JP2009277510A - 有機発光素子の製造方法及び成膜装置 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 51
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 33
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 19
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 25
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- -1 phenanthroline compound Chemical class 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 230000005405 multipole Effects 0.000 description 1
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
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- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【課題】有機発光素子の発光層を成膜する工程において、基板とマスクを密着させるためのマグネットの磁力による影響が発光層に及ぶのを防ぐ。
【解決手段】基板20に対して、複数のパターニング開口領域31とフレーム領域32から構成されたマスク30をマグネット10を用いて密着させて、有機発光素子の発光層を蒸着する。マグネット10は、基板20の裏面側において、マスク30のフレーム領域32のみを吸着する。マスク30のパターニング開口領域31にはマスク10の磁力が作用しないため、磁力によって発光層に発光ムラが発生するのを防ぐことができる。
【選択図】図1
【解決手段】基板20に対して、複数のパターニング開口領域31とフレーム領域32から構成されたマスク30をマグネット10を用いて密着させて、有機発光素子の発光層を蒸着する。マグネット10は、基板20の裏面側において、マスク30のフレーム領域32のみを吸着する。マスク30のパターニング開口領域31にはマスク10の磁力が作用しないため、磁力によって発光層に発光ムラが発生するのを防ぐことができる。
【選択図】図1
Description
本発明は、基板に対してマグネットを用いてマスクを密着させて、有機発光素子の発光機能層を蒸着する有機発光素子の製造方法及び成膜装置に関するものである。
有機発光素子の製造方法においては、マスク(蒸着マスク)を用いて、基板の所望の領域にのみ、選択的に蒸着することでパターンを形成する方法が知られている。特許文献1には、このような蒸着工程において、マスクと基板の密着性が悪いと、マスクと基板の隙間に蒸着粒子が入り込み、蒸着領域がマスク領域まで広がってしまう場合があることが開示されている。この対策としてマグネットの磁力を利用してマスクを基板に密着させる方法が提案されている。
特許文献1の構成では、マスクのパターニング開口領域を含む全面に対してマグネットの磁力が作用する。しかし本発明者らは、マスクのパターニング開口領域に対してマグネットの磁力が作用すると、マグネットの磁力線に起因する発光ムラが生じることを見出した。
従って、マグネットの磁力による影響が有機発光素子に及ばないようにしながら基板とマスクの密着を確保することが課題となる。しかしマグネットを用いなければ、マスクの基板に対する密着や固定が弱くなったり不均一になったりする。そのために、基板とマスクの間に隙間が生じたり、基板とマスクを密着させた状態で移動または動作させる場合などにマスクの位置ずれが発生することが懸念される。
本発明は、基板とマスクを密着させるためのマグネットの磁力による影響が有機発光素子の発光層に及ぶのを防ぎ、しかも基板とマスクの密着を確保し、マスクの位置ずれを回避できる有機発光素子の製造方法及び成膜装置を提供することを目的とするものである。
本発明の有機発光素子の製造方法は、複数のパターニング開口領域とフレーム領域から構成されたマスクをマグネットによって基板に密着させて、有機発光素子の発光機能層を蒸着する工程を有し、前記マグネットは、前記基板の裏面側において前記マスクの前記フレーム領域に沿って配置され、前記フレーム領域を磁力によって吸着し、前記パターニング開口領域を吸着しないことを特徴とする。
本発明の成膜装置は、複数のパターニング開口領域とフレーム領域から構成されたマスクをマグネットによって基板に密着させて、薄膜を蒸着する成膜装置において、前記マグネットは、前記基板の裏面側において前記マスクの前記フレーム領域に沿って配置され、前記フレーム領域を磁力によって吸着し、前記パターニング開口領域を吸着しないことを特徴とする。
マスクのパターニング開口領域を避けてマグネットを配置することにより、マスクのパターニング開口領域に磁力が作用するのを防ぎ、磁力の影響を受けて有機発光素子に発光ムラが発生することを防止する。
本発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。
図1は、一実施形態による成膜装置の主要部を示す模式図である。マグネット10は、基板20とマスク30を密着させるため、基板20のパターニング領域21を除く非パターニング領域(フレーム部)22のみに重なるように配置され、パターニング領域21に蒸着される発光層等の薄膜が磁力の影響を受けないようにしてある。図示しない蒸着源から発生した有機化合物の蒸気は、マスク30のパターニング開口領域31を経て基板20のパターニング領域21へ到達し、発光層等の薄膜が蒸着される。基板20の裏面側に配置されるマグネット10は、マスク30のフレーム領域32に沿って配置され、フレーム領域32のみを磁力によって吸着する。マグネット10は、基板20に接していてもよいし、離れていてもよい。
なお、多色有機発光素子を製造する場合に各色用のマスクを使い分けることもできる。
次に、有機発光素子の製造方法について説明する。
基体はガラスが好適に用いられる。プラスチック素材も使用可能である。上面光取出し(トップエミッション)素子の場合には不透明な材質も使用できる。
下部電極は、トップエミッション素子の場合は反射電極としても機能させるために金属電極あるいは透明導電性化合物(ITOなど)と金属を組み合せた電極が好ましい。また、下面光取出し(ボトムエミッション)素子の場合には透明導電性化合物(ITOなど)が好適に用いられる。
発光機能層は、それぞれ有機化合物から成る正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などを積層した構造が好適に用いられる。また、成膜方法としては真空蒸着法、スピンコート法、インクジェット法などが好適に用いられるが、本発明の製造方法では真空蒸着法を用いる。
上部電極は、トップエミッション素子の場合は透明導電性化合物(ITOなど)が好適に用いられ、成膜方法としてはスパッタ法やイオンプレーティング法が好適に用いられる。また、上部透明電極の一部として透明導電性化合物の上部または下部に半透明金属膜を形成し、光学干渉条件を調節することもできる。ボトムエミッション素子の場合は反射電極として機能させるために金属電極あるいは透明導電性化合物(ITOなど)と金属を組み合せた電極が好ましい。
本発明は、パターニング成膜工程で用いられ、上記一連の工程のうち、発光機能層に適用される。特に発光機能層をパターニング成膜して多色発光素子を製造する場合に効果的である。
マスク吸着用のマグネットとしては、片面多極着磁のマグネットシートが好適に用いられる。NS極のピッチは数百mmから数mm程度のものが好適に用いられる。
マグネットの形状は基板のパターニング領域を避けていればよく、マスクのフレーム領域に沿って、格子状に配置しても、縦または横方向に並列に配置してもよい。また、NS極の配置はマグネットの長手方向に対して垂直でもよく、マグネットの長手方向に沿ってNS極が配置されていてもよい。また、磁界の影響をより確実に防止するために、マグネットは基板のパターニング領域の外側から離れて配置される方がより好ましい。
図2に示す積層構造を有する有機発光素子50を以下の手順により作製した。
ガラス基板51の複数のパターニング領域に、TFT回路及び平坦化膜、クロム(Cr)の下部電極(クロム陽極)52、分離膜が形成されたものを本実施例の有機発光素子の基体として用いた。
この基体上に、発光機能層として正孔輸送層53、発光層54、電子輸送層55、電子注入層56までを成膜した。まず、前記基体にUV/オゾン洗浄処理を施した。続いて真空蒸着装置(アルバック株式会社製)に洗浄処理済みの基板と材料を取り付け1×10−3Paまで排気した後、下部電極52上にN,N‘−α−ジナフチルベンジジン(α−NPD)を50nmの膜厚となるように成膜して正孔輸送層53を形成した。
次に、発光層54を形成する前に、図1に示したように、基板のパターニング領域とマスクのパターニング開口領域の位置を合わせ、マグネットで基板の非パターニング領域とマスクのフレーム領域を密着させた。この時、幅約10mm、厚さ約5mmのマグネットを基板の長手方向の各フレーム部に沿って並列に配置されるように支持体に固定して使用した。また、基板の各フレーム部の幅約20mmに対してそれぞれマグネットを中央に配置した。マグネットのNS極ピッチは7.5mmで、マグネットの長手方向に対して垂直にNS極が配置されたものを使用した。
下記化学式1:
で表されるトリス[8−ヒドロキシキノリナト]アルミニウム(アルミキノリノール)と下記化学式2:
で表されるクマリン6(1.0wt%)の共蒸着膜を30nmの膜厚となるように成膜(蒸着)して発光層54を形成した。
ここで基板とマスクを密着させるためのマグネットを基板上から外し、基板をマスクから外した。
次に、発光層54の上に下記化学式3:
で表されるフェナントロリン化合物を10nmの膜厚となるように成膜して電子輸送層55を得た。そして、化学式3のフェナントロリン化合物と炭酸セシウム(Cs2CO3)を膜厚比92.5:7.5の割合で混合されるようそれぞれの蒸着速度を調節して40nmの厚さに成膜し、電子注入層56を得た。
電子注入層56まで成膜した基板を別のチャンバーへ移動させ、電子注入層56上に上部電極(ITO陰極)57としてITOをスパッタ法で146nm成膜した。
最後にパターニング領域をガラス製のキャップで封止し、基板を1パネルサイズに切断し、駆動用の配線を実装して有機発光素子の作製を終了した。
以上のように作製した有機発光素子を駆動させて発光状態を観察した。室温及び80℃で100時間駆動し続けた後でも均一な発光が得られ、マグネットの磁場による発光ムラを防止できていることが確認された。
図3は本実施例で作製した有機発光素子を80℃で100時間駆動させた後の発光状態を撮影した写真である。
発光層54の成膜時に、図4に示すように、基板20の裏面側で、パターニング領域21と非パターニング領域22を含む基板全体に当接されるマグネット40を用いて基板20とマスク30を密着させる。それ以外は、上記実施例の手順と同様に有機発光素子を作製した。マグネット40はNS極のピッチが7.5mmのものを使用した。
作製した有機発光素子を駆動させて発光状態を観察した。80℃で100時間駆動し続けた後では、マグネット40の磁場の影響と見られる7.5mmピッチの発光ムラが発生した。図5は比較例で作製した有機発光素子を80℃で100時間駆動させた後の発光状態を撮影した写真である。
本発明は、マスクを磁力によって基板に密着させて成膜を行うものであればいかなる成膜装置にも適用可能である。また、発光層をパターニング成膜して多色発光素子を製造する場合や、画素ごとに膜厚を調節するためにパターニングを行う場合に好適に用いることができる。
10 マグネット
20 基板
21 パターニング領域
22 非パターニング領域
30 マスク
31 パターニング開口領域
32 フレーム領域
51 基板
52 下部電極(クロム陽極)
53 正孔輸送層
54 発光層
55 電子輸送層
56 電子注入層
57 上部電極(ITO陰極)
20 基板
21 パターニング領域
22 非パターニング領域
30 マスク
31 パターニング開口領域
32 フレーム領域
51 基板
52 下部電極(クロム陽極)
53 正孔輸送層
54 発光層
55 電子輸送層
56 電子注入層
57 上部電極(ITO陰極)
Claims (2)
- 複数のパターニング開口領域とフレーム領域から構成されたマスクをマグネットによって基板に密着させて、有機発光素子の発光機能層を蒸着する工程を有し、
前記マグネットは、前記基板の裏面側において前記マスクの前記フレーム領域に沿って配置され、前記フレーム領域を磁力によって吸着し、前記パターニング開口領域を吸着しないことを特徴とする有機発光素子の製造方法。 - 複数のパターニング開口領域とフレーム領域から構成されたマスクをマグネットによって基板に密着させて、薄膜を蒸着する成膜装置において、
前記マグネットは、前記基板の裏面側において前記マスクの前記フレーム領域に沿って配置され、前記フレーム領域を磁力によって吸着し、前記パターニング開口領域を吸着しないことを特徴とする成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008127831A JP2009277510A (ja) | 2008-05-15 | 2008-05-15 | 有機発光素子の製造方法及び成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP2008127831A JP2009277510A (ja) | 2008-05-15 | 2008-05-15 | 有機発光素子の製造方法及び成膜装置 |
Publications (1)
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Family
ID=41442750
Family Applications (1)
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---|---|---|---|
JP2008127831A Pending JP2009277510A (ja) | 2008-05-15 | 2008-05-15 | 有機発光素子の製造方法及び成膜装置 |
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JP (1) | JP2009277510A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012053402A1 (ja) * | 2010-10-19 | 2012-04-26 | シャープ株式会社 | 蒸着装置、蒸着方法、並びに、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 |
JP2014045137A (ja) * | 2012-08-28 | 2014-03-13 | Toyota Motor Corp | 半導体製造装置、半導体装置の製造方法 |
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2008
- 2008-05-15 JP JP2008127831A patent/JP2009277510A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2014045137A (ja) * | 2012-08-28 | 2014-03-13 | Toyota Motor Corp | 半導体製造装置、半導体装置の製造方法 |
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