JP2010027567A

JP2010027567A - 透明導電性フィルム及びタッチパネル

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Publication number: JP2010027567A
Application number: JP2008190985A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiro Nakajima; 一裕中島; Tomotake Nashiki; 智剛梨木; Hideo Sugawara; 英男菅原
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2008-07-24
Filing date: 2008-07-24
Publication date: 2010-02-04
Anticipated expiration: 2028-07-24
Also published as: JP5160329B2

Abstract

【課題】透明導電層側から入射する波長５５０ｎｍの光の反射率を低減できる透明導電性フィルム、及びこれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】透明フィルム基材(F)の屈折率をｎｆ、第１透明誘電体層(1)の屈折率をｎ１、第２透明誘電体層(2)の屈折率をｎ２、第３透明誘電体層(3)の屈折率をｎ３、透明導電層(4)の屈折率をｎ４としたとき、ｎ３≦ｎ１＜ｎｆ＜ｎ４＜ｎ２の関係を満たし、第１透明誘電体層(1)の厚みが１１０〜４００ｎｍであり、第２透明誘電体層(2)の厚みが１５〜６５ｎｍであり、第３透明誘電体層(3)の厚みが４０〜１００ｎｍであり、透明導電層(4)の厚みが１５〜３０ｎｍである透明導電性フィルムとする。
【選択図】図１

Description

本発明は、透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネルに関する。

従来、透明導電性部材としては、ガラス上に酸化インジウム薄膜を形成した、いわゆる導電性ガラスがよく知られているが、導電性ガラスは基材がガラスであるために可撓性、加工性に劣り、用途によっては好ましくない場合がある。そのため、近年では可撓性、加工性に加えて、耐衝撃性に優れ、軽量であるなどの利点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムをはじめとする各種のプラスチックフィルムを基材とした透明導電性フィルムが使用されている。

上記透明導電性フィルムをタッチパネルに適用する際は、液晶ディスプレイなどのディスプレイと組み合わせて使用する場合が多いが、光が透明導電性フィルムを通過する際に透明導電層表面の反射率が大きいとディスプレイ画面のコントラストや輝度が低下するため好ましくない。

透明導電層表面の反射率を低減するために、例えば、下記特許文献１には、基板側から順に、屈折率１．７以上のＨ_１層、屈折率１．５以下のＬ_１層、及び透明導電層が積層された透明導電性積層体が記載されている。また、特許文献１には、上記Ｈ_１層に接して基板側に、屈折率が約１．５以下で膜厚が３０〜１００ｎｍのＬ´層や、上記Ｈ_１層と基板との中間の屈折率を有し、膜厚がおよそ３０〜１００ｎｍのＭ層等を設けてもよいことが記載されている。
特開２０００−３０１６４８号公報

しかし、特許文献１に記載の透明導電性積層体では、視感度曲線の中心波長である５５０ｎｍの光の反射率を低減するには未だ不充分であった。

上記課題を解決するため、本発明は、透明導電層側から入射する波長５５０ｎｍの光の反射率を低減できる透明導電性フィルム、及びこれを用いたタッチパネルを提供することを目的とする。

前記目的を達成するため、本発明の透明導電性フィルムは、透明フィルム基材の一方の面に、前記透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層、第３透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、前記透明フィルム基材の屈折率をｎｆ、前記第１透明誘電体層の屈折率をｎ１、前記第２透明誘電体層の屈折率をｎ２、前記第３透明誘電体層の屈折率をｎ３、前記透明導電層の屈折率をｎ４としたとき、ｎ３≦ｎ１＜ｎｆ＜ｎ４＜ｎ２の関係を満たし、前記第１透明誘電体層の厚みが、１１０〜４００ｎｍであり、前記第２透明誘電体層の厚みが、１５〜６５ｎｍであり、前記第３透明誘電体層の厚みが、４０〜１００ｎｍであり、前記透明導電層の厚みが、１５〜３０ｎｍであることを特徴とする。

本発明の透明導電性フィルムでは、各層の屈折率の大小関係と各層の厚みを上記のように適切に制御することによって、透明導電層側から入射する波長５５０ｎｍの光の反射率を低減できる。これにより、ディスプレイ画面のコントラストや輝度の低下を防止できる。また、本発明の透明導電性フィルムは、透明導電層と透明フィルム基材との間に、少なくとも第１、第２及び第３透明誘電体層の三層の透明誘電体層を有することから、屈曲性、及び透明導電層の耐擦傷性が良好となる。なお、本発明における屈折率は、波長589.3nmの光に対する屈折率である。

本発明の透明導電性フィルムでは、前記ｎｆが１．５０〜１．７０であり、前記ｎ１が１．３０〜１．６５であり、前記ｎ２が１．８０〜２．４０であり、前記ｎ３が１．３０〜１．６５であり、前記ｎ４が１．７５〜２．１０であることが好ましい。各層の屈折率を上記範囲に制御することにより、透明導電層側から入射する波長５５０ｎｍの光の反射率をより低減できる。

本発明の透明導電性フィルムでは、前記第１透明誘電体層の厚みが、１６０〜２１５ｎｍであることが好ましい。可視光領域全体において低反射率を実現できるからである。

本発明の透明導電性フィルムでは、前記ｎ４から前記ｎ３を引いた値が０．４〜０．７であることが好ましい。透明導電層側から入射する波長５５０ｎｍの光の反射率をより一層低減できるからである。

前記透明フィルム基材は、厚みが２〜２００μｍであることが好ましい。機械的強度を確保した上で、フィルムの薄膜化が容易となるからである。

本発明の透明導電性フィルムは、前記透明フィルム基材の他方の面に透明粘着剤層を介して貼り合わされた透明基体を更に含んでいてもよい。フィルムの機械的強度が向上し、特にカールなどの発生を防止できるからである。

本発明のタッチパネルは、透明導電層を有する一対のパネル板を、前記透明導電層同士が対向するようにスペーサを介して配置してなるタッチパネルであって、少なくとも一方の前記パネル板が、上述した本発明の透明導電性フィルムを含むタッチパネルである。本発明のタッチパネルによれば、上述した本発明の透明導電性フィルムと同様の効果が得られる。

以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、同一の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。

図１は、本発明の透明導電性フィルムの一例を示したものであり、透明フィルム基材Ｆの一方の面に、第１透明誘電体層１、第２透明誘電体層２、第３透明誘電体層３及び透明導電層４がこの順に形成されている。そして、透明フィルム基材Ｆの屈折率をｎｆ、第１透明誘電体層１の屈折率をｎ１、第２透明誘電体層２の屈折率をｎ２、第３透明誘電体層３の屈折率をｎ３、透明導電層４の屈折率をｎ４としたとき、ｎ３≦ｎ１＜ｎｆ＜ｎ４＜ｎ２の関係を満たす。さらに、第１透明誘電体層１の厚みが１１０〜４００ｎｍであり、第２透明誘電体層２の厚みが１５〜６５ｎｍであり、第３透明誘電体層３の厚みが４０〜１００ｎｍであり、透明導電層４の厚みが１５〜３０ｎｍである。

上記透明導電性フィルムでは、各層の屈折率の大小関係と各層の厚みを上記のように適切に制御することによって、透明導電層４の側から入射する波長５５０ｎｍの光の反射率を低減できる。その理由は定かではないが、透明フィルム基材Ｆ上に低屈折率材料と高屈折率材料を交互に積層し、かつ各層の厚みを上記適切な範囲に制御することにより、透明導電層４の表面、各層間の界面、及び第１透明誘電体層１と透明フィルム基材Ｆとの界面からの反射光を干渉させ、それらの振幅を相殺させることによって、上記反射率が低減すると推測される。

図２は、図１に示す透明導電性フィルムの透明フィルム基材Ｆの他方の面に、透明粘着剤層Ａを介して透明基体Ｔが貼り合わされている場合の例である。また、図示はしていないが、図２の透明基体Ｔの外表面には、ハードコート層等を設けることができる。

本発明において使用する透明フィルム基材Ｆとしては、特に制限されないが、透明性を有する各種のプラスチックフィルムが用いられる。例えば、その材料として、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらのなかでも、コストの点からポリエステル系樹脂が好ましい。

透明フィルム基材Ｆの厚みは、２〜２００μｍの範囲が好ましく、２０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。機械的強度を確保した上で、フィルムの薄膜化が容易となるからである。

透明フィルム基材Ｆは、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や、ハードコート層の形成、あるいは下塗り処理などを施して、この上に設けられる第１透明誘電体層１の透明フィルム基材Ｆに対する密着性を向上させることができる。また、第１透明誘電体層１を設ける前に、透明フィルム基材Ｆの表面を必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより除塵、清浄化してもよい。

第１透明誘電体層１の材料としては、例えば、ＮａＦ（１．３０）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（１．３５）、ＬｉＦ（１．３６）、ＭｇＦ₂（１．３８）、ＣａＦ₂（１．４０）、ＢａＦ₂（１．３０）、ＳｉＯ₂（１．４６）、ＬａＦ₃（１．５５）、ＣｅＦ₃（１．６３）、Ａｌ₂Ｏ₃（１．６３）などの無機物〔上記各材料の括弧内の数値は屈折率である〕や、屈折率が１．４０〜１．６０程度のアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、有機シラン縮合物、アルキド樹脂、メラミン樹脂などの有機物が挙げられる。これらの中から材料を適宜に選択し、または組み合わせて、前記屈折率ｎ１を満足する第１透明誘電体層１を形成する。

第１透明誘電体層１の厚みは、波長５５０ｎｍの光の反射率低減の観点から１１０〜４００ｎｍである。なかでも、可視光領域全体において低反射率を実現するには、第１透明誘電体層１の厚みが１６０〜２１５ｎｍであることが好ましく、１６５〜２１５ｎｍであることがより好ましい。なお、第１透明誘電体層１の厚みが２１５ｎｍ以下であれば、波長５５０ｎｍの光の反射率をより効果的に低減できる。

第２透明誘電体層２の材料としては、例えば、ＣｅＯ₂（２．３０）、Ｎｄ₂Ｏ₃（２．１５）、Ｓｂ₂Ｏ₃（２．１０）、ＴｉＯ₂（２．３５）、Ｔａ₂Ｏ₅（２．１０）、ＺｒＯ₂（２．０５）、ＺｎＯ（２．１０）、ＺｎＳ（２．３０）などの無機物〔上記各材料の括弧内の数値は屈折率である〕や、酸化インジウム１００重量部に対して、酸化錫を０〜２０重量部、酸化セリウムを１０〜８０重量部含む複合酸化物などが挙げられる。

第２透明誘電体層２の厚みは、波長５５０ｎｍの光の反射率低減の観点から１５〜６５ｎｍである。また、クラック発生防止及び透明性向上の観点から、上記厚みは４５ｎｍ以下であることが好ましい。

第３透明誘電体層３の材料としては、上述した第１透明誘電体層１の材料と同様のものが使用できる。なお、第１透明誘電体層１と第３透明誘電体層３とは、それぞれ異なる材料を使用しても良く、同一の材料を使用してもよい。

第３透明誘電体層３の厚みは、波長５５０ｎｍの光の反射率低減の観点から４０〜１００ｎｍである。また、クラック発生防止及び透明性向上の観点から、上記厚みは７５ｎｍ以下であることが好ましい。

透明導電層４の材料としては、特に制限されるものではなく、例えば、インジウム、錫、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム及びタングステンからなる群より選択される少なくとも１種の金属（又は半金属）の酸化物が用いられる。当該酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属元素等や、その酸化物が添加されていてもよい。例えば酸化錫を含有する酸化インジウムや、アンチモンを含有する酸化錫などが好ましく用いられる。

透明導電層４の厚みは、波長５５０ｎｍの光の反射率低減の観点から１５〜３０ｎｍである。また、その表面抵抗を１×１０³Ω／□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、上記厚みは２０ｎｍ以上であることが好ましい。

各層の屈折率については、波長５５０ｎｍの光の反射率低減の観点から以下の範囲とするのが好ましい。即ち、透明フィルム基材Ｆの屈折率ｎｆについては、１．５０〜１．７０の範囲が好ましい。第１透明誘電体層１の屈折率ｎ１については、１．３０〜１．６５の範囲が好ましく、１．４０〜１．６０の範囲がより好ましい。第２透明誘電体層２の屈折率ｎ２については、１．８０〜２．４０の範囲が好ましく、２．００〜２．４０の範囲がより好ましい。第３透明誘電体層３の屈折率ｎ３については、１．３０〜１．６５の範囲が好ましく、１．４０〜１．６０の範囲がより好ましい。透明導電層４の屈折率ｎ４については、１．７５〜２．１０の範囲が好ましく、１．９０〜２．１０の範囲がより好ましい。

第１透明誘電体層１、第２透明誘電体層２、第３透明誘電体層３及び透明導電層４は、透明フィルム基材Ｆ上に、通常、この順で順次に形成される。これらの層の形成方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、塗工法等があげられ、材料の種類及び必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することができる。

上記のように第１透明誘電体層１、第２透明誘電体層２、第３透明誘電体層３及び透明導電層４が順次に形成された透明フィルム基材Ｆの他方の面には、透明粘着剤層Ａを介して透明基体Ｔを貼り合わすことができる。透明基体Ｔの貼り合わせは、透明基体Ｔの方に透明粘着剤層Ａを設けておき、これに透明フィルム基材Ｆを貼り合わせてもよいし、逆に透明フィルム基材Ｆの方に透明粘着剤層Ａを設けておき、これに透明基体Ｔを貼り合わせてもよい。後者の方法では、ロール状の透明フィルム基材Ｆに対して、透明粘着剤層Ａを連続的に形成できるため、生産性の面で一層有利である。

透明粘着剤層Ａとしては、透明性を有するものであればとくに制限なく使用でき、例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤などが用いられる。この透明粘着剤層Ａは、透明基体Ｔの接着後に、そのクッション効果により、透明フィルム基材Ｆの一方の面に設けられた透明導電層４の耐擦傷性やタッチパネル用としての打点特性を向上させる機能を有する。この機能をより良く発揮させる観点から、その弾性係数を１〜１００Ｎ／ｃｍ²の範囲、厚みを１μｍ以上、通常５〜１００μｍの範囲に設定するのが望ましい。

透明粘着剤層Ａを介して貼り合わされる透明基体Ｔは、透明フィルム基材Ｆに対して良好な機械的強度を付与し、特にカールなどの発生防止に寄与するものであり、通常６〜３００μｍ程度のプラスチックフィルムが用いられる。なお、可撓性が特に要求されない場合は、０．０５〜１０ｍｍ程度のプラスチック板などを用いてもよい。プラスチックの材質としては、前記した透明フィルム基材Ｆと同様のものが挙げられる。

また、必要に応じて、上記透明基体Ｔの外表面（透明粘着剤層Ａとは反対側の面）に、視認性の向上を目的とした防眩処理層や反射防止処理層を設けたり、外表面の保護を目的としたハードコート層を設けるようにしてもよい。ハードコート層としては、例えば、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂などの硬化型樹脂からなる硬化被膜が好ましく用いられる。

以上、本発明の透明導電性フィルムの好適な例について説明したが、本発明は上記実施形態には限定されない。例えば、上記実施形態では、透明導電層と透明フィルム基材との間に第１、第２及び第３透明誘電体層の三層の透明誘電体層を有する例について説明したが、透明導電層と透明フィルム基材との間に４層以上の透明誘電体層が積層されていてもよい。

次に、本発明のタッチパネルの好適な例について説明する。図３は、図２に示す透明導電性フィルムを用いたタッチパネルの例を示したものである。すなわち、縞状に形成された透明導電層Ｐ１ｄ，Ｐ２ｄをそれぞれ有する一対のパネル板Ｐ１，Ｐ２を、透明導電層Ｐ１ｄ，Ｐ２ｄ同士が対向するように、スペーサＳを介して配置してなるタッチパネルにおいて、一方のパネル板Ｐ１として、上記図２に示す透明導電性フィルムを用いたものである。スペーサＳとしては、例えば、アクリルやウレタンなどの絶縁性材料から構成されたドットスペーサが使用できる。なお、図３の透明導電層Ｐ１ｄ，Ｐ２ｄでは、縞状パターンが互いに直交するように対向配置されている。

このタッチパネルは、パネル板Ｐ１側より、入力ペンＭにてスペーサＳの弾性力に抗して押圧打点したとき、透明導電層Ｐ１ｄ，Ｐ２ｄ同士が接触して、電気回路のＯＮ状態となり、上記押圧を解除すると、元のＯＦＦ状態に戻る、透明スイッチ構体として機能する。その際、パネル板Ｐ１が上記の透明導電性フィルムからなるために、透明導電層Ｐ１ｄの耐擦傷性や打点特性などに優れ、長期にわたって上記機能を安定に維持できる。

なお、図３において、パネル板Ｐ１は、図１に示す透明導電性フィルムであってもよい。また、パネル板Ｐ２は、プラスチックフィルムやガラス板などからなる透明基体Ｔ´に透明導電層Ｐ２ｄを設けたものであるが、本発明の透明導電性フィルムであってもよい。

以下、本発明の実施例について比較例と併せて説明する。なお、本発明は下記の実施例に限定して解釈されるものではない。

＜各層の屈折率＞
各層の屈折率は、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用い、各測定面に対して測定光を入射させるようにして、該屈折計に示される規定の測定方法により測定を行った。

＜各層の厚み＞
透明フィルム基材の厚みは、ミツトヨ製マイクロゲージ式厚み計にて測定を行った。その他の層の厚みについては、日立製作所製の透過型電子顕微鏡Ｈ−７６５０により断面観察して測定した。

＜実施例１＞
（第１透明誘電体層の形成）
厚み２３μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムという）からなる透明フィルム基材（屈折率ｎｆ＝１．６５）の一方の面に、ＳｉＯ₂（屈折率ｎ１＝１．４６）を電子ビーム加熱法により、１×１０^-2〜３×１０^-2Ｐａの真空度で真空蒸着して、厚み２００ｎｍの第１透明誘電体層を形成した。

（第２透明誘電体層の形成）
次いで、第１透明誘電体層上に、アルゴンガス９５％と酸素ガス５％の混合ガスの雰囲気下、酸化インジウム、酸化錫及び酸化セリウムの混合物（重量比で、酸化インジウム：酸化錫：酸化セリウム＝６５：５：３０）の焼結体から、下記条件のスパッタリング法により、上記成分を同重量比で含む複合酸化物（屈折率ｎ２＝２．２０）からなる第２透明誘電体層（厚み：３０ｎｍ）を形成した。なお、成膜雰囲気内に上記混合ガスを導入する前に、成膜雰囲気を到達真空度５．０×１０^-4Ｐａ以下の状態にして不純物ガスを除去した。

（スパッタリング条件）
ターゲットサイズ：２００ｍｍ×５００ｍｍ
出力：３．０ｋＷ
電圧値：４５０Ｖ
放電時間：１分
真空度：０．５Ｐａ

（第３透明誘電体層の形成）
次いで、第２透明誘電体層上に、ＳｉＯ₂（屈折率ｎ３＝１．４６）を電子ビーム加熱法により、１×１０^-2〜３×１０^-2Ｐａの真空度で真空蒸着して、厚み６５ｎｍの第３透明誘電体層を形成した。

（透明導電層の形成）
次いで、第３透明誘電体層上に、アルゴンガス９５％と酸素ガス５％の混合ガスを用いて、０．５Ｐａの雰囲気中で、酸化インジウム及び酸化錫の混合物（重量比で、酸化インジウム：酸化錫＝９７：３）の焼結体から、スパッタリング法により、上記成分を同重量比で含む複合酸化物（屈折率ｎ４＝２．００）からなる透明導電層（厚み２２ｎｍ）を形成し、実施例１の透明導電性フィルムを得た。

＜実施例２＞
第１透明誘電体層を以下に示す方法で形成したことと、第２及び第３透明誘電体層の厚みを表１に示す数値に調整したこと以外は、実施例１と同様の操作を行い、実施例２の透明導電性フィルムを得た。

（実施例２の第１透明誘電体層の形成）
厚み２３μｍのＰＥＴフィルムからなる透明フィルム基材（屈折率ｎｆ＝１．６５）の一方の面に、メラミン樹脂、アルキド樹脂及び有機シラン縮合物からなる熱硬化型樹脂（重量比で、メラミン樹脂：アルキド樹脂：有機シラン縮合物＝２：２：１）を塗工し、これを硬化させて、厚み１８５ｎｍの第１透明誘電体層（屈折率ｎ１＝１．５４）を形成した。

＜実施例３〜５＞
第１透明誘電体層の厚みを表１に示す数値に調整したこと以外は、実施例１と同様の操作を行い、実施例３〜５の透明導電性フィルムを得た。

＜比較例１＞
第１透明誘電体層の厚みを表１に示す数値に調整したことと、第２及び第３透明誘電体層を形成しなかったこと以外は、実施例２と同様の操作を行い、比較例１の透明導電性フィルムを得た。

＜比較例２＞
第２透明誘電体層として、実施例１の第３透明誘電体層と同様の操作により厚み３３ｎｍのＳｉＯ₂層（屈折率ｎ２＝１．４６）を形成したことと、第３透明誘電体層を形成しなかったこと以外は、実施例２と同様の操作を行い、比較例２の透明導電性フィルムを得た。

＜比較例３＞
第１透明誘電体層として、実施例１の第２透明誘電体層と同様の操作により厚み２５ｎｍの複合酸化物層（屈折率ｎ１＝２．２０）を形成したことと、第２透明誘電体層の厚みを表１に示す数値に調整したこと以外は、比較例２と同様の操作を行い、比較例３の透明導電性フィルムを得た。

＜比較例４＞
第１〜第３透明誘電体層の厚みを表１に示す数値に調整したこと以外は、実施例１と同様の操作を行い、比較例４の透明導電性フィルムを得た。

＜比較例５＞
第１透明誘電体層の厚みを表１に示す数値に調整したこと以外は、実施例１と同様の操作を行い、比較例５の透明導電性フィルムを得た。

上記実施例及び比較例で得られた透明導電性フィルムについて、下記評価を行った。結果を表１に示す。

＜反射率＞
日立ハイテク社製の分光光度計Ｕ−４１００を用いて、波長４５０〜６５０ｎｍの範囲の可視光線について５ｎｍ間隔で反射率を測定した。なお、測定する際は、透明導電層表面に対して上記可視光線を入射させるようにした。また、表１には、波長５５０ｎｍの可視光線の反射率と、波長４５０〜６５０ｎｍの範囲の可視光線の平均反射率とを示した。

＜透過率＞
島津製作所製の分光分析装置ＵＶ−２４０を用いて、波長５５０ｎｍの可視光線の透過率を測定した。なお、測定する際は、透明導電層表面に対して上記可視光線を入射させるようにした。

表１に示すように、実施例１〜５は、比較例１〜５に比べて波長５５０ｎｍの可視光線の反射率が低くなり、その結果、高い透過率を示した。なかでも実施例１〜４は、第１透明誘電体層の厚みを１６０〜２１５ｎｍの範囲とすることにより、波長４５０〜６５０ｎｍの平均反射率についても低い値を示した。

本発明の透明導電性フィルムの一例を示す断面図である。本発明の透明導電性フィルムの他の例を示す断面図である。本発明のタッチパネルの一例を示す断面図である。

符号の説明

１第１透明誘電体層
２第２透明誘電体層
３第３透明誘電体層
４，Ｐ１ｄ，Ｐ２ｄ透明導電層
Ａ透明粘着剤層
Ｆ透明フィルム基材
Ｐ１，Ｐ２パネル板
Ｓスペーサ
Ｔ，Ｔ´ 透明基体

Claims

透明フィルム基材の一方の面に、前記透明フィルム基材の側から第１透明誘電体層、第２透明誘電体層、第３透明誘電体層及び透明導電層がこの順に形成されている透明導電性フィルムであって、
前記透明フィルム基材の屈折率をｎｆ、前記第１透明誘電体層の屈折率をｎ１、前記第２透明誘電体層の屈折率をｎ２、前記第３透明誘電体層の屈折率をｎ３、前記透明導電層の屈折率をｎ４としたとき、ｎ３≦ｎ１＜ｎｆ＜ｎ４＜ｎ２の関係を満たし、
前記第１透明誘電体層の厚みが、１１０〜４００ｎｍであり、
前記第２透明誘電体層の厚みが、１５〜６５ｎｍであり、
前記第３透明誘電体層の厚みが、４０〜１００ｎｍであり、
前記透明導電層の厚みが、１５〜３０ｎｍである透明導電性フィルム。
前記ｎｆは、１．５０〜１．７０であり、
前記ｎ１は、１．３０〜１．６５であり、
前記ｎ２は、１．８０〜２．４０であり、
前記ｎ３は、１．３０〜１．６５であり、
前記ｎ４は、１．７５〜２．１０である請求項１に記載の透明導電性フィルム。
前記第１透明誘電体層の厚みが、１６０〜２１５ｎｍである請求項１又は２に記載の透明導電性フィルム。
前記ｎ４から前記ｎ３を引いた値が、０．４〜０．７である請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
前記透明フィルム基材は、厚みが２〜２００μｍである請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
前記透明フィルム基材の他方の面に透明粘着剤層を介して貼り合わされた透明基体を更に含む請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明導電性フィルム。
透明導電層を有する一対のパネル板を、前記透明導電層同士が対向するようにスペーサを介して配置してなるタッチパネルであって、
少なくとも一方の前記パネル板が、請求項１〜６のいずれか１項に記載の透明導電性フィルムを含むタッチパネル。