JP2009528568A - 多層画像形成性要素の熱処理 - Google Patents

Abstract

基板上に第１層及び第２層を用意することによってポジ型画像形成性要素を調製する。２つの層は、異なるポリマーバインダー内に分散された同じか又は異なる輻射線吸収化合物を含む。２つの層を乾燥させた後、前記乾燥された第１層及び第２層からの湿分の除去を抑制する条件下で少なくとも４時間、４０℃〜９０℃で、これらを熱処理する。この調製方法は改良された画像形成スピードと良好な貯蔵寿命を有する要素を提供する。

Description

本発明は、画像形成スピード及び貯蔵寿命が改善されたポジ型画像形成性要素の製造方法に関する。本発明はまた、平版印刷版及び印刷版からの画像を得るためにこれらの要素を使用する方法に関する。

コンベンショナルな平版印刷又は「湿式」平版印刷の場合、画像領域として知られるインク受容領域を親水性表面上に生成させる。表面が水で湿潤され、そしてインクが着けられると、親水性領域は水を保持してインクを弾き、そしてインク受容領域はインクを受容して水を弾く。インクは画像が再現されるべき材料の表面に転写される。例えば、インクは中間ブランケットに先ず転写され、ブランケットは、画像が再現されるべき材料の表面にインクを転写するために使用される。

平版印刷版を調製するのに有用な画像形成性要素は、典型的には、基板の親水性表面上に適用された画像形成性層を含む。画像形成性層は、好適なバインダー中に分散させることができる１種又は２種以上の輻射線感光性成分を含む。或いは、輻射線感光性成分はバインダー材料であってもよい。画像形成に続いて、画像形成性層の画像形成された領域又は非画像形成領域が、好適な現像剤によって除去され、下側に位置する親水性の基板表面が露出する。画像形成された領域が除去される場合には、要素はポジ型と考えられる。逆に、非画像形成領域が除去される場合には、要素はネガ型と考えられる。それぞれの事例において、残される画像形成性層領域（すなわち画像領域）はインク受容性であり、そして、現像プロセスによって露出された親水性表面領域は、水及び水溶液、典型的にはファウンテン溶液を受容し、そしてインクを弾く。

紫外線及び／又は可視線を用いた画像形成性要素の画像形成は、典型的には、透明領域と不透明領域とを有するマスクを通して行われる。画像形成は、透明マスク領域の下側に位置する領域内で行われるが、しかし不透明マスク領域の下側に位置する領域内では行われない。最終画像内に補正が必要となる場合には、新しいマスクを形成しなければならない。このことは、多くの時間がかかるプロセスである。加えて、マスクの寸法は、温度及び湿度の変化により僅かに変化することがある。このように、同じマスクは、異なる時に又は異なる環境で使用すると、異なる結果をもたらすことがあり、見当合わせの問題を招くおそれがある。

ダイレクト・デジタル画像形成が、マスクを通した画像形成の必要性を取り除き、印刷産業分野においてますます重要になってきている。平版印刷版を調製するための画像形成性要素が、赤外線レーザーとともに使用するために開発されている。熱画像形成性多層要素は、例えば米国特許第６，２９４，３１１号明細書（Shimazu他）明細書、同第６，３５２，８１２号明細書（Shimazu他）、同第６，５９３，０５５号（Shimazu他）、同第６，３５２，８１１号明細書（Patel他）、同第６，３５８，６６９号明細書（Savariar-Hauck他）、及び同第６，５２８，２２８号明細書（Savariar-Hauck他）、及び米国特許出願公開第２００４／００６７４３２号明細書（Kitson他）に開示されている。

国際公開第９９／２１７１５号パンフレット（McCullough他）には、時間に伴う感光性の変動を低減するために、製造中に中程度の温度で、ポジ型画像形成性多層要素を熱処理することが記載されている。このプロセスは、米国特許第６，７０６，４６６号明細書（Lott他）に記載された熱処理方法によって改善される。この熱処理方法では、画像形成性要素のスタックが、きつく包み込まれた状態で、又は制御された湿度下で熱処理されるので、処理中に要素から湿分が除去されない。

平版処理及び印刷において使用される化学溶剤に対する耐性が、種々の組成変化によって年を追って改善されているが、この結果を「単層」画像形成性要素で達成することは難しい。従って、これらの問題点を克服するために、多層要素が構成されている。画像形成スピードを高めるためにこのような要素の多層内には輻射線吸収化合物、例えばＩＲ色素が配置されているが、しかしこのことは要素の貯蔵寿命を短くしてしまっている。

このように、高い耐化学溶剤性を維持しながら、多層画像形成性要素の高い画像形成スピード及び良好な貯蔵寿命を達成する方法が必要である。

本発明は、
Ａ） 基板上に第１層を用意する工程、前記第１層は、第１高分子バインダー内に分散された第１輻射線吸収化合物を含む、
Ｂ） 前記第１層上に第２層を用意する工程、前記第２層は、第２高分子バインダー内に分散された第２輻射線吸収化合物を含む、
Ｃ） 前記第１層及び第２層を乾燥させた後、前記乾燥された第１層及び第２層からの湿分の除去を抑制する条件下で少なくとも４時間、４０℃〜９０℃で、前記第１層及び第２層を熱処理する工程
を含んで成るポジ型画像形成性要素を提供する方法を提供する。

本発明の方法は：
Ｄ） 画像形成された領域と非画像形成領域とを提供するために、前記画像形成性要素を像様露光する工程、そして、
Ｅ） 該画像形成された領域だけを除去するために、該像様露光された画像形成性要素と水性現像剤とを接触させる工程
をさらに含む。

本発明の方法は、所望の耐化学薬品性を維持しながら、貯蔵寿命及び画像形成スピードが改善された多層画像形成性要素を提供する。このことは、全ての層が基板に適用され、そして乾燥させられた後で、画像形成性要素を熱処理することによって達成される。加えて、要素の多層は、同じか又は異なる輻射線吸収化合物を含み、そして好ましい態様の場合、耐化学薬品性を高める特定の高分子バインダーが使用される。

定義
文脈が特に示すのでない限り、本明細書中に使用する「画像形成性要素」及び「印刷版前駆体」という用語は、本発明によって得られる態様に言及するものである。

加えて、文脈が特に示すのでない限り、本明細書中に記載された種々の成分、例えば、「第１」及び「第２」高分子バインダー、「塗布溶剤」、第１及び第２「輻射線吸収化合物」、「フェノール樹脂」、「アルカリ性現像剤」、及び同様の用語はまた、このような成分の混合物も意味する。従って、単数を表す冠詞の使用は、単一の成分だけを必ずしも意味するものではない。

特に断りのない限り、パーセンテージは乾燥重量パーセントである。

ポリマーに関連するあらゆる用語の定義を明らかにするために、International Union of Pure and Applied Chemistry(「IUPAC」)によって発行された「Glossary of Basic Terms in Polymer Science」Pure Appl. Chem. 68, 2287-2311(1996)を参照されたい。しかし、本明細書中の定義が優先するものと見なされるべきである。

特に示されない限り、「ポリマー」又は「高分子バインダー」という用語は、オリゴマーを含む高分子量及び低分子量ポリマーを意味し、ホモポリマー及びコポリマーを含む。

「コポリマー」という用語は、２種又は３種以上の異なるモノマーから誘導されたポリマーを意味する。すなわちこれらは、少なくとも２種の異なる化学構造を有する反復単位を含む。

「主鎖」という用語は、複数のペンダント基が結合されるポリマー中の原子鎖を意味する。このような主鎖の例は、１種又は２種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマーの重合から得られた「全炭素」主鎖である。しかしながら、他の主鎖がヘテロ原子を含むこともでき、この場合、ポリマーは、縮合反応又は何らかの他の手段によって形成される。

用途
本発明を用いることによって得られる画像形成性要素は、数多くの方式で使用することができる。好ましい用途は、下でより詳しく説明するような平版印刷版の前駆体としての使用である。しかし、これが、本発明のただ１つの用途であるわけではない。例えば、画像形成性要素は、フォトマスク・リソグラフィ及びインプリント・リソグラフィにおいて使用することもでき、また化学的に増幅されたレジスト、プリント基板、並びにマイクロ電子デバイス及びマイクロ光学デバイスを形成するために使用することもできる。

画像形成性要素
一般に、本発明によって得られる画像形成性要素は、基板と、第１層（「下層」又は「内層」として知られることもある）と、第１層上に配置された第２層（「トップ層」又は「外層」として知られることもある）とを含む。熱画像形成前には、第２層はアルカリ性現像剤によって除去することはできないが、しかし、熱画像形成後には、第２層の画像形成された領域は、アルカリ性現像剤によって除去することができる。第１層もアルカリ性現像剤によって除去することができる。輻射線吸収化合物、一般には赤外線吸収化合物（下に定義する）が画像形成性要素の第１層及び第２層の双方内に存在する。輻射線吸収化合物は任意選択的に、第１層と第２層との間の分離層内にも存在することもできる。種々の層内の輻射線吸収化合物は、同じか又は異なる化合物であることが可能であり、そして好ましくは、これらは同じ化合物である。

画像形成性要素は、第１層組成物を好適な基板に好適に適用することにより形成される。この基板は、未処理又は未塗布の支持体となることができるが、しかし通常は、第１層組成物の適用前に下記のような種々の方法で処理又は塗布される。基板は一般に、親水性表面、又は少なくとも上側の層よりも高親水性の表面を有している。基板は、画像形成性要素、例えば平版印刷版を調製するために従来より使用されている任意の材料から構成され得る支持体を含む。基板は通常、シート、フィルム、又はフォイルの形態を成しており、そして強固であり、安定であり、そして可撓性であり、また色記録がフルカラー画像を見当合わせするような使用条件下では寸法変化に対して抵抗性を有する。典型的には、支持体は、高分子フィルム（例えばポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、セルロースエステルポリマー、及びポリスチレンフィルム）、ガラス、セラミック、金属シート又はフォイル、又は板紙（樹脂コート紙及び金属化紙）、又はこれらの材料の任意の積層体（例えばポリエステルフィルム上へのアルミニウムフォイルの積層体）を含むいかなる自立型材料であってもよい。金属支持体は、アルミニウム、銅、亜鉛、チタン及びこれらの合金のシート又はフォイルを含む。

高分子フィルム支持体の一方又は両方の表面を、「下塗り」層で改質して親水性を高めることができ、或いは、紙支持体を同様にコートして、平坦性を高めることができる。下塗り層材料の一例としては、アルコキシシラン、アミノ−プロピルトリエトキシシラン、グリシジオキシプロピル−トリエトキシシラン、及びエポキシ官能性ポリマー、並びに、ハロゲン化銀写真フィルム内に使用されるコンベンショナルな親水性下塗り材料（例えばゼラチン、及びその他の自然発生型及び合成型の親水性コロイド、並びに塩化ビニリデンコポリマーを含むビニルポリマー）が挙げられる。

好ましい基板は、物理的グレイニング、電気化学的グレイニング、化学的グレイニング、及び陽極酸化を含む、当業者に知られた技術によって処理することができるアルミニウム支持体から構成される。好ましくは、アルミニウム・シートには、電気化学的グレイニングを施しておき、そしてこれを陽極酸化させる。

例えばケイ酸塩、デキストリン、フッ化カルシウムジルコニウム、ヘキサフルオロケイ酸、リン酸塩／フッ化物、ポリ(ビニルホスホン酸)（ＰＶＰＡ）、ビニルホスホン酸コポリマー、ポリ(アクリル酸)、又はアクリル酸コポリマーでアルミニウム支持体を処理することにより、中間層を形成することができる。好ましくは、グレイニング及び陽極酸化が施されたアルミニウム支持体は、表面親水性を改善するために周知の手順を用いてＰＶＰＡで処理される。

基板の厚さは多様であることが可能であるが、しかし、印刷から生じる摩耗に耐えるのに十分な厚さを有し、しかも印刷版の周りに巻き付けるのに十分に薄くあるべきである。好ましい態様は、厚さ１００〜６００μｍの処理されたアルミニウムフォイルを含む。

基板の裏側（非画像形成側）には、画像形成性要素の取り扱い及び「感触」を改善するために、静電防止剤及び／又はスリップ層又は艶消し層を被覆することができる。

基板は、種々の層組成物が適用された円筒形表面であってもよく、ひいては印刷機の一体部分であってもよい。このような画像形成されたシリンダの使用は、例えば米国特許第５，７１３，２８７号明細書（Gelbart）に記載されている。

第１層
第１層は、第２層と基板との間に配置されており、そして典型的には上記基板上に直接的に配置されている。第１層は、「第１」高分子材料内部に配置された「第１」輻射線吸収化合物（下記）を含む。

特に有用な第１高分子バインダーは、１種又は２種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導された付加ポリマーであり、ひいては、例えば(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、N置換型環状イミド、スチレン誘導体を含むこのようなモノマーのうちの１種又は２種以上、及びペンダント尿素基を有するモノマーから誘導された反復単位を含む。

より具体的には、第１高分子バインダーは、１種又は２種以上の(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、N置換型環状イミド、下記構造（Ｉ）又は（ＩＩ）によって表されるモノマーから誘導された反復単位を含む：

｛上記式中、Ｒ¹は、水素、炭素原子数１〜６の置換型又は無置換型低級アルキル基（例えば、メチル、エチル、及びイソ−プロピル）、又はハロ基（例えば、フルオロ又はクロロ）であり、Ｘは、オキシ又は−ＮＲ’−であり、Ｒ’は、水素、炭素原子数１〜４の置換型又は無置換型アルキル基（例えば、メチル、エチル、イソ−プロピル、メトキシメチル、及びn−ブチル）である｝。好ましくは、Ｒ¹は水素又はメチルであり、そしてＸはオキシ又は−ＮＨ−である。

Ａｒは、置換型又は無置換型アリーレン基、例えば置換型又は無置換型のフェニレン又はナフチレン基である。好ましくは、Ａｒは置換型又は無置換型フェニレン基である。

Ｙは、炭素原子数１〜４の置換型又は無置換型アルキレン基であり、そして、好ましくは、Ｙは、炭素原子数１〜４の線状又は分枝状アルキレン基であり、
Ｒ²は、−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−フェニル基、又はフェニル基であり、フェニル環は、無置換型であるか、又は１つ若しくは２つ以上のカルボキシ、ヒドロキシ、又は−Ｓ(Ｏ)₂ＮＨ₂基で置換することができる。好ましくは、Ｒ²内のフェニル部分は、ヒドロキシ又はカルボキシ基で置換されている。さらに、ｍは０又は１であり、そしてｐは１〜５である。好ましくは、ｍは１であり、そしてｐは１である。構造（Ｉ）において、Ｒ²が−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−フェニル基である場合、ｍは１でなければならない。｝

第１高分子バインダーの好ましい態様は、下記構造（ＩＩＩ）によって表すことができる：

（上記中、Ａは、１種又は２種以上の(メタ)アクリルアミドから誘導された反復単位を表し、Ｂは、１種又は２種以上の(メタ)アクリロニトリルから誘導された反復単位を表し、Ｃは、１種又は２種以上のN置換型マレイミドから誘導された反復単位を表し、Ｄは、構造（Ｉ）又は（ＩＩ）によって表された１種又は２種以上のモノマーから誘導された反復単位を表し、ｗは、１〜３０重量％であり、ｘは、２０〜７５重量％であり、ｙは、１〜３０重量％であり、そしてｚは、２０〜７５重量％である）。

好ましくは、ｗは、１〜１５重量％であり、ｘは、３０〜６０重量％であり、ｙは、１〜１５重量％であり、そしてｚは、２０〜４５重量％である。

第１高分子バインダーの他の態様の場合、Ｄ反復単位は、２種又は３種以上の「Ｄ」モノマー、例えば第１Ｄモノマーと第２Ｄモノマーとの組み合わせから誘導することができる。これらのモノマーのいくつかの組み合わせにおいて、第１「Ｄ」モノマーは構造（Ｉ）によって規定され、Ｒ¹は、水素又はメチル基であり、Ｘは、オキシであり、Ｙは、−ＣＨ₂ＣＨ₂−基であり、ｍは、１であり、Ｒ²は、−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−フェニル、−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−Ｃ₆Ｈ₄−ＯＨ、又は−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＯＯＨ基であり、そして第２「Ｄ」モノマーも構造（Ｉ）によって規定され、Ｒ¹は、水素又はメチル基であり、Ｘは、−ＮＨ−であり、ｍは、０であり、そしてＲ²は、フェニル、ヒドロキシフェニル、又はカルボキシフェニル基である。

第１及び第２の「Ｄ」モノマーの他の組み合わせの場合、第１「Ｄ」モノマーは構造（ＩＩ）によって規定され、Ｒ¹は、水素又はメチル基であり、Ｙは、−Ｃ(ＣＨ₃)₂−基であり、ｍは、１であり、ｐは、１であり、そしてＲ²は、−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−フェニル、−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−Ｃ₆Ｈ₄−ＯＨ、又は−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＯＯＨ基であり、そして前記第２「Ｄ」モノマーは、構造（Ｉ）によって規定され、Ｒ¹は、水素又はメチル基であり、Ｘは、−ＮＨ−基であり、ｍは、０であり、そしてＲ²は、フェニル、ヒドロキシフェニル、又はカルボキシフェニル基である。

第１高分子バインダーは、一般に、総乾燥層重量を基準として、少なくとも７５重量％、好ましくは７５〜９５重量％の量で、第１層（内層）内に存在する。

上述のように、第１層はまた、６００〜１２００ｎｍ、そして好ましくは７００〜１２００ｎｍの輻射線を吸収し、３００〜６００ｎｍで最小吸収を示す輻射線吸収化合物（好ましくは赤外線吸収化合物）を含む。この化合物(「光熱変換材料」として知られることがある）は輻射線を吸収し、そしてこれを熱に変換する。この化合物は色素又は顔料（例えば第一鉄顔料及びカーボンブラック）であってよい。有用な顔料の例は、ProJet 900、ProJet 860、及びProJet 830（全てZeneca Corporationから入手可能）である。輻射線吸収化合物を含有する画像形成性要素は、高温体、例えばサーマルヘッド又はサーマルヘッド・アレイで画像形成することもできる。

有用なＩＲ吸収化合物はまた、当業者によく知られているように可溶化基で表面官能化されたカーボンブラックを含むカーボンブラックを含む。親水性、非イオン性ポリマーにグラフトされるカーボンブラック、例えばFX-GE-003（Nippon Shokubai製）、又はアニオン基で表面官能化されたカーボンブラック、例えばCAB-O-JET（登録商標）200又はCAB-O-JET（登録商標）300（Cabot Corporation製）も有用である。

不溶性材料による現像剤のスラッジ形成を防止するために、ＩＲ色素（特にアルカリ性現像剤中に可溶性の色素）がより好ましい。好適なＩＲ色素の一例としては、アゾ色素、スクアリリウム色素、クロコネート色素、トリアリールアミン色素、チアゾリウム色素、インドリウム色素、オキソノール色素、オキサキソリウム色素、シアニン色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、インドシアニン色素、インドアニリン色素、メロスチリル色素、インドトリカルボシアニン色素、オキサトリカルボシアニン色素、チオシアニン色素、チアトリカルボシアニン色素、メロシアニン色素、クリプトシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポリアニリン色素、ポリピロール色素、ポリチオフェン色素、カルコゲノピリロアリーリデン及びビ(カルコゲノピリロ)ポリメチン色素、オキシインドリジン色素、ピリリウム色素、ピラゾリンアゾ色素、オキサジン色素、ナフトキノン色素、アントラキノン色素、キノンイミン色素、メチン色素、アリールメチン色素、スクアリン色素、オキサゾール色素、クロコニン色素、ポルフィリン色素、及び前記色素クラスの任意の置換形態又はイオン形態が挙げられる。好適な色素はまた、米国特許第６，２９４，３１１号明細書（上記）、及び同第５，２０８，１３５号明細書（Patel他）を含む数多くの刊行物、及びこれらに引用された参考文献にも記載されている。

有用なIR吸収化合物の例は、ADS-830A及びADS-1064（カナダ国ケベック州Baie D'Urfe在、American Dye Source）、EC2117（独国Wolfen在、FEW）、Cyasorb（登録商標）IR 99及びCyasorb（登録商標）IR 165（フロリダ州Lakeland在、GPTGlendale Inc.）、及び下記例に使用されたＩＲ吸収色素Ａを含む。

近赤外線吸収シアニン色素も有用であり、そして例えば米国特許第６，３０９，７９２号明細書（Hauck他）、同第６，２６４，９２０号明細書（Achilefu他）、同第６，１５３，３５６号明細書（Urano他）、同第５，４９６，９０３号明細書（Watanate他）に記載されている。好適な色素は、コンベンショナルな方法及び出発材料を用いて形成することができ、或いは、American Dye Source（カナダ国）及びFEW Chemicals（独国）を含む種々の商業的供給元から得ることができる。近赤外線ダイオード・レーザービームのための他の有用な色素が、例えば米国特許第４，９７３，５７２号明細書（DeBoer）に記載されている。

低分子量ＩＲ吸収色素に加えて、ポリマーに結合されたＩＲ色素部分を使用することもできる。さらに、ＩＲ色素カチオンを使用することができ、すなわち、このカチオンは、カルボキシ、スルホ、ホスホル(phosphor)、又はホスホノ基を側鎖内に含むポリマーとイオン相互作用する色素塩のＩＲ吸収部分である。

輻射線吸収化合物は、内層総乾燥重量を基準として、一般に少なくとも０．５％から１０％までの量で、そして好ましくは０．５〜５％の量で存在することができる。所与のＩＲ吸収化合物の具体的な所要量は、当業者によって容易に決定することができる。

第１層は、他の成分、例えば界面活性剤、分散助剤、保湿剤、殺生物剤、粘度形成剤、乾燥剤、消泡剤、保存剤、抗酸化剤、着色剤、及びその他のポリマー、例えばノボラック、レゾール、又は活性化メチロール及び／若しくは活性化アルキル化メチロール基を有する樹脂を含むことができる。

第１層の乾燥塗膜被覆率は一般に、０．５〜２．５ｇ/ｍ²、そして好ましくは０．５〜１ｇ/ｍ²である。

第２層
第２層は第１層の上に配置されており、そして好ましい態様の場合、第１層と第２層との間には中間層はない。最も好ましい態様の場合、第２層はまた、本要素における最外層である。

第２層は、熱曝露に続いて現像剤中に可溶性又は分散性になる。第２層は典型的には、インク受容性高分子材料である１種又は２種以上の「第２」高分子材料、及び１種又は２種以上の輻射線吸収化合物を含む。或いは、又は追加して、第２高分子バインダーは極性基を含み、そしてバインダー及び溶解抑制剤の両方として作用する。

輻射線吸収化合物は、第１層内へ内蔵されたものと同じであるか又は異なるものであることが可能である。これらの化合物は上述した通りである。輻射線吸収化合物は、総乾燥第２層重量を基準として、一般に少なくとも０．５％から１０％までの量で、そして好ましくは０．５〜５％の量で存在することができる。所与のＩＲ吸収化合物の具体的な所要量は、当業者によって容易に決定することができる。

従来技術の多層熱画像形成性要素の外層内に従来使用されているのであれば、画像形成性要素内にいずれのポリマーバインダーも第２高分子バインダーとして採用することができる。例えば、第２高分子バインダー材料は、同第６，３５８，６６９号明細書（Savariar-Hauck他）、同第６，５５５，２９１号明細書（Hauck）、同第６，３５２，８１２号明細書（Shimazu他）、同第６，３５２，８１１号明細書（Patel他）、同第６，２９４，３１１号明細書（Shimazu他）、同第６，８９３，７８３号明細書（Kitson他）、同第６，６４５，６８９号明細書（Jarek）、米国特許出願公開第２００３／０１０８８１７号明細書（Patel他）、及び同第２００３／０１６２，１２６号明細書（Kitson他）、及び国際公開第２００５／０１８９３４号パンフレット（Kitson他）に記載されているもののうちの１種又は２種以上であってよい。

好ましくは、外層内の第２高分子バインダーは、多数のフェノールヒドロキシル基を有する、非感光性、水不溶性、水性アルカリ性現像剤可溶性の皮膜形成フェノール樹脂である。フェノール樹脂は、ポリマー主鎖上又はペンダント基上に多数のフェノールヒドロキシル基を有している。ノボラック樹脂、レゾール樹脂、ペンダント・フェノール基を含有するアクリル樹脂、及びポリビニルフェノール樹脂が好ましいフェノール樹脂である。ノボラック樹脂がより好ましい。

ノボラック樹脂は商業的に入手可能であり、そして当業者によく知られている。ノボラック樹脂は典型的には、フェノール、例えばフェノール、m-クレゾール、o-クレゾール、p-クレゾールなどと、アルデヒド、例えばホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなど、又はケトン、例えばアセトンとを酸触媒の存在において縮合反応させることにより調製される。重量平均分子量は典型的には、１，０００〜１５，０００である。典型的なノボラック樹脂は例えば、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール-ホルムアルデヒド樹脂、フェノール-クレゾール-ホルムアルデヒド樹脂、p-t-ブチルフェノール-ホルムアルデヒド樹脂、及びピロガロール-アセトン樹脂を含む。特に有用なノボラック樹脂は、m-クレゾール、m-クレゾール及びp-クレゾールの混合物、又はフェノールとホルムアルデヒドとを、当業者によく知られた条件を用いて反応させることにより調製される。

溶剤可溶性ノボラック樹脂は、第２層（外層）を形成するために塗布することができる塗布用溶液を形成するのに十分に、塗布用溶剤中に可溶性である樹脂である。いくつかの例において、一般的な塗布用溶剤、例えばアセトン、テトラヒドロフラン、及び1-メトキシプロパン-2-オール中のその溶解度を維持する最高の重量平均分子量を有するノボラック樹脂を使用することが好ましい場合がある。例えばm-クレゾールだけを含むノボラック樹脂（すなわち、少なくとも９７モル%のm-クレゾールを含有する樹脂）、及び重量平均分子量が少なくとも１０，０００、好ましくは少なくとも２５，０００の、１０モル％までのp-クレゾールを有するm-クレゾール／p-クレゾールノボラック樹脂を含む、ノボラック樹脂を含む外層を使用することができる。重量平均分子量が８，０００から２５，０００までの、少なくとも１０モル％のm-クレゾールを有するm-クレゾール／p-クレゾールノボラック樹脂を含む第２層を使用することもできる。いくつかの態様の場合、溶剤濃縮によって調製されるノボラック樹脂が望ましい。これらの樹脂を含む外層が、例えば米国特許第６，８５８，３５９号明細書（Kitson他）に開示されている。

他の有用なポリ(ビニルフェノール)樹脂は、１種又は２種以上のヒドロキシフェニル含有モノマー、例えばヒドロキシスチレン及びヒドロキシフェニル(メタ)アクリレートのポリマーを含む。ヒドロキシ基を含有しない他のモノマーを、ヒドロキシ含有モノマーと共重合することができる。これらの樹脂は、周知の反応条件を用いて、ラジカル開始剤又はカチオン性重合開始剤の存在において、モノマーのうちの１種又は２種以上を重合することにより調製することができる。ノボラック樹脂に関して上述したように測定して、これらのポリマーの重量平均分子量（Ｍ_W）は、１０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌであり、より好ましくは１，５００〜５０，０００ｇ／ｍｏｌである。

有用なヒドロキシ含有ポリマーの例は、ALNOVOL SPN452、SPN400、HPN100（Clariant GmbH）、DURITE PD443、SD423A、SD126A、PD494（Borden Chemical, Inc.）、BAKELITE 6866LB02、6564LB、6866LB03（全てBakelite AG）、KR 400/8（Koyo Chemicals Inc.）、HRJ 1085、及び2606（Schenectady International, Inc.）、及びLyncur CMM（Siber Hegner）を含み、これら全ては米国特許出願公開第２００５／００３７２８０号（上記）に記載されている。特に有用なポリマーは、下記例に関して記載されたBAKELITE 6564LB、及びDURITE PD494である。Bakelite AG、及びBorden Chemicalの製品は、Hexion Specialty Chemicals (オハイオ州コロンブス）から現在入手可能である。

第２層は、上記フェノール樹脂に加えて、又はこの樹脂の代わりに、皮膜形成バインダー材料として非フェノール高分子材料を含むこともできる。このような非フェノール高分子材料は、無水マレイン酸と１種又は２種以上のスチレンモノマー（すなわち、スチレン、及びベンゼン環上に種々の置換基を有するスチレン誘導体）とから形成されたポリマー、メチルメタクリレートと１種又は２種以上のカルボキシ含有モノマーとから形成されたポリマー、及びこれらの混合物を含む。これらのポリマーは、上記モノマーから誘導された反復単位、並びに、追加の、しかし任意のモノマー［例えば(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル、及び(メタ)アクリルアミド］から誘導された反復単位を含むことができる。

無水マレイン酸から誘導されたポリマーは一般に、無水マレイン酸から誘導された１〜５０モル％の反復単位と、その残余の、スチレンモノマーと任意選択的に追加の重合性モノマーとから誘導された反復単位とを含む。

メチルメタクリレートとカルボキシ含有モノマーとから形成されたポリマーは一般に、メチルメタクリレートから誘導された８０〜９８モル％の反復単位を含む。カルボキシ含有反復単位は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、及び当業者に知られている同様のモノマーから誘導することができる。

第２層は、エポキシ当量１３０〜１０００（好ましくは１４０〜７５０）を提供するのに十分なペンダント・エポキシ基を有する１種又は２種以上のポリマーバインダーを含むこともできる。「エポキシ当量」とは、ポリマーの重量（グラム）を、ポリマー中のエポキシ基の等価数（モル数）で割り算したものを意味する。縮合ポリマー、アクリル樹脂、及びウレタン樹脂を含む、必要なペンダント・エポキシ基を含有する任意の皮膜形成ポリマーを使用することができる。ペンダント・エポキシ基は、ポリマーを形成するために使用される重合性モノマー又は反応性成分の一部であってよく、或いは、ペンダント・エポキシ基は既知の手順を用いて重合後に添加することもできる。第２層は、少なくとも１つのモノマーが同時係属中の同一譲受人による米国特許出願第１１／２５７，８６４号明細書（Huang、Saraiya、Kitson、Sheriff、及びKrebsにより2005年10月25日付けで出願）に記載されているもののようなペンダント・エポキシ基を含む、１種又は２種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマーから誘導された１種又は２種以上のアクリル樹脂を含むことができる。

このタイプの特に有用なポリマーは、カルボン酸エステル基を介してポリマー主鎖に結合されたペンダント・エポキシ基、例えば置換型又は無置換型の−Ｃ(Ｏ)Ｏ−アルキレン、−Ｃ(Ｏ)Ｏ−アルキレン−フェニレン、又は−Ｃ(Ｏ)Ｏ−フェニレン基を有し、アルキレンの炭素原子数は１〜４である。これらのポリマーバインダーを形成するために有用なペンダント・エポキシ基を有する好ましいエチレン系不飽和型重合性モノマーは、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、3,4-エポキシシクロヘキシルメタクリレート、及び3,4-エポキシシクロヘキシルアクリレートを含む。

エポキシ含有ポリマーは、ペンダント・エポキシ基を有さない１種又は２種以上のエチレン系不飽和型重合性モノマー、例えば(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルケトン、オレフィン、不飽和型イミド（例えばマレイミド）、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾール、ビニルピリジン、(メタ)アクリロニトリル、及びスチレンモノマーから誘導された反復単位を含むこともできる。これらのうち、(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、及びスチレンモノマーが好ましく、そしてスチレンモノマーが最も好ましい。例えば、メタクリルアミド、アクリロニトリル、マレイミド、ビニルアセテート、又はN-ビニルピロリドンとの組み合わせにおいて、スチレンモノマーを使用することもできる。

好ましくは、第２層は、ペンダント・エポキシ基のための硬化剤として作用する化合物を含まないが、しかしいくつかの態様の場合、コンベンショナルな硬化剤が存在することが可能である。

１種又は２種以上のポリマーバインダーは、少なくとも６０重量％、好ましくは６５〜９９．５重量％の量で第２層内に存在する。

第２層は一般にそして任意選択的に、第２高分子バインダーのための溶解抑制成分として機能する溶解抑制剤を含む。溶解抑制剤は一般に、例えばバインダーのヒドロキシル基との、水素結合のための受容体部位として作用すると考えられる極性官能基を有する。現像剤中に可溶性の溶解抑制剤が最も好適である。或いは又は加えて、第２高分子バインダーは、溶解抑制剤として機能する溶解抑制極性基を含んでよい。

有用な溶解抑制剤化合物は例えば、米国特許第５，７０５，３０８号明細書（West他）、同第６，０６０，２２２号明細書（West他）、及び同第６，１３０，０２６号明細書（Bennett他）に記載されている。

正電荷（すなわち四級化）窒素原子を含有する化合物が、溶解抑制剤として有用である。溶解抑制剤化合物としてジアゾニウム塩が有用であり、このジアゾニウム塩は例えば置換型及び無置換型のジフェニルアミンジアゾニウム塩、例えばメトキシ置換型ジフェニルアミンジアゾニウムヘキサフルオロボレートを含む。溶解抑制剤化合物として有用な代表的なスルホン酸エステルは、エチルベンゼンスルホネート、n-ヘキシルベンゼンスルホネート、エチルp-トルエンスルホネート、t-ブチルp-トルエンスルホネート、及びフェニルp-トルエンスルホネートを含む。代表的なリン酸エステルは、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、及びトリクレシルホスフェートを含む。有用なスルホンは、芳香族基を含むスルホン、例えばジフェニルスルホンを含む。有用なアミンは、芳香族基を含むアミン、例えばジフェニルアミン及びトリフェニルアミンを含む。

溶解抑制剤化合物として有用なケト含有化合物は、例えば、アルデヒド、ケトン、特に芳香族ケトン、及びカルボン酸エステルを含む。容易に入手可能な他の溶解抑制剤は、トリアリールメタン色素、例えばエチル・バイオレット、クリスタル・バイオレット、マラカイト・グリーン、ブリリアント・グリーン、ビクトリア・ブルーＢ、ビクトリア・ブルーＲ、及びビクトリア・ブルーＢＯ、BASONYL Violet 610である。これらの化合物は、現像された画像形成性要素内の非画像形成領域を画像形成された領域から区別するコントラスト色素として作用することもできる。

溶解抑制剤が第２層内に存在する場合には、溶解抑制剤は外層の乾燥重量を基準として、典型的には少なくとも０．１重量％、より一般的には０．５〜３０重量％、そして好ましくは１〜１５重量％を占める。

或いは又は追加して、第２層内の第２高分子バインダーは、高分子材料中に存在するヒドロキシ基との水素結合のための受容体部位として作用し、ひいてはバインダー及び溶解抑制剤の両方として作用する極性基を含むこともできる。これらの誘導体化高分子材料は第２層内で単独で使用することができ、或いは、他の高分子材料及び／又は溶解抑制成分と組み合わせることもできる。誘導体化のレベルは、高分子材料が溶解抑制剤として作用するのに十分に高くあるべきであるが、しかし、熱画像形成に続いて、高分子材料が現像剤中に可溶性ではなくなるほどには高くあるべきでない。必要となる誘導体化度は、高分子材料の性質、及び高分子材料中に導入される極性基を含有する部分の性質に依存するが、典型的には０．５モル％〜５モル％、好ましくは１モル％〜３モル％のヒドロキシル基が誘導体化されることになる。

極性基を含み、そして溶解抑制剤として機能する１高分子材料群は、フェノールヒドロキシル基の一部がスルホン酸エステル、好ましくはフェニルスルホネート、又はp-トルエンスルホネートに変換されている誘導体化フェノール高分子材料である。誘導体化は、第三アミンのような塩基の存在において、高分子材料と、例えば塩化スルホニル（例えば塩化p-トルエンスルホニル）とを反応させることにより実施することができる。有用な材料は、１〜３モル％のヒドロキシル基がフェニルスルホン酸又はp-トルエンスルホン酸（トシル）基に変換されているノボラック樹脂である。

極性基を含み、そして溶解抑制剤として機能する別の高分子材料群は、ジアゾナフトキノン部分を含有する誘導体化フェノール樹脂である。高分子ジアゾナフトキノン化合物は、ジアゾナフトキノン部分を含有する反応性誘導体と、好適な反応基、例えばヒドロキシル又はアミノ基を含有する高分子材料とを反応させることにより形成された誘導体化樹脂を含む。ジアゾナフトキノン部分を含有する化合物によるフェノール樹脂の誘導体化は、当業者に知られており、そして例えば米国特許第５，７０５，３０８号明細書及び同第５，７０５，３２２号明細書(両方ともWest他)に記載されている。ジアゾナフトキノン部分を含む化合物により誘導体化された樹脂の一例は、P-3000（仏国、PCASから入手可能）であり、ピロガロール/アセトン樹脂のナフトキノンジアジドである。

第２層は他の成分、例えば界面活性剤、分散助剤、保湿剤、殺生物剤、粘度形成剤、乾燥剤、消泡剤、保存剤、抗酸化剤、着色剤、及びコントラスト色素を含むこともできる。塗布界面活性剤が特に有用である。

第２層の乾燥塗膜被覆率は一般に、０．２〜２ｇ／ｍ²であり、そして好ましくは０．２〜０．７５ｇ／ｍ²である。

好ましいものではないが、第１層と第２層との間に分離層が配置されていてよい。この中間層は一般に、アルカリ性現像剤中に可溶性の高分子材料を含む。このタイプの好ましい高分子材料は、ポリ(ビニルアルコール)である。一般に、中間層は第１層の５分の１未満の厚さであるべきであり、そして好ましくは第２層の１０分の１未満の厚さであるべきである。

画像形成性要素の調製
画像形成性要素は、基板の表面（及びその上に設けられた任意のその他の親水性層）上に第１層配合物を順次適用し、次いでコンベンショナルな塗布法又は積層法を用いて、第１層上に第２層配合物を適用することによって調製することができる。内層配合物と外層配合物との混和を回避することが望ましい。

第１層及び第２層は、好適な塗布用溶剤中に所期成分を分散又は溶解させることにより適用することができ、そしてその結果生じた配合物は、好適な装置及び手順、例えばスピン塗布、ナイフ塗布、グラビア塗布、ダイ塗布、スロット塗布、バー塗布、ワイヤロッド塗布、ローラ塗布、又は押し出しホッパー塗布を用いて、基板に順次又は同時に適用される。配合物は、好適な支持体（例えば機上印刷シリンダ）上に噴霧することにより適用することもできる。

第１層及び第２層の両方を塗布するために使用される溶剤は、配合物中の高分子材料及びその他の成分の性質に応じて選択される。外層配合物を適用するときに、第１層配合物と第２層配合物とが混ざり合うこと、又は第１層が溶解することを防止するために、第２層配合物は、第１層の高分子材料が不溶性である溶剤から塗布されるべきである。一般に、第１層配合物は、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）と、1-メトキシプロパン-2-オール（Dowanol PM又はＰＧＭＥ）と、γ-ブチロラクトンと、水との溶剤混合物、ジエチルケトン（ＤＥＫ）と、水と、乳酸メチルと、γ-ブチロラクトンとの混合物、又は乳酸メチルと、メタノールと、ジオキソランとの混合物から塗布される。第２層配合物は一般に、ＤＥＫ、ＰＧＭＥ、又はＤＥＫと1-メトキシ-2-プロピルアセテートとの混合物、1,3-ジオキソランと、ＰＧＭＥと、γ-ブチロラクトンと、水との混合物、又はＭＥＫとDowanol PMとの混合物から塗布される。

或いは、それぞれの層組成物の溶融混合物からコンベンショナルな押し出し塗布法によって第１層及び第２層を適用することもできる。典型的には、このような溶融混合物は、揮発性有機溶剤を含有しない。

他の配合物の塗布前に溶剤を除去するために、種々の層配合物の適用間に、中間乾燥工程を用いることができる。コンベンショナルな時間及び温度における乾燥工程は、種々の層の混和を防止するのを助けることもできる。

第１層及び第２層を基板上で乾燥させた後（すなわち、塗膜が自立し、指触乾燥状態になった後）、要素を少なくとも４時間、好ましくは少なくとも２０時間、そしてより好ましくは少なくとも２４時間、４０℃〜９０℃（好ましくは５０〜７０℃）で熱処理する。最大熱処理時間は９６時間もの長さであってよいが、しかし熱処理のための最適な時間及び温度は、日常の試験によって容易に決定することができる。この熱処理は、「コンディショニング」工程として知ることもできる。

前駆体からの湿分除去に対する効果的なバリヤを形成するために、熱処理中、画像形成性要素が、不透水性シート材料内に包まれるか又は収容されることも好ましい。好ましくは、このシート材料は、画像形成性要素（又はそのスタック）の形状に密接に一致するのに十分に可撓性であり、そして一般に、画像形成性要素（又はそのスタック）と密に接触している。より好ましくは、不透水性シート材料は、画像形成性要素又はそのスタックの端部の周りでシールされている。好ましい不透水性シート材料は、画像形成性要素又はそのスタックの端部の周りでシールされた高分子フィルム又は金属フォイルである。

或いは、画像形成性要素（又はそのスタック）の熱処理（又はコンディショニング）は、相対湿度が少なくとも２５％、好ましくは少なくとも３０％、そしてより好ましくは少なくとも３５％に制御されている環境内で実施される。相対湿度は、所与の温度における飽和のために必要となる水の量のパーセンテージとして表される、空気中に存在する水蒸気量として定義される。

好ましくは、少なくとも１００個の画像形成性要素を含有するスタックが、同時に熱処理される。より一般的には、このようなスタックは、少なくとも５００個の画像形成性要素を含む。

不透水性シート材料を使用して、このようなスタックの上側及び下側を良好に包むことが難しい場合があり、そしてこのような場合には、スタックのこのような領域内に「ダミー」又は不合格品要素を使用することが望ましいことがある。このようにして、熱処理された（又は「コンディショニングされた」）スタックは、ダミー又は不合格品要素との組み合わせにおいて、少なくとも１００個の有用な画像形成性要素を含むことができる。これらのダミー又は不合格品要素はまた、包み過程又はシール過程によってもたらされる損傷から、有用な要素を保護するのにも役立つ。

或いは、画像形成性要素は、コイルの形態で熱処理され、次いで、後で個々の要素にカットされてもよい。このようなコイル体は、少なくとも１０００ｍ²の画像形成性表面、そしてより典型的には少なくとも３０００ｍ²の画像形成性表面を含むことができる。

コイル体の隣接する巻き又は「らせん」、又はスタックの層は、所望の場合には、間紙材料、例えばプラスチック又は樹脂（例えばポリテン）でサイズ処理されていてよい紙又は薄葉紙によって分離することができる。

本発明による画像形成性要素を調製する代表的な方法を下記例において示す。

画像形成性要素は、例えば印刷版前駆体、印刷シリンダ、印刷スリーブ、及び印刷テープ（可撓性印刷ウェブを含む）を含むいかなる有用な形態をも有することができる。好ましくは、画像形成性部材は、平版印刷版を提供するのに有用な印刷版前駆体である。

印刷版前駆体は、好適な基板上に配置された所要の第１層及び第２層を有する、任意の有用なサイズ及び形状（例えば正方形又は長方形）から成ることができる。印刷シリンダ及びスリーブは、円筒形態の基板と第１層及び第２層とを有する回転印刷部材として知られる。印刷スリーブのための基板として、中空又は中実の金属コアを使用することができる。

画像形成及び現像
使用中、画像形成性要素は、波長６００〜１２００ｎｍ、好ましくは７００〜１２００ｎｍのレーザーを使用して、好適な画像形成輻射線源（例えば赤外線）に露光される。画像形成要素を露光するために使用されるレーザーは、ダイオード・レーザー・システムの信頼性及びメンテナンスの手間の少なさにより、好ましくはダイオード・レーザーであるが、しかし他のレーザー、例えば気体又は固体レーザーを使用することもできる。レーザー画像形成のための出力、強度、及び露光時間の組み合わせは、当業者には容易に明らかである。目下、商業的に入手可能な画像セッターにおいて使用される高性能レーザー又はレーザー・ダイオードは、波長８００〜８５０ｎｍ又は１０４０〜１１２０ｎｍの赤外線を放射する。

画像形成装置は、プレートセッターとしてだけ機能することができ、或いは、平版印刷機内にこれを直接的に内蔵することもできる。後者の場合、印刷は画像形成直後に開始することができ、これにより印刷機準備時間をかなり短縮することができる。画像形成装置は、画像形成性部材をドラムの内側又は外側の円筒面に装着した状態で、フラットベット型記録器として、又はドラム型記録器として構成することができる。有用な画像形成装置の例は、波長８３０ｎｍの近赤外線を発光するレーザー・ダイオードを含有する、Creo Corporation（カナダ国ブリティッシュコロンビア州Burnaby在、Eastman Kodak Companyの子会社）から入手可能なCreo Trendsetter（登録商標）画像セッターのモデルとして入手することができる。他の好適な輻射線源は、波長１０６４ｎｍで作動するGerber Crescent 42T Platesetter、及びScreen PlateRite 4300シリーズ又は8600シリーズのプレートセッター（イリノイ州Chicago在、Screenから入手可能）を含む。追加の有用な輻射線源は、要素が印刷版シリンダに取り付けられている間に要素に画像を形成するために使用することができるダイレクト画像形成印刷機を含む。好適なダイレクト画像形成印刷機の例は、Heidelberg SM74-DI印刷機（オハイオ州Dayton在、Heidelbergから入手可能）を含む。

画像形成スピードは、５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ²の範囲、そしてより具体的には７５〜４００ｍＪ／ｃｍ²の範囲内にあってよい。

レーザー画像形成が好ましいが、熱エネルギーを像様に提供する任意の他の手段によって画像形成を行うこともできる。例えば、米国特許第５，４８８，０２５号明細書（Martin他）に記載されているように、また、感熱式ファクシミリ機及び昇華式プリンターにおいて使用されているように、熱抵抗ヘッド（サーマル印刷ヘッド）を使用して画像形成を達成することができ、これは「サーマル印刷」として知られている。サーマル印刷ヘッドは商業的に入手可能である（例えばFujitsu Thermal Head FTP-040 MCS001、及びTDK Thermal Head F415 HH7-1089）。

いずれの場合にも、画像形成のために、ダイレクト・デジタル画像形成が一般に用いられる。画像信号は、コンピュータ上のビットマップ・データ・ファイルとして記憶される。ビットマップ・データ・ファイルは、カラーの色相、並びにスクリーンの頻度及び角度を定義するために構成される。

画像形成性要素に画像を形成することにより、画像形成された（露光された）領域と非画像形成（非露光）領域とから成る潜像を含む画像形成された要素を生成する。好適なアルカリ性現像剤を用いて画像形成された要素を現像することによって、外層及び下側の層（内層を含む）の露光された領域を除去し、そして基板の親水性表面を露出させる。従って、この画像形成性要素は「ポジ型」である。親水性表面の露光された（又は画像形成された）領域はインクを弾くのに対して、外層の非露光（又は非画像形成）領域はインクを受容する。

より具体的には、現像は、外層及び下側の層の画像形成された（露光された）領域を除去するのに十分な時間、しかし外層の非画像形成（非露光）領域を除去するほどには長くない時間実施される。従って、外層の画像形成された（露光された）領域は、アルカリ性現像剤中で「可溶性」又は「除去可能」と記述される。なぜならば、これらの領域は、外層の非画像形成（非露光）領域よりも容易に、アルカリ性現像剤中で除去、溶解又は分散されるからである。従って「可溶性」という用語は、「分散性」であることをも意味する。

画像形成された要素は、一般に、コンベンショナルな処理条件を用いて現像される。水性アルカリ性現像剤及び溶剤系アルカリ性現像剤（これが好ましい）の両方を使用することができる。

水性アルカリ性現像剤は一般に、少なくとも７のｐＨ、そして好ましくは少なくとも１１のｐＨを有する。有用なアルカリ性現像剤は、3000 Developer、9000 Developer、GoldStar Developer、GreenStar Developer、ThermalPro Developer、Protherm（登録商標） Developer、PD-1 Developer、MX1813 Developer、及びMX1710 Developer（全てEastman Kodak Companyの子会社であるKodak Polychrome Graphicsから入手可能）を含む。これらの組成物はまた一般に、界面活性剤、キレート剤（例えばエチレンジアミン四酢酸の塩）、及びアルカリ成分（例えば無機メタケイ酸塩、有機メタケイ酸塩、水酸化物、及び重炭酸塩）を含む。

溶剤系アルカリ性現像剤は、水と混和可能な１種又は２種以上の有機溶剤の単一相溶液である。有用な有機溶剤は、エチレンオキシド及びプロピレンオキシドとのフェノールの反応生成物［例えばエチレングリコールフェニルエーテル（フェノキシエタノール）］、ベンジルアルコール、エチレングリコール及びプロピレングリコールの炭素原子数６以下の酸とのエステル、及び炭素原子数６以下のアルキル基を有する、エチレングリコール、ジエチレングリコール、及びプロピレングリコールのエーテル、例えば2-エチルエタノール、及び2-ブトキシエタノールを含む。有機溶剤は一般に、現像剤総重量を基準として０．５〜１５％の量で存在する。アルカリ性現像剤は、１種又は２種以上のチオ硫酸塩、又は親水性基、例えばヒドロキシ基、ポリエチレンオキシド鎖、又はｐＫａが７未満（より好ましくは５未満）の酸性基、又はこれらの対応塩（例えばカルボキシ、スルホ、スルホネート、スルフェート、ホスホン酸、及びホスフェート基）で置換されたアルキル基を含むアミノ化合物を含有することが特に望ましい。このタイプの特に有用なアミノ化合物の一例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、グリシン、アラニン、アミノエチルスルホン酸及びその塩、アミノプロピルスルホン酸及びその塩、及びジェフアミン化合物（例えばアミノを末端基とするポリエチレンオキシド）が挙げられる。

代表的な溶剤系アルカリ性現像剤は、ND-1 Developer、955 Developer、及び956 Developer（Eastman Kodak Companyの子会社であるKodak Polychrome Graphicsから入手可能）を含む。

一般に、アルカリ性現像剤は、現像剤を含有するアプリケーターで外層を擦るか又は拭うことにより、画像形成された要素に適用される。或いは、画像形成された要素は、現像剤をブラシ塗布することもでき、又は露光された領域を除去するのに十分な力で外層に噴霧することにより、現像剤を適用することができる。この場合もやはり、現像剤中に画像形成された要素を浸漬することができる。

現像に続いて、画像形成された要素は水で濯ぎ、そして好適な様式で乾燥させることができる。乾燥させた要素は、コンベンショナルなガミング溶液（好ましくはアラビアゴム）で処理することもできる。

画像形成され、現像された要素は、結果として得られる画像形成された要素の連続運転時間を長くするために実施することができる後ベーキング作業において、ベーキングすることもできる。ベーキングは、７〜１０分間にわたって２２０℃〜２４０℃、又は３０分間にわたって１２０℃で実施することができる。

画像形成された要素の印刷面に平版印刷インク及びファウンテン溶液を適用することにより、印刷を実施することができる。インクは、第２層の非画像形成（非露光又は非除去）領域によって取り込まれ、そしてファウンテン溶液は、画像形成・現像プロセスによって露出された基板の親水性表面によって取り込まれる。インクは次いで、その上に画像の所望の刷りを提供するために、好適な受容材料（例えば布地、紙、金属、ガラス、又はプラスチック）に転写される。所望の場合、画像形成された部材から受容材料へインクを転写するために、中間「ブランケット」ローラを使用することができる。画像形成された部材は、所望の場合には、コンベンショナルなクリーニング手段及び化学薬品を使用して、刷りの間にクリーニングすることができる。

下記例は、本発明の実施を例示するために提供されるものであるが、本発明を限定しようと意図するものでは決してない。

例において用いられる材料及び方法：
EUV-5は、コンベンショナルな出発材料及び重合条件を用いて調製された下記構造を有するポリマーである：

D11色素は、PCAS（仏国、Longjumeau）から入手され、下記構造によって表される。

PS210CNEは、Nippon Kayaku（日本国東京）から得られたＩＲ色素である。

ピロメリット酸無水物は、Sigma Aldrich Chemicals（ウィスコンシン州Milwaukee）から得られた。

DURITE PD494及びBAKELITE LB6564は、Hexion Specialty Chemicals（オハイオ州Columbus）から得られたノボラック樹脂である。

KF654bは、下記構造を有するＩＲ色素であり、またSigma AldrichグループのReidel de Hahn部門から得られた：

Byk（登録商標）307は、BYK Chemie（コネチカット州Wallingford）から入手可能なポリエトキシル化ジメチルポリシロキサン・コポリマーである。

Developer PD1は、Eastman Kodak Companyの子会社であるKodak Polychrome Graphics, Japan（日本国群馬）から入手可能なアルカリ性現像剤である。

GoldStar（登録商標）Premium Developerは、Eastman Kodak Companyの子会社であるKodak Polychrome Graphics（コネチカット州Hartford)から入手可能なアルカリ性現像剤である。

ＭＥＫは、メチルエチルケトンである。
ＢＬＯは、γ-ブチロラクトンである。
ＰＧＭＥは、プロピレングリコールメチルエーテルである。

例１：
６５部のＭＥＫ、１５部のＰＧＭＥ、１０部の水、及び１０部のＢＬＯの溶剤混合物中の、表Ｉ（全ての値は重量％）に示された塗布用組成物で、内層（「第１」層）塗布用配合物１〜３を調製した。

ＰＧＭＥ中の、表ＩＩ（全ての値は重量％）に示された組成物で、外層（「第２」層）塗布用配合物を調製した。

内層配合物及び外層配合物の両方が、０．６重量％のByk（登録商標）307界面活性剤を含んだ。

下記表ＩＩＩに示されているように、画像形成性要素を調製するために、２つの基板を使用した。

下記表ＩＶに示されているように、基板Ａ上に、実験室用ホッパー塗布機を使用して、両層配合物を塗布した。乾燥塗布された層重量は、内層が０．８ｇ／ｍ²であり、また外層が０．３ｇ／ｍ²であった。両塗膜を最初は７１℃で４５秒間にわたって、また後で、１３０℃で３０秒間にわたって乾燥させた。

乾燥後、結果として得られた画像形成性要素を、５５℃／２５％ＲＨの炉内で３日間にわたって熱処理した。

試験法：
クリーンアウト：Screen PTR4300プレートセッター上で要素に画像を形成し、続いて、ＰＫ処理装置内で３０℃に保たれた平版印刷Developer PD1（１部の現像剤を８部の水に希釈）を用いて現像することにより、塗膜のクリーンアウトを評価した。クリーンアウト、すなわち画像形成された塗膜の完全な除去を達成するために必要となるエネルギーを、最大ドラム速度（１０００ｒｐｍ）に設定されたプレートセッターを用いた場合の最大出力のうちの％で示した。

解像度：下記表Ｖに示された格付けを、解像度を評価するために使用した。

全ての版に対して、２４００ｄｐｉの画像を使用した。

下記処理後に、画像形成性要素を試験した：
− コンディショニング前
− コンディショニング後
− ３日間にわたる４０℃／８０％ＲＨの人工的エージングレジメン後（コンディショニングされた版及びコンディショニングされていない版の両方）

結果を下記表ＶＩ及びＶＩＩに示す：

良好な解像度を維持しながら低いクリーンアウトを達成すること、すなわち、ハイライト特徴の維持と、シャドーのクリーニングとのバランスをとることが望ましい。基準要素は、コンディショニングなしで不良のエージングを示した。すなわち、クリーンアウトはエージング中、３５％未満から７０％超に増大した。コンディショニング後には、基準要素は、エージングさせられていなくても、不良のクリーンアウトを示した。本発明により得られる要素は、コンディショニングが行われない場合、一旦エージングさせられると、クリーンアウト出力の増大を示した。しかしながら、一旦コンディショニングされると、これらは良好な、安定なクリーンアウトを示した。これらの要素の解像度も許容できるものであった。

例２：
例１において記載した別の基板Ｂ上に、僅かに調節された配合物を塗布した。

要素Ｃに関しては、内層組成物は、例１において記載されたものと同じであった（配合物１）。上層配合物は、７３．４％のLB6564、２２．６％のPD494、２％のKF654b、及び２％のPS210CNE（全ての量は重量による）から調製した。

要素Ｄに関しては、内層組成物は、例１において記載されたものと同じであった（配合物２）。外層組成物は、要素Ｃと同じものであった。

コンディショニング後に得られた下記結果は、表ＶＩＩＩに示されている。これらの結果は、基板Ｂを有する要素が、コンディショニング後に、許容可能なレベルのクリーンアウトを示し、そして要素Ｃの場合には、基準要素とは異なり、解像度を改善したことを示す。

例３：
下記内層及び外層配合物（全ての量は重量による）を使用して、例１に記載されているように、要素Ｅを調製した。

内層配合物は、９３％のEUV-5、３％のD11、２％のピロメリット酸無水物、及び２％のPS210CNEを含有した。

外層配合物は、６４％のLB6564、３２％のPD494、２％のPS210CNE、及び２％のKF654bを含有した。

２３℃の温度で保持されたGoldStar（登録商標）Premium現像剤が装入されたMercury of the Americas処理装置（Kodak Polychrome Graphicsから入手可能）内で要素を、処理時間４１秒にわたって処理した。全ての他の試験条件は、例１において記載したものと同じであった。その結果を下記表ＩＸ（クリーンアウト）及び表Ｘ（解像度）に示す。これらの結果は、コンディショニングされていない要素が、エージングに伴うクリーンアウト出力の増大（クリーンアウトは３５％から６０％に増大した）を呈したことを示す。これはエージングに伴う許容できない変化である。本発明に基づいてコンディショニングされた要素は、解像度に対して妥協することなしに、良好な、安定なクリーンアウト（コンディショニング後には５０％、そしてコンディショニング・エージング後には５０％）を示した。

Claims (23)

1. Ａ） 基板上に第１層を用意する工程、前記第１層は、第１高分子バインダー内に分散された第１輻射線吸収化合物を含む、
   Ｂ） 前記第１層上に第２層を用意する工程、前記第２層は、第２高分子バインダー内に分散された第２輻射線吸収化合物を含む、
   Ｃ） 前記第１層及び第２層を乾燥させた後、前記乾燥された第１層及び第２層からの湿分の除去を抑制する条件下で少なくとも４時間、約４０℃〜約９０℃で、前記第１層及び第２層を熱処理する工程
   を含んで成るポジ型画像形成性要素を提供する方法。
2. 前記熱処理が少なくとも２０時間実施される請求項１に記載の方法。
3. 前記熱処理が少なくとも２４時間、５０℃〜７０℃で実施される請求項１に記載の方法。
4. 前記熱処理中、前記画像形成性要素は、該前駆体からの湿分除去に対する効果的なバリヤを形成するために、不透水性シート材料内に包まれるか若しくは収容され、又は該画像形成性要素の前記熱処理が、相対湿度が少なくとも２５％に制御されている環境内で実施される請求項１に記載の方法。
5. 前記熱処理中、前記不透水性シート材料が、前記画像形成性要素の端部の周りでシールされている請求項４に記載の方法。
6. 前記不透水性シート材料が、前記画像形成性要素の端部の周りでシールされる高分子フィルム又は金属フォイルである請求項５に記載の方法。
7. 前記画像形成性要素が、少なくとも１００個の同じ画像形成性要素を含むスタック内で熱処理される請求項１に記載の方法。
8. 前記画像形成性要素が、コイルの形態で熱処理される請求項１に記載の方法。
9. 前記第２高分子バインダーが、ヒドロキシル基を有するポリマーである請求項１に記載の方法。
10. 前記第２高分子バインダーが、フェノール樹脂又はポリヒドロキシスチレン樹脂である請求項９に記載の方法。
11. 前記第１及び第２輻射線吸収化合物が同じ化合物である請求項１に記載の方法。
12. 前記第１輻射線吸収化合物が、０．５〜１０重量％の量で存在し、そして前記第２輻射線吸収化合物が、０．５〜１０重量％の量で存在する請求項１に記載の方法。
13. 前記第１高分子バインダーが、１種又は２種以上の(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、N置換型環状イミド、スチレン誘導体、及び、尿素基を含有するペンダント基を有するモノマーから誘導された反復単位を含む請求項１に記載の方法。
14. 前記第１高分子バインダーが、１種又は２種以上の(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロニトリル、N置換型環状イミド、下記構造（Ｉ）又は（ＩＩ）によって表されるモノマーから誘導された反復単位を含む請求項１３に記載の方法：
    

    

    ｛上記式中、Ｒ¹は、水素、低級アルキル基、又はハロ基であり、Ｘは、オキシ又は−ＮＲ’−であり、Ｒ’は、水素又はアルキル基であり、Ａｒは、アリーレン基であり、Ｙは、アルキレン基であり、Ｒ²は、−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−フェニル基又はフェニル基であり、ｍは０又は１であり、ｐは、１〜５であるが、
    但し、Ｒ²が構造（Ｉ）内で−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−フェニル基である場合、ｍは１であることを条件とする｝。
15. Ｒ¹が、水素又はメチルであり、Ｒ’が、水素又はメチルであり、Ａｒが、フェニレンであり、Ｙが、炭素原子数１〜４の線状又は分枝状アルキレンであり、ｍが、１であり、ｐが、１であり、そしてＲ²が、−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−フェニル基であり、フェニル部分が、１つ又は２つ以上のヒドロキシ、カルボキシ、又は−Ｓ(Ｏ)₂ＮＨ₂基で任意選択的に置換されている請求項１４に記載の方法。
16. 前記第１高分子バインダーが、下記構造（ＩＩＩ）によって表される請求項１４に記載の方法：
    

    

    （上記中、Ａは、１種又は２種以上の(メタ)アクリルアミドから誘導された反復単位を表し、Ｂは、１種又は２種以上の(メタ)アクリロニトリルから誘導された反復単位を表し、Ｃは、１種又は２種以上のN置換型マレイミドから誘導された反復単位を表し、Ｄは、構造（Ｉ）又は（ＩＩ）によって表された１種又は２種以上のモノマーから誘導された反復単位を表し、ｗは、１〜３０重量％であり、ｘは、２０〜７５重量％であり、ｙは、１〜３０重量％であり、そしてｚは、２０〜７５重量％である）。
17. Ｄは、第１及び第２のＤモノマーから誘導された反復単位を表し：
    （ａ） 前記第１「Ｄ」モノマーが、構造（Ｉ）によって規定され、Ｒ¹が、水素又はメチル基であり、Ｘが、オキシであり、Ｙが、−ＣＨ₂ＣＨ₂−基であり、ｍが、１であり、Ｒ²が、−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−フェニル、−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−Ｃ₆Ｈ₄−ＯＨ、又は−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＯＯＨ基であり、そして前記第２「Ｄ」モノマーが、構造（Ｉ）によって規定され、Ｒ¹が、水素又はメチル基であり、Ｘが、−ＮＨ−であり、ｍが、０であり、Ｒ²が、フェニル、ヒドロキシフェニル、又はカルボキシフェニル基であり、又は、
    （ｂ） 前記第１「Ｄ」モノマーが、構造（ＩＩ）によって規定され、Ｒ¹が、水素又はメチル基であり、Ｙが、−Ｃ(ＣＨ₃)₂−基であり、ｍが、１であり、ｐが、１であり、そしてＲ²が、−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−フェニル、−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−Ｃ₆Ｈ₄−ＯＨ、又は−ＮＨＣ(Ｏ)ＮＨ−Ｃ₆Ｈ₄−ＣＯＯＨ基であり、そして前記第２「Ｄ」モノマーが、構造（Ｉ）によって規定され、Ｒ¹は水素又はメチル基であり、Ｘは−ＮＨ−基であり、ｍは０であり、そしてＲ²はフェニル、ヒドロキシフェニル、又はカルボキシフェニル基である、請求項１４に記載の方法。
18. Ｄ） 画像形成された領域と非画像形成領域とを提供するために、請求項１によって提供された画像形成性要素を像様露光する工程、そして、
    Ｅ） 該画像形成された領域だけを除去するために、該像様露光された画像形成性要素と水性現像剤とを接触させる工程
    をさらに含んで成る請求項１に記載の方法。
19. 前記像様露光された画像形成性要素が、平版印刷版である請求項１８に記載の方法。
20. 前記像様露光が、波長７００〜１２００ｎｍで実施される請求項１８に記載の方法。
21. 請求項１８に記載の方法によって得られる画像形成された要素。
22. Ａ） 請求項１に記載の方法によってポジ型画像形成性要素を用意する工程、
    Ｂ） 画像形成された領域と非画像形成領域とを提供するために、前記画像形成性要素を像様露光する工程、そして、
    Ｃ） 該画像形成された領域だけを除去するために、該像様露光された画像形成性要素と水性現像剤とを接触させる工程
    を含んで成る画像形成された物品を製造する方法。
23. 前記像様露光された画像形成性要素が、工程Ｂの後にベーキングされる請求項２２に記載の方法。