JP2009280456A - Apparatus for manufacturing polycrystalline silicon - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for manufacturing polycrystalline silicon including a mist separator which has high mist separating ability and ensures ease of maintenance. <P>SOLUTION: The apparatus for manufacturing polycrystalline silicon includes a reactor in which polycrystalline silicon is deposited and the mist separator which separates mist in waste gas flowing in piping connected to the reactor. The mist separator has a housing 5 disposed in the middle of the piping 2, an opening 10a opening the pipe conduit 6 in a direction perpendicular thereto is made in the housing 5 in such a way that it can be closed with a cover 12, and a demister stack 7 put in the pipe conduit 6 through the opening 10a is attached to the cover 12. The demister stack 7 is formed by stacking a plurality of wire mesh sheets 21 having an uneven surface and it is placed so that the stacking direction is made perpendicular to the pipe conduit 6. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、多結晶シリコンの製造時に発生する粉末シリコンやポリマー化合物を含む排ガスからのミスト分離に用いて好適なミスト分離装置を有する多結晶シリコン製造装置に関する。   The present invention relates to a polycrystalline silicon production apparatus having a mist separation apparatus suitable for use in mist separation from exhaust gas containing powdered silicon and polymer compounds generated during the production of polycrystalline silicon.

多結晶シリコンの製造装置としては、シーメンス法による製造装置が知られている。この多結晶シリコンの製造装置では、反応炉内に種棒となるシリコン芯棒を多数配設して加熱しておき、この反応炉にクロロシランガスと水素ガスとの混合ガスからなる原料ガスを供給して、加熱したシリコン芯棒に接触させ、その表面に原料ガスの熱分解及び水素還元によって生じた多結晶シリコンを析出させる方法である。また、反応炉からの排ガスは、未反応ガスや副生物である四塩化珪素、水素等が含まれるため、これらを蒸留、精製することにより再利用することが行われている。   As a polycrystalline silicon manufacturing apparatus, a manufacturing apparatus based on the Siemens method is known. In this polycrystalline silicon manufacturing apparatus, a large number of silicon core rods serving as seed rods are placed in a reaction furnace and heated, and a raw material gas composed of a mixed gas of chlorosilane gas and hydrogen gas is supplied to the reaction furnace. Then, it is brought into contact with a heated silicon core rod, and polycrystalline silicon produced by thermal decomposition of the source gas and hydrogen reduction is deposited on the surface thereof. Further, since the exhaust gas from the reaction furnace contains unreacted gas, silicon tetrachloride, hydrogen, and the like, which are by-products, these are reused by distillation and purification.

ところで、反応炉からの排ガス中には、シリコン粉末やＳｉ２Ｃｌ６、Ｓｉ２Ｈ２Ｃｌ４等のポリマー化合物も含まれているため、これらシリコン粉末やポリマー化合物を四塩化珪素や水素等の蒸留、精製の前に除去しておく必要がある。特許文献１では、排ガスラインに設けたフィルターによってシリコン粉末を除去する技術が開示されている。このフィルターとしては、メタルフィルター、セラミックフィルター、ガラスフィルター、プラスチックフィルターおよびカーボンフィルターなどが挙げられている。また、濾過圧が上昇するとフィルターを洗浄することが行われている。
特開２００５−８４３０号公報 By the way, since the exhaust gas from the reactor contains silicon powder and polymer compounds such as Si 2 Cl 6 and Si 2 H 2 Cl 4 , these silicon powders and polymer compounds are converted into silicon tetrachloride, hydrogen, etc. It must be removed before distillation and purification. In patent document 1, the technique of removing silicon powder with the filter provided in the exhaust gas line is disclosed. Examples of the filter include a metal filter, a ceramic filter, a glass filter, a plastic filter, and a carbon filter. Further, when the filtration pressure increases, the filter is washed.
JP 2005-8430 A

しかしながら、排ガス中に含まれるポリマー化合物は粘性を有しているため、これがフィルターに付着してシリコン粉末を捕集し、これをフィルターに強固に固着する。したがって、フィルター交換作業を定期的に行う必要があるが、そのメンテナンスが容易であることが求められており、高いミスト分離能力とともに、簡便に分解、交換することができるミスト分離装置が望まれる。   However, since the polymer compound contained in the exhaust gas has viscosity, it adheres to the filter, collects the silicon powder, and firmly adheres to the filter. Therefore, although it is necessary to periodically perform the filter replacement work, it is required to be easily maintained, and a mist separation device that can be easily disassembled and replaced with high mist separation capability is desired.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ミストの分離能力が高く、かつメンテナンスが容易なミスト分離装置を有する多結晶シリコン製造装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a polycrystalline silicon manufacturing apparatus having a mist separating apparatus having a high mist separating ability and easy maintenance.

本発明の多結晶シリコン製造装置は、多結晶シリコンが析出される反応炉と、該反応炉に接続された配管内を流れる排ガス中のミストを分離するミスト分離装置とを有する多結晶シリコン製造装置であって、前記ミスト分離装置は、前記配管の途中に設けられるハウジングに、その管路を直交する方向に開放する開口が蓋体により開閉可能に設けられるとともに、該蓋体に、前記開口から管路内に挿入されるデミスター積層体が設けられ、該デミスター積層体は、表面に凹凸を有するワイヤメッシュ板が複数枚積層されてなり、その積層方向を前記管路と直交する方向に向けて配置されていることを特徴とする。   The polycrystalline silicon production apparatus of the present invention includes a reaction furnace in which polycrystalline silicon is deposited and a mist separation apparatus that separates mist in exhaust gas flowing in a pipe connected to the reaction furnace. In the mist separating device, an opening that opens the pipe line in a direction perpendicular to the housing is provided in a housing that is provided in the middle of the pipe so as to be openable and closable. A demister laminate to be inserted into the pipe is provided, and the demister laminate is formed by laminating a plurality of wire mesh plates having irregularities on the surface, and the laminating direction is directed to a direction perpendicular to the pipe. It is arranged.

つまり、この多結晶シリコン製造装置のミスト分離装置においては、複数枚のワイヤメッシュ板を積層してなるデミスター積層体がそのワイヤメッシュ板の面方向を管路の長さ方向と平行に配置した状態に設けられる。このため、配管内を流れるガスは、デミスター積層体の側面に衝突し、その側面から内部に侵入してワイヤメッシュ板の面方向に沿って流通することになる。ワイヤメッシュ板は表面に凹凸を有しているので、これを積層してなるデミスター積層体には、その側面及び内部に隙間が分散して配置されており、ガスは、その複雑に入り組んだデミスター積層体の側面への衝突によって多くのミスト分が分離され、ワイヤメッシュ板間の隙間を経由してデミスター積層体を横断する間にも、凹凸を有するワイヤメッシュ板に衝突しながらミスト分が捕捉されることになる。そして、そのデミスター積層体は、蓋体に取り付けられてハウジングの開口から管路内に挿入状態に設けられているから、清掃の際には、蓋体を開ける操作によって、デミスター積層体もハウジングから抜き出すことができ、また、取り付ける際も、デミスター積層体を開口からハウジング内に挿入して蓋体を固定すればよい。   In other words, in the mist separating apparatus of this polycrystalline silicon manufacturing apparatus, the demister laminate formed by laminating a plurality of wire mesh plates is arranged with the plane direction of the wire mesh plates parallel to the length direction of the pipe Provided. For this reason, the gas flowing in the pipe collides with the side surface of the demister laminate, enters the inside from the side surface, and circulates along the surface direction of the wire mesh plate. Since the wire mesh plate has irregularities on the surface, the demister laminate formed by laminating the wire mesh plate is arranged with the gaps distributed on the side and inside, and the gas is intricately complicated demister. A large amount of mist is separated by collision with the side of the laminate, and the mist is captured while colliding with the wire mesh plate with irregularities while crossing the demister laminate via the gap between the wire mesh plates. Will be. Since the demister laminate is attached to the lid and is inserted into the duct from the opening of the housing, the demister laminate is also removed from the housing by opening the lid when cleaning. The demister laminate can be inserted into the housing through the opening and fixed to the lid when attaching.

また、本発明の多結晶シリコン製造装置において、前記ハウジングの底部にミスト貯留部が設けられ、前記デミスター積層体は、ミスト貯留部の上方位置に設けられていることを特徴とする。デミスター積層体は、その側面から侵入したガスが横断する間にミストを捕捉するが、そのミストの一部が重力によってワイヤメッシュ板の隙間を通って流れ落ち、下方のミスト貯留部に溜められる。したがって、清掃等の際には、溜められたミストをハウジングの底部から取り除けばよく、ミストの一部が流れ落ちているのでデミスター積層体の洗浄も容易になる。なお、ハウジングの底部は、開閉可能な底蓋を取り付ける、あるいはドレン管を接続して弁により開閉する等の構造としておくとよい。   Moreover, in the polycrystalline silicon manufacturing apparatus of the present invention, a mist reservoir is provided at the bottom of the housing, and the demister stack is provided above the mist reservoir. The demister laminate captures the mist while the gas that has entered from the side crosses, but a part of the mist flows down through the gap of the wire mesh plate by gravity and is stored in the mist storage section below. Therefore, when cleaning or the like, the accumulated mist may be removed from the bottom of the housing, and a part of the mist flows down, so that the demister laminate can be easily cleaned. The bottom portion of the housing may be structured such that a bottom lid that can be opened and closed is attached, or a drain pipe is connected to open and close by a valve.

さらに、本発明の多結晶シリコン製造装置において、前記開口は前記ハウジングを上方に開放するように設けられるとともに、前記蓋体に前記デミスター積層体が吊り下げ状態に設けられていることを特徴とする。このミスト分離装置においては、デミスター積層体がハウジング内に吊り下げ状態に保持されることになり、上方に向けて脱着する操作となるから、その作業をより簡便にすることができる。   Furthermore, in the polycrystalline silicon manufacturing apparatus of the present invention, the opening is provided so as to open the housing upward, and the demister laminated body is provided in a suspended state on the lid. . In this mist separating apparatus, the demister stack is held in a suspended state in the housing, and the operation is performed to be detached upward, so that the operation can be simplified.

本発明の多結晶シリコン製造装置によれば、ガスをデミスター積層体の複雑に入り組んだ側面に衝突させて内部を横断するように通過させるので、その側面及び内部のワイヤメッシュ板の凹凸表面への衝突によりミストを確実に捕捉することができる。そして、メンテナンス時には、蓋体を開ける操作によって、デミスター積層体もハウジングから抜き出すことができ、また、取り付ける際も、デミスター積層体を開口からハウジング内に挿入して蓋体を固定すればよく、極めて簡便である。   According to the polycrystalline silicon manufacturing apparatus of the present invention, the gas collides with the complicated and intricate side surfaces of the demister laminate and passes through the inside so that the side surface and the uneven surface of the wire mesh plate on the inside are passed. Mist can be reliably captured by the collision. And at the time of maintenance, the demister laminate can be pulled out of the housing by opening the lid, and when attaching, the demister laminate can be inserted into the housing from the opening and the lid fixed. Convenient.

以下、本発明に係る多結晶シリコン製造装置の一実施形態を図面を参照しながら説明する。
本実施形態の多結晶シリコン製造装置において、ミスト分離装置１は、図５に示すように反応炉Ｒに接続されている排ガス配管２の途中に設けられており、このミスト分離装置１を経由した後の排ガスが精製装置及び蒸留装置（いずれも図示略）に導かれるようになっている。この場合、排ガスの配管２は二本に分岐されており、各分岐管２Ａ，２Ｂの途中にそれぞれミスト分離装置１が２台ずつ設けられ、これらミスト分離装置１を経由した後、再度１本の配管２となるように接続されている。また、各分岐管２Ａ，２Ｂの両端部には弁３が設けられている。以下の図１から図４においては、配管２については分岐管の区別なく符号２として説明する。 Hereinafter, an embodiment of a polycrystalline silicon manufacturing apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.
In the polycrystalline silicon manufacturing apparatus of the present embodiment, the mist separation device 1 is provided in the middle of the exhaust gas pipe 2 connected to the reaction furnace R as shown in FIG. The later exhaust gas is led to a purification device and a distillation device (both not shown). In this case, the exhaust gas pipe 2 is branched into two, and two mist separators 1 are provided in the middle of each of the branch pipes 2A and 2B. It is connected so that it may become the piping 2. Moreover, the valve 3 is provided in the both ends of each branch pipe 2A, 2B. In the following FIG. 1 to FIG. 4, the pipe 2 will be described as reference numeral 2 without distinguishing the branch pipe.

本実施形態のミスト分離装置１は、図１及び図２に示すように、配管２の途中に、ハウジング５が管路６の一部を構成するように一体的に設けられ、そのハウジング５内に、ミストを捕捉するデミスター積層体７が挿入状態に設けられている。この場合、配管２は水平方向に配置されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the mist separating apparatus 1 of the present embodiment is integrally provided in the middle of the pipe 2 so that the housing 5 forms a part of the pipe 6. Moreover, the demister laminated body 7 which capture | acquires mist is provided in the insertion state. In this case, the pipe 2 is arranged in the horizontal direction.

ハウジング５は、その両端部に、配管２に接続されるフランジ８を有する接続筒部９が水平方向に沿って同軸上に形成されるとともに、これら接続筒部９の間に、管路６の上方及び下方に向けて突出する一対の突出筒部１０が一体に形成され、これら突出筒部１０どうしも上下方向に沿って同軸上に配置されていることにより、これら接続筒部９及び突出筒部１０が十字状に交差し、全体として十字形の管継手（いわゆるクロス）状の形状とされている。この場合、接続筒部９及び突出筒部１０のそれぞれの内径はほぼ同一寸法に形成されており、両突出筒部１０の先端にもフランジ１１が一体に形成されている。そして、上側の突出筒部１０のフランジ１１には、該突出筒部１０の開口１０ａを開閉する蓋体１２が着脱可能に取り付けられ、下側の突出筒部１０のフランジ１１には、底蓋１３が着脱可能に取り付けられている。この底蓋１３には、これを貫通してドレン管１４が接続されており、その流路を開閉する弁１５が設けられている。   The housing 5 is formed with a connecting tube portion 9 having a flange 8 connected to the pipe 2 on both ends thereof coaxially along the horizontal direction. A pair of projecting cylinders 10 projecting upward and downward are integrally formed, and these projecting cylinders 10 are arranged coaxially along the vertical direction, so that these connection cylinders 9 and projecting cylinders are arranged. The portion 10 intersects in a cross shape, and has a cross-shaped pipe joint (so-called cross) shape as a whole. In this case, the inner diameters of the connecting cylinder portion 9 and the protruding cylinder portion 10 are formed to have substantially the same dimensions, and the flange 11 is also integrally formed at the ends of the protruding cylinder portions 10. A lid 12 that opens and closes the opening 10a of the protruding cylinder 10 is detachably attached to the flange 11 of the upper protruding cylinder 10, and a bottom lid is attached to the flange 11 of the lower protruding cylinder 10 13 is detachably attached. A drain pipe 14 is connected to the bottom lid 13 through the bottom lid 13 and a valve 15 for opening and closing the flow path is provided.

一方、デミスター積層体７は、複数枚のワイヤメッシュ板２１を積層して構成されたものである。各ワイヤメッシュ板２１は、複数本のワイヤ２２を図４に示すように編み込んで、その表面に凹凸を付けるように若干の波板状に形成されたものであり、各ワイヤメッシュ板２１ともその外形がほぼ同じ径の円形に形成されている。その円の外径は、図２に示すように、ハウジング５の突出筒部１０の開口１０ａの内径（つまり突出筒部１０の内径、言い換えれば接続筒部９の内径）よりもわずかに大きい寸法に設定されている。   On the other hand, the demister laminate 7 is configured by laminating a plurality of wire mesh plates 21. Each wire mesh plate 21 is formed in a slightly corrugated shape so that a plurality of wires 22 are knitted as shown in FIG. The outer shape is formed in a circle having substantially the same diameter. As shown in FIG. 2, the outer diameter of the circle is slightly larger than the inner diameter of the opening 10 a of the protruding cylindrical portion 10 of the housing 5 (that is, the inner diameter of the protruding cylindrical portion 10, in other words, the inner diameter of the connecting cylindrical portion 9). Is set to

そして、図３に示すように、蓋体１２の裏面（下面）に各ワイヤメッシュ板２１が複数枚積層された状態で固定されている。この場合、蓋体１２の裏面には例えば４本の支持棒２３が垂直に立設されており、各ワイヤメッシュ板２１は、これら支持棒２３に串刺しされるようにして蓋体１２に固定されている。また、支持棒２３の先端部にはワイヤメッシュ板２１とほぼ同じ円形のエンドプレート２４が取り付けられ、このエンドプレート２４と蓋体１２との間にワイヤメッシュ板２１が挟持された状態となっている。したがって、デミスター積層体７は全体として円柱状に形成される。この場合、支持棒２３の先端部はおねじ部２３ａとされており、このおねじ部２３ａがエンドプレート２４を貫通して、その背部にナット２５が取り付けられるようになっている。   As shown in FIG. 3, a plurality of wire mesh plates 21 are fixed to the back surface (lower surface) of the lid body 12 in a stacked state. In this case, for example, four support rods 23 are erected vertically on the back surface of the lid 12, and each wire mesh plate 21 is fixed to the lid 12 so as to be skewered by these support rods 23. ing. Further, a circular end plate 24 substantially the same as the wire mesh plate 21 is attached to the tip of the support bar 23, and the wire mesh plate 21 is sandwiched between the end plate 24 and the lid body 12. Yes. Therefore, the demister laminate 7 is formed in a columnar shape as a whole. In this case, the distal end portion of the support rod 23 is a male screw portion 23a, and this male screw portion 23a passes through the end plate 24, and a nut 25 is attached to the back portion thereof.

そして、蓋体１２がハウジング５の上側の突出筒部１０のフランジ１１に固定された状態では、この蓋体１２の裏面からエンドプレート２４までの間にワイヤメッシュ板２１が積層されているから、図１に示すように、そのデミスター積層体７の上端部は上側の突出筒部１０内に入り込んでいるとともに、支持棒２３の下端部、つまりエンドプレート２４付近は下側の突出筒部１０内に若干入り込んだ状態となるように寸法設定されている。また、このエンドプレート２４と底蓋１３との間の空間はミスト貯留部３１とされる。なお、蓋体１２の上面には、取っ手３２が設けられている。   And in the state where the lid 12 is fixed to the flange 11 of the protruding cylindrical portion 10 on the upper side of the housing 5, the wire mesh plate 21 is laminated between the back surface of the lid 12 and the end plate 24. As shown in FIG. 1, the upper end portion of the demister laminate 7 enters the upper protruding cylinder portion 10, and the lower end portion of the support rod 23, that is, the vicinity of the end plate 24, is located in the lower protruding cylinder portion 10. The dimensions are set so as to be in a state of being slightly intruded into. The space between the end plate 24 and the bottom lid 13 is a mist storage portion 31. A handle 32 is provided on the upper surface of the lid 12.

また、ハウジング５には、その外面との間に熱媒体流路３３を形成するジャケット構造のカバー３４が設けられており、熱媒体流路３３内に水蒸気等の熱媒体を流通させてハウジング５内を加熱することができるようになっている。   Further, the housing 5 is provided with a cover 34 having a jacket structure that forms a heat medium flow path 33 between the housing 5 and the housing 5. The inside can be heated.

このように構成したミスト分離装置１において、デミスター積層体７は、接続筒部９の内径より若干小さい径のワイヤメッシュ板２１が積層されており、その積層体の上下の両端部が突出筒部１０内に入り込んでいることから、両接続筒部９間を連絡する管路６のほぼ内側全体にワイヤメッシュ板２１が配置されることになる。また、ワイヤメッシュ板２１は突出筒部１０の開口１０ａよりわずかに大きい外径に形成されているから、突出筒部１０の内面に隙間なく押し付けられた状態となっている。したがって、配管２から流れ込む排ガスはデミスター積層体７の側面に衝突して、ワイヤメッシュ板２１相互の隙間から内部に侵入する。このデミスター積層体７の入り組んだ側面への衝突及び内部を通過する際のワイヤメッシュ板２１の凹凸表面への衝突により、ミストがワイヤメッシュ板２１に捕捉され、一部はハウジング５の内面に付着する。そして、これらワイヤメッシュ板２１により捕捉されたミスト及びハウジング５の内面に付着したミストは、下方のミスト貯留部３１に流れ落ちて溜められ、必要に応じてドレン管１４から外部に排出される。   In the mist separating apparatus 1 configured as described above, the demister laminated body 7 is formed by laminating wire mesh plates 21 having a diameter slightly smaller than the inner diameter of the connecting cylinder portion 9, and upper and lower ends of the laminated body are protruding cylindrical portions. 10, the wire mesh plate 21 is disposed substantially over the entire inside of the pipe line 6 that communicates between the connecting tube portions 9. Further, since the wire mesh plate 21 is formed to have an outer diameter slightly larger than the opening 10 a of the protruding cylinder portion 10, the wire mesh plate 21 is pressed against the inner surface of the protruding cylinder portion 10 without a gap. Therefore, the exhaust gas flowing from the pipe 2 collides with the side surface of the demister laminate 7 and enters the inside through the gap between the wire mesh plates 21. The mist is captured by the wire mesh plate 21 due to the collision with the complicated side surface of the demister laminate 7 and the bumpy surface of the wire mesh plate 21 when passing through the inside, and a part of the mist adheres to the inner surface of the housing 5. To do. Then, the mist captured by the wire mesh plate 21 and the mist adhering to the inner surface of the housing 5 flow down and are stored in the lower mist reservoir 31 and are discharged from the drain pipe 14 to the outside as necessary.

次に、このミスト分離装置１のメンテナンスについて説明すると、図５に示すように、通常は二系列ある配管２の分岐管２Ａ，２Ｂにおける一方の分岐管（例えば分岐管２Ａ）の弁３のみを開放状態として反応炉Ｒに接続状態とし、他方の分岐管（２Ｂ）の弁３は閉じて、そのミスト分離装置１は休止させておく。そして、接続状態の分岐管（２Ａ）におけるミスト分離装置１を清掃等する場合には、弁３の開閉を切り替えて、排ガスの流れを休止していたミスト分離装置１に導いた状態とした後、清掃対象のミスト分離装置１の熱媒体流路３３内に熱媒体として水蒸気を供給してハウジング５を加熱するとともに、内部に四塩化珪素を注入する。デミスター積層体５に付着しているポリマー化合物は空気に触れると発火する恐れがあるので、四塩化珪素によって不活性化するのである。その後、蓋体１２を開けて引き上げると、蓋体１２とともにデミスター積層体７もハウジング５から引き抜かれる。その蓋体１２と一体に取り出した状態は図３に示すようになる。   Next, the maintenance of the mist separation apparatus 1 will be described. As shown in FIG. 5, only the valve 3 of one branch pipe (for example, the branch pipe 2A) of the branch pipes 2A and 2B of the pipe 2 that is usually two series is provided. The open state is set to be connected to the reaction furnace R, the valve 3 of the other branch pipe (2B) is closed, and the mist separation device 1 is stopped. And when cleaning the mist separation device 1 in the branch pipe (2A) in the connected state, after switching the opening and closing of the valve 3, the exhaust gas flow is brought into a state of being stopped to the mist separation device 1. Water vapor is supplied as a heat medium into the heat medium flow path 33 of the mist separation device 1 to be cleaned to heat the housing 5 and silicon tetrachloride is injected therein. Since the polymer compound adhering to the demister laminate 5 may be ignited when it is exposed to air, it is inactivated by silicon tetrachloride. Thereafter, when the lid 12 is opened and pulled up, the demister laminated body 7 is also pulled out from the housing 5 together with the lid 12. FIG. 3 shows a state in which the lid body 12 is taken out integrally.

そして、支持棒２３の先端のナット２５を外すと、デミスター積層体７も一枚ずつのワイヤメッシュ板２１に分離することができる。一方、ハウジング５の底部のミスト貯留部３１に溜まったミストはドレン管１４から排出され、また、ハウジング５の底蓋１３も外して、ハウジング５内を清掃することが行われる。   When the nut 25 at the tip of the support bar 23 is removed, the demister laminate 7 can also be separated into the wire mesh plates 21 one by one. On the other hand, the mist accumulated in the mist reservoir 31 at the bottom of the housing 5 is discharged from the drain pipe 14, and the bottom lid 13 of the housing 5 is also removed to clean the inside of the housing 5.

このミスト分離装置１を組み立てるときは、逆順の作業によって行われ、その場合に、デミスター積層体７は蓋体１２に一体に固定され、その外径が突出筒部１０の開口１０ａより若干小さい円柱状に形成されているから、突出筒部１０の開口１０ａから挿入するようにして内部に配置させることができ、蓋体１２を突出筒部１０のフランジ１１に固定すれば、デミスター積層体７をハウジング５内に挿入状態に固定することができる。   When assembling the mist separating apparatus 1, the operation is performed in the reverse order. In this case, the demister laminated body 7 is integrally fixed to the lid body 12, and the outer diameter thereof is a circle slightly smaller than the opening 10 a of the protruding cylinder portion 10. Since it is formed in a columnar shape, it can be arranged inside by being inserted from the opening 10a of the protruding cylinder part 10, and if the lid 12 is fixed to the flange 11 of the protruding cylinder part 10, the demister laminate 7 is It can be fixed in an inserted state in the housing 5.

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上記実施形態では、ワイヤメッシュ板を串刺しするように支持棒を設けたが、複数本の支持棒により囲まれる空間内にワイヤメッシュ板を内接させるように配置してもよい。   In addition, this invention is not limited to the said embodiment, A various change can be added in the range which does not deviate from the meaning of this invention. For example, in the above-described embodiment, the support rod is provided so as to skew the wire mesh plate, but the wire mesh plate may be disposed in the space surrounded by the plurality of support rods.

本発明に係る多結晶シリコン製造装置に設けられるミスト分離装置の一実施形態を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows one Embodiment of the mist separation apparatus provided in the polycrystalline silicon manufacturing apparatus which concerns on this invention. 図１のワイヤメッシュ板を一部破断したＡ−Ａ線に沿う矢視図である。It is an arrow line view which follows the AA line which partially fractured | ruptured the wire mesh board of FIG. 一実施形態のミスト分離装置から蓋体とともに抜き出したデミスター積層体を示す正面図である。It is a front view which shows the demister laminated body extracted with the cover body from the mist separation apparatus of one Embodiment. 一実施形態のミスト分離装置に使用されているワイヤメッシュ板を示す正面図である。It is a front view which shows the wire mesh board currently used for the mist separation apparatus of one Embodiment. 一実施形態のミスト分離装置を備えた多結晶シリコン製造装置の排ガス配管を示す平面図である。It is a top view which shows the exhaust gas piping of the polycrystalline silicon manufacturing apparatus provided with the mist separation apparatus of one Embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

１ ミスト分離装置
２ 配管
５ ハウジング
６ 管路
７ デミスター積層体
９ 接続筒部
１０ 突出筒部
１１ フランジ
１２ 蓋体
１３ 底蓋
１４ ドレン管
２１ ワイヤメッシュ板
２３ 支持棒
２４ エンドプレート
３１ ミスト貯留部
３２ 取っ手
３３ 熱媒体流路
３４ カバー
Ｒ 反応炉 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Mist separator 2 Piping 5 Housing 6 Pipe line 7 Demister laminated body 9 Connection cylinder part 10 Projection cylinder part 11 Flange 12 Lid body 13 Bottom cover 14 Drain pipe 21 Wire mesh board 23 Support bar 24 End plate 31 Mist storage part 32 Handle 33 Heat medium flow path 34 Cover R Reactor

Claims (3)

多結晶シリコンが析出される反応炉と、該反応炉に接続された配管内を流れる排ガス中のミストを分離するミスト分離装置とを有する多結晶シリコン製造装置であって、
前記ミスト分離装置は、前記配管の途中に設けられるハウジングに、その管路を直交する方向に開放する開口が蓋体により開閉可能に設けられるとともに、該蓋体に、前記開口から管路内に挿入されるデミスター積層体が設けられ、該デミスター積層体は、表面に凹凸を有するワイヤメッシュ板が複数枚積層されてなり、その積層方向を前記管路と直交する方向に向けて配置されていることを特徴とする多結晶シリコン製造装置。 A polycrystalline silicon production apparatus comprising: a reaction furnace in which polycrystalline silicon is deposited; and a mist separation device that separates mist in exhaust gas flowing through a pipe connected to the reaction furnace,
The mist separating device is provided in a housing provided in the middle of the pipe with an opening that opens and closes the pipe line in a direction orthogonal to the lid body, and the lid body can be opened and closed from the opening to the pipe line. A demister laminated body to be inserted is provided, and the demister laminated body is formed by laminating a plurality of wire mesh plates having irregularities on the surface, and the laminated direction is arranged in a direction perpendicular to the pipe line. A polycrystalline silicon manufacturing apparatus characterized by that. 前記ハウジングの底部にミスト貯留部が設けられ、前記デミスター積層体は、ミスト貯留部の上方位置に設けられていることを特徴とする請求項１記載の多結晶シリコン製造装置。   The polycrystalline silicon manufacturing apparatus according to claim 1, wherein a mist storage portion is provided at a bottom portion of the housing, and the demister stack is provided at an upper position of the mist storage portion. 前記開口は前記ハウジングを上方に開放するように設けられるとともに、前記蓋体に前記デミスター積層体が吊り下げ状態に設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載の多結晶シリコン製造装置。   3. The polycrystalline silicon manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the opening is provided so as to open the housing upward, and the demister laminated body is provided in a suspended state on the lid. .
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