JP2010014463A - 光学素子の測定方法及び光学素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】比較対象としての基準レンズ6を透過した光束と、測定対象としての被検レンズ7を透過した光束とを干渉させ、発生する干渉縞50から被検レンズ7の収差量を測定する装置1を用いて、同時に被検レンズ7の欠陥を測定する。
【選択図】 図1
Description
この特許文献1には、光源からの光束を2つの光路に分割し、一方の光路に比較対象としての基準レンズを配置し、他方の光路に測定対象としての被検レンズを配置し、基準レンズを透過した光束と被検レンズを透過した光束とを再び合成して干渉縞を発生させ、この干渉縞から被検レンズの収差量を算出して光学性能を測定する技術が開示されている。
そこで、1つの装置を用いて、被検レンズの光学性能と欠陥の有無を同時に測定できれば便利であり、これにより測定工数の削減も図られる。
比較対象としての基準レンズを透過した光束と測定対象としての被検レンズを透過した光束とを干渉させ、発生する干渉縞から前記被検レンズの収差量を測定する装置上で、前記被検レンズの欠陥を測定することにより、複数の測定器間を移動せずにレンズの欠陥測定も含めて合否判定を行う事が可能である点を特徴とする。
前記被検レンズの欠陥の測定を、前記収差量を測定する透過波面測定の際の前記被検レンズの測定姿勢と同一で行うことにより、同一の測定器上で評価可能なことはもちろんのこと、欠陥測定時にレンズ姿勢セッティングを変える必要も無い点を特徴とする。
前記被検レンズの欠陥の測定を、前記基準レンズを透過した光束と前記被検レンズを透過した光束とを干渉させないで行い、欠陥測定時のノイズを消した状態で評価することを特徴とする。
前記被検レンズの欠陥の測定を、前記基準レンズを透過した光束を遮光することによって干渉縞を発生させないで行うことを特徴とする。
前記被検レンズの欠陥の測定に適した光線を選択し、前記収差量の測定とは別の光線を前記被検レンズに照射して行うことを特徴とする。
前記被検レンズの欠陥の測定に適した光線の入射角度及び光線状態を選択し、前記収差量の測定とは別の光線を光軸と異なる方向から照射して行うことを特徴とする。
前記被検レンズの欠陥の測定を、前記収差量の測定とは別の光線を前記被検レンズの両面から照射して行うことにより、両面の欠陥測定を同時に行える状態にすることを特徴とする。
前記被検レンズの欠陥の測定を、前記被検レンズを回転させて行うことにより、複数回、複数の方向から測定が可能とする事を特徴とする。
前記被検レンズの欠陥の測定を、前記被検レンズを回転させて行い、得られた複数の画像を合成して評価することにより、欠陥測定用の光線によって発生する可能性のあるゴーストやフレアを除去した状態で欠陥測定結果を得ることを特徴とする。
前記被検レンズの欠陥の測定を、前記被検レンズから投影面及び撮影系までの光学系のセッティングを変更して、通常は結像状態が必須ではない、干渉縞の投影光学系から、観察対象をレンズ表面(物点)とした結像光学系とすることを特徴とする。
前記被検レンズの欠陥の測定を、観察光学系に絞りを付加することで、光学系の主点及びFナンバーを変更し、物点(観察対象面)を変更し、絞りの大きさによって被写界深度を調整することを特徴とする。
測定対象としての被検レンズを成形する成形工程と、
比較対象としての基準レンズを透過した光束と前記被検レンズを透過した光束とを干渉させ、発生する干渉縞から前記被検レンズの収差量を測定する装置上で、前記被検レンズの欠陥を測定する請求項1〜11に記載の測定工程と、
前記測定工程での測定結果に基づいて前記被検レンズの成形を続行するか否か、または、成形に使用する金型や成形装置のメンテナンスを行うタイミングを前記成形工程にフィードバックする工程と、を備えることを特徴とする。
図1は、本発明方法に用いられるレンズ測定機1(レンズ総合検査機)の全体構成を示す図である。
この結果、基準レンズ6が所望の設計値通りのレンズと仮定すると、投影された干渉縞は披検レンズ7の波面収差を表している。この干渉縞から得られた波面収差を解析することで、レンズ面形状、肉厚誤差、偏心、屈折率等の光学性能に影響を与える項目の変化を把握することができる。
干渉計4についてさらに説明する。
ステージ21の基準面から基準レンズ6(又は被検レンズ7)までの高さHは、所定の高さに設定されている。なお、レンズホルダ20はステージ21にバネ等で圧着されている。また、基準レンズ6はレンズホルダ20に接着又は板バネ等で固定されている。
イメージャー29からの信号は縞解析装置5に入力され、ここで干渉縞が解析されて、被検レンズ7の波面収差が明らかになり、合格、不合格が判定される(後述するフローチャートのS300参照)。
基準レンズ6及び被検レンズ7をレンズホルダ20とともにステージ21上に載置し、(図2参照)披検レンズ7を乗せたレンズホルダ20を回転させて、被検レンズ7と基準レンズ6との干渉でできる干渉縞の形が、被検レンズ7の回転とともに形を変えずに回るようにアライメントを行う。
図3は、レンズ測定機1を用いて被検レンズ7の透過波面測定によりスクリーン10に投影された干渉縞50を示す図である。
この場合は、2つの光路R,Sからの光束同士の干渉は発生しないのでスクリーン10に干渉縞50が形成されることはなく、図3の状態よりは異物の識別能力が高まり、光路Rで発生した欠陥画像を取り除くことが出来るが、更に小さな異物を画像から認識することは困難である。
図5は、本実施形態の測定方法を用いてスクリーン10に形成された被検レンズ7の欠陥を画像で示したものである。
次に、図1、図6、及び図7に基づき、このレンズ測定機1を用いて被検レンズ7の欠陥測定方法について説明する。
尚、被検レンズ7の欠陥測定は、収差量を測定する透過波面測定の際の被検レンズ7の測定姿勢と同一の姿勢で行う。すなわち、被検レンズ7を移し変えることなく、被検レンズ7をレンズホルダ20とともにステージ21上に載置したまま行う(図2参照)。
ードでは、図6に示すように、物点(集束レンズ系の光源)が被検レンズ7そのものとなる。そして、スクリーン10に結像する結像光学系となる。
さらに、欠陥の観察対象は、被検レンズ7の表裏両面側の光学面及びその間の媒質内部となるが、どの位置の欠陥であるかは、スクリーン10を光軸方向に移動させて欠陥にピントを合わせ、ピント位置を検出することによって検出することが出来る。
光軸40と平行な光線を収差測定時(透過波面測定時)と同様に照射した場合は(測定されるレンズの形状によって様々であるが)、観察された画像の中心に照明光の輝点が映り込む事が多く、中央に見える輝点以外の領域は暗視野となる。
った画像を生成することもできる。
次に、図8のフローチャートに基づき、本実施形態による光学素子の製造工程について説明する。
本実施形態の製造工程を概説すると、ステップ100(以下、「S100」という)でレンズ成形機による被検レンズ7の成形を行い、ここで測定対象としての被検レンズ7を成形する。
また、被検レンズ7の収差量が予め設定された規格値内であれば、次にS500において、レンズの欠陥の有無を測定する。
(S100の工程)
S100は、成形機による被検レンズ7の成形工程である。
金型ブロック61は、上型63、下型64、及びスリーブ65を有している。上型63及び下型64は、スリーブ65の内部で、それぞれの成形面63a,64aが対向するようにスリーブ65の両端側から嵌挿されている。
(S200の工程)
S200は、被検レンズ7をレンズ測定機1に装着する工程であり、これについては前
述したように、被検レンズ7を不図示のレンズホルダ20に載置して装着する。
(S300及びS400の工程)
S300は、干渉縞をチェックする工程であり、これについては前述したので説明を省略する。ここで、干渉縞をチェックした結果、被検レンズ7の収差量が規格外となった場合は、S400に移行して被検レンズ7の廃棄処分がなされる。
(S500及びS600の工程)
S500は、収差量が規格内であった被検レンズ7に対し、次に、その被検レンズ7の欠陥が測定される。
(S700〜S900の工程)
S700では、欠陥が有りと判定された場合において、その欠陥の情報を成形機側にフィードバックして成形機で欠陥を発生させる異常が発生しているのか、またその異常を修正が可能か否かを判定する。その結果、例えば、被検レンズ7の表裏いずれかの光学面に異物が付着していたり、キズがあった等の場合には、成形機における金型ブロック61の上型63の成形面63a(又は下型64の成形面64a)に異物が付着等していないかどうかをチェックする。
4 干渉計
5 縞解析装置
6 基準レンズ
7 被検レンズ
10 スクリーン
11 レーザ
12 ビームエキスパンダ
13 凸レンズ
14 コリメータ
15 明るさ絞り
16 ビームスプリッタ
17 ミラー
18 ミラー
19 ピエゾ素子
20 レンズホルダ
21 ステージ
22 集光レンズ
23 集光レンズ
24 ビームスプリッタ
25 結像レンズ
27 補助接写レンズ
28 TVズームレンズ
29 イメージャー
30 テレビモニタ
31 カラーディスプレイ
32 シャッタ
33 シャッタ
34 平凹レンズ
35 平凹レンズ
40 光軸
43 可変NDフィルタ
44 ピンホール
50 干渉縞
51 大きな異物
52 小さな異物
53 照明光
54 LED
55 集光レンズ
61 金型ブロック
62 成形素材
63 上型
63a 成形面
64 下型
64a 成形面
65 スリーブ
66 絞り
67 面発光パネル
Claims (12)
- 比較対象としての基準レンズを透過した光束と測定対象としての被検レンズを透過した光束とを干渉させ、発生する干渉縞から前記被検レンズの収差量を測定する装置上で、前記被検レンズの欠陥を測定する
ことを特徴とする光学素子の測定方法。 - 前記被検レンズの欠陥の測定を、前記収差量を測定する透過波面測定の際の前記被検レンズの測定姿勢と同一で行う
ことを特徴とする請求項1に記載の光学素子の測定方法。 - 前記被検レンズの欠陥の測定を、前記基準レンズを透過した光束と前記被検レンズを透過した光束とを干渉させないで行う
ことを特徴とする請求項1に記載の光学素子の測定方法。 - 前記被検レンズの欠陥の測定を、前記基準レンズを透過した光束を遮光して行う
ことを特徴とする請求項3に記載の光学素子の測定方法。 - 前記被検レンズの欠陥の測定を、前記収差量の測定とは別の光線を前記被検レンズに照射して行う
ことを特徴とする請求項1に記載の光学素子の測定方法。 - 前記被検レンズの欠陥の測定を、前記収差量の測定とは別の光線を光軸と異なる方向から照射して行う
ことを特徴とする請求項5に記載の光学素子の測定方法。 - 前記被検レンズの欠陥の測定を、前記収差量の測定とは別の光線を前記被検レンズの両面から照射して行う
ことを特徴とする請求項5又は6に記載の光学素子の測定方法。 - 前記被検レンズの欠陥の測定を、前記被検レンズを回転させて行う
ことを特徴とする請求項1または5に記載の光学素子の測定方法。 - 前記被検レンズの欠陥の測定を、前記被検レンズを回転させて行い、得られた複数の画像を合成して評価する
ことを特徴とする請求項1または5に記載の光学素子の測定方法。 - 前記被検レンズの欠陥の測定を、前記被検レンズから投影面及び撮影系までの光学系のセッティングを変更して行う
ことを特徴とする請求項1に記載の光学素子の測定方法。 - 前記被検レンズの欠陥の測定を、観察光学系に絞りを付加して行う
ことを特徴とする請求項1に記載の光学素子の測定方法。 - 測定対象としての被検レンズを成形する成形工程と、
比較対象としての基準レンズを透過した光束と前記被検レンズを透過した光束とを干渉させ、発生する干渉縞から前記被検レンズの収差量を測定する装置上で、前記被検レンズの欠陥を測定する請求項1〜11に記載の測定工程と、
前記測定工程での測定結果に基づいて前記被検レンズの成形を続行するか否かまたは成形に使用する金型や成形装置のメンテナンスタイミングを前記成形工程にフィードバック
する工程と、を備える、
ことを特徴とする光学素子の製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020051914A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | オルガノ株式会社 | 検査装置および検査方法 |
CN112577913A (zh) * | 2020-10-20 | 2021-03-30 | 山东拙诚智能科技有限公司 | 一种基于光谱吸收原理检测微量气体浓度的方法及*** |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61260632A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-18 | Hitachi Ltd | 異物検査装置 |
JPH06109582A (ja) * | 1992-09-25 | 1994-04-19 | Olympus Optical Co Ltd | レンズ総合検査機 |
JPH11337504A (ja) * | 1998-05-26 | 1999-12-10 | Central Glass Co Ltd | ガラス板の欠陥識別検査方法および装置 |
JP2006220498A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Nano Scope Ltd | レンズ検査装置 |
US20080151236A1 (en) * | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Cuvette for ophthalmic lens |
-
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61260632A (ja) * | 1985-05-15 | 1986-11-18 | Hitachi Ltd | 異物検査装置 |
JPH06109582A (ja) * | 1992-09-25 | 1994-04-19 | Olympus Optical Co Ltd | レンズ総合検査機 |
JPH11337504A (ja) * | 1998-05-26 | 1999-12-10 | Central Glass Co Ltd | ガラス板の欠陥識別検査方法および装置 |
JP2006220498A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Nano Scope Ltd | レンズ検査装置 |
US20080151236A1 (en) * | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Cuvette for ophthalmic lens |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020051914A (ja) * | 2018-09-27 | 2020-04-02 | オルガノ株式会社 | 検査装置および検査方法 |
JP7125880B2 (ja) | 2018-09-27 | 2022-08-25 | オルガノ株式会社 | 検査装置および検査方法 |
CN112577913A (zh) * | 2020-10-20 | 2021-03-30 | 山东拙诚智能科技有限公司 | 一种基于光谱吸收原理检测微量气体浓度的方法及*** |
CN112577913B (zh) * | 2020-10-20 | 2022-10-18 | 山东拙诚智能科技有限公司 | 一种基于光谱吸收原理检测微量气体浓度的方法及*** |
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