JP2009295981A - 任意パターンを有するパターニングデバイス上のパーティクル検出 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置におけるパーティクル汚染を検出する検出システムは、パターニングデバイスの表面のセクション上に放射ビームを導き、パターン付き放射の少なくとも第1の成分および第2の成分を生成する照明システムを含む。第1のディテクタは第1の成分を検出するよう構成される。フィルタは検出された第1の成分に基づいて第2の成分を適応的に変化させるよう構成され、第2のディテクタはフィルタリングされた第2の成分を検出するよう構成される。結像デバイスは、検出された第2のフィルタリングされた成分に対応する像を生成し、この像はパターニングデバイスの表面上のパーティクルのおおよその位置を示す。
【選択図】図3
Description
[0020] 図1Aは、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置1を概略的に示す。装置1は、放射ビームB(例えばUV放射またはEUV放射)を調整するよう構成された照明システム(イルミネータ)ILを含む。サポートMT(例えば、マスクテーブル)は、パターニングデバイスMA(例えば、マスク)を支持するよう構成され、かつ特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置付けるよう構成された第1ポジショナPMに連結される。基板テーブルWT(例えば、ウェーハテーブル)は、基板W(例えば、レジストコートウェーハ)を保持するよう構成され、かつ特定のパラメータに従って基板を正確に位置付けるよう構成された第2ポジショナPWに連結される。投影システムPS(例えば、屈折投影レンズシステム)は、パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するよう構成される。
[0051] 図2は、一実施形態による、リソグラフィ装置においてパーティクル汚染を検出する例示的な方法200を示す。ステップ202において、マスクまたはレチクルといった反射型パターニングデバイスの表面の一セクションが放射ビームによって照射される。ビームは、パターニングデバイスのそのセクション上に入射すると、パターニングデバイスのそのセクションにあるパターンによって予測可能で且つ特定の方法で散乱し、それにより、ビームの断面にパターンが付けられる。
[0087] 本発明の様々な実施形態を上述したが、これらの実施形態は例示的に提示したに過ぎず、限定するものではないことを理解すべきである。当業者であれば、本発明の趣旨および範囲から逸脱することなく、これらの実施形態はその形式および詳細を様々に変更可能であることは明らかであろう。したがって、本発明の範囲は、上述した例示的な実施形態のいずれによっても限定されるべきではなく、むしろ、特許請求の範囲およびその等価物によって定義されるべきである。
Claims (15)
- リソグラフィ装置内のパターニングデバイスのパーティクル汚染を検出するシステムであって、
前記パターニングデバイスの表面のセクション上に放射ビームを導き、パターン付き放射の少なくとも第1の成分および第2の成分を生成するよう構成される照明システムと、
前記第1の成分を検出するよう構成される第1のディテクタと、
前記第2の成分を適応的に変化させるよう構成されるフィルタであって、前記変化は前記検出された第1の成分に基づく、フィルタと、
前記フィルタリングされた第2の成分を検出するよう構成される第2のディテクタと、
前記検出された第2のフィルタリングされた成分に対応する像を生成するよう構成される結像デバイスと、
を含み、
前記像は、前記パターニングデバイスの前記表面上の任意のパーティクルのおおよその位置を示すよう構成される、
システム。 - 前記フィルタは、液晶デバイス(LCD)アレイを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記フィルタは、複数のピクセルを有する第1のLCDアレイと複数のピクセルを有する第2のLCDアレイとを含む、請求項1に記載のシステム。
- 真空環境内にあるパターニングデバイスを受容するよう構成される構造であって、前記パターニングデバイスは放射ビームにパターンを付けるよう構成される、構造と、
前記真空環境内の基板のターゲット部分上に前記パターン付きビームを投影するよう構成される投影システムと、
前記パターニングデバイスの表面上の各パーティクル汚染を検出するよう構成される検出システムであって、
パターニングデバイスの表面のセクション上に放射ビームを導き、パターン付き放射の少なくとも第1の成分および第2の成分を生成するよう構成される照明システムと、
前記第1の成分を検出するよう構成される第1のディテクタと、
前記第2の成分を適応的に変化させるよう構成されるフィルタであって、前記変化は前記検出された第1の成分に基づく、フィルタと、
前記フィルタリングされた第2の成分を検出するよう構成される第2のディテクタと、
前記検出された第2のフィルタリングされた成分に対応する像を生成するよう構成される結像デバイスと、
を含み、
前記像は、前記パターニングデバイスの前記表面上の任意のパーティクルのそれぞれのおおよその位置を示すよう構成される、検出システムと、
を含むリソグラフィ装置。 - 前記フィルタは、液晶デバイス(LCD)アレイを含む、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記フィルタは、複数のピクセルを有する第1のLCDアレイと複数のピクセルを有する第2のLCDアレイとを含む、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1のLCDアレイの各ピクセルは、前記第2のLCDアレイの対応ピクセルと位置合わせされる、請求項4に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1のLCDアレイの各ピクセルは、前記第2のLCDアレイの対応ピクセルからオフセットにされる、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 前記検出された第1の成分に対応する像を生成するよう構成される結像デバイスを更に含み、
前記フィルタは、前記生成された像に基づいて前記第2の成分を適応的にフィルタリングするよう構成される、請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置内のパターニングデバイス上のパーティクル汚染を検出する方法であって、
(a)パターニングデバイスの表面のセクションを放射ビームで照射して、パターン付き放射の少なくとも第1の成分および第2の成分を生成することと、
(b)前記第1の成分の強度を測定することと、
(c)前記第1の成分の少なくとも前記測定された強度に基づいて前記第2の成分をフィルタリングすることと、
(d) 前記第2の成分の少なくとも前記測定された強度に基づいて前記フィルタリングされた第2の成分に対応する像を生成することと、
(e)前記生成された像の検査に基づいて前記パターニングデバイスの前記表面の前記被照射セクション上の前記パーティクル汚染を特定することと、
を含む方法。 - ステップ(d)は、
前記フィルタリングされた第2の成分の強度を測定することを含む、請求項10に記載の方法。 - ステップ(b)は、
前記第1の成分の前記測定された強度に基づいて前記パターニングデバイスの前記表面の前記セクションによって前記第1の成分に付与されたパターンの像を生成することを含む、請求項10に記載の方法。 - ステップ(a)は、
パーティクルのないパターニングデバイスの表面のセクションを放射ビームで照射して、パターン付き放射を生成することを含む、請求項10に記載の方法。 - ステップ(c)は、
前記第2の成分から前記第1の成分の前記測定された強度を除去して、フィルタリングされた放射ビームを生成することを含む、請求項10に記載の方法。 - (f)前記パターニングデバイスの前記表面の異なるセクションに対してステップ(a)乃至(e)を繰り返すことを更に含む、請求項10に記載の方法。
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