JP2009545005A - ネガ型輻射線感光性組成物及び画像形成性材料 - Google Patents
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Abstract
Description
ラジカル重合性成分、
画像形成輻射線に暴露すると前記ラジカル重合性成分の重合を開始するのに十分なラジカルを生成することができる開始剤組成物、
輻射線吸収化合物、及び
下記構造(I):
xは1〜50重量%であり、yは30〜80重量%であり、そしてzは20〜70重量%である}
によって表される高分子バインダー
を含んでなる輻射線感光性組成物を提供する。
ラジカル重合性成分、
画像形成輻射線に暴露すると前記ラジカル重合性成分の重合を開始するのに十分なラジカルを生成することができる開始剤組成物、
輻射線吸収化合物、及び
上記構造(I)によって表される高分子バインダー
を含む画像形成性要素を基板上に有してなる画像形成性要素を提供する。
A) 本発明のネガ型画像形成性要素を像様露光することにより、露光された領域と非露光領域とを形成し、そして
B) プレヒート工程を伴って又は伴わずに、前記像様露光された要素を現像して、前記非露光領域だけを除去する
ことを含んでなる、画像形成された要素の製造方法も提供する。
A) 下記構造(Ia):
によって表される前駆体ポリマーを用意又は調製し、そして
B) 前記ペンダント・カルボキシ基をペンダント−C(=O)O−CH2CH=CH2基に変換するための条件下で塩基の存在において、前駆体ポリマーをアリル含有ハロゲン化物と反応させる
ことを含んでなる。
特に断らない限り、本明細書中に使用する「輻射線感光性組成物」、「画像形成性要素」及び「印刷版前駆体」という用語は、本発明の態様を意味するものとする。
本発明の1つの観点は、好適な電磁線を使用して重合可能である塗膜が必要であるところではどこでも、そして具体的には、塗布され、画像形成された組成物の非露光領域を除去することが望まれるところで有用性を有することができる、輻射線感光性組成物である。輻射線感光性組成物は、集積回路のためのプリント基板(印刷用回路基板)、ペイント組成物、成形用組成物、カラーフィルター、化学増幅レジスト、インプリント・リソグラフィ、マイクロ電子及びマイクロ光学デバイス、及びフォトマスク・リソグラフィ、及び好ましくは印刷された形態、例えば下でより詳細に定義する平版印刷版前駆体、及び画像形成された平版印刷版を調製するために、使用することができる。
上記式中、X及びYは独立してハロ基(例えばフルオロ、クロロ、又はブロモ)、炭素原子数1〜20の置換型又は無置換型アルキル基(例えばメチル、クロロメチル、エチル、2−メトキシエチル、n−プロピル、イソプロピル、イソブチル、n−ブチル、t−ブチル、全ての分枝状及び線状ペンチル基、1−エチルペンチル、4−メチルペンチル、全てのヘキシル異性体、全てのオクチル異性体、ベンジル、4−メトキシベンジル、p−メチルベンジル、全てのドデシル異性体、全てのイコシル異性体、及び置換型又は無置換型モノ及びポリ分枝状及び線状ハロアルキル)、炭素原子数1〜20の置換型又は無置換型アルキルオキシ(例えば置換型又は無置換型メトキシ、エトキシ、イソ−プロポキシ、t−ブトキシ、(2−ヒドロキシテトラデシル)オキシ、及び種々の他の線状及び分枝状アルキレンオキシアルコキシ基)、炭素環式芳香族環内炭素原子数6又は10の置換型又は無置換型アリール基(例えばモノ及びポリハロフェニル及びナフチル基を含む置換型又は無置換型フェニル及びナフチル基)、又は環構造内炭素原子数3〜8の置換型又は無置換型シクロアルキル基(例えば置換型又は無置換型シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル、及びシクロオクチル基)である。好ましくは、X及びYは独立して置換型又は無置換型の、炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルキルオキシ基、又は環内炭素原子数5又は6のシクロアルキル基であり、そしてより好ましくは、X及びYは独立して、炭素原子数3〜6の置換型又は無置換型アルキル基(そして具体的には炭素原子数3〜6の分枝状アルキル基)である。このように、X及びYは同じか又は異なる基であることが可能であり、種々のX基は同じか又は異なる基であることが可能であり、そして種々のY基は同じか又は異なる基であることが可能である。「対称」及び「非対称」双方のホウ酸ジアリールヨードニウム化合物が本発明によって意図されるが、しかし「対称」化合物が好ましい(すなわち、これらは両フェニル環上に同じ基を有する)。
上記式中、R1、R2、R3、及びR4は独立して、フルオロアルキル基以外の炭素原子数1〜12の置換型又は無置換型アルキル基(例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソ−プロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、全てのペンチル基、2−メチルペンチル、全てのヘキシル異性体、2−エチルヘキシル、全てのオクチル異性体、2,4,4−トリメチルペンチル、全てのノニル異性体、全てのデシル異性体、全てのウンデシル異性体、全てのドデシル異性体、メトキシメチル、及びベンジル)、芳香族環内炭素原子数6〜10の置換型又は無置換型炭素環式アリール基(例えばフェニル、p−メチルフェニル、2,4−メトキシフェニル、ナフチル、及びペンタフルオロフェニル基)、炭素原子数2〜12の置換型又は無置換型アルケニル基(例えばエテニル、2−メチルエテニル、アリル、ビニルベンジル、アクリロイル、及びクロトノチル基)、炭素原子数2〜12の置換型又は無置換型アルキニル基(例えばエチニル、2−メチルエチニル、及び2,3−プロピニル基)、環構造内炭素原子数3〜8の置換型又は無置換型シクロアルキル基(例えばシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシクロヘキシル、及びシクロオクチル基)、又は炭素、酸素、硫黄、及び窒素原子数5〜10の置換型又は無置換型ヘテロシクリル基(芳香族基及び非芳香族基の両方を含む。例えば置換型又は無置換型ピリジル、ピリミジル、フラニル、ピロリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾイリル、インドリル、キノリニル、オキサジアゾリル、及びベンゾオキサゾリル基)である。或いは、R1、R2、R3、及びR4のうちの2つ又は3つ以上は一緒になって、該ホウ素原子を有する複素環を形成することもでき、このような環は例えば炭素、窒素、酸素、及び窒素原子数が最大7である。R1からR4までのいずれの基もハロゲン原子を含有せず、特にフッ素原子を含有しない。
上記式中、Aは、ペンダント−C(=O)O−CH2CH=CH2基を含む反復単位を表し、Bは、ペンダント・シアノ基を含む反復単位を表し、そしてCは、A及びBによって表されるもの以外の反復単位であって、任意選択的に、ペンダント・カルボキシ基を有する反復単位(例えば、カルボキシ基が下記のように−C(=O)O−CH2CH=CH2基に変換されない反復単位)を含む反復単位を表す。
A) 下記構造(Ia):
によって表される前駆体ポリマーを用意又は調製し、そして
B) 前記ペンダント・カルボキシ基をペンダント−C(=O)O−CH2CH=CH2基に変換するための条件下で塩基の存在において、前駆体ポリマーをアリル含有ハロゲン化物と反応させる
ことによって調製することができる。
a) 疎水性主鎖に直接に結合されたペンダント・シアノ基を有する反復単位、及び
b) ポリ(アルキレンオキシド)セグメントを含むペンダント基を有する反復単位。
A) アクリロニトリル、メタクリロニトリル、又はこれらの組み合わせ、
B) アクリル酸又はメタクリル酸のポリ(アルキレンオキシド)エステル、例えばポリ(エチレングリコール)メチルエーテルアクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエステルメタクリレート、又はこれらの組み合わせ、及び
C) 任意選択の、アクリル酸、メタクリル酸、スチレン、ヒドロキシスチレン、アクリレートエステル、メタクリレートエステル、アクリルアミド、メタクリルアミドのようなモノマー、又はこのようなモノマーの組み合わせ、
の組み合わせ又は混合物を重合することによって形成することができる。
画像形成性要素は、画像形成性層を形成するのに適した基板に上記輻射線感光性組成物を好適に適用することによって形成される。この基板は、輻射線感光性組成物の適用前に、下記のような種々の方法で処理又は塗布することができる。好ましくは、本発明の輻射線感光性組成物を含んでなる単一の画像形成性層だけが存在する。基板が、改善された付着性又は親水性のために「中間層」を提供するように処理されているならば、適用された輻射線感光性組成物は一般に「トップ」層又は最外層と考えられる。しかしながら、これらの中間層は「画像形成性層」であるとは考えられない。国際公開第99/06890号パンフレット(Pappas他)に記載されているように画像形成性層に上塗り層(例えば酸素不透過性トップ塗膜)として従来より知られているものを適用する必要は通常はないが、所望の場合にはこれを使用することができる。このような上塗り層は、1種又は2種の水溶性ポリマー、例えばポリ(ビニルアルコール)、ポリ(ビニルピロリドン)、ポリ(ビニルイミダゾール)を含むことができ、そして一般には、0.1〜4g/m2の乾燥塗膜重量で存在する。
使用中、画像形成性要素は、輻射線感光性組成物中に存在する輻射線吸収化合物に応じて、波長150〜1500nmの好適な輻射線源、例えばUV、可視光、近赤外線又は赤外線の好適な輻射線源に暴露される。好ましくは、画像形成は、波長700〜1200nmの赤外線レーザーを使用して行われる。画像形成性要素に露光を施すために使用されるレーザーは、ダイオード・レーザー・システムの信頼性及びメンテナンスの手間の少なさにより、好ましくはダイオード・レーザーであるが、しかし他のレーザー、例えば気体又は固体レーザーを使用することもできる。レーザー画像形成のための出力、強度、及び露光時間の組み合わせは、当業者には容易に明らかである。目下、商業的に利用的なイメージセッターにおいて使用される高性能レーザー又はレーザー・ダイオードは、波長800〜850nm又は1060〜1120nmの赤外線を放射する。
画像形成後のプレヒート工程の必要無しに、画像形成された要素を、コンベンショナルな処理及びコンベンショナルな現像剤を用いて「機外(off-press)」現像することができる。
BLOは、γ-ブチロラクトンを表す。
磁気攪拌器、温度調節器、及びN2入口を備えた1000mlの三口フラスコ内に、AIBN[2,2’−アゾビス(イソ−ブチロニトリル)、Vazo-64、1.6g]、メチルメタクリレート(20g)、アクリロニトリル(24g)、N−ビニルカルバゾール(20g、Polymer Dajacから入手)、メタクリル酸(16g)、及びDMAC(320g)を入れた。反応混合物を60℃まで加熱し、そしてN2保護下で一晩(16時間)にわたって攪拌した。%N.V.を20%と測定した。
磁気攪拌器、温度調節器、及びN2入口を備えた1000mlの三口フラスコ内に、AIBN(1.6g)、メチルメタクリレート(10g)、アクリロニトリル(24g)、ビニルカルバゾール(20g)、メタクリル酸(26g)、及びDMAC(320g)を入れた。反応混合物を60℃まで加熱し、そしてN2保護下で一晩(16時間)にわたって攪拌した。非揮発分の%を20%と測定した。窒素保護を除去し、そして、水(80g)中の水酸化カリウム(14.3g)をゆっくりと添加した。粘性液体を形成した。混合物を10分間にわたって撹拌した後、臭化アリル(31g)を添加し、そして混合物を3時間にわたって55℃で攪拌した。DMAC(40g)中の濃(36%)塩酸(26g)をフラスコに添加し、そして混合物をさらに3時間にわたって攪拌した。反応混合物を濾過することにより、形成された無機塩を除去し、そして濾液を次いで、12リットルの水と濃塩酸(20g)との混合物に、攪拌しながらゆっくりと滴下した。沈殿物を濾過し、2000mlのプロパノールで洗浄し、これに続いてさらに2000mlの水で洗浄した。濾過後に白い微粉末を得た。粉末を40℃で10時間にわたって乾燥させることにより、63gのポリマー固形物を得た。
磁気攪拌器、温度調節器、及びN2入口を備えた1000mlの三口フラスコ内に、AIBN(1.6g)、メチルメタクリレート(16g)、アクリロニトリル(28g)、ビニルカルバゾール(16g)、メタクリル酸(20g)、及びDMAC(320g)を入れた。反応混合物を60℃まで加熱し、そしてN2保護下で一晩(16時間)にわたって攪拌した。非揮発分の%を20%と測定した。窒素保護を除去し、そして、水(40g)中の水酸化カリウム(7.8g)をゆっくりと添加した。粘性液体を形成した。混合物を10分間にわたって撹拌した後、臭化アリル(16.9g)を添加し、そして混合物を3時間にわたって55℃で攪拌した。DMAC(40g)中の濃(36%)塩酸(14.5g)をフラスコに添加し、そして混合物をさらに3時間にわたって攪拌した。反応混合物を濾過することにより、形成された無機塩を除去し、そして濾液を次いで、12リットルの水と濃塩酸(20g)との混合物に、攪拌しながらゆっくりと滴下した。沈殿物を濾過し、2000mlのプロパノールで洗浄し、これに続いてさらに2000mlの水で洗浄した。濾過後に白い微粉末を得た。粉末を40℃で10時間にわたって乾燥させることにより、65gのポリマー固形物を得た。
磁気攪拌器、温度調節器、及びN2入口を備えた250mlの三口フラスコ内に、AIBN(0.4g)、メチルメタクリレート(5g)、アクリロニトリル(6g)、ビニルカルバゾール(5g)、アリルメタクリレート(2g)、メタクリル酸(2g)、及びDMAC(80g)を入れた。混合物を60℃まで加熱し、そしてN2保護下で攪拌した。6時間の反応後に、反応混合物はゲル化した。
磁気攪拌器、温度調節器、及びN2入口を備えた250mlの三口フラスコ内に、AIBN(0.4g)、メチルメタクリレート(2.5g)、アクリロニトリル(6g)、ビニルカルバゾール(5g)、アリルメタクリレート(5.5g)、メタクリル酸(1g)、及びDMAC(80g)を入れた。混合物を60℃まで加熱し、そしてN2保護下で攪拌した。2.5時間の反応後に、反応混合物はゲル化した。
磁気攪拌器、温度調節器、及びN2入口を備えた250mlの三口フラスコ内に、AIBN(0.4g)、メチルメタクリレート(4g)、アクリロニトリル(7g)、ビニルカルバゾール(4g)、アリルメタクリレート(3g)、メタクリル酸(2g)、及びDMAC(80g)を入れた。混合物を60℃まで加熱し、そしてN2保護下で攪拌した。4時間の反応後に、反応混合物はゲル化した。
磁気攪拌器、温度調節器、及びN2入口を備えた1000mlの三口フラスコ内に、AIBN[2,2’−アゾビス(イソ−ブチロニトリル)、Vazo-64、1.6g]、メチルメタクリレート(12g)、アクリロニトリル(25g)、N−ビニルカルバゾール(18g、Polymer Dajacから入手)、メタクリル酸(25g)、及びDMAC(320g)を入れた。反応混合物を75℃まで加熱し、そしてN2保護下で一晩(約16時間)にわたって攪拌した。%N.V.を約20%と測定した。
磁気攪拌器、温度調節器、及びN2入口を備えた1000mlの三口フラスコ内に、AIBN[2,2’−アゾビス(イソ−ブチロニトリル)、Vazo-64、0.8g]、メチルメタクリレート(6g)、アクリロニトリル(18g)、N−ビニルカルバゾール(6g、Polymer Dajacから入手)、メタクリル酸(10g)、及びDMAC(160g)を入れた。反応混合物を75℃まで加熱し、そしてN2保護下で一晩(約16時間)にわたって攪拌した。%N.V.を約20%と測定した。
磁気攪拌器、温度調節器、及びN2入口を備えた1000mlの三口フラスコ内に、AIBN[2,2’−アゾビス(イソ−ブチロニトリル)、Vazo-64、0.8g]、メチルメタクリレート(11.5g)、アクリロニトリル(8g)、N−ビニルカルバゾール(8g、Polymer Dajacから入手)、メタクリル酸(12.5g)、及びDMAC(160g)を入れた。反応混合物を70℃まで加熱し、そしてN2保護下で一晩(約16時間)にわたって攪拌した。%N.V.を約20%と測定した。
この例は、本発明以外の高分子バインダーと比較した、本発明に従って調製された高分子バインダーの耐化学薬品(溶剤)性を実証する。
上で特定されたポリマーA、B、C及びポリマー1(それぞれ1g)を個別に、2−ブトキシエチルエタノールの80重量%水溶液20g中に、16時間にわたって25℃で攪拌した。その結果としての混合物を濾過し、そして捕集した固形物を水で洗浄し、40℃で8時間にわたって乾燥させた。回収したポリマー固形物を秤量し、そしてポリマーA、B、C、及びポリマー1に関してそれぞれ0.88g、0.79g、0.82g、及び0gであることが判った。こうして、ポリマーの溶解度(80重量%の2−ブトキシエタノール溶液1g当たりのmg)が、下記表Iに記載されているように測定された。
上で特定されたポリマーA、B、C及びポリマー1を個別に、ポリマーA、B、及びCのそれぞれに関して8重量%溶液を達成し、またポリマー1に関しては4.6重量%溶液を達成するように、PGME(65重量%)とMEK(35重量%)との溶剤混合物中に溶解した。D11色素(0.5重量%)を、視覚的な目的でそれぞれの溶液に添加した。これらの非画像形成性溶液を個別に、電気化学的グレイニング及び硫酸陽極酸化を施されたアルミニウム基板(いずれもPVPAで後処理されている)上に巻線ロッドを使用することにより塗布し、次いで120℃に設定されたRanarコンベヤ炉内でほぼ2分間の滞留時間にわたって乾燥させた。塗布されたそれぞれのポリマー被膜上に、2−ブトキシ−エタノール溶液の80重量%水溶液を2分間のインターバルで最大12分間にわたって滴下した。水で液滴を濯ぎ落とした後、溶剤が接触した領域内の光学濃度を、シアン・フィルタを有する商業的な濃度計D196(Gretag-Macbeth AG、スイス国Regensdorf)を使用して測定した。
上で特定されたポリマーX、Y、及びZを個別に、ポリマーX、Y、及びZのそれぞれに関して8重量%溶液を達成するように、BLO(15重量%)、水(10重量%)、PGME(20重量%)、及びMEK(55重量%)の溶剤混合物中に溶解した。D11色素(1.0重量%)を、視覚的な目的でそれぞれの溶液に添加した。これらの非画像形成性溶液を個別に、電気化学的グレイニング及び硫酸陽極酸化を施されたアルミニウム基板(いずれもPVPAで後処理されている)上に巻線ロッドを使用することにより塗布し、次いで約120℃に設定されたRanarコンベヤ炉内でほぼ2分間の滞留時間にわたって乾燥させた。塗布されたそれぞれのポリマー被膜上に、2−ブトキシ−エタノール溶液の80重量%水溶液を30秒間のインターバルで最大300秒間にわたって滴下した。水で液滴を濯ぎ落とした後、溶剤が接触した領域内の光学濃度を、シアン・フィルタを有する商業的な濃度計D196(Gretag-Macbeth AG、スイス国Regensdorf)を使用して測定した。光学濃度対溶剤溶液接触時間のプロットを、図1に示す。より良好な耐有機溶剤性を有するポリマーは、溶剤溶液との接触後により高い光学濃度を維持した。アクリロニトリルから誘導された少なくとも30重量%の反復単位を有するポリマーX及びYは、ポリマーZ(アクリロニトリルから誘導された反復単位を20重量%しか有さない)と比較して著しく改善された耐溶剤混合物性を呈したことは明らかである。
ポリマーA(1.05g)、オリゴマーA(0.73g)、SR−399(0.56g)、開始剤A(0.19g)、IR色素1(0.083g)、Irganox(登録商標)1035(0.44g、MEK中5%)、顔料951(0.30g)、PEGDA(0.24g)、Phosmer PE(0.033g)、及び10%Byk(登録商標)307溶液(0.28g)を、PGME(30.2g)及びMEK(15.9g)中に溶解することにより、画像形成性層塗布用配合物を調製した。
例2に従って、画像形成性要素を調製した。画像形成性層には、水中9.7%のAirvol 203(162.8g、ポリビニルアルコール)、水中20%のポリビニルイミダゾール(13.9g)、2−プロパノール(11.8g)、及び水(111.4g)を含有する溶液を上塗りした。画像形成性層配合物と同様に上塗り層配合物を適用した後、結果として生じた画像形成性要素を、回転ドラム上で約1分間にわたって170°F(77℃)で乾燥させることにより、約0.5g/m2の上塗り層の乾燥塗膜重量をもたらした。
ポリマーB(1.05g)、オリゴマーA(0.73g)、SR−399(0.56g)、開始剤A(0.19g)、IR色素1(0.083g)、Irganox(登録商標)1035(0.44g、MEK中5%)、顔料951(0.30g)、PEGDA(0.24g)、Phosmer PE(0.033g)、及び10%Byk(登録商標)307溶液(0.28g)を、PGME(30.2g)及びMEK(15.9g)中に溶解することにより、画像形成性層塗布用配合物を調製した。
例4において記載される画像形成性要素を、上記例3で説明したように、上塗り層を有するように調製した。次いで、例4に記載したように、要素に像様露光及び現像を施した。PFで後処理された基板を有する要素の場合、背景は、現像後に僅かな汚れを示した。PVPAで後処理された基板を含有する要素の場合、安定なベタ濃度及びクリーンな背景を達成するための最小エネルギーは約60mJ/cm2であった。他の画像形成性要素試料を、48℃又は38℃/80%湿度で5日間にわたってインキュベートし、次いで同様に画像形成及び現像した。これらの試料は同様なデジタル速度を示し、その結果としてクリーンな背景を示した。他の画像形成性要素試料を120mJ/cm2で露光し、次いで1.5%炭酸カルシウムを含有する摩耗性インクを使用してMiehle枚葉紙供給印刷機上に装着することにより、少なくとも約20,000部の良好な刷りを生成した。
ポリマーAの代わりにポリマーC(1.05g)を使用することを除けば上記例2に記載されているように、画像形成性要素を調製し、画像形成し、そして現像した。安定なベタ濃度及びクリーンな背景を達成するための最小エネルギーは約100mJ/cm2であった。
ポリマーX(1.04g)、オリゴマーB(1.27g)、グラフト・ポリマー1(4.91g)、SR−399(3.17g、MEK中40%)、開始剤A(0.40g)、IRT(0.17g)、トリメトキシシリルプロピルメチレート(0.12g)、顔料951(0.64g)、Phosmer PE(0.12g)、及び10%Byk(登録商標)307溶液(0.58g)を、PGME(50.7g)、水(4.7g)及びMEK(31.1g)中に溶解することにより、画像形成性層塗布用配合物を調製した。
ポリマーX(1.04g)、オリゴマーB(1.27g)、グラフト・ポリマー1(4.91g)、SR−399(3.17g、MEK中40%)、開始剤B(0.40g)、IRT(0.17g)、トリメトキシシリルプロピルメチレート(0.12g)、顔料951(0.64g)、Phosmer PE(0.12g)、及び10%Byk(登録商標)307溶液(0.58g)を、PGME(50.7g)、水(4.7g)及びMEK(31.1g)中に溶解することにより、画像形成性層塗布用配合物を調製した。
Claims (25)
- ラジカル重合性成分、
画像形成輻射線に暴露すると前記ラジカル重合性成分の重合を開始するのに十分なラジカルを生成することができる開始剤組成物、
輻射線吸収化合物、及び
下記構造(I):
xは1〜50重量%であり、yは30〜80重量%であり、そしてzは20〜70重量%である}
によって表される高分子バインダー
を含んでなる輻射線感光性組成物。 - Bが(メタ)アクリロニトリルから誘導された反復単位を表し、xが5〜50重量%であり、yが30〜60重量%であり、そしてzが30〜60重量%である請求項1に記載の組成物。
- Cが、1種又は2種以上の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリルアミド、ビニルカルバゾール、スチレン及びこれらのスチレン誘導体、N置換型マレイミド、無水マレイン酸、ビニルアセテート、ビニルケトン、ビニルピリジン、N−ビニルピロリドン、1−ビニルイミダゾール、(メタ)アクリル酸、並びにビニルポリアクリルシランから誘導された反復単位を表す請求項1に記載の組成物。
- 前記高分子バインダーが、総組成物固形分を基準として、10〜70重量%である請求項1に記載の組成物。
- 前記高分子バインダーが、25℃で、2−ブトキシエタノールの80重量%水溶液1グラム中、50mg未満の溶解度を有している請求項1に記載の組成物。
- 前記開始剤組成物がオニウム塩を含んでなる請求項1に記載の組成物。
- 前記オニウム塩が、
下記構造(II):
Z-は、下記構造(III):
によって表される有機アニオンである}
によって表されるホウ酸ジアリールヨードニウム化合物を含む、
ホウ酸ヨードニウムである請求項6に記載の組成物。 - X及びYが独立して、アルキル、アルキルオキシ、又はシクロアルキル基であり、p及びqの両方が少なくとも1であり、そしてR1、R2、R3、及びR4が独立して、アルキル、又はアリール基である請求項7に記載の組成物。
- X及びYが独立してアルキル基であり、そしてR1、R2、R3、及びR4のうちの少なくとも3つが独立してアリール基であり、そしてZ-がテトラフェニルボレートである請求項7に記載の組成物。
- 前記オニウム塩が、少なくとも1重量%の量で存在する請求項6に記載の組成物。
- 前記ラジカル重合性成分が、エチレン系不飽和ラジカル重合性モノマー若しくはオリゴマー、又はラジカル架橋性ポリマーを含む請求項1に記載の組成物。
- 前記輻射線吸収化合物が、赤外線吸収化合物である請求項1に記載の組成物。
- Bが、(メタ)アクリロニトリルから誘導された反復単位を表し、xが5〜50重量%であり、yが30〜60重量%であり、そしてzが30〜60重量%であり、そしてCが、1種又は2種以上の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリルアミド、ビニルカルバゾール、スチレン及びこれらのスチレン誘導体、N置換型マレイミド、無水マレイン酸、ビニルアセテート、ビニルケトン、ビニルピリジン、N−ビニルピロリドン、1−ビニルイミダゾール、(メタ)アクリル酸、並びにビニルポリアクリルシランから誘導された反復単位を表す請求項13に記載の要素。
- 前記高分子バインダーが、総画像形成性層重量を基準として、10〜80重量%である請求項13に記載の要素。
- 前記開始剤組成物がオニウム塩を含み、前記ラジカル重合性成分が、エチレン系不飽和ラジカル重合性モノマー若しくはオリゴマー、又はラジカル架橋性ポリマーを含み、そして前記輻射線吸収化合物が、赤外線吸収化合物である請求項13に記載の要素。
- 前記オニウム塩が、
下記構造(II):
Z-は、下記構造(III):
によって表される有機アニオンである}
によって表されるホウ酸ジアリールヨードニウム化合物を含む、
ホウ酸ヨードニウムである請求項16に記載の要素。 - X及びYが独立してアルキル基であり、そしてR1、R2、R3、及びR4のうちの少なくとも3つが独立してアリール基であり、そしてZ-がテトラフェニルボレートであり、前記ホウ酸ヨードニウムが、1〜25重量%の量で存在する請求項17に記載の要素。
- A) 請求項10に記載のネガ型画像形成性要素を像様露光することにより、露光された領域と非露光領域とを形成し、そして
B) プレヒート工程を伴って又は伴わずに、前記像様露光された要素を現像して、前記非露光領域だけを除去する
ことを含んでなる、画像形成された要素の製造方法。 - 前記輻射線吸収化合物がIR感光性色素であり、前記像様露光工程Aが、20〜500mJ/cm2のエネルギーレベルで700〜1200nmの最大波長を有する輻射線を使用して実施される請求項19に記載の方法。
- 前記現像がプレヒート工程を伴わずに実施される請求項19に記載の方法。
- 請求項19の方法から得られる画像形成された要素。
- 下記構造(I):
xは1〜50重量%であり、yは30〜80重量%であり、そしてzは20〜70重量%である}
によって表されるポリマーを製造する方法であって、当該方法は:
A) 下記構造(Ia):
によって表される前駆体ポリマーを用意又は調製し、そして
B) 前記ペンダント・カルボキシ基をペンダント−C(=O)O−CH2CH=CH2基に変換するための条件下で塩基の存在において、前記前駆体ポリマーをアリル含有ハロゲン化物と反応させる
ことを含んでなる。 - 前記アリル含有ハロゲン化物が、ビニル塩化ベンジル、塩化アリル、又は臭化アリルであり、そして前記塩基が、水酸化物、トリアルキルアミン、ピリジン、又は1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−ウンデス−7−エンである請求項23に記載の方法。
- 反応工程Bが温度20〜150℃で1〜48時間にわたって実施される請求項23に記載の方法。
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