに簡単な構成が可能になる。また、方法の測定精度を高めるために、動作していない要素をその都度洗浄することもできる。   This also allows optimal work sharing among the individual elements, which allows for a simple configuration with reliable operation. Also, in order to increase the measurement accuracy of the method, elements that are not operating can be cleaned each time.

さらに、本発明の方法では、下部および／または上部の滴保持器を側部領域からウエハーの端部の領域へ動かすことが有利である。これによって、本発明の方法では、柔軟性が高まり、ウエハーの取り扱いが簡単になり、滴保持器が側部領域にある間にウエハーを装置へ入れることができる。滴保持器は、場合によっては必要なウエハーのセンタリング中も、依然として側部領域にある。ウエハーの端部表面上の不純物を滴によって分析しようとするときに初めて、滴保持器をウエハーの端部の領域へ動かす。   Furthermore, in the method according to the invention, it is advantageous to move the lower and / or upper drop holder from the side region to the end region of the wafer. This allows the method of the present invention to be more flexible, simplify the handling of the wafer, and allow the wafer to enter the apparatus while the drop holder is in the side region. The drop holder is still in the side area even during the necessary wafer centering. Only when the impurities on the wafer edge surface are to be analyzed by drops are the drop holders moved to the area of the wafer edge.

さらに、この場合、下部および／または上部の滴保持器を使用中に洗浄することが有利である。これにより、本方法の測定精度および破壊安全性が高まる。この場合、下部および上部の滴保持器の可動性により、洗浄が特に簡単になる。なぜなら、洗浄装置を側部領域に設けることができるからである。   Furthermore, in this case, it is advantageous to clean the lower and / or upper drop holder during use. This increases the measurement accuracy and the safety of destruction of the present method. In this case, cleaning is particularly simple due to the mobility of the lower and upper drop holders. This is because the cleaning device can be provided in the side region.

本発明の方法では、ウエハーの端部は、滴による走査の際に、上部および下部の滴保持器の間の領域にあることが有利である。これにより、ウエハーの端部領域がウエハーの下面だけではなくウエハーの上面の縁領域においても滴に接触している、ということが保証される。したがって、下部滴保持器と上部滴保持器との間に支持された滴を、ウエハーの全ての端部領域を走査するように最適に使用することができる。この場合、ウエハーの端部は、有利には上部および下部の滴保持器の間の滴によって満たされた領域の最大で半分まで、さらに有利にはこの領域の直径の最大で４分の１まで側方から入り込む。したがって、滴を貫通するウエハーの端部の動きによって、滴が双方の滴保持器間の領域から引き剥がされることはなく、滴によって全ての縁領域が走査される。さらに、この場合、上部滴保持器と下部滴保持器との間隔は、ウエハーの厚みの２倍から８倍に相当し、上部滴保持器と下部滴保持器との間のほぼ中央で滴を貫通するようにウエハーを動かすことが有利である。   In the method of the present invention, the edge of the wafer is advantageously in the area between the upper and lower drop holders when scanning with drops. This ensures that the edge region of the wafer is in contact with the drops not only at the lower surface of the wafer but also at the edge region of the upper surface of the wafer. Thus, the drops supported between the lower drop holder and the upper drop holder can be optimally used to scan all edge regions of the wafer. In this case, the edge of the wafer is preferably up to half of the area filled by the drops between the upper and lower drop holders, more preferably up to a quarter of the diameter of this area. Enter from the side. Thus, movement of the edge of the wafer through the drop does not cause the drop to be pulled from the area between both drop holders, and the entire edge area is scanned by the drop. Further, in this case, the distance between the upper drop holder and the lower drop holder is equivalent to 2 to 8 times the thickness of the wafer, and the drop is dropped at the approximate center between the upper drop holder and the lower drop holder. It is advantageous to move the wafer through it.

さらに、本発明の方法では、上部滴保持器が小管を有し、小管の開口部は、滴の上面に接触していることが有利である。この場合、小管は、下向きに開き、その周囲の開口縁によって滴の上面と接触し、その結果、開口部は、滴によって閉じられている。この場合、滴の表面張力によって、滴は小管の中に少し入り込む。これにより、滴を貫通するようにウエハーの端部を動かしながら滴を最適に扱い、保持することができる。   Furthermore, in the method of the present invention, it is advantageous that the upper drop holder has a small tube and the opening of the small tube is in contact with the top surface of the droplet. In this case, the tubule opens downward and contacts the top surface of the drop by its peripheral opening edge, so that the opening is closed by the drop. In this case, due to the surface tension of the droplet, the droplet slightly enters the small tube. This allows the drop to be optimally handled and held while moving the end of the wafer to penetrate the drop.

さらに、この場合、この小管は、定常波を小管中に生成することのできる音源と接続されていることが有利である。この場合、定常波の周波数認識により滴を検出することがさらに有利である。したがって、滴による小管の閉鎖部を通る定常波の異なる周波数によって、滴が上部滴保持器に適切に接触しているかどうかを認識することができる。この場合、周波数認識のために、例えばマイクロフォンを使用してもよい。この場合、マイクロフォンおよび拡声器は、チューブを介して小管と接続されていることが有利である。   Furthermore, in this case, this small tube is advantageously connected to a sound source that can generate a standing wave in the small tube. In this case, it is further advantageous to detect drops by frequency recognition of standing waves. Thus, it is possible to recognize whether the drop is in proper contact with the upper drop holder by the different frequencies of the standing wave through the closure of the tubule by the drop. In this case, for example, a microphone may be used for frequency recognition. In this case, the microphone and the loudspeaker are advantageously connected to the small tube via a tube.

さらに、滴は、小管を介して吹き出し可能であることが有利である。つまり、滴を、風圧によって小管から押し出すことができる。したがって、本発明の方法は、滴を通るようにウエハーの端部を動かした後、小管から滴を吹き出すステップを含んでいることがさらに有利である。その結果、滴は小管に付着したままでなく、ピペットを介して吸引可能である。しかしながら、滴が吹き出されずとも、上部滴保持器を下部滴保持器の上方の領域から取り退けるけるとすぐに上部滴保持器から離れる場合は、このステップを行わなくてよい。   Furthermore, it is advantageous that the drops can be blown out through a small tube. That is, the droplet can be pushed out of the small tube by the wind pressure. Thus, it is further advantageous that the method of the present invention includes the step of blowing the drop from the tubule after moving the end of the wafer through the drop. As a result, the droplet does not remain attached to the small tube but can be sucked through the pipette. However, even if no drops are blown out, this step may not be performed if the upper drop holder leaves the upper drop holder as soon as it is withdrawn from the area above the lower drop holder.

さらに、下部滴保持器は、その上面に窪みを有し、滴の下面がこの窪みに落ち着くことが有利である。この窪みにより、滴を通る端部の動きの間に、または、下部滴保持器の動きの間に、滴は下部滴保持器に確実に保持される。   Furthermore, it is advantageous that the lower drop holder has a depression on its upper surface, and the lower surface of the drop settles in this depression. This depression ensures that the drop is retained in the lower drop holder during end movement through the drop or during movement of the lower drop holder.

本発明は、ウエハーの不純物を分析するための装置であって、下部滴保持器と、上部滴保持器と、液体の滴を用意および／または吸引するための装置と、液滴の分析のための装置とを備える。本発明の装置によって、本発明の方法によるのと同じ利点がはっきりと生じる。なお、本発明の方法は、本発明の装置によって実施できる。特に、ウエハーの端部を滴の側面に接触させて滴を貫通するように動かしている間、下部滴保持器と上部滴保持器とによって滴を確実に保持することができる。本発明の装置は、滴によって端部を走査するために、ウエハーを滴保持器に対して相対的に動かすための装置、例えば、ウエハーを回転させるための装置をさらに備えていることが有利である。   The present invention is an apparatus for analyzing impurities on a wafer, comprising a lower drop holder, an upper drop holder, an apparatus for preparing and / or aspirating a liquid drop, and a liquid drop analysis. Equipment. The device of the present invention clearly produces the same advantages as the method of the present invention. The method of the present invention can be carried out by the apparatus of the present invention. In particular, the lower drop holder and the upper drop holder can reliably hold the drop while moving the wafer end to contact the side of the drop and penetrate the drop. The apparatus of the present invention advantageously further comprises a device for moving the wafer relative to the drop holder, eg a device for rotating the wafer, in order to scan the edge with the droplet. is there.

上部滴保持器は、下部滴保持器に対して移動可能なように構成されていることが有利である。これにより、下部滴保持器上に確実に滴を塗布し、滴を下部滴保持器と上部滴保持器との間に同じく確実に保持することが保証される。この場合、上部滴保持器は、例えば滴保持器間の隙間の高さを調整することができるように、下部滴保持器に対して特に垂直方向に移動可能であることが有利である。また、上部滴保持器は、上部滴保持器を下部滴保持器から側方へ動かすことができ、下部滴保持器への簡単なアクセスが可能となるように、下部滴保持器に対して水平方向に移動可能であることが有利である。   The upper drop holder is advantageously configured to be movable relative to the lower drop holder. This ensures that the drops are reliably applied on the lower drop holder and that the drops are also held reliably between the lower drop holder and the upper drop holder. In this case, it is advantageous that the upper drop holder can be moved in a particularly vertical direction with respect to the lower drop holder so that, for example, the height of the gap between the drop holders can be adjusted. The upper drop holder is also horizontal to the lower drop holder so that the upper drop holder can be moved laterally from the lower drop holder and allows easy access to the lower drop holder. It is advantageous to be able to move in the direction.

さらに、本発明の装置では、下部滴保持器と、上部滴保持器と、滴を用意および／または吸引するための装置とが、それぞれ別個の要素として構成されていることが有利である。したがって、これらの別個の要素を、そのそれぞれの課題に合わせて最適に実施することができ、それにもかかわらず、簡単で低コストで信頼のおける構成が可能となる。したがって、その都度使用されていない要素を、非動作中に洗浄することも可能である。   Furthermore, in the device according to the invention, it is advantageous that the lower drop holder, the upper drop holder and the device for preparing and / or sucking drops are each configured as separate elements. Thus, these separate elements can be optimally implemented for their respective challenges, yet nevertheless a simple, low-cost and reliable configuration is possible. It is therefore possible to clean elements that are not used each time during non-operation.

さらに、本発明の装置では、滴を用意および／または吸引するための装置と、下部滴保持器とが、互いに対して相対的に移動可能なように構成されていることが有利である。これにより、滴を用意または吸引するために、滴を用意および／または吸引するための装置を下部滴保持器の方へ動かし、その後、この装置を元に戻すように取り退けることができる。これにより、例えば分離ピペットによって下部滴保持器上に滴を塗布し、このピペットを下部滴保持器から元に戻すように取り退けた後、それとは別個の滴保持器によって滴を保持することができる。   Furthermore, in the device according to the invention, it is advantageous that the device for preparing and / or sucking drops and the lower drop holder are configured to be movable relative to one another. This allows the apparatus for preparing and / or aspirating drops to be moved towards the lower drop holder and then withdrawn to replace it in order to prepare or aspirate drops. This allows, for example, applying a drop on the lower drop holder by means of a separating pipette, withdrawing the pipette back from the lower drop holder and then holding the drop by a separate drop holder. it can.

さらに、本発明の装置では、上部滴保持器、ならびに／または、滴を用意および／もしくは吸引するための装置が、側部領域からウエハーの縁の領域へ移動可能であることが有利である。その場合、上部滴保持器、または、滴を用意および／もしくは吸引するための装置を、側部領域において洗浄すること、または、これら装置の相応の頭部に付け替えることができる。   Furthermore, in the apparatus according to the invention, it is advantageous that the upper drop holder and / or the apparatus for preparing and / or sucking drops can be moved from the side area to the edge area of the wafer. In that case, the upper drop holder or the device for preparing and / or aspirating the drops can be cleaned in the side area or replaced with the corresponding head of these devices.

さらに、本発明の装置では、下部滴保持器も、側部領域からウエハーの縁の領域へ移動可能であることが有利である。その場合、下部滴保持器も、側部領域に配置された洗浄装置によって洗浄することができる。   Furthermore, in the apparatus according to the invention, it is advantageous that the lower drop holder is also movable from the side area to the edge area of the wafer. In that case, the lower drop holder can also be cleaned by a cleaning device arranged in the side region.

さらに、本発明の装置は、下部滴保持器および／または上部滴保持器のための洗浄装置を備えていることが有利である。これにより、測定精度および妨害作用に対する安全性が改善される。この場合、洗浄装置は、ウエハーの回転領域の付近の側部領域に配置されていることが有利である。   Furthermore, the device of the invention advantageously comprises a cleaning device for the lower drop holder and / or the upper drop holder. This improves the measurement accuracy and safety against disturbing effects. In this case, the cleaning device is advantageously arranged in a side region in the vicinity of the rotation region of the wafer.

さらに、本発明の装置は、滴を用意および／または吸引するための装置のために少なくとも１つの洗浄装置も備えていることが有利である。この場合、洗浄装置は、同じく、ウエハーの回転領域の付近の側部領域に配置されていることが有利である。   Furthermore, the device according to the invention advantageously also comprises at least one cleaning device for the device for preparing and / or aspirating drops. In this case, the cleaning device is also advantageously arranged in a side region in the vicinity of the rotation region of the wafer.

さらに、滴を用意および／または吸引するための装置は、ピペットを備えていることが有利である。このピペットは、滴を、下部滴保持器へ塗布し、下部滴保持器から吸引することができる。   Furthermore, the device for preparing and / or aspirating drops advantageously comprises a pipette. The pipette can apply drops to the lower drop holder and aspirate from the lower drop holder.

さらに、本発明の装置では、下部および上部の滴保持器の、少なくとも滴に接触する表面は、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）でできていることが有利である。下部および上部の滴保持器が全体的にＰＴＦＥでできていることがさらに有利である。この材料は、反応性が非常に低く、表面張力が非常に低い。その結果、この材料は本発明に最も適している。この材料は非常によく洗浄もされる。なぜなら、ＰＴＦＥに付着したままである材料はほとんどないからである。   Furthermore, in the device according to the invention, at least the surfaces in contact with the drops of the lower and upper drop holders are advantageously made of PTFE (polytetrafluoroethylene). It is further advantageous that the lower and upper drop holders are made entirely of PTFE. This material has very low reactivity and very low surface tension. As a result, this material is most suitable for the present invention. This material is also very well cleaned. This is because very little material remains attached to PTFE.

さらに、下部滴保持器は、その上面に、滴の下面を受け入れるための窪みを有していることが有利である。この窪みは、円形の隙間の形を有していることが好ましい。この隙間において、滴は、全ての方向へ側方から保持される。滴は、その表面張力により、その側面およびその上面が窪みから突出し、その結果、滴は、その側部領域において露出し、その上面において上部滴保持器に接触することができる。したがって、ウエハーの端部は、妨害されずに側部から滴の側面に接触し、滴に浸ることができる。   In addition, the lower drop holder advantageously has a recess on its upper surface for receiving the lower surface of the drop. This depression preferably has a circular gap shape. In this gap, the drop is held from the side in all directions. Due to the surface tension of the drop, its side surface and its upper surface protrude from the depression, so that the drop is exposed in its side region and can contact the upper drop holder at its upper surface. Thus, the edge of the wafer can touch the side of the drop from the side without interruption and be immersed in the drop.

さらに、下部滴保持器は、ほぼ円筒の形を有し、垂直に配置され、その上部端面に、滴が塗布されることが有利である。これにより、滴の側面は、全ての側から良好にアクセス可能である。   Furthermore, it is advantageous that the lower drop holder has a substantially cylindrical shape and is arranged vertically, on which the drops are applied. Thereby, the side of the drop is well accessible from all sides.

さらに、本発明の装置の上部滴保持器は、開口部が下向きの小管を有していることが有利である。したがって、この小管は下向きに開口し、それゆえ、その開口部の周囲の縁部で滴に接触することができ、滴は、その表面張力により小管の内部へ少し入り込む。したがって、下部滴保持器と上部滴保持器との間に、滴を最適に保持することができる。この際、滴は、その表面張力によりその形状を安定して維持する。   Furthermore, the upper drop holder of the device according to the invention advantageously has a small tube with an opening facing downward. Thus, the tubule opens downward and can therefore contact the drop at the edge around the opening, and the drop slightly penetrates into the tubule due to its surface tension. Therefore, a drop can be optimally held between the lower drop holder and the upper drop holder. At this time, the droplet maintains its shape stably by its surface tension.

さらに、この場合、小管は、定常波を小管に生成することのできる音源と接続されていることが有利である。この場合、小管は、チューブを介して拡声器と接続されていることが有利である。小管の開口部が閉じられておりそれゆえ滴と適切に接触しているかどうかを、定常波の生成時に周波数から認識することができる。   Furthermore, in this case, the small tube is advantageously connected to a sound source capable of generating a standing wave in the small tube. In this case, it is advantageous that the small tube is connected to the loudspeaker via a tube. Whether the tubule opening is closed and therefore in proper contact with the drop can be recognized from the frequency when generating a standing wave.

この場合、小管は、定常波の周波数認識のための装置と接続されていることが有利である。このため、同じくチューブを介して小管に接続されたマイクロフォンを使用することが有利である。これにより、滴が小管に接触しているかどうかを簡単に認識することができる。   In this case, the small tube is advantageously connected to a device for frequency recognition of standing waves. For this reason, it is advantageous to use a microphone which is also connected to a small tube via a tube. Thereby, it can be easily recognized whether or not the droplet is in contact with the small tube.

さらに、滴は、上部滴保持器の小管を介して吹き出し可能であることが有利である。これにより、必要であれば上部滴保持器から滴を放つことができる。このため、小管が圧縮空気源に接続されていることが有利である。   Furthermore, it is advantageous for the drops to be able to be blown out through a small tube of the upper drop holder. This allows droplets to be released from the upper drop holder if necessary. For this reason, it is advantageous for the small tube to be connected to a compressed air source.

さらに、本発明の方法では、下部滴保持器の上端部の直径が、上部滴保持器の下端部の直径よりも大きいことが有利である。したがって、滴の上面が比較的小さい上部滴保持器と接触している間は、滴を下部滴保持器の中央に保持することができ、滴は下部滴保持器における窪みの下部領域に入っていることが有利である。   Furthermore, in the method of the present invention, it is advantageous that the diameter of the upper end of the lower drop holder is larger than the diameter of the lower end of the upper drop holder. Thus, while the top surface of the drop is in contact with a relatively small upper drop holder, the drop can be held in the middle of the lower drop holder and the drop enters the lower area of the depression in the lower drop holder It is advantageous.

この場合、小管として形成された上部滴保持器は、４〜８ｍｍの外径および２〜６ｍｍの内径を有していることが有利である。その場合、有利には、１００〜２００μｌの滴を、下部滴保持器と上部滴保持器との間に最適に保持することができる。この場合、滴による端部の走査の際に、下部滴保持器の上端部と上部滴保持器の下端部との間隔は、１ｍｍと４ｍｍとの間の範囲内であることが有利である。   In this case, it is advantageous that the upper drop holder formed as a small tube has an outer diameter of 4-8 mm and an inner diameter of 2-6 mm. In that case, advantageously 100-200 μl drops can be optimally held between the lower drop holder and the upper drop holder. In this case, it is advantageous that the distance between the upper end of the lower drop holder and the lower end of the upper drop holder is in the range between 1 mm and 4 mm when scanning the end with the drop.

本発明の装置は、上記方法の１つを実施するための制御部を有していることが有利である。この場合、制御部は、本発明の方法が実施されるように本発明の装置の構成要素を操作または作動させるための制御パルスを生成する。   The device according to the invention advantageously has a control for carrying out one of the methods described above. In this case, the control unit generates control pulses for operating or actuating the components of the inventive device so that the inventive method is implemented.

本発明は、本発明の方法の１つを実施するための手段を有した装置をさらに含んでいる。   The present invention further includes an apparatus having means for performing one of the methods of the present invention.

次に、実施形態および図面を参照して本発明を詳しく説明する。   Next, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and drawings.

図１および図２に、ウエハー１の不純物を分析するための本発明の装置の第１実施形態を示す。ウエハー１は、その主面に対して垂直な回転軸を中心として回転できるように、垂直軸を中心として回転可能なプラットフォーム上に載っている。プラットフォームを、駆動モーターによって回転させることができる。   1 and 2 show a first embodiment of the apparatus of the present invention for analyzing impurities on a wafer 1. The wafer 1 is placed on a platform that is rotatable about a vertical axis so that the wafer 1 can be rotated about a rotation axis that is perpendicular to the main surface thereof. The platform can be rotated by a drive motor.

ウエハー１の不純物を分析するための本発明の装置は、下部滴保持器２と、上部滴保持器３と、ピペット４とをさらに備えている。この場合、下部滴保持器２、上部滴保持器３、および、ピペット４は、互いに対して移動可能な別個の要素としてそれぞれ構成されている。このため、これらは、回転軸６を中心として回転可能なスワンネック７にそれぞれ取り付けられている。さらに、下部滴保持器２は、水平に延びるスイベルアーム上に設けられている。スイベルアームは、スワンネック７の端部の周囲において垂直軸を中心として回転可能である。さらに、下部滴保持器２、上部滴保持器３、および、ピペット４は、垂直移動可能である。   The apparatus of the present invention for analyzing impurities on the wafer 1 further includes a lower drop holder 2, an upper drop holder 3, and a pipette 4. In this case, the lower drop holder 2, the upper drop holder 3, and the pipette 4 are each configured as separate elements that are movable relative to each other. For this reason, these are each attached to the swan neck 7 which can rotate centering on the rotating shaft 6. FIG. Furthermore, the lower drop holder 2 is provided on a swivel arm that extends horizontally. The swivel arm is rotatable around the vertical axis around the end of the swan neck 7. Further, the lower drop holder 2, the upper drop holder 3, and the pipette 4 are vertically movable.

さらに、ウエハー１の付近の装置の側部領域に、洗浄装置５が備えられている。下部滴保持器２、上部滴保持器３、および、ピペット４は、洗浄装置５上へ旋回可能であり、洗浄装置５中へ沈下可能である。   Further, a cleaning device 5 is provided in a side region of the device in the vicinity of the wafer 1. The lower drop holder 2, the upper drop holder 3 and the pipette 4 can pivot on the cleaning device 5 and can sink into the cleaning device 5.

この場合、下部滴保持器２は、側部領域からウエハー１の縁へ、回転軸６を中心とした回転によって旋回可能である。この場合、下部滴保持器２の設けられているスイベルアームを高さ調整し、回転させることにより、下部滴保持器２をウエハー１の縁領域の下へ移動させることができる。上部滴保持器３およびピペット４も、側部領域からウエハー１の縁領域へ移動可能である。この場合、下部滴保持器２、上部滴保持器３、および、ピペット４は、ウエハー１の端部領域における共通の点へ移動可能である。   In this case, the lower drop holder 2 can be swung from the side region to the edge of the wafer 1 by rotation about the rotation axis 6. In this case, the lower drop holder 2 can be moved below the edge region of the wafer 1 by adjusting the height of the swivel arm provided with the lower drop holder 2 and rotating the swivel arm. The upper drop holder 3 and the pipette 4 are also movable from the side area to the edge area of the wafer 1. In this case, the lower drop holder 2, the upper drop holder 3 and the pipette 4 can move to a common point in the end region of the wafer 1.

この場合、ウエハー１の不純物を分析するための本発明の方法の一実施形態は、以下のように行われる。最初は、下部滴保持器２、上部滴保持器３、および、ピペット４は、洗浄装置５中にある。次に、ウエハー１を本発明の装置に入れて、回転台の中央に配置する。次に、実際の方法を開始するため、下部滴保持器２を側部領域からウエハー１の端部領域へ動かす。なお、このことは、回転軸６を中心としてスワンネック７をまず旋回させ、下部滴保持器２をウエハー１の下面の位置へ下げ、下部滴保持器２の設けられているスイベルアームをウエハー１の端部の下へと旋回させることによって行われる。次に、ピペット４を、側部領域から下部滴保持器２の上方の領域へ動かし、ピペット４が、ウエハー１の端部領域においてウエハー１の端部のすぐ上方で下部滴保持器２に対向するようにする。次に、窪みの設けられた下部滴保持器２の上面に滴１０を塗布する。したがって、滴１０は、窪みに集まる。しかしながら、滴１０は、その表面張力によって窪みから突出し、ウエハー１の端部に接触する。次に、ピペット４を、下部滴保持器２の上方の領域から元に戻すように取り退ける。必要に応じて、ピペット４を、洗浄装置５中で洗浄してもよい。ここでは、異なる３つの洗浄装置５が備えられており、ピペット４は、その非動作の期間中ずっと洗浄装置中に留まっていてもよい。ピペット４を取り退けた後、上部滴保持器３を、下部滴保持器２の上方の領域へ動かし、滴１０の上面に接触させる。次に、端部における滴１０の微調整がさらに必要であれば、下部および上部の滴保持器２，３を動かすことによって行ってもよい。   In this case, one embodiment of the method of the present invention for analyzing impurities on the wafer 1 is performed as follows. Initially, the lower drop holder 2, the upper drop holder 3 and the pipette 4 are in the cleaning device 5. Next, the wafer 1 is placed in the apparatus of the present invention and placed at the center of the turntable. Next, in order to start the actual method, the lower drop holder 2 is moved from the side region to the end region of the wafer 1. This means that the swan neck 7 is first swiveled around the rotation axis 6 to lower the lower drop holder 2 to a position on the lower surface of the wafer 1, and the swivel arm provided with the lower drop holder 2 is moved to the wafer 1. This is done by swiveling under the end of the. Next, the pipette 4 is moved from the side area to the area above the lower drop holder 2 so that the pipette 4 faces the lower drop holder 2 just above the edge of the wafer 1 in the edge area of the wafer 1. To do. Next, the droplet 10 is applied to the upper surface of the lower droplet holder 2 provided with the depression. Therefore, the droplet 10 collects in the depression. However, the droplet 10 protrudes from the depression due to its surface tension and contacts the end of the wafer 1. Next, the pipette 4 is withdrawn so as to return from the area above the lower drop holder 2. If necessary, the pipette 4 may be cleaned in the cleaning device 5. Here, three different cleaning devices 5 are provided, and the pipette 4 may remain in the cleaning device throughout its inactive period. After withdrawing the pipette 4, the upper drop holder 3 is moved to the area above the lower drop holder 2 and brought into contact with the upper surface of the drop 10. Next, if further fine adjustment of the drop 10 at the end is necessary, it may be performed by moving the lower and upper drop holders 2 and 3.

上記のやり方の代わりに、下部滴保持器２をまずウエハー１の端部の下へ動かすのではなく、水平位置に関してウエハー１の付近に配置してもよい。その後、ピペット４を下部滴保持器２の上方の領域へ動かし、下部滴保持器２の上面の窪みに滴１０を入れることによって、下部滴保持器２上へピペット４によって滴１０を塗布する。この場合、滴１０は、下部滴保持器２上に載り、その下面が窪みにある。この場合、滴１０の残りの部分は、液体の表面張力によって凝集される。次に、ピペット４を、下部滴保持器２の上方の領域から取り退け、上部滴保持器３をこの領域へ動かす。次に、例えば上部滴保持器３を下げることによって、上部滴保持器３を滴１０の上面に接触させることができる。このとき、下部滴保持器２は、その垂直位置に関して、ウエハー１の下方、上部滴保持器３はウエハー１の上方、滴１０はウエハー１の高さにある。次に、下部および上部の滴保持器２，３を側方から動かし、滴１０をウエハー１の端部に接触させることができる。この際、滴１０は、ウエハー１の端部が滴１０に浸り、ウエハー１の上面と下面との縁領域も滴１０と接触するように変形する。   As an alternative to the above approach, the lower drop holder 2 may be placed in the vicinity of the wafer 1 with respect to the horizontal position, instead of first moving it below the edge of the wafer 1. Thereafter, the pipette 4 is moved to a region above the lower drop holder 2, and the drop 10 is put into the depression on the upper surface of the lower drop holder 2 to apply the drop 10 onto the lower drop holder 2 by the pipette 4. In this case, the droplet 10 is placed on the lower droplet holder 2 and its lower surface is in a recess. In this case, the remaining part of the droplet 10 is agglomerated by the surface tension of the liquid. The pipette 4 is then withdrawn from the area above the lower drop holder 2 and the upper drop holder 3 is moved to this area. Next, the upper drop holder 3 can be brought into contact with the upper surface of the drop 10 by lowering the upper drop holder 3, for example. At this time, with respect to the vertical position of the lower drop holder 2, the lower drop holder 2 is below the wafer 1, the upper drop holder 3 is above the wafer 1, and the drop 10 is at the height of the wafer 1. Next, the lower and upper drop holders 2 and 3 can be moved from the side to bring the drop 10 into contact with the edge of the wafer 1. At this time, the droplet 10 is deformed so that the edge portion of the wafer 1 is immersed in the droplet 10 and the edge region between the upper surface and the lower surface of the wafer 1 is also in contact with the droplet 10.

次に、上記の双方の選択肢のどちらを使用したかに関係なく、図３および図４に記載の状況が生じる。この場合、下部滴保持器２は、ウエハー１の端部の下方にあり、上部滴保持器３は、ウエハー１の端部の上方にある。滴１０は、下部滴保持器２と上部滴保持器３との間に配置され、下部滴保持器２と上部滴保持器３との双方に接触している。同様に、ウエハー１の端部は、滴１０の一方の面に接触している。ウエハー１の端部は、上部滴保持器３と下部滴保持器２との間の領域にまでいくらか入り込んでいる。その結果、ウエハー１の上面および下面の小さな縁領域を含めて端部領域の全体が滴１０に接触している。   Next, the situation described in FIGS. 3 and 4 occurs regardless of which of the above options is used. In this case, the lower drop holder 2 is below the end of the wafer 1 and the upper drop holder 3 is above the end of the wafer 1. The drop 10 is disposed between the lower drop holder 2 and the upper drop holder 3 and is in contact with both the lower drop holder 2 and the upper drop holder 3. Similarly, the end of the wafer 1 is in contact with one surface of the droplet 10. The edge of the wafer 1 has entered some area up to the area between the upper drop holder 3 and the lower drop holder 2. As a result, the entire end region, including the small edge regions on the upper and lower surfaces of the wafer 1, is in contact with the droplet 10.

この場合、下部滴保持器２は、その水平に延びる端面に窪みの設けられた円筒の形を有している。上部滴保持器３は、垂直に配置された小管の形を有している。この場合、小管の下部開口部は、ほぼ水平な面にある。なお、この実施形態では、小管の外径は６ｍｍ、内径は４ｍｍである。下部滴保持器２の直径は、上部滴保持器３の外径よりも大きく、窪みの直径は、小管の外径にほぼ相当している。この場合、ウエハー１の端部は、下部滴保持器２の上端部と上部滴保持器３の下端部との間のほぼ中央にある。この場合、下部滴保持器２の上端部と上部滴保持器３の下端部との間隔は、上部滴保持器３の外径よりも小さい。この場合、ウエハー１の端部は、部分的に、上部滴保持器３の下方にあり、ウエハー１と上部滴保持器３の下端部との重複領域は、水平面における投影図において、径方向の最大の長さが上部滴保持器３の外径の約２０％である。   In this case, the lower drop holder 2 has a cylindrical shape in which a recess is provided in the horizontally extending end face. The upper drop holder 3 has the shape of a small tube arranged vertically. In this case, the lower opening of the small tube is on a substantially horizontal surface. In this embodiment, the small tube has an outer diameter of 6 mm and an inner diameter of 4 mm. The diameter of the lower drop holder 2 is larger than the outer diameter of the upper drop holder 3, and the diameter of the recess substantially corresponds to the outer diameter of the small tube. In this case, the end portion of the wafer 1 is substantially at the center between the upper end portion of the lower drop holder 2 and the lower end portion of the upper drop holder 3. In this case, the distance between the upper end of the lower drop holder 2 and the lower end of the upper drop holder 3 is smaller than the outer diameter of the upper drop holder 3. In this case, the end portion of the wafer 1 is partially below the upper droplet holder 3, and the overlapping area between the wafer 1 and the lower end portion of the upper droplet holder 3 is a radial direction in the projection view on the horizontal plane. The maximum length is about 20% of the outer diameter of the upper drop holder 3.

図３および図４に示す構造によって、一方ではウエハー１の端部領域と滴１０とが最適に接触し、他方では下部滴保持器２と上部滴保持器３との間に滴１０が最適に保持される。次に、ウエハー１の縁を、ウエハー１の回転により滴１０を貫通させて動かし、走査する。ウエハー１の端部領域における不純物は、滴１０に集まり、相当して高濃度で分析され得る。   3 and 4, the end region of the wafer 1 and the drop 10 are optimally in contact on the one hand, and the drop 10 is optimally placed between the lower drop holder 2 and the upper drop holder 3 on the other hand. Retained. Next, the edge of the wafer 1 is moved through the droplet 10 by the rotation of the wafer 1 and scanned. Impurities in the edge region of the wafer 1 collect in the droplet 10 and can be analyzed at a correspondingly high concentration.

ウエハー１の全端部領域を、例えばウエハー１を少なくとも３６０°回転させることによって走査した後、上部滴保持器３を下部滴保持器２の上方の領域から取り退け、さらに、この領域へピペットを動かして滴１０を吸引する。この場合、ステップの順序は、同じく２つの選択肢において、滴１０を塗布する際のステップ順序とは逆に行ってもよい。次に、ピペットによって吸引した滴１０を、レーザーの端部領域から液体へ移った不純物について分析することができる。   After scanning the entire end region of the wafer 1, for example by rotating the wafer 1 by at least 360 °, the upper drop holder 3 is withdrawn from the area above the lower drop holder 2, and a pipette is moved into this area. Move to aspirate drop 10. In this case, the order of the steps may be reversed from the order of steps when applying the droplet 10 in the same two options. The drop 10 aspirated by the pipette can then be analyzed for impurities transferred from the laser end region to the liquid.

本発明の実施形態では、小管の形の上部滴保持器３が、チューブを介して拡声器とマイクロフォンとに接続されている。拡声器を介して、小管中に、定常波を生成することができる。定常波の周波数は、小管の開口部が滴１０によって閉じられているかどうかに依存している。したがって、周波数を測定することで、上部滴保持器３が滴１０に接触しているかどうかを確かめることができる。さらに、小管は、超過圧力を小管中に生成することのできる吹き出し装置を備えている。この超過圧力によって、必要に応じて滴１０を上部滴保持器３から確実に分離することができる。   In the embodiment of the present invention, an upper drop holder 3 in the form of a small tube is connected to a loudspeaker and a microphone via a tube. A standing wave can be generated in the small tube via the loudspeaker. The frequency of the standing wave depends on whether the tubule opening is closed by the drop 10. Therefore, by measuring the frequency, it can be ascertained whether the upper drop holder 3 is in contact with the drop 10. In addition, the tubule is equipped with a blowing device that can generate overpressure in the tubule. This overpressure ensures that the drops 10 can be separated from the upper drop holder 3 as required.

この実施形態では、下部滴保持器２および上部滴保持器３が、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）でできており、ＰＴＦＥは、その材料特性により本発明の滴保持器に最適である。滴１０のために使用される液体は、高純度のフッ化水素溶液である。   In this embodiment, the lower drop holder 2 and the upper drop holder 3 are made of PTFE (polytetrafluoroethylene), and PTFE is optimal for the drop holder of the present invention due to its material properties. The liquid used for the drops 10 is a high purity hydrogen fluoride solution.

本発明の方法および本発明の装置によって、ウエハー１の縁領域も、不純物について分析することが可能である。この場合、下部および上部の滴保持器２，３を使用し、本発明の方法では下部および上部の滴保持器２，３の間に滴１０があることで、ウエハー１の全端部領域と滴１０との間の良好な接触が保証される。したがって、滴１０を貫通するウエハー１の動きによって下部滴保持器２から滴が引き剥がされるのも防止される。下部滴保持器２と上部滴保持器３とが互いに対して移動可能であることにより、非常に柔軟な方法実施が可能である。この方法実施では、このため、分離ピペットを使用してもよい。さらに、本発明の装置では、全ての要素を洗浄することが可能であり、これにより測定精度が高くなる。   The edge region of the wafer 1 can also be analyzed for impurities by the method of the present invention and the device of the present invention. In this case, lower and upper drop holders 2 and 3 are used, and in the method of the present invention, there is a drop 10 between the lower and upper drop holders 2 and 3, so that Good contact between the drops 10 is guaranteed. Accordingly, it is possible to prevent the droplet from being peeled off from the lower droplet holder 2 by the movement of the wafer 1 penetrating the droplet 10. Due to the fact that the lower drop holder 2 and the upper drop holder 3 are movable relative to each other, a very flexible method implementation is possible. For this reason, a separation pipette may be used for this purpose. Furthermore, in the apparatus of the present invention, all elements can be cleaned, which increases the measurement accuracy.

図１は、本発明の装置の第１実施形態の斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a first embodiment of the apparatus of the present invention. 図２は、本発明の装置の第１実施形態の拡大斜視図である。FIG. 2 is an enlarged perspective view of the first embodiment of the apparatus of the present invention. 図３は、本発明の方法の方法工程の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of the method steps of the method of the present invention. 図４は、図３に示す図面の断面図である。4 is a cross-sectional view of the drawing shown in FIG.

Claims (32)

ウエハー（１）の不純物を分析するための方法であって、
液体の滴（１０）を、下部滴保持器（２）と上部滴保持器（３）との間に、前記滴（１０）の下面が前記下部滴保持器（２）に接触し、前記滴（１０）の上面が前記上部滴保持器（３）に接触するように用意するステップと、
前記ウエハー（１）の端部を、前記滴（１０）の側面に前記端部を接触させながら、前記滴（１０）によって走査するステップと、
前記滴（１０）を吸引し分析するステップとを含む方法。 A method for analyzing impurities in a wafer (1), comprising:
The liquid drop (10) is placed between the lower drop holder (2) and the upper drop holder (3), and the lower surface of the drop (10) is in contact with the lower drop holder (2). Preparing the upper surface of (10) to contact the upper drop holder (3);
Scanning the end of the wafer (1) with the drop (10) while contacting the end with the side of the drop (10);
Aspirating and analyzing said drop (10). 請求項１に記載の方法において、
前記滴（１０）を用意するステップは、
前記滴（１０）を前記下部滴保持器（２）上に塗布するステップと、
前記滴（１０）の前記上面を前記上部滴保持器（３）に接触させるステップとを含む方法。 The method of claim 1, wherein
Preparing the drop (10) comprises:
Applying the drop (10) onto the lower drop holder (2);
Contacting the upper surface of the drop (10) with the upper drop holder (3). 請求項２に記載の方法において、
前記滴（１０）を前記下部滴保持器（２）上に塗布するステップを、分離ピペット（４）によって行う方法。 The method of claim 2, wherein
Applying the drop (10) onto the lower drop holder (2) by means of a separation pipette (4). 請求項２に記載の方法において、
前記上部滴保持器（３）を、側部領域から下部滴保持器（２）の上方の領域へ動かす方法。 The method of claim 2, wherein
Moving the upper drop holder (3) from the side area to the area above the lower drop holder (2). 請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法において、
前記滴（１０）を用意するステップは、
前記下部滴保持器（２）の上方の領域へピペット（４）を動かすステップと、
前記ピペット（４）によって前記下部滴保持器（２）上に前記滴（１０）を塗布するステップと、
前記ピペット（４）を前記下部滴保持器（２）の上方の領域から取り退けるステップと、
前記上部滴保持器（３）を前記下部滴保持器（２）の上方の領域へ動かすステップと、
前記滴（１０）の前記上面に前記上部滴保持器（３）を接触させるステップとを含む方法。 The method according to any one of claims 1 to 4, wherein
Preparing the drop (10) comprises:
Moving the pipette (4) to the area above the lower drop holder (2);
Applying the drop (10) onto the lower drop holder (2) by the pipette (4);
Withdrawing the pipette (4) from the area above the lower drop holder (2);
Moving the upper drop holder (3) to an area above the lower drop holder (2);
Contacting the upper drop holder (3) with the upper surface of the drop (10). 請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法において、
前記滴（１０）によって前記ウエハー（１）の前記端部を走査した後に、
前記上部滴保持器（３）を前記下部滴保持器（２）の上方の領域から取り退けるステップと、
ピペット（４）を前記下部滴保持器（２）の上方の領域へ動かすステップと、
前記滴（１０）を前記ピペット（４）によって吸引するステップと、
前記滴（１０）を分析するステップとを含む方法。 The method according to any one of claims 1 to 5, wherein
After scanning the edge of the wafer (1) with the drop (10),
Withdrawing the upper drop holder (3) from the area above the lower drop holder (2);
Moving the pipette (4) to the area above the lower drop holder (2);
Aspirating the drop (10) with the pipette (4);
Analyzing the drop (10). 請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法において、
前記上部および／または下部滴保持器（３）を側部領域から前記ウエハー（１）の前記端部の領域へ動かす方法。 In the method of any one of Claims 1-6,
Method of moving the upper and / or lower drop holder (3) from the side area to the end area of the wafer (1). 請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法において、
前記下部および／または上部滴保持器（２，３）を使用中に洗浄する方法。 In the method of any one of Claims 1-7,
Cleaning the lower and / or upper drop holder (2, 3) during use. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法において、
前記ウエハー（１）の前記端部は、前記滴（１０）による前記走査の際に、前記上部滴保持器（２）と前記下部滴保持器（３）との間の領域にある方法。 The method according to any one of claims 1 to 8, wherein
The method wherein the edge of the wafer (1) is in the region between the upper drop holder (2) and the lower drop holder (3) during the scanning with the drop (10). 請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法において、
前記上部滴保持器（３）は、小管を備え、
前記小管の開口部は、前記滴（１０）の前記上面に接触している方法。 The method according to any one of claims 1 to 9, wherein
The upper drop holder (3) comprises a small tube,
A method wherein the opening of the tubule is in contact with the upper surface of the drop (10). 請求項１０に記載の方法において、
前記小管は、定常波を前記小管に生成可能な音源に接続されている方法。 The method of claim 10, wherein
The tubule is connected to a sound source capable of generating a standing wave in the tubule. 請求項１１に記載の方法において、
前記滴を、前記定常波の周波数認識により検出する方法。 The method of claim 11, wherein
A method of detecting the droplet by frequency recognition of the standing wave. 請求項１０に記載の方法において、
前記滴（１０）は、前記小管を介して吹き出し可能である方法。 The method of claim 10, wherein
Method wherein the drop (10) can be blown out through the small tube. 請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法において、
前記下部滴保持器（２）は、その上面に窪みを有し、
前記窪みに、前記滴（１０）の前記下面が落ち着く方法。 The method according to any one of claims 1 to 13, wherein
The lower drop holder (2) has a depression on its upper surface;
A method in which the lower surface of the drop (10) settles in the depression. 下部滴保持器（２）と、
上部滴保持器（３）と、
液体の滴（１０）を用意および／または吸引するための装置（４）と、
前記滴（１０）を分析するための装置とを備える、ウエハー（１）の不純物を分析するための装置。 A lower drop holder (2);
An upper drop holder (3);
A device (4) for preparing and / or aspirating a drop of liquid (10);
An apparatus for analyzing impurities of the wafer (1), comprising an apparatus for analyzing the droplet (10). 請求項１５に記載の装置において、
前記上部滴保持器（３）は、前記下部滴保持器（２）に対して移動可能に構成されている装置。 The apparatus of claim 15, wherein
The upper drop holder (3) is configured to be movable with respect to the lower drop holder (2). 請求項１５または１６に記載の装置において、
前記下部滴保持器（２）と、前記上部滴保持器（３）と、前記滴（１０）を用意および／または吸引するための前記装置（４）とは、別個の要素としてそれぞれ構成されている装置。 The apparatus according to claim 15 or 16,
The lower drop holder (2), the upper drop holder (3) and the device (4) for preparing and / or aspirating the drop (10) are each configured as separate elements. Equipment. 請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の装置において、
前記滴（１０）を用意および／または吸引するための前記装置（４）と前記下部滴保持器（２）とは、互いに相対的に動けるように構成されている装置。 The apparatus according to any one of claims 15 to 17,
The device (4) for preparing and / or aspirating the drop (10) and the lower drop holder (2) are configured to move relative to each other. 請求項１５〜１８のいずれか１項に記載の装置において、
前記上部滴保持器（３）、ならびに／または、前記滴（１０）を用意および／もしくは吸引するための前記装置（４）は、側部領域から前記ウエハー（１）の縁の領域へ移動可能である装置。 The device according to any one of claims 15 to 18,
The upper drop holder (3) and / or the device (4) for preparing and / or aspirating the drop (10) can be moved from the side area to the edge area of the wafer (1). Is a device. 請求項１５〜１９のいずれか１項に記載の装置において、
前記下部滴保持器（２）は、側部領域から前記ウエハー（１）の縁の領域へ移動可能である装置。 The device according to any one of claims 15 to 19, wherein
The apparatus in which the lower drop holder (2) is movable from the side area to the edge area of the wafer (1). 請求項１５〜２０のいずれか１項に記載の装置において、
前記下部滴保持器（２）および／または前記上部滴保持器（３）のために、洗浄装置（５）が備えられている装置。 The apparatus according to any one of claims 15 to 20,
A device provided with a cleaning device (5) for the lower drop holder (2) and / or the upper drop holder (3). 請求項１５〜２１のいずれか１項に記載の装置において、
前記滴（１０）を用意および／または吸引するための前記装置は、ピペット（４）を備えている装置。 The apparatus according to any one of claims 15 to 21,
The device for preparing and / or aspirating the drop (10) comprises a pipette (4). 請求項１５〜２２のいずれか１項に記載の装置において、
前記下部滴保持器（２）および前記上部滴保持器（３）の、少なくとも前記滴（１０）に接触する表面は、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）でできている装置。 The device according to any one of claims 15 to 22,
A device in which at least the surfaces of the lower drop holder (2) and the upper drop holder (3) contacting the drop (10) are made of PTFE (polytetrafluoroethylene). 請求項１５〜２３のいずれか１項に記載の装置において、
前記下部滴保持器（２）は、その上面に、前記滴（１０）の前記下面を受け入れるための窪みを有している装置。 24. The device according to any one of claims 15-23.
The lower drop holder (2) has a recess on its upper surface for receiving the lower surface of the drop (10). 請求項１５〜２４のいずれか１項に記載の装置において、
前記下部滴保持器（２）は、実質的に円筒の形を有している装置。 25. The apparatus according to any one of claims 15 to 24, wherein:
The lower drop holder (2) is a device having a substantially cylindrical shape. 請求項１５〜２５のいずれか１項に記載の装置において、
前記上部滴保持器（３）は、小管を備え、
前記小管の開口部は、下へ向けられている装置。 The device according to any one of claims 15 to 25, wherein:
The upper drop holder (3) comprises a small tube,
The small tube opening is directed downward. 請求項２６に記載の装置において、
前記小管は、定常波を前記小管に生成可能な音源に接続されている装置。 The apparatus of claim 26.
The small tube is connected to a sound source capable of generating a standing wave in the small tube. 請求項２７に記載の装置において、
前記小管は、前記定常波の周波数認識のための装置に接続されている装置。 28. The apparatus of claim 27.
The small tube is connected to a device for frequency recognition of the standing wave. 請求項２６に記載の装置において、
前記滴（１０）は、前記小管を介して吹き出し可能である装置。 The apparatus of claim 26.
Device wherein the drop (10) can be blown out through the small tube. 請求項１５〜２９のいずれか１項に記載の装置において、
前記下部滴保持器（２）の上端部の直径は、前記下部滴保持器（３）の下端部の直径よりも大きい装置。 30. A device according to any one of claims 15 to 29.
The diameter of the upper end part of the said lower drop holder (2) is larger than the diameter of the lower end part of the said lower drop holder (3). 請求項１５〜３０のいずれか１項に記載の装置において、
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法を実施するための制御部を備える装置。 The device according to any one of claims 15 to 30, wherein
An apparatus provided with the control part for implementing the method of any one of Claims 1-14. 請求項１５〜３１のいずれか１項に記載の装置において、
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法を実施するための手段を備える装置。 The apparatus according to any one of claims 15 to 31, wherein
An apparatus comprising means for carrying out the method according to claim 1.
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