JP2009277335A - スタンパの製造方法およびスタンパを用いた光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スタンパの製造方法は、基板21にヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層22を形成するフォトレジスト形成工程と、フォトレジスト層22にレーザ光を照射することで穴部23を形成するレーザ光照射工程と、穴部23が形成されたフォトレジスト層22上に導電層を形成して電気メッキするメッキ工程と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】図2
Description
最初に、スタンパの製造方法について説明する。まず、図2(a)に示すように、従来公知の方法で円盤状に製造された基板21を用意する。ここで、基板21の材料としては、ガラスやシリコンなどの無機系の材料を採用できる。そして、図2(b)に示すように、基板21上にヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層22を形成する(フォトレジスト形成工程)。
従って、フォトレジスト層22に含有されるフォトレジスト材料としては、色素等の有機化合物が挙げられる。なお、フォトレジスト材料としては、有機材料に限られず、無機材料または無機材料と有機材料の複合材料を使用できる。ただし、有機材料であると、成膜をスピンコートやスプレー塗布により容易にでき、転移温度が低い材料を得易いため、有機材料を採用するのが好ましい。また、有機材料の中でも、光吸収量が分子設計で制御可能な色素を採用するのが好ましい。
例えば、レーザ光源の発振波長が780nm付近であった場合、ペンタメチンシアニン色素、ヘプタメチンオキソノール色素、ペンタメチンオキソノール色素、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素などから選択することが有利である。この中でも、フタロシアニン色素またはペンタメチンシアニン色素を用いるのが好ましい。
また、レーザ光源の発振波長が660nm付近であった場合は、トリメチンシアニン色素、ペンタメチンオキソノール色素、アゾ色素、アゾ金属錯体色素、ピロメテン錯体色素などから選択することが有利である。
さらに、レーザ光源の発振波長が405nm付近であった場合は、モノメチンシアニン色素、モノメチンオキソノール色素、ゼロメチンメロシアニン色素、フタロシアニン色素、アゾ色素、アゾ金属錯体色素、ポルフィリン色素、アリリデン色素、錯体色素、クマリン色素、アゾール誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、1−アミノブタジエン誘導体、キノフタロン系色素などから選択することが有利である。
なお、上記の上限値及び下限値は、それぞれが任意で組み合わせることができる。
ここで、フォトレジスト層22は、単層でも重層でもよく、重層構造の場合、塗布工程を複数回行うことによって形成される。
塗布液中の色素の濃度は、一般に0.01〜30質量%の範囲であり、好ましくは0.1〜20質量%の範囲、より好ましくは0.5〜15質量%の範囲、最も好ましくは0.5〜10質量%の範囲である。
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、或いは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、更に、酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
フォトレジスト層22は、スピンコート法による形成に有利であるという点から、有機溶媒に対して色素を0.01〜30質量%で溶解することが好ましく、0.1〜20質量%で溶解することがより好ましく、0.5〜15質量%で溶解することがさらに好ましく、0.5〜10質量%で溶解することが最も好ましい。また、フォトレジスト材料は、熱分解温度が150℃以上500℃以下であることが好ましく、200℃以上400℃以下であることがより好ましい。
塗布の際、塗布液の温度は、23〜50℃の範囲であることが好ましく、24〜40℃の範囲であることがより好ましく、中でも、25〜30℃の範囲であることが特に好ましい。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭58−175693号公報、同59−81194号公報、同60−18387号公報、同60−19586号公報、同60−19587号公報、同60−35054号公報、同60−36190号公報、同60−36191号公報、同60−44554号公報、同60−44555号公報、同60−44389号公報、同60−44390号公報、同60−54892号公報、同60−47069号公報、同63−209995号公報、特開平4−25492号公報、特公平1−38680号公報、及び同6−26028号公報等の各公報、ドイツ特許350399号明細書、そして日本化学会誌1992年10月号第1141頁等に記載のものを挙げることができる。前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常0.1〜50質量%の範囲であり、好ましくは、0.5〜45質量%の範囲、更に好ましくは、3〜40質量%の範囲、特に好ましくは5〜25質量%の範囲である。
この色素の吸収ピークの波長は、必ずしも可視光の波長域内であるものに限定されず、紫外域や、赤外域にあるものであっても構わない。
光学系30の開口数NAは、0.95未満、0.9以下、0.86以下とすることができる。
また、光ディスクドライブと同様のフォーカシング技術、例えば、非点収差法などを用いることにより、基板21にうねりや反りがあったとしても、基板21の表面21aに容易に集光することが可能である。
次に、図6(c)に示すように、保護膜PMを酸素プラズマの照射によるアッシングなどで剥離することで、スタンパ50が完成する。
電気的な信号検査装置は、従来公知のものを使用することができ、検査内容として、溝の反射率およびその変動、Push−Pull信号(ウォブル形状)の確認や、シグナルディテクタによるアドレスエラー率の測定、ゴミ検査機による異物の検査などを行うとよい。
次に、光ディスク1の製造方法について説明する。図7(a)に示すように、前述した製造方法により製造されたスタンパ50を用いて射出成形することで、複数の微細なピット16を有するディスク基板11が形成される。ここで、スタンパ50のピット形成部51が高精度に形成されていることにより、ディスク基板11の微細なピット16も高精度に形成される。その後は、図7(b)に示すように、ディスク基板11のピット16側の面に保護層12を形成した後、従来公知の打抜き加工等を行うことで、図1に示すような高精度のピット16を有する光ディスク1が製造される。
ヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層22を用いることで、レーザ光をフォトレジスト層22に照射するだけで穴部23を形成することができるので、従来のような現像工程が不要となり、製造工程を簡易化することができる。
前記実施形態では、ROM型の光ディスク1用のスタンパ50の製造に本発明を適用したが、本発明はこれに限定されず、追記型の光記録ディスク用のスタンパの製造に本発明を適用してもよい。なお、この場合は、追記型の光記録ディスクのプリグルーブ(記録層を形成するための溝)の大きさ・形状に対応した穴部をフォトレジスト層に形成すればよい。
実施例としては、上述した実施形態と同様のスタンパ原版を作成した。詳細は以下の通りである。
材質 シリコン
外径 152.4mm(6インチ)
・色素層(フォトレジスト層)
下記化学式の色素材料1.5gをTFP(テトラフルオロプロパノール)溶剤100ml(100cc)に溶解し、1000rpmでスピンコートした。
ZnPc(α−SO2Bu−sec)4
11 ディスク基板
12 保護層
16 ピット
20 スタンパ原版
21 基板
22 フォトレジスト層
23 穴部
40 金属板
41 金属薄膜
42 電気メッキ層
50 スタンパ
51 ピット形成部
Claims (3)
- 基板にヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層を形成するフォトレジスト形成工程と、
前記フォトレジスト層にレーザ光を照射することで穴部を形成するレーザ光照射工程と、
前記穴部が形成されたフォトレジスト層上に導電層を形成して電気メッキするメッキ工程と、を備えたことを特徴とするスタンパの製造方法。 - 前記レーザ光照射工程において、
前記フォトレジスト層から反射してくるレーザ光に基づいて、レーザ光を前記フォトレジスト層に対する所定位置に集束させるフォーカスサーボ制御を実行することを特徴とする請求項1に記載のスタンパの製造方法。 - 請求項1または請求項2に記載の製造方法により製造されたスタンパを用いて射出成形することで光情報記録媒体を製造することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012042817A1 (ja) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | 富士フイルム株式会社 | パタン形成方法、基板製造方法、及びモールド製造方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2439050B1 (en) * | 2009-06-05 | 2016-11-02 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Transfer mold and method for producing transfer mold |
US20130256286A1 (en) * | 2009-12-07 | 2013-10-03 | Ipg Microsystems Llc | Laser processing using an astigmatic elongated beam spot and using ultrashort pulses and/or longer wavelengths |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59171050A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-27 | Hitachi Ltd | 光デイスク用盤の製造方法 |
JPH11345434A (ja) * | 1998-04-03 | 1999-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤作製方法とその装置 |
JP2004013973A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Tdk Corp | フォトレジスト原盤の製造方法、光記録媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ、フォトレジスト原盤、スタンパ中間体及び光記録媒体 |
JP2007122775A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Sony Corp | 記録媒体基板作製用原盤の製造方法、記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および記録媒体基板の製造方法 |
Family Cites Families (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE350399C (de) | 1919-09-19 | 1922-03-20 | Qu Bernd Ziemert | Projektionsschirm |
JPS58175693A (ja) | 1982-04-08 | 1983-10-14 | Ricoh Co Ltd | 高密度光情報記録媒体 |
JPS5955795A (ja) | 1982-09-27 | 1984-03-30 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS5981194A (ja) | 1982-11-01 | 1984-05-10 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
KR870002142B1 (ko) * | 1982-09-20 | 1987-12-12 | 디스커비소젼 어시에이츠 | 광학 기록 매체 및 그의 제조방법 |
JPS6018387A (ja) | 1983-07-11 | 1985-01-30 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS6019586A (ja) | 1983-07-13 | 1985-01-31 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS6019587A (ja) | 1983-07-13 | 1985-01-31 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS6035054A (ja) | 1983-08-05 | 1985-02-22 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS6036191A (ja) | 1983-08-09 | 1985-02-25 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS6036190A (ja) | 1983-08-09 | 1985-02-25 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS6044554A (ja) | 1983-08-20 | 1985-03-09 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS6044555A (ja) | 1983-08-20 | 1985-03-09 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS6044390A (ja) | 1983-08-23 | 1985-03-09 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS6044389A (ja) | 1983-08-23 | 1985-03-09 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS6047069A (ja) | 1983-08-24 | 1985-03-14 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPS6054892A (ja) | 1983-09-05 | 1985-03-29 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
JPH0626028B2 (ja) | 1984-02-06 | 1994-04-06 | 株式会社リコー | 光情報記録媒体 |
JPS63209995A (ja) | 1987-02-27 | 1988-08-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光学的情報記録媒体 |
JP3009909B2 (ja) | 1990-05-21 | 2000-02-14 | ティーディーケイ株式会社 | 光記録媒体 |
JPH0474690A (ja) | 1990-07-17 | 1992-03-10 | Ricoh Co Ltd | 光情報記録媒体 |
US5279775A (en) * | 1992-06-10 | 1994-01-18 | Iomega Corporation | Acousto-optical intensity control of laser beam during etching of optical servo information of magnetic media |
JP3451752B2 (ja) | 1994-10-31 | 2003-09-29 | ソニー株式会社 | 光記録媒体 |
US5838653A (en) * | 1995-10-04 | 1998-11-17 | Reveo, Inc. | Multiple layer optical recording media and method and system for recording and reproducing information using the same |
JP3096239B2 (ja) | 1996-04-01 | 2000-10-10 | 太陽誘電株式会社 | 光ディスクのランニングopc方法及び光ディスク記録再生装置 |
JPH10149585A (ja) | 1996-11-19 | 1998-06-02 | Sony Corp | 光ディスク及び光ディスク原盤の製造方法 |
JPH1153758A (ja) | 1997-07-30 | 1999-02-26 | Mitsubishi Chem Corp | 記録再生方法 |
TW525159B (en) * | 1998-05-14 | 2003-03-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Formation method for metallic stamper and metallic stamper and, manufacture method for optical disk substrate with the use of the stamper and optical disk fabricated by the manufacture method |
JP3633279B2 (ja) | 1998-05-27 | 2005-03-30 | 三菱化学株式会社 | 光学記録媒体 |
JPH11334206A (ja) | 1998-05-27 | 1999-12-07 | Mitsubishi Chemical Corp | 光学記録媒体 |
JPH11334204A (ja) | 1998-05-27 | 1999-12-07 | Mitsubishi Chemical Corp | 光学記録媒体 |
JP3438587B2 (ja) | 1998-05-27 | 2003-08-18 | 三菱化学株式会社 | 光学記録媒体 |
JP3646563B2 (ja) | 1998-05-27 | 2005-05-11 | 三菱化学株式会社 | 光学記録媒体 |
JP2000108513A (ja) | 1998-10-05 | 2000-04-18 | Mitsui Chemicals Inc | 光記録媒体 |
JP2000158818A (ja) | 1998-12-01 | 2000-06-13 | Mitsui Chemicals Inc | 光記録媒体 |
TW476958B (en) * | 1999-02-09 | 2002-02-21 | Ricoh Kk | Optical disk and method of producing the same |
JP4050859B2 (ja) * | 2000-05-12 | 2008-02-20 | パイオニア株式会社 | スタンパの製造方法及び光ディスクの製造方法 |
JP3656591B2 (ja) * | 2001-06-28 | 2005-06-08 | ソニー株式会社 | 光学記録媒体製造用スタンパの製造方法および光学記録媒体の製造方法 |
JP3956756B2 (ja) | 2001-10-31 | 2007-08-08 | ヤマハ株式会社 | 光ディスク記録装置 |
JP2005522810A (ja) * | 2002-04-10 | 2005-07-28 | ベリフィケーション テクノロジーズ インコーポレーション | 光ディスクの内容の複製抑止法 |
JP4239975B2 (ja) | 2002-11-20 | 2009-03-18 | ソニー株式会社 | 光ディスク製造用原盤の作製方法及び光ディスクの製造方法 |
TW200511296A (en) * | 2003-09-01 | 2005-03-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for manufacturing stamper, stamper and optical recording medium |
US7362692B2 (en) * | 2003-11-19 | 2008-04-22 | Warner Bros. Home Entertainment Inc. | Method and system of mass producing double-sided optical discs |
JP2008216303A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-18 | Fujifilm Corp | 定着装置および定着方法ならびに光情報記録装置 |
-
2009
- 2009-02-16 JP JP2009032580A patent/JP2009277335A/ja active Pending
- 2009-04-06 EP EP09005052.7A patent/EP2110814B1/en not_active Not-in-force
- 2009-04-14 US US12/423,308 patent/US20090261501A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59171050A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-27 | Hitachi Ltd | 光デイスク用盤の製造方法 |
JPH11345434A (ja) * | 1998-04-03 | 1999-12-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスク原盤作製方法とその装置 |
JP2004013973A (ja) * | 2002-06-05 | 2004-01-15 | Tdk Corp | フォトレジスト原盤の製造方法、光記録媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ、フォトレジスト原盤、スタンパ中間体及び光記録媒体 |
JP2007122775A (ja) * | 2005-10-25 | 2007-05-17 | Sony Corp | 記録媒体基板作製用原盤の製造方法、記録媒体基板作製用スタンパの製造方法および記録媒体基板の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012042817A1 (ja) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | 富士フイルム株式会社 | パタン形成方法、基板製造方法、及びモールド製造方法 |
JP2012068563A (ja) * | 2010-09-27 | 2012-04-05 | Fujifilm Corp | パタン形成方法、基板製造方法、及びモールド製造方法 |
KR101294642B1 (ko) | 2010-09-27 | 2013-08-09 | 후지필름 가부시키가이샤 | 패턴 형성방법, 기판 제조방법, 및 몰드 제조방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2110814B1 (en) | 2013-11-20 |
US20090261501A1 (en) | 2009-10-22 |
EP2110814A1 (en) | 2009-10-21 |
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