JP2010025229A - ガス制御装置 - Google Patents

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一志 沼崎
Motoyasu Yamamori
元康 山盛
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稔彦 嶋
Hiroaki Suzuki
浩明 鈴木
Toshikatsu Kubo
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Abstract

【課題】高い性能を長期間にわたり発揮できる弁装置の提供を解決すべき課題とする。
【解決手段】受圧空間C内に高圧ガスを導入する導入流路261と受圧空間C内から高圧ガスを導出する導出流路112とを区画するカバー25と、カバー25内に配設され、受圧面22aをもつピストン22と、ピストン22及びカバー25の間に介設されるシール部材222と、を有し、受圧面22aはその周辺部に外側に向かうにつれてピストン22から突出する方向に傾斜する傾斜部22a1をもつ。傾斜部を受圧面に形成することで、高圧ガスの流れを適正化できる。その結果、万が一、高圧ガスの流れに異物が混入したとしても、導入された高圧ガスは傾斜部に沿って流れていき、受圧面から離れる方向に曲がるため、ピストンとシリンダ空間との間に高圧ガスがそのままの勢いで流れ込んでシール部材に異物が巻き込まれる虞を小さくすることができる。
【選択図】図1

Description

本発明は、弁装置などのガス制御装置に関し、詳しくは、水素ガスなどの高圧ガスを目的の圧力にまで減圧する減圧弁に好適なガス制御装置に関する。
高圧流体を貯蔵するガスタンクの開口部を閉塞する栓体には、ガスタンクの内部と外部とを連通する1以上の流路をもち、その流路内におけるガスの流通を制御する弁装置が設けられている。弁装置の一例として、外部に導出するガスの圧力を制御する減圧弁がある(特許文献1、2など)。
減圧弁は高圧ガスを所定の圧力にまで減圧して供給する弁であり、例えば、図3に示すような構成をもつものがある。この減圧弁は、弁機構910と調圧機構920とを有する。弁機構910はボディ911とポペット912とシート913とその他の部材とをもつ。調圧機構920はピン921と調圧ピストン922とスプリング923と調圧ねじ924とカバー925とその他の部材とをもつ。
弁機構910は調圧機構920によって開閉されることで圧力を調節する。具体的には調圧機構920のカバー925及びピストン922にて区画される二次室(受圧空間)C内の圧力に応じて動くピストン922に連動させてポペット912を移動させて弁機構910の開閉を行うことにより、受圧空間C内の圧力が所定圧力になるように弁機構910が開閉される。調圧機構のピストン及びカバーの間にはシール性を確保するために、シール部材が介設されている(特許文献2)。
特開2007−271075号公報 特開2006−185103号公報
ところで、高圧ガスの流れの中には埃のように非常に小さな異物であっても混入することは好ましくない。例えば、混入した異物がシール部材に巻き込まれるとシール部材は十分なシール性能を発揮することができない虞がある。そこで、異物の混入を防止すると共に、異物がシール部材に巻き込まれないような対策が求められる。
また、ガスタンク内のガスを導出するために、減圧弁を最初に動作させる場合など、受圧空間C内の圧力が低い場合がある。その場合に、減圧弁を作動させると、受圧空間C内に高圧ガスが急激に流れ込むことにより、ピストン922とカバー925との間に介装されたシール部材9222にも急激な力が加わることが想定され、その場合にシール部材9222の位置がずれて本来の性能が発揮できないおそれがある。
本発明は上記実情に鑑み完成されたものであり、高い性能を長期間にわたり発揮することができる弁装置を提供することを解決すべき課題とする。
上記課題を解決する請求項1に係るガス制御装置の特徴は、筒状のシリンダ空間と前記シリンダ空間内に高圧ガスを導入する導入流路と前記シリンダ空間内から前記高圧ガスを導出する導出流路とを区画するシリンダ部材と、
前記シリンダ空間の軸方向に移動可能に前記シリンダ空間内に内設され、前記シリンダ空間の内面と共に前記シリンダ空間の一部を受圧空間として区画する受圧面をもつピストンと、
前記ピストンの外周部及び前記シリンダ空間の内面の間に介設されるシール部材と、を有し、
前記ピストンの前記受圧面は、前記シリンダ空間の内面に近接する周辺部の少なくとも一部が外側に向かうにつれて前記ピストンから突出する方向に傾斜する傾斜部をもつことにある。
上記課題を解決する請求項2に係るガス制御装置の特徴は、請求項1において、前記導入流路が前記受圧面に対向して開口することにある。
上記課題を解決する請求項3に係るガス制御装置の特徴は、請求項1又は2において、前記傾斜部は前記周辺部の全周にわたり形成されることにある。
上記課題を解決する請求項4に係るガス制御装置の特徴は、請求項1〜3の何れか1項において、前記ピストンを前記受圧空間を縮小する方向に付勢する弾性部材と、前記受圧空間内の圧力が第1所定圧力未満になったときに開状態となり第2所定圧力以上になったときに閉状態となるように前記ピストンの軸方向の位置に応じて開閉され且つ前記導入流路の上流側に接続される弁装置と、を有することにある。
請求項1に係る発明においては、外側に向かうに従い突出させた傾斜部を受圧面に形成することにより、高圧ガスの流れを適正化することができ、シール部材に高圧ガスの流れがそのままの勢いで当たることが防止できる。そのため、高圧ガスの流れに異物が万が一混入したとしても、シール部材に到達することなく、巻き込まれる虞も少なくなる。すなわち、高圧ガスを受圧空間内に導入するときに、導入流路から導入された高圧ガスが受圧面に至った後、受圧面に沿って流れるときに、受圧面の一部を外側に向かうに連れて突出させた傾斜部としているため、高圧ガスは傾斜部に沿って流れていき、高圧ガスの流れは受圧面から離れる方向に曲がることになる。そのため、ピストンとシリンダ空間との間に異物を伴った高圧ガスがそのままの勢いで流れ込んでシール部材に異物が巻き込まれる虞を小さくすることができる。また、高圧ガスの流れの勢いによりシール部材がずれる虞も小さくできる。
請求項2に係る発明においては、導入流路が受圧面に対向して開口することにより、導入流路から導入される高圧ガスの流れが、一旦、受圧面の表面に当たることになるため、そのまま受圧面の表面に沿って流れやすくなり、受圧面(特に傾斜部)の形状に沿って高圧ガスの流れを制御することができる。
請求項3に係る発明においては、受圧面の全周にわたって傾斜部を設けることにより、ピストンとシリンダ空間との間に高圧ガスが勢いよく侵入することを効果的に防止できる。
請求項4に係る発明においては、前記構成を採用することにより高い精度で受圧空間内の高圧ガスの圧力を制御することが可能になる。
以下、本発明の弁装置を35MPa以上の圧力である高圧ガスとしての水素ガスを貯蔵する水素用ガスタンクにおいて水素ガスを所定の圧力に減圧する減圧弁に具現化した一実施形態を図面に従って説明する。本発明のガス制御装置は減圧弁の調圧機構を実現するものとして主に採用されている。
(構成)
本実施形態の減圧弁は、図1に示すように、流路111に対してA方向に導入される高圧の水素ガスを所望の圧力に減圧し、導出流路112からB方向に導出する弁である。流路111には高圧の水素ガスを貯蔵する高圧水素タンク(図略)のガス導出口(図略)に接続され、導出流路112は水素の供給が必要な装置(図略)の水素供給口(図略)に接続される。
本実施形態の減圧弁は、弁機構10と調圧機構20とを有する。
弁機構10はボディ11とポペット12とシート13とその他の部材とをもつ。調圧機構20はピン21と調圧ピストン22(ピストンに相当)とスプリング23と調圧ねじ24とカバー25(シリンダ部材に相当)とその他の部材とをもつ。
(弁機構10)
ポペット12は先端の一部が先細の略円錐形状となった柱状物である。先端の略円錐形状部分の外周面がシート13に形成された孔内に着離することにより、本弁機構10の開閉が行われる。ポペット12の先端の略円錐形状部分の更に先端には先端部が平らになった柱状の部材が設けられている。この先端の柱状部材がある程度の隙間を介して挿入可能な孔がシート13に設けられている。この先端の柱状部材が軸方向に押されることによりポペット12が軸方向に移動する。この先端の柱状部材の押圧は調圧機構20のピン21により行われる。つまり、ポペット12は、ピン21により適宜、押圧されることにより弁機構10の開閉を行い、結果、流出する水素ガスの圧力を制御する。
ポペット12の内部には、略円錐形状部分と反対方向に開口する柱状の空洞であるスプリング収納部が形成されている。そのスプリング収納部内にはポペット12を略円錐形状部分方向に向けて一端側で付勢するスプリング14が配設されている。スプリング14の付勢力は後述するスプリング23の付勢力よりも十分に小さい値とする。スプリング14の他端側は押さえ部材16にて押さえられている。押さえ部材16は一端部がポペット12に形成されたスプリング収納部に一端側から緩嵌される緩嵌部をもつ。緩嵌部の他端側にはポペット12の開口部がそれ以上進むことができず、それ以上、緩嵌部がポペット12のスプリング収納部内に挿入できないように規制する段差部をもつ。段差部によりポペット12の軸方向の移動距離が制限される。ポペット12はその軸方向に移動可能なガイド空間が形成されたガイド部材15と共にボディ11内に設けられた円筒状空間11a内に配設される。ガイド空間はガイド部材15を貫通する孔である。ガイド空間の開口径は一端部を除き、ポペット12がほぼ隙間なく通過可能な大きさで概ね同じ長さである。ガイド空間の一端部はポペット12の略円錐形状部分に対応する側の端部であり、ポペット12が通過できない程度に縮径されている。この縮径部分にシール部材13が嵌め込まれている。ポペット12の外周部にはガイド空間の内周部との間に水素ガスが流通可能にする隙間を形成するため、軸方向に延びる溝121が形成される。
ボディ11内には一端が開口する円筒形状の円筒状空間11aが形成されている。その円筒状空間11aの開口部には更に拡径された開口凹部が形成される。開口凹部の底面には導出流路112が斜め方向に形成される。導出流路112の内径は後述する流路111の内径よりも大きくなっている。押さえ部材16及びガイド部材15はこの順で円筒状空間11a内の奥から配設されている。ボディ11の円筒状空間11aの内面における押さえ部材16及びガイド部材15が配設される部分にはねじ溝が形成されており、対応するねじ溝が外周に形成された押さえ部材16及びガイド部材15をねじ込むことにより挿設される。押さえ部材16及びガイド部材15の間には、ボディ11の円筒状空間11aの軸方向に隙間が形成されており、この隙間を通じて水素ガスを流通させる。ボディ11の円筒状空間11aには、先述の押さえ部材16及びガイド部材15の間に形成された隙間に対応する位置に一端が開口する流路111が形成されている。流路111の内径はボディ11の円筒状空間11aの内径よりも小さくなっている。ガイド部材15及びボディ11の円筒状空間11aの間にはOリングであるシール部材151が介設されている。シール部材151は水素ガスの圧力により図1における図面上方向に付勢されるのでシール部材151にはバックアップリング152及び153を隣(図面上方側)に配設している。
(調圧機構20)
ピン21は先端部が略円錐形状になった柱状部材である。ピン21の略円錐形状部分の更に先端には先端が平らになった柱状部材が形成されている。この柱状部材の径は、先述したポペット12の先端に形成されている柱状部材の大きさと同程度の大きさであり、このピン21の先端部分によりポペット12の先端部分を押圧するものである。ピン21は同程度の径の孔をもつピンガイド部材26内に挿設されている。ピンガイド部材26に設けられた孔261(導入流路に相当)は一端部が縮径された円柱形状をもつ。一端部の縮径の程度はピン21の先端部が挿入可能な程度となっている。孔261は図面上方に向けて開口している。
ピンガイド部材26は一端部をガイド部材15に向けて、ガイド部材15に装着されている。ガイド部材15にはピンガイド部材26が装着できる孔が形成されており、ピンガイド部材26の外周及びガイド部材15の孔の間には螺合可能なねじ溝が形成されている。なお、ガイド部材15及びピンガイド部材26にてシール部材13を挟持・固定している。ピン21は、ピンガイド部材26内において、軸方向に移動可能である。ピン21がポペット12側に移動することで、ポペット12を軸方向に押圧し、弁機構10は開弁状態になる。反対にピン21がポペット12とは反対方向に移動することによりポペット12への押圧は解消される。ピン21の外周部は角柱状になっており、ピンガイド部材26に設けられた孔261の内周との間に隙間を形成する。この隙間を通じて水素ガスが流通する。
ピン21は先端部の反対側である他端部にてピストン22にて押圧される。ピン21はピストン22及びポペット12の間に挟持されて軸方向に移動することになる。ピン21はピストン22の先端突部221aにて押圧される。先端突部221aはピストン22の受圧面22aのほぼ中央部分に形成される。受圧面22aはピストン22の図面下方側の面であり、ピンガイド部材26に形成された孔261の開口部と対向する面である。受圧面22aについては後に詳述する。
ピストン22がピンガイド部材26に当接するときにピン21の先端部がポペット12を押圧して弁機構10が開弁状態になる程度の大きさに先端突部221aの大きさが決定される。ピストン22はピストン本体部221とシール部材222とホルダー223と摺動部材224とをもつ。シール部材222はカバー25との間の気密を保つOリングであり、ピストン22及びカバー25の間に介装されている。シール部材222はピストン本体部221及びホルダー223にてピストン22の外周に形成される溝部内に保持されている。ピストン22は、摺動部材24により、カバー25の内面を滑らかに摺動することができる。カバー25は一端部が大きく開口し、その開口方向にピストン22を付勢するスプリング23が配設される。カバー25は、ボディ11の開口凹部に、双方の開口部が対向するように嵌め込まれる。両者の間の気密は、間に介装されたシール部材251にて保持される。スプリング23の一端はピストン22をピン21方向に付勢し、他端はカバー25内に配設されたスプリング押さえ27に当接している。スプリング押さえ27に対してスプリング23に当接する側と反対方向から押圧する調節ねじ24が配設される。調節ねじ24はカバー25の開口方向反対側に設けられたねじ孔にねじ込まれており、ねじ込みの程度を調節することにより、スプリング押さえ27の位置を調節する。スプリング押さえ27の位置を変位されることにより、スプリング23の圧縮の程度を調節することができ、スプリング23によりピストン22を付勢する付勢力の大きさを調節することができる。カバー25内外を適宜、連通できる開放弁28が配設される。
(受圧面22a)
ピストン22の受圧面22aはカバー25の内周面と共に受圧空間を区画する。受圧面22aは傾斜部22a1をもつ。傾斜部22a1は受圧面22aの周辺部の全周に設けられている(図2(a))。傾斜部22a1が傾斜する程度は特に限定されず、受圧面22aの外側に向かうにつれて突出するような形態であれば僅かな突出であっても十分である。例えば、図2(b)における傾斜部22a1のうち左側に示すものは、受圧面22aの外側(図面左側)に向かうにつれて突出(図面下方)している。また、傾斜の程度は一様である必要はなく、傾斜部22a1の表面は曲面であっても良い。本実施形態において、傾斜部22a1はホルダー223の一部としてピストン本体部221とは別体として形成されているが、この形態に限定されるものではなく、ピストン本体部221に設けても良いし、ピストン本体部221とホルダー223とに跨って形成されても良い。更にはピストン本体部221とホルダー223とに分けてピストン22を形成しないことも可能であり、その場合には一体として形成されたピストンの受圧面に傾斜部が形成される。更に、傾斜部22a1は受圧面22aの周辺部の全周にわたって設けることは必須ではなく、周方向の一部に設けられていることも可能である。また、周方向に対して断続的に設けられることもできる。そして、傾斜部は受圧面のふちに接するように設けなくても効果を発揮できるため、「傾斜部を周辺部に設ける」とは周縁からいくらかの間隔を開けて傾斜部を設ける場合も含む。
(作用効果)
本実施形態の弁装置は以上の構成をもつことから以下の作用効果を発揮する。
まず、弁装置の作動について説明する。水素ガスが流路111からA方向に導入される場合を考えると、導入された水素ガスはポペット12の外周に形成された溝121に沿ってシート13が配設される部位に到達する。ここで、ポペット12の先端部がシート13に当接している場合には水素ガスはそれ以上、進むことができず、ポペット12の先端部がシート13から離間している場合には、水素ガスがシート13を通ってピストン22、カバー25、及びボディ11の開口凹部にて区画される受圧空間Cを通って、導出流路112からB方向に流れ出ることになる。このように高圧ガスが流れると、受圧面22aの周辺部に傾斜部22a1を設けたことにより、高圧ガスの流れを傾斜部22a1に沿って流すことが可能になり、高圧ガスの流れをピストン22から離れる方向に付勢することができる。その結果、ピストン22とカバー25の内面との間に介設されたシール部材222に向けて高圧ガスがそのままの勢いで侵入することを効果的に防ぐことができる。つまり、図2(b)に示すように、受圧面22aに向けて噴出する高圧ガスの流れは受圧面22aに沿って外側に向けて流れていく、図2(b)にその流れの一部を示すように、高圧ガスは受圧面22aに向けて噴出し、受圧面22aの中央部近傍に当たった後、受圧面22aの周辺部に向けて流れていく。高圧ガスの流れが受圧面22aの傾斜部22a1に至ると傾斜部22a1の表面に沿って流れることで受圧面22aから離れる方向に高圧ガスが付勢された後にカバー25の内面にぶつかり、そのまま、カバー25の内面に沿ってピストン22から離れる方向に流れることになる。そのため、高圧ガスの流れに異物が混入したとしてもその異物がピストン22とカバー25との間に侵入することを効果的に防止できる。
ここで、高圧ガスの流れの勢いは、受圧空間Cの圧力が低い場合(例えば、減圧弁を最初に作動させる場合や、受圧空間C内の水素を使い切ってから再度減圧弁を作動させる場合)に特に大きくなる。高圧ガスの流れが受圧面22aの周縁に達したときに受圧面22aから突出する方向(離れる方向)に付勢されることにより高圧ガスが勢いよくピストン22とカバー25との間に入ることを防ぐことが可能になり、その間に介装されるシール部材222に勢いよく高圧ガスがぶつかることが防止できる。
次に、ポペット12がシート13に着離する機構を説明する。受圧空間C内の圧力が低下して第1所定圧力未満になると、受圧空間C内の圧力によりピストン22に加わる力がスプリング23によるピストン22への付勢力よりも小さくなると、ピストン22はスプリング23の付勢力により、ポペット12側に変位する。すると、ポペット12の先端はピン21を介してピストン22により押圧されて、ポペット12はシート13から離間する。受圧空間C内の圧力は導出流路112からの水素ガスの流出により低下する。
反対に、受圧空間C内の圧力が高くなり第2所定圧力以上になると、受圧空間C内の圧力によりピストン22に加わる力がスプリング23によるピストン22への付勢力よりも大きくなると、ピストン22はスプリング23の付勢力に抗して、ポペット12側から離間する方向に変位する。すると、ポペット12にはシート13から離間する方向に加わっていた力がなくなり、スプリング14による付勢力によりシート13に当接する。受圧空間C内の圧力は流路111から受圧空間C内に水素ガスが流入することにより向上する。第1所定圧力及び第2所定圧力はスプリング23の付勢力により調節可能である。
このように、弁機構10は、受圧空間C内の圧力がスプリング23の付勢力により決定される所定の圧力範囲範囲になるように機械的に調節されることになる。スプリング23の付勢力はスプリング押さえ27の変位により調節できるから、調節ねじ24による調節により、受圧空間C内の圧力は所定の圧力範囲に設定可能である。すなわち、受圧空間Cに接続された導出流路112から導出される水素ガスの圧力もある範囲内に調節することが可能になる。
以上説明したように、ピストン22の受圧面22aの周辺部に傾斜部22a1を形成することにより、高圧ガスの流れをピストン22及びカバー25の間にそのままの勢いで侵入することを効果的に防止できるので、万が一、高圧ガスに異物が含まれるような場合があったとしてもその異物がシール部材222に到達して巻き込まれることを防止できる。また、高圧ガスが勢いよくぶつかることによるシール部材222の位置のずれが発生することも防止できる。
(変形態様)
本発明の弁装置はピストンの受圧面の周辺部に傾斜部を形成し、高圧ガスの流れを受圧面から離れる方向に付勢することを本質としており、上述した実施形態におけるような弁機構、調圧機構などに適用範囲が限定されるものではない。また、本実施形態では弁装置として減圧弁を例として説明したが、その他の弁(電磁弁など)に適用することも可能である。
実施形態における弁装置の部分断面模式図である。 実施形態における弁装置のピストンの受圧面の正面図(a)と、ピストンの受圧面近傍の部分断面模式図(b)とである。 従来技術における弁装置の部分断面模式図である。 従来技術における弁装置のピストンの受圧面近傍の部分断面模式図である。
符号の説明
10…弁装置
11…ボディ 12…ポペット 13…シート 14…スプリング 15…ガイド部材 111…流路 112…導出流路
20…調圧機構
21…ピン 22…ピストン 22a…受圧面 22a1…傾斜部 222…シール部材 23…スプリング 24…調節ねじ 25…カバー(シリンダ部材) 26…ピンガイド部材 27…スプリング押さえ C…受圧空間

Claims (4)

  1. 筒状のシリンダ空間と前記シリンダ空間内に高圧ガスを導入する導入流路と前記シリンダ空間内から前記高圧ガスを導出する導出流路とを区画するシリンダ部材と、
    前記シリンダ空間の軸方向に移動可能に前記シリンダ空間内に内設され、前記シリンダ空間の内面と共に前記シリンダ空間の一部を受圧空間として区画する受圧面をもつピストンと、
    前記ピストンの外周部及び前記シリンダ空間の内面の間に介設されるシール部材と、を有し、
    前記ピストンの前記受圧面は、前記シリンダ空間の内面に近接する周辺部の少なくとも一部が外側に向かうにつれて前記ピストンから突出する方向に傾斜する傾斜部をもつことを特徴とするガス制御装置。
  2. 前記導入流路が前記受圧面に対向して開口する請求項1に記載のガス制御装置。
  3. 前記傾斜部は前記周辺部の全周にわたり形成される請求項1又は2に記載のガス制御装置。
  4. 前記ピストンを前記受圧空間を縮小する方向に付勢する弾性部材と、前記受圧空間内の圧力が第1所定圧力未満になったときに開状態となり第2所定圧力以上になったときに閉状態となるように前記ピストンの軸方向の位置に応じて開閉され且つ前記導入流路の上流側に接続される弁装置と、を有する請求項1〜3の何れか1項に記載のガス制御装置。
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