JP2009517940A - 音響的な信号を受信および/または発生させるためのマイクロマシニング構造体、マイクロマシニング構造体を製造するための方法、およびマイクロマシニング構造体の使用法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、請求項1の上位概念部に記載した、媒体内で音響的な信号を受信および/または発生させるためのマイクロマシニング構造体であって、該マイクロマシニング構造体が前記媒体によって少なくとも部分的に取り囲まれている形式のものに関する。
本発明の請求項に記載した、マイクロマシニング構造体を少なくとも部分的に取り囲んでいる媒体内で、音響的な信号を受信および/または発生させるための、本発明によるマイクロマシニング構造体もしくは、マイクロマシニング構造体を製造するための方法もしくは、本発明によるマイクロマシニング構造体の使用法は、前記従来技術のものに対して、次のような利点がある。すなわち、簡単な方法でマイクロマシニング構造体の音響特性を改善することができるにもかかわらず、このマイクロマシニング構造体は比較的簡単かつ頑丈な製造工程によって製造可能である。本発明によるマイクロマシニング構造体は、第1の対向エレメントと第2の対向エレメントとの間にダイヤフラムを埋め込む(埋設ダイヤフラム)ことによって、高い機械的な安定性を有している。
以下に本発明の実施例を図面につき詳しく説明する。
Claims (9)
- 媒体内で音響的な信号を受信および/または発生させるためのマイクロマシニング構造体であって、該マイクロマシニング構造体(10)が前記媒体によって少なくとも部分的に取り囲まれている形式のものにおいて、マイクロマシニング構造体(10)が、該マイクロマシニング構造体(10)の第1の面(11)を実質的に形成している第1の対向エレメント(20)を有していて、該第1の対向エレメント(20)に第1の開口(21)が設けられており、マイクロマシニング構造体(10)が、該マイクロマシニング構造体(10)の第2の面(12)を実質的に形成している第2の対向エレメント(40)を有していて、該第2の対向エレメント(40)に第2の開口(41)が設けられており、マイクロマシニング構造体(10)が、前記第1の対向エレメント(20)と前記第2の対向エレメント(40)との間に配置されている、実質的に閉鎖されたダイヤフラム(30)を有していることを特徴とするマイクロマシニング構造体。
- 第1の対向エレメント(20)とダイヤフラム(30)との間に第1のキャビティ(25)が形成されていて、ダイヤフラム(30)と第2の対向エレメント(40)との間に第2のキャビティ(35)が形成されている、請求項1記載のマイクロマシニング構造体。
- 第1の対向エレメント(20)が、ダイヤフラム(30)と比較して数倍大きい質量を有しており、および/または、第2の対向エレメント(40)が、ダイヤフラム(30)と比較して数倍大きい質量を有している、請求項1から2までのいずれか1項記載のマイクロマシニング構造体。
- マイクロマシニング構造体(10)が、電子回路とモノリシックに一体化されて設けられている、請求項1から3までのいずれか1項記載のマイクロマシニング構造体。
- 第1の対向エレメント(20)および/または第2の対向エレメント(40)が、実質的に半導体材料で形成されていて、ダイヤフラム(30)が、半導体材料を有している、請求項1から4までのいずれか1項記載のマイクロマシニング構造体。
- 第1の対向エレメント(20)が第1の電極を有していて、第2の対向エレメント(40)が第2の電極を有しており、ダイヤフラム(30)が第3の電極を有している、請求項1から5までのいずれか1項記載のマイクロマシニング構造体。
- 請求項1から6までのいずれか1項記載の、マイクロマシニング構造体を製造するための方法において、第2のキャビティ(35)を形成するために、第1の犠牲層(49)を未加工基板(15)上に微細加工して被着するか、または未加工基板(15)内に微細加工して導入し、それによって第1の前駆構造体(50)を提供し、次いでダイヤフラム(30)を形成するために、少なくとも第1のダイヤフラム層(31)を前記第1の前駆構造体(50)上に被着し、次いで第1のキャビティ(25)を形成するために、第1の犠牲層(29)を被着し、次いで第1の対向エレメント(20)を形成するために、エピタキシャル層(16)を被着し、次いで第1の開口(21)を前記第1の対向エレメント(20)内に設け、かつ第2の開口(41)を第2の対向エレメント(40)内に設け、第1のキャビティ(25)および第2のキャビティ(35)を形成するために、第1の犠牲層(29)および第2の犠牲層(49)を除去することを特徴とする、マイクロマシニング構造体を製造するための方法。
- マイクロマシニング構造体(10)の形成と平行して、電子回路(70)をマイクロマシニング構造体(10)とモノリシックに一体化して形成し、電子回路(70)を第1の面(11)上または第2の面(12)上に配置する、請求項7記載のマイクロマシニング構造体を製造するための方法。
- 請求項1から6までのいずれか1項記載のマイクロマシニング構造体(10)をマイクロフォンおよび/またはスピーカとして使用することを特徴とする、マイクロマシニング構造体(10)の使用法。
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