JP2009528568A - 多層画像形成性要素の熱処理 - Google Patents
多層画像形成性要素の熱処理 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009528568A JP2009528568A JP2008557285A JP2008557285A JP2009528568A JP 2009528568 A JP2009528568 A JP 2009528568A JP 2008557285 A JP2008557285 A JP 2008557285A JP 2008557285 A JP2008557285 A JP 2008557285A JP 2009528568 A JP2009528568 A JP 2009528568A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- group
- imageable element
- nhc
- phenyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/36—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties
- B41M5/368—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used using a polymeric layer, which may be particulate and which is deformed or structurally changed with modification of its' properties, e.g. of its' optical hydrophobic-hydrophilic, solubility or permeability properties involving the creation of a soluble/insoluble or hydrophilic/hydrophobic permeability pattern; Peel development
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/02—Positive working, i.e. the exposed (imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/14—Multiple imaging layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/127—Spectral sensitizer containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/136—Coating process making radiation sensitive element
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/165—Thermal imaging composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
A) 基板上に第1層を用意する工程、前記第1層は、第1高分子バインダー内に分散された第1輻射線吸収化合物を含む、
B) 前記第1層上に第2層を用意する工程、前記第2層は、第2高分子バインダー内に分散された第2輻射線吸収化合物を含む、
C) 前記第1層及び第2層を乾燥させた後、前記乾燥された第1層及び第2層からの湿分の除去を抑制する条件下で少なくとも4時間、40℃〜90℃で、前記第1層及び第2層を熱処理する工程
を含んで成るポジ型画像形成性要素を提供する方法を提供する。
D) 画像形成された領域と非画像形成領域とを提供するために、前記画像形成性要素を像様露光する工程、そして、
E) 該画像形成された領域だけを除去するために、該像様露光された画像形成性要素と水性現像剤とを接触させる工程
をさらに含む。
文脈が特に示すのでない限り、本明細書中に使用する「画像形成性要素」及び「印刷版前駆体」という用語は、本発明によって得られる態様に言及するものである。
本発明を用いることによって得られる画像形成性要素は、数多くの方式で使用することができる。好ましい用途は、下でより詳しく説明するような平版印刷版の前駆体としての使用である。しかし、これが、本発明のただ1つの用途であるわけではない。例えば、画像形成性要素は、フォトマスク・リソグラフィ及びインプリント・リソグラフィにおいて使用することもでき、また化学的に増幅されたレジスト、プリント基板、並びにマイクロ電子デバイス及びマイクロ光学デバイスを形成するために使用することもできる。
一般に、本発明によって得られる画像形成性要素は、基板と、第1層(「下層」又は「内層」として知られることもある)と、第1層上に配置された第2層(「トップ層」又は「外層」として知られることもある)とを含む。熱画像形成前には、第2層はアルカリ性現像剤によって除去することはできないが、しかし、熱画像形成後には、第2層の画像形成された領域は、アルカリ性現像剤によって除去することができる。第1層もアルカリ性現像剤によって除去することができる。輻射線吸収化合物、一般には赤外線吸収化合物(下に定義する)が画像形成性要素の第1層及び第2層の双方内に存在する。輻射線吸収化合物は任意選択的に、第1層と第2層との間の分離層内にも存在することもできる。種々の層内の輻射線吸収化合物は、同じか又は異なる化合物であることが可能であり、そして好ましくは、これらは同じ化合物である。
第1層は、第2層と基板との間に配置されており、そして典型的には上記基板上に直接的に配置されている。第1層は、「第1」高分子材料内部に配置された「第1」輻射線吸収化合物(下記)を含む。
R2は、−NHC(O)NH−フェニル基、又はフェニル基であり、フェニル環は、無置換型であるか、又は1つ若しくは2つ以上のカルボキシ、ヒドロキシ、又は−S(O)2NH2基で置換することができる。好ましくは、R2内のフェニル部分は、ヒドロキシ又はカルボキシ基で置換されている。さらに、mは0又は1であり、そしてpは1〜5である。好ましくは、mは1であり、そしてpは1である。構造(I)において、R2が−NHC(O)NH−フェニル基である場合、mは1でなければならない。}
第2層は第1層の上に配置されており、そして好ましい態様の場合、第1層と第2層との間には中間層はない。最も好ましい態様の場合、第2層はまた、本要素における最外層である。
画像形成性要素は、基板の表面(及びその上に設けられた任意のその他の親水性層)上に第1層配合物を順次適用し、次いでコンベンショナルな塗布法又は積層法を用いて、第1層上に第2層配合物を適用することによって調製することができる。内層配合物と外層配合物との混和を回避することが望ましい。
使用中、画像形成性要素は、波長600〜1200nm、好ましくは700〜1200nmのレーザーを使用して、好適な画像形成輻射線源(例えば赤外線)に露光される。画像形成要素を露光するために使用されるレーザーは、ダイオード・レーザー・システムの信頼性及びメンテナンスの手間の少なさにより、好ましくはダイオード・レーザーであるが、しかし他のレーザー、例えば気体又は固体レーザーを使用することもできる。レーザー画像形成のための出力、強度、及び露光時間の組み合わせは、当業者には容易に明らかである。目下、商業的に入手可能な画像セッターにおいて使用される高性能レーザー又はレーザー・ダイオードは、波長800〜850nm又は1040〜1120nmの赤外線を放射する。
EUV-5は、コンベンショナルな出発材料及び重合条件を用いて調製された下記構造を有するポリマーである:
BLOは、γ-ブチロラクトンである。
PGMEは、プロピレングリコールメチルエーテルである。
65部のMEK、15部のPGME、10部の水、及び10部のBLOの溶剤混合物中の、表I(全ての値は重量%)に示された塗布用組成物で、内層(「第1」層)塗布用配合物1〜3を調製した。
クリーンアウト:Screen PTR4300プレートセッター上で要素に画像を形成し、続いて、PK処理装置内で30℃に保たれた平版印刷Developer PD1(1部の現像剤を8部の水に希釈)を用いて現像することにより、塗膜のクリーンアウトを評価した。クリーンアウト、すなわち画像形成された塗膜の完全な除去を達成するために必要となるエネルギーを、最大ドラム速度(1000rpm)に設定されたプレートセッターを用いた場合の最大出力のうちの%で示した。
− コンディショニング前
− コンディショニング後
− 3日間にわたる40℃/80%RHの人工的エージングレジメン後(コンディショニングされた版及びコンディショニングされていない版の両方)
例1において記載した別の基板B上に、僅かに調節された配合物を塗布した。
下記内層及び外層配合物(全ての量は重量による)を使用して、例1に記載されているように、要素Eを調製した。
Claims (23)
- A) 基板上に第1層を用意する工程、前記第1層は、第1高分子バインダー内に分散された第1輻射線吸収化合物を含む、
B) 前記第1層上に第2層を用意する工程、前記第2層は、第2高分子バインダー内に分散された第2輻射線吸収化合物を含む、
C) 前記第1層及び第2層を乾燥させた後、前記乾燥された第1層及び第2層からの湿分の除去を抑制する条件下で少なくとも4時間、約40℃〜約90℃で、前記第1層及び第2層を熱処理する工程
を含んで成るポジ型画像形成性要素を提供する方法。 - 前記熱処理が少なくとも20時間実施される請求項1に記載の方法。
- 前記熱処理が少なくとも24時間、50℃〜70℃で実施される請求項1に記載の方法。
- 前記熱処理中、前記画像形成性要素は、該前駆体からの湿分除去に対する効果的なバリヤを形成するために、不透水性シート材料内に包まれるか若しくは収容され、又は該画像形成性要素の前記熱処理が、相対湿度が少なくとも25%に制御されている環境内で実施される請求項1に記載の方法。
- 前記熱処理中、前記不透水性シート材料が、前記画像形成性要素の端部の周りでシールされている請求項4に記載の方法。
- 前記不透水性シート材料が、前記画像形成性要素の端部の周りでシールされる高分子フィルム又は金属フォイルである請求項5に記載の方法。
- 前記画像形成性要素が、少なくとも100個の同じ画像形成性要素を含むスタック内で熱処理される請求項1に記載の方法。
- 前記画像形成性要素が、コイルの形態で熱処理される請求項1に記載の方法。
- 前記第2高分子バインダーが、ヒドロキシル基を有するポリマーである請求項1に記載の方法。
- 前記第2高分子バインダーが、フェノール樹脂又はポリヒドロキシスチレン樹脂である請求項9に記載の方法。
- 前記第1及び第2輻射線吸収化合物が同じ化合物である請求項1に記載の方法。
- 前記第1輻射線吸収化合物が、0.5〜10重量%の量で存在し、そして前記第2輻射線吸収化合物が、0.5〜10重量%の量で存在する請求項1に記載の方法。
- 前記第1高分子バインダーが、1種又は2種以上の(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、N置換型環状イミド、スチレン誘導体、及び、尿素基を含有するペンダント基を有するモノマーから誘導された反復単位を含む請求項1に記載の方法。
- 前記第1高分子バインダーが、1種又は2種以上の(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、N置換型環状イミド、下記構造(I)又は(II)によって表されるモノマーから誘導された反復単位を含む請求項13に記載の方法:
但し、R2が構造(I)内で−NHC(O)NH−フェニル基である場合、mは1であることを条件とする}。 - R1が、水素又はメチルであり、R’が、水素又はメチルであり、Arが、フェニレンであり、Yが、炭素原子数1〜4の線状又は分枝状アルキレンであり、mが、1であり、pが、1であり、そしてR2が、−NHC(O)NH−フェニル基であり、フェニル部分が、1つ又は2つ以上のヒドロキシ、カルボキシ、又は−S(O)2NH2基で任意選択的に置換されている請求項14に記載の方法。
- Dは、第1及び第2のDモノマーから誘導された反復単位を表し:
(a) 前記第1「D」モノマーが、構造(I)によって規定され、R1が、水素又はメチル基であり、Xが、オキシであり、Yが、−CH2CH2−基であり、mが、1であり、R2が、−NHC(O)NH−フェニル、−NHC(O)NH−C6H4−OH、又は−NHC(O)NH−C6H4−COOH基であり、そして前記第2「D」モノマーが、構造(I)によって規定され、R1が、水素又はメチル基であり、Xが、−NH−であり、mが、0であり、R2が、フェニル、ヒドロキシフェニル、又はカルボキシフェニル基であり、又は、
(b) 前記第1「D」モノマーが、構造(II)によって規定され、R1が、水素又はメチル基であり、Yが、−C(CH3)2−基であり、mが、1であり、pが、1であり、そしてR2が、−NHC(O)NH−フェニル、−NHC(O)NH−C6H4−OH、又は−NHC(O)NH−C6H4−COOH基であり、そして前記第2「D」モノマーが、構造(I)によって規定され、R1は水素又はメチル基であり、Xは−NH−基であり、mは0であり、そしてR2はフェニル、ヒドロキシフェニル、又はカルボキシフェニル基である、請求項14に記載の方法。 - D) 画像形成された領域と非画像形成領域とを提供するために、請求項1によって提供された画像形成性要素を像様露光する工程、そして、
E) 該画像形成された領域だけを除去するために、該像様露光された画像形成性要素と水性現像剤とを接触させる工程
をさらに含んで成る請求項1に記載の方法。 - 前記像様露光された画像形成性要素が、平版印刷版である請求項18に記載の方法。
- 前記像様露光が、波長700〜1200nmで実施される請求項18に記載の方法。
- 請求項18に記載の方法によって得られる画像形成された要素。
- A) 請求項1に記載の方法によってポジ型画像形成性要素を用意する工程、
B) 画像形成された領域と非画像形成領域とを提供するために、前記画像形成性要素を像様露光する工程、そして、
C) 該画像形成された領域だけを除去するために、該像様露光された画像形成性要素と水性現像剤とを接触させる工程
を含んで成る画像形成された物品を製造する方法。 - 前記像様露光された画像形成性要素が、工程Bの後にベーキングされる請求項22に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/366,076 | 2006-03-02 | ||
US11/366,076 US7175967B1 (en) | 2006-03-02 | 2006-03-02 | Heat treatment of multilayer imageable elements |
PCT/US2007/004169 WO2007106290A2 (en) | 2006-03-02 | 2007-02-15 | Heat treatment of multilayer imageable elements |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009528568A true JP2009528568A (ja) | 2009-08-06 |
JP2009528568A5 JP2009528568A5 (ja) | 2011-04-21 |
JP5113087B2 JP5113087B2 (ja) | 2013-01-09 |
Family
ID=37719628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008557285A Expired - Fee Related JP5113087B2 (ja) | 2006-03-02 | 2007-02-15 | 多層画像形成性要素の熱処理 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7175967B1 (ja) |
EP (1) | EP1989594A2 (ja) |
JP (1) | JP5113087B2 (ja) |
CN (1) | CN101395536B (ja) |
WO (1) | WO2007106290A2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2020026810A1 (ja) * | 2018-07-30 | 2021-05-13 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080227023A1 (en) * | 2007-03-16 | 2008-09-18 | Celin Savariar-Hauck | PROCESSING POSITIVE-WORKING IMAGEABLE ELEMENTS WITH HIGH pH DEVELOPERS |
EP2366546B1 (en) * | 2010-03-18 | 2013-11-06 | FUJIFILM Corporation | Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate |
JP6163770B2 (ja) * | 2012-03-07 | 2017-07-19 | Jsr株式会社 | レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 |
CN108181786A (zh) * | 2017-10-27 | 2018-06-19 | 浙江康尔达新材料股份有限公司 | 一种红外敏感组合物及其由该组合物制得的印版前体 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005274607A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2005309458A (ja) * | 1998-11-16 | 2005-11-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | ポジ型感光性平版印刷版、およびポジ画像形成方法 |
JP2007010907A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Fujifilm Holdings Corp | 平版印刷版原版の製造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9322705D0 (en) * | 1993-11-04 | 1993-12-22 | Minnesota Mining & Mfg | Lithographic printing plates |
JP3779444B2 (ja) | 1997-07-28 | 2006-05-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 |
GB9722861D0 (en) | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms |
US6352812B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
US6352811B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
US6358669B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-19 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
EP1023994B1 (en) | 1999-01-26 | 2004-04-28 | Agfa-Gevaert | A heat mode sensitive imaging element for making positive working printing plates. |
JP2000330265A (ja) | 1999-05-24 | 2000-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成材料 |
US6706466B1 (en) * | 1999-08-03 | 2004-03-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Articles having imagable coatings |
US6528228B2 (en) | 1999-12-22 | 2003-03-04 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Chemical resistant underlayer for positive-working printing plates |
US6294311B1 (en) | 1999-12-22 | 2001-09-25 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Lithographic printing plate having high chemical resistance |
US6692896B2 (en) * | 2000-03-01 | 2004-02-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat mode-compatible planographic printing plate |
US20020110760A1 (en) * | 2001-02-09 | 2002-08-15 | Macronix International Co., Ltd. | Method for improving hydrophilic character of photoresist and effect of development |
US7341815B2 (en) * | 2001-06-27 | 2008-03-11 | Fujifilm Corporation | Planographic printing plate precursor |
US6593055B2 (en) * | 2001-09-05 | 2003-07-15 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Multi-layer thermally imageable element |
US6858359B2 (en) | 2002-10-04 | 2005-02-22 | Kodak Polychrome Graphics, Llp | Thermally sensitive, multilayer imageable element |
US7066731B2 (en) * | 2004-05-05 | 2006-06-27 | Eastman Kodak Company | Method for conditioning/heat treatment |
-
2006
- 2006-03-02 US US11/366,076 patent/US7175967B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-02-15 WO PCT/US2007/004169 patent/WO2007106290A2/en active Application Filing
- 2007-02-15 EP EP07750967A patent/EP1989594A2/en not_active Withdrawn
- 2007-02-15 JP JP2008557285A patent/JP5113087B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2007-02-15 CN CN200780007475.1A patent/CN101395536B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005309458A (ja) * | 1998-11-16 | 2005-11-04 | Mitsubishi Chemicals Corp | ポジ型感光性平版印刷版、およびポジ画像形成方法 |
JP2005274607A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2007010907A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | Fujifilm Holdings Corp | 平版印刷版原版の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2020026810A1 (ja) * | 2018-07-30 | 2021-05-13 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
JP2023016860A (ja) * | 2018-07-30 | 2023-02-02 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
JP7378566B2 (ja) | 2018-07-30 | 2023-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1989594A2 (en) | 2008-11-12 |
CN101395536B (zh) | 2013-05-22 |
WO2007106290A3 (en) | 2007-11-22 |
US7175967B1 (en) | 2007-02-13 |
CN101395536A (zh) | 2009-03-25 |
WO2007106290A2 (en) | 2007-09-20 |
JP5113087B2 (ja) | 2013-01-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5065403B2 (ja) | 改善された特性を有する多層画像形成性要素 | |
JP5285071B2 (ja) | 改善された特性を有する多層画像形成性要素 | |
US7144661B1 (en) | Multilayer imageable element with improved chemical resistance | |
US7338745B2 (en) | Multilayer imageable element with improved chemical resistance | |
JP5658258B2 (ja) | ポジ型放射感受性画像形成性要素 | |
US7223506B1 (en) | Imageable members with improved chemical resistance | |
JP5113087B2 (ja) | 多層画像形成性要素の熱処理 | |
JP5319517B2 (ja) | 耐薬品性が改善された多層の画像形成可能な要素 | |
US7563556B2 (en) | Multilayer element with low pH developer solubility | |
JP4898821B2 (ja) | エポキシ樹脂を含有する多層画像形成性要素 | |
US7582407B2 (en) | Imageable elements with low pH developer solubility | |
US8283101B2 (en) | Imageable elements with improved abrasion resistance | |
US20090202938A1 (en) | Method of improving surface abrasion resistance of imageable elements | |
US8062827B2 (en) | Multilayer positive-working imageable elements and their use |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100210 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100210 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110420 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110819 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110830 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20111129 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20111206 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120911 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20121011 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151019 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |