JP2009510456A - サンプルピッチを利用する走査型プローブ顕微鏡法及び装置 - Google Patents
サンプルピッチを利用する走査型プローブ顕微鏡法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009510456A JP2009510456A JP2008533771A JP2008533771A JP2009510456A JP 2009510456 A JP2009510456 A JP 2009510456A JP 2008533771 A JP2008533771 A JP 2008533771A JP 2008533771 A JP2008533771 A JP 2008533771A JP 2009510456 A JP2009510456 A JP 2009510456A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scan
- data
- overview
- sample
- probe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q10/00—Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
- G01Q10/04—Fine scanning or positioning
- G01Q10/06—Circuits or algorithms therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q30/00—Auxiliary means serving to assist or improve the scanning probe techniques or apparatus, e.g. display or data processing devices
- G01Q30/04—Display or data processing devices
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/24—AFM [Atomic Force Microscopy] or apparatus therefor, e.g. AFM probes
- G01Q60/32—AC mode
- G01Q60/34—Tapping mode
-
- G—PHYSICS
- G12—INSTRUMENT DETAILS
- G12B—CONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G12B1/00—Sensitive elements capable of producing movement or displacement for purposes not limited to measurement; Associated transmission mechanisms therefor
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
- Y10S977/85—Scanning probe control process
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
- Y10S977/85—Scanning probe control process
- Y10S977/851—Particular movement or positioning of scanning tip
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
- Y10S977/852—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe for detection of specific nanostructure sample or nanostructure-related property
- Y10S977/854—Semiconductor sample
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Abstract
Description
このバージョンでは、独特の多大な費用を要する先端部が採用される。
という点において、重要である。これら測定の基準を考慮すると、既知のシステムには、深刻な制約がある。
scan)を実施する。概観走査は、ウェーハを空中から眺めて、データ走査を行い得る位置を確立する役割を果たす。最終的に、データ走査は、対象の情報(例えば、特性寸法)を提供する。特に、また、更に詳細に後述するように、通常、半導体ウェーハは、ウェーハを測定するために用いられるツールでは通常分からない箇所を有するトレンチ等のデバイス/フィーチャ領域を有する。その結果、ツールは、特性データを取得するために、その領域に位置合わせしなければならず、このことは、概観走査で達成されることが多い。
とから、測定反復精度が大幅に低下することがある。
ら1分未満を要する。取り込まれたデータは、解析され、トレンチキャパシタの特性寸法が決定され、これによって、特性寸法は、特性寸法の約2.0%と2.0nmの内の大きい方より小さい3シグマ動的反復精度を有する。
本実施形態の他の態様において、特性寸法は、特性寸法の1.0%及び1.5nmの内の大きい方より小さい3シグマ動的反復精度を有する。本方法は、特に、110nm未満のノードトレンチキャパシタであるトレンチキャパシタを解析するのに有用である。
能であり、これらの走査プロファイルは、所望の数のフィーチャを画像化するために、ユーザにより選択された長さを有し、サンプル処理能力及び先端部寿命並びに反復精度を全体的に改善する。走査プロファイルは、一般的に、局所領域における表面の1つ又は複数の特性のアレイ状の測定を含む。通常、走査プロファイルは、単一の走査線に沿って実施される一連の測定、即ち、サンプルの一部を横切って線形に配置される一連の測定を含む。しかしながら、走査プロファイルは、任意の形状を有し得る。そのような走査プロファイルは、例えば、必ずしも同じ走査線上にあるとは限らないより多い数のサンプルフィーチャと交わるように構成し得る。特に、これに限定しないが、本手法は、国際半導体技術ロードマップ(ITRS)に準じるフィーチャ寸法を有する半導体サンプルを測定する場合、これらの恩典を提供する。
の領域54を識別できるようにするためには、先端部が、概観走査線の内の1つで測定されるデバイス56の内の少なくとも1つと確実に相互作用するように、概観走査のセグメントS2の距離を選択する。このことは、X方向すなわちデータ走査方向(図2)のデバイスピッチXPOに等しくない値XP1に概観走査のセグメントS2の長さを設定することによって、達成される。セグメントS2の直交距離が、領域のX方向のピッチに等しくないことを確実にすることによって、本アルゴリズムは、プローブが領域54におけるフィーチャの内の少なくとも1つと相互作用することを保証するが、フィーチャの数は、セグメントS1及びS3の長さに依存する。この点に関しては、概観走査は、セグメントS1及びS3中、最小距離、例えば、トレンチキャパシタの少なくとも2つの長さ“L”又はピッチ距離YP0の2倍に対応する距離を通過する必要がある。図示するように、行58におけるトレンチキャパシタ56の対60のオフセットのために、少なくとも2つの長さ“L”が、この場合、必要である。しかしながら、S1及びS3は、トレンチ56の少なくとも2つを横断して、後続のデータ解析のために、より大きな概観母集団を提供するのに充分なほど長い(例えば、4つの長さ“L”)ことが更に好ましい。また、このことは、概観走査が、2走査線S1及びS3だけであるということからして、処理能力を損なうことなく達成し得る。特に、この議論は、2概観走査線についてのみ言及するが、ユーザが好む場合、用いる概観走査線は多くてもよい。
中心、即ち、走査線S1及びS3の中間点を通る線と、それに直交するS2の中間点を通る線との交点である。概観走査中心SCが既知である場合、データ走査中心は、中心位置70を通過する水平走査線(データ走査又は“X”方向)が延在して通る対60のキャパシタC3上の点に概観走査中心SCを変換することによって決定され得る。結果として生じるデータ走査中心DCを図3に示す。特に、XCALIPER(登録商標)機能の出力に関連付けられた座標に対応する“Y”位置は、データ走査中心DCを提供する。この場合、DCは、図2及び3に示す走査線L1に配置される。
線L0、L2及びL4上のトレンチキャパシタ56の対60間におけるスペースを画像化することなく、画像化処理される。一般的に、この効率は、データ走査の段セグメント(図10のD2、例えば、この間、フィードバックが止まり得る)を横断するのに要する時間は、例えば、図7の走査線D1に沿ってC5からC6に横断するのに要する時間より一般的に実質的に小さいことを理解することによって、認識される。
Claims (33)
- サンプルのフィーチャ領域からデータを取り込む方法であって、
概観走査を実施して前記領域を特定することと、前記概観走査は5本以内の概観走査線を用いて前記領域を特定する工程と、
データ走査を実施して、前記フィーチャを表すデータを取り込む工程と、
を含む方法。 - 前記概観走査は2本以内の概観走査線を用いて前記フィーチャ領域を特定する、請求項1に記載の方法。
- 隣接する概観走査線間の距離は、前記概観走査線と直交する方向における前記フィーチャ領域のピッチと実質的に等しくない請求項2に記載の方法。
- 前記データ走査は、少なくとも実質的に平行なデータ取り込み線に沿ってのみ実施される請求項1に記載の方法。
- 前記データ走査からの画像の縦横比は、前記走査線方向の前記比の大きさが、前記走査線と直交する方向における前記比の大きさより大きい請求項4に記載の方法。
- 前記概観走査は第1軸に沿って実施され、前記データ走査は少なくとも第1軸と実質的に直交する第2軸に沿って実施される請求項1に記載の方法。
- データ取り込み線間の距離は、第1軸に沿う前記フィーチャ領域の前記ピッチの2倍に少なくともほぼ等しい請求項6に記載の方法。
- 前記概観走査から前記データ走査の走査領域の中心を決定する工程を含む請求項7に記載の方法。
- 前記決定する工程は、前記概観走査から取り込まれた前記データに対してパターン認識を用いる請求項8に記載の方法。
- 前記データ走査に先立って1回の概観走査だけが実施される請求項1に記載の方法。
- 走査型プローブ顕微鏡を用いて、トレンチキャパシタ領域の3つ以上のトレンチキャパシタの各々からデータを取り込む工程と、同取り込む工程は、プローブ係合から1分未満しか要しないことと、
前記取り込まれたデータを解析して、前記トレンチキャパシタの特性寸法を決定する工程と、前記特性寸法は、前記特性寸法の約2.0%と2.0nmとの内の大きい方より小さい3シグマ動的反復精度を有することと、
を含む方法。 - データは30秒未満で取り込まれる請求項11に記載の方法。
- データは5秒未満で取り込まれる請求項12に記載の方法。
- 前記特性寸法は、前記特性寸法の1.0%と1.5nmとの内の大きい方より小さい3シグマ動的反復精度を有する請求項11に記載の方法。
- 前記トレンチキャパシタは、110nm未満のノードトレンチキャパシタである請求項
11に記載の方法。 - 前記取り込む工程は、
第1軸に沿って概観走査を実施してサンプル表面上の領域を特定する工程と、
第2軸に沿ってデータ走査を実施して前記寸法を測定する工程と、第2軸は第1軸と少なくとも実質的に直交することと、
を含む請求項11に記載の方法。 - 前記データ走査に先立って1回の概観走査が実施される請求項16に記載の方法。
- 前記概観走査から前記データ走査の走査領域の中心を決定する工程を含む請求項17に記載の方法。
- 前記概観走査は5本以内の走査線を用いてトレンチキャパシタの前記領域を特定する請求項16に記載の方法。
- 前記概観走査は2本以内の走査線を用いてトレンチキャパシタの前記領域を特定する請求項19に記載の方法。
- カンチレバーを有するプローブを含む走査型プローブ顕微鏡(SPM)を動作させる方法であって、
前記プローブとサンプルとを係合させる工程と、同サンプルは、走査方向の第1ピッチと、同走査方向に対して90度方向の第2ピッチとを有するフィーチャ領域を含むことと、
前記サンプルの5本未満の線に沿って前記サンプルの概観走査を実施する工程と、同実施する工程は、前記5本未満の線のうちの隣接する線間において前記走査方向に対して実質的に直交した前記プローブと前記サンプルとの間の相対運動を提供する工程を含むことと、
を含む方法。 - 前記概観走査に基づき、データ走査の中心を識別する工程と、同中心は、走査線内における前記フィーチャのうちの少なくとも1つのフィーチャの中間点に対応することと、前記フィーチャの中間点の中心は、前記少なくとも1つのフィーチャの最深部にほぼ対応することと、
前記概観走査に基づき、前記データ走査を実施する工程と、を含み、
前記運動させる工程は、第1ピッチと実質的に等しくない第1ピッチの分数倍である前記プローブと前記サンプルとの間の相対運動を提供する、請求項21に記載の方法。 - 前記概観走査は、前記データ走査に対して90度で実施される請求項21に記載の方法。
- 前記プローブを屈曲モードで振動させる工程を含む請求項21に記載の方法。
- 前記プローブをディープトレンチモードで振動させる工程を含む請求項24に記載の方法。
- 前記識別する工程は、パターン認識を用いることを含む請求項22に記載の方法。
- 前記実施する工程は1分未満で完了する請求項21に記載の方法。
- 前記実施する工程は5秒未満で完了する請求項27に記載の方法。
- 前記フィーチャの内の少なくとも1つの特性寸法を決定する工程と、前記特性寸法は、前記特性寸法の約2.0%と2.0nmとの内の大きい方より小さい3シグマ動的反復精度を有することとを含む、請求項27に記載の方法。
- 前記フィーチャはトレンチキャパシタである請求項29に記載の方法。
- 走査型プローブ顕微鏡(SPM)であって、
フィーチャ領域を含むサンプルと相互作用する先端部を有するプローブと、
スキャナと、同スキャナは前記先端部と前記サンプルとの間の相対運動を提供し、
(a)概観走査を実施して前記領域を特定し、そして、
(b)前記概観走査に基づきデータ走査を実施することと、
前記概観走査は5本以内の走査線を含むことと、前記概観走査及び前記データ走査は、合わせて1分未満しか要しない走査型プローブ顕微鏡(SPM)。 - 前記概観走査は2本の走査線を横断する請求項31に記載のSPM。
- 前記概観走査及び前記データ走査中に取り込まれたデータを解析するコンピュータを更に備え、前記データ走査のデータは、前記フィーチャの内の少なくとも1つの特性寸法を表し、前記特性寸法は、前記特性寸法の約2.0%と2.0nmとの内の大きい方より小さい3シグマ動的反復精度を有する請求項31に記載のSPM。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/241,093 US7429732B2 (en) | 2005-09-30 | 2005-09-30 | Scanning probe microscopy method and apparatus utilizing sample pitch |
US11/241,093 | 2005-09-30 | ||
PCT/US2006/038573 WO2007041556A2 (en) | 2005-09-30 | 2006-09-29 | Scanning probe microscopy method and apparatus utilizing sample pitch |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009510456A true JP2009510456A (ja) | 2009-03-12 |
JP5823662B2 JP5823662B2 (ja) | 2015-11-25 |
Family
ID=37900997
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008533771A Active JP5823662B2 (ja) | 2005-09-30 | 2006-09-29 | サンプルピッチを利用する走査型プローブ顕微鏡法及び装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7429732B2 (ja) |
EP (1) | EP1949086B1 (ja) |
JP (1) | JP5823662B2 (ja) |
KR (1) | KR101392044B1 (ja) |
CN (1) | CN101300480B (ja) |
SG (1) | SG141182A1 (ja) |
WO (1) | WO2007041556A2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7509844B2 (en) * | 2006-05-31 | 2009-03-31 | Applied Materials, Inc. | Atomic force microscope technique for minimal tip damage |
US7770439B2 (en) * | 2006-10-17 | 2010-08-10 | Veeco Instruments Inc. | Method and apparatus of scanning a sample using a scanning probe microscope |
US8901736B2 (en) | 2010-05-28 | 2014-12-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Strength of micro-bump joints |
US20130015871A1 (en) * | 2011-07-11 | 2013-01-17 | Cascade Microtech, Inc. | Systems, devices, and methods for two-sided testing of electronic devices |
CN106796246B (zh) * | 2014-02-24 | 2021-11-26 | 布鲁克纳米公司 | 自动扫描探针显微镜***中的精密探针部署 |
KR102461639B1 (ko) | 2017-12-06 | 2022-10-31 | 삼성전자주식회사 | 주사 탐침 검사기 |
CN110850115A (zh) * | 2019-10-18 | 2020-02-28 | 东南大学 | 适用于原子力显微镜热再生沥青样品的制备装置及方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04355231A (ja) * | 1991-05-31 | 1992-12-09 | Canon Inc | トラッキング方法 |
JPH0658753A (ja) * | 1992-08-05 | 1994-03-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 測長校正法 |
JP2002098620A (ja) * | 2000-09-27 | 2002-04-05 | Seiko Instruments Inc | 走査型プローブ顕微鏡 |
JP2004294321A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Sii Nanotechnology Inc | 走査型プローブ顕微鏡 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4935634A (en) | 1989-03-13 | 1990-06-19 | The Regents Of The University Of California | Atomic force microscope with optional replaceable fluid cell |
US5266801A (en) * | 1989-06-05 | 1993-11-30 | Digital Instruments, Inc. | Jumping probe microscope |
US4954704A (en) * | 1989-12-04 | 1990-09-04 | Digital Instruments, Inc. | Method to increase the speed of a scanning probe microscope |
US5298975A (en) | 1991-09-27 | 1994-03-29 | International Business Machines Corporation | Combined scanning force microscope and optical metrology tool |
JP2501282B2 (ja) | 1992-02-04 | 1996-05-29 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 原子間力走査顕微鏡を使用した表面プロフィル検査方法及びその装置 |
US5204531A (en) * | 1992-02-14 | 1993-04-20 | Digital Instruments, Inc. | Method of adjusting the size of the area scanned by a scanning probe |
US5412980A (en) | 1992-08-07 | 1995-05-09 | Digital Instruments, Inc. | Tapping atomic force microscope |
US5948972A (en) * | 1994-12-22 | 1999-09-07 | Kla-Tencor Corporation | Dual stage instrument for scanning a specimen |
DE19514036C2 (de) * | 1995-04-13 | 1997-08-21 | Telefunken Microelectron | Verfahren zum Ermitteln des Sekundenbeginns im Signal eines Zeitzeichensenders |
US5644512A (en) * | 1996-03-04 | 1997-07-01 | Advanced Surface Microscopy, Inc. | High precision calibration and feature measurement system for a scanning probe microscope |
US5825670A (en) * | 1996-03-04 | 1998-10-20 | Advanced Surface Microscopy | High precison calibration and feature measurement system for a scanning probe microscope |
US6714892B2 (en) | 2001-03-12 | 2004-03-30 | Agere Systems, Inc. | Three dimensional reconstruction metrology |
US7053369B1 (en) * | 2001-10-19 | 2006-05-30 | Rave Llc | Scan data collection for better overall data accuracy |
US6986280B2 (en) * | 2002-01-22 | 2006-01-17 | Fei Company | Integrated measuring instrument |
US6715346B2 (en) * | 2002-08-13 | 2004-04-06 | Infineon Technologies Ag | Atomic force microscopy scanning methods |
US7323657B2 (en) * | 2004-08-03 | 2008-01-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Precision machining method using a near-field scanning optical microscope |
CN1300563C (zh) * | 2005-03-24 | 2007-02-14 | 华中科技大学 | 一种微型三维自扫描共焦显微镜 |
-
2005
- 2005-09-30 US US11/241,093 patent/US7429732B2/en active Active
-
2006
- 2006-09-29 KR KR1020087008572A patent/KR101392044B1/ko active IP Right Grant
- 2006-09-29 WO PCT/US2006/038573 patent/WO2007041556A2/en active Application Filing
- 2006-09-29 SG SG2008002491A patent/SG141182A1/en unknown
- 2006-09-29 EP EP06825377.2A patent/EP1949086B1/en active Active
- 2006-09-29 JP JP2008533771A patent/JP5823662B2/ja active Active
- 2006-09-29 CN CN2006800407543A patent/CN101300480B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04355231A (ja) * | 1991-05-31 | 1992-12-09 | Canon Inc | トラッキング方法 |
JPH0658753A (ja) * | 1992-08-05 | 1994-03-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 測長校正法 |
JP2002098620A (ja) * | 2000-09-27 | 2002-04-05 | Seiko Instruments Inc | 走査型プローブ顕微鏡 |
JP2004294321A (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-21 | Sii Nanotechnology Inc | 走査型プローブ顕微鏡 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5823662B2 (ja) | 2015-11-25 |
KR20080072820A (ko) | 2008-08-07 |
CN101300480B (zh) | 2012-08-29 |
KR101392044B1 (ko) | 2014-05-19 |
US20070075243A1 (en) | 2007-04-05 |
SG141182A1 (ja) | 2008-05-28 |
US7429732B2 (en) | 2008-09-30 |
EP1949086A4 (en) | 2009-11-04 |
WO2007041556A3 (en) | 2007-12-21 |
CN101300480A (zh) | 2008-11-05 |
EP1949086B1 (en) | 2018-09-12 |
EP1949086A2 (en) | 2008-07-30 |
WO2007041556A2 (en) | 2007-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5823662B2 (ja) | サンプルピッチを利用する走査型プローブ顕微鏡法及び装置 | |
TWI426271B (zh) | 使用掃描探針顯微鏡掃描樣本的方法及設備 | |
KR101305001B1 (ko) | 시료 특징의 특성을 측정하기 위한 방법 및 장치 | |
KR100961571B1 (ko) | 주사 탐침 현미경 | |
US6489611B1 (en) | Atomic force microscope for profiling high aspect ratio samples | |
EP2195635B1 (en) | Method and apparatus of automatic scanning probe imaging | |
KR101381922B1 (ko) | 탐침 팁을 특성화하기 위한 방법 및 장치 | |
JP2005201904A (ja) | プローブ顕微鏡 | |
US9134340B2 (en) | Method of investigating a sample surface | |
US6441371B1 (en) | Scanning probe microscope | |
JP2024513229A (ja) | 計測保存リアルタイムノイズ除去機能を備えるafmイメージング | |
US7767961B2 (en) | Method for determining material interfacial and metrology information of a sample using atomic force microscopy | |
JP3422617B2 (ja) | 素子の自動表面プロファイル解析法 | |
KR20010086014A (ko) | 복합면의 선-기반 특성화 방법 및 측정 장치 | |
US9075080B2 (en) | Method and apparatus for adaptive tracking using a scanning probe microscope | |
KR20210042358A (ko) | 넓은 면적의 고속 원자력 프로파일 | |
US20230400781A1 (en) | Method of Analyzing Metrology Data | |
KR100595138B1 (ko) | 반도체 소자의 표면 상태 감지 장치의 운영 방법 | |
JP3597613B2 (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
TW202032130A (zh) | 將掃描探針顯微鏡之探針對準尖銳樣本的尖端的方法及裝置 | |
JP2002014025A (ja) | プローブの走査制御装置、該走査制御装置による走査型プローブ顕微鏡、及びプローブの走査制御方法、該走査制御方法による測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090929 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101004 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111012 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120105 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20120215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120508 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20120808 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20120815 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121108 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20130409 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130809 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20130816 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20131004 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150602 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151008 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5823662 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |