JP2009256213A - ジベンゾイルメタン誘導体の光分解抑制用安定化剤とその用途並びにジベンゾイルメタン誘導体含有組成物の安定化方法 - Google Patents

Abstract

【課題】化粧料等に紫外線吸収剤として配合されるジベンゾイルメタン誘導体の光分解を効率的に抑制できる新規な安定化剤とその用途並びにジベンゾイルメタン誘導体含有組成物の安定化方法を提供する。
【解決手段】本発明のジベンゾイルメタン誘導体の光分解抑制用安定化剤は、フラーレン類を有効成分として含有することを特徴とする。この光分解抑制用安定化剤を化粧料や皮膚外用剤等のジベンゾイルメタン誘導体含有組成物に配合することにより、当該組成物を光に対して安定化する。
【選択図】なし

Description

本発明は、ジベンゾイルメタン誘導体の光分解抑制用安定化剤とその用途並びにジベンゾイルメタン誘導体含有組成物の安定化方法に関するものである。

太陽光線に含まれる紫外線は、４００ｎｍ〜３２０ｎｍの長波長紫外線（ＵＶ−Ａ）、３２０ｎｍ〜２８０ｎｍの中波長紫外線（ＵＶ−Ｂ）、２８０ｎｍ未満の短波長紫外線に分類される。このうち、２９０ｎｍ以下の波長の紫外線はオゾン層によって吸収され、地表に到達しない。

地表に届くＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ領域の紫外線は、人間の皮膚に様々な影響を及ぼす。地上にまで達する紫外線うち、ＵＶ−Ｂは皮膚の紅斑や水泡を形成し、メラニン形成も促進する。一方、ＵＶ−Ａは皮膚の褐色化を起こし、皮膚の弾力性の低下及びしわの発生を促進し、或いはある種の患者に対してはこの反応を増強し、更に光毒性或いは光アレルギー反応の原因とさえなりうる。このような紫外線の有毒性から皮膚を保護するために、各種の紫外線防御製品が開発されてきた。

こうした紫外線防御製品として、現在では、日光浴のための日焼け止めだけでなく、ローションや皮膚クリームなどの毎日使用する化粧料タイプの製品も市販されている。

現在、多くの紫外線防御剤が化粧料等に用いられているが、有機系のＵＶ−Ａ吸収剤として、ジベンゾイルメタン誘導体、特にアボベンゾン（４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン）は、機能性や安全性の点から広く用いられている（特許文献１、２参照）。
米国特許第４，３８７，０８９号明細書 米国特許第４，４８９，０５７号明細書 米国特許第５，５７６，３５４号明細書 米国特許第５，５８７，１５０号明細書

しかしながら、日焼け止め製品等に個々に使用された場合、大部分のジベンゾイルメタン誘導体は紫外線に曝されると光分解する傾向があり、そのためそれらのＵＶ−Ａ吸収効果は低下してしまうことが知られている。

そのため、ジベンゾイルメタン誘導体を含有する製品は、その不十分な光安定性のために処方が比較的難しいのが一般的である。このようなジベンゾイルメタン誘導体を含有する製品を安定化するために、オクトクリレン（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシル）を配合すること等が行われているが（特許文献３、４参照）、処方の多様化等の観点からジベンゾイルメタン誘導体に対するさらに他の有効な安定化方法が望まれていた。

本発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、化粧料等に紫外線吸収剤として配合されるジベンゾイルメタン誘導体の光分解を効率的に抑制できる新規な安定化剤とその用途並びにジベンゾイルメタン誘導体含有組成物の安定化方法を提供することを課題としている。

本発明は、上記の課題を解決するために、以下のことを特徴としている。

第１：フラーレン類を有効成分として含有することを特徴とするジベンゾイルメタン誘導体の光分解抑制用安定化剤。

第２：ジベンゾイルメタン誘導体が４−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする上記第１のジベンゾイルメタン誘導体の光分解抑制用安定化剤。

第３：紫外線吸収剤としての有効量のジベンゾイルメタン誘導体と、上記第１または第２の光分解抑制用安定化剤とを含有することを特徴とするジベンゾイルメタン誘導体含有組成物。

第４：上記第３のジベンゾイルメタン誘導体含有組成物からなることを特徴とする皮膚外用剤。

第５：上記第３のジベンゾイルメタン誘導体含有組成物からなることを特徴とする化粧料。

第６：ジベンゾイルメタン誘導体含有組成物を光に対して安定化する方法であって、当該組成物にフラーレン類を配合することを特徴とするジベンゾイルメタン誘導体含有組成物の安定化方法。

本発明の安定化剤によれば、化粧料等に紫外線吸収剤として配合されるジベンゾイルメタン誘導体の光分解を効率的に抑制することができる。

本発明の皮膚外用剤および化粧料によれば、紫外線吸収剤として配合されるジベンゾイルメタン誘導体の光分解が効率的に抑制され光安定性の高いものとすることができる。

本発明の安定化方法によれば、フラーレン類を配合することで、ジベンゾイルメタン誘導体含有組成物の光安定性を高めることができる。

以下、本発明について詳細に説明する。

本発明においてジベンゾイルメタン誘導体の光分解抑制安定化剤に使用されるフラーレン類は、フラーレン、フラーレン誘導体、フラーレン包接化合物、フラーレン複合体、あるいはそれらの塩の１種以上であってよい。このうちのフラーレンは、Ｃ_３２、Ｃ_４４、Ｃ_５０、Ｃ_６０、Ｃ_５８、Ｃ_６０、Ｃ_７０、Ｃ_７６、Ｃ_７８、Ｃ_８２、Ｃ_８４、Ｃ_９０、Ｃ_９６などがあるが、Ｃ_６０単独または、Ｃ_６０の６０質量％以上含有物であることが好ましい。

フラーレン誘導体については、フラーレン骨格の炭素原子に水酸基などの修飾基が結合したものなどが挙げられる。

フラーレンを包接しまたは複合化する化合物の例としては、有機オリゴマー、有機ポリマー、包接化合物や包接錯体が形成可能なシクロデキストリン、クラウンエーテル、またはそれらの類縁化合物などが挙げられる。具体的には、たとえばポリビニルピロリドン包接フラーレン、γ−シクロデキストリン包接フラーレン、ポリエチレングリコール修飾フラーレンなどが使用できる。

本発明において、フラーレン類を有効成分として含有するジベンゾイルメタン誘導体の光分解抑制用安定化剤の剤型は、特に制限はなく、上記のフラーレン類を配合した各種の形態、たとえば液状、固形状等とすることができるが、ジベンゾイルメタン誘導体含有組成物への配合が容易である点などからは、包接や複合化により水溶化したフラーレンの水性溶解液とすることが好ましい。

本発明の光分解抑制用安定化剤は、ジベンゾイルメタン誘導体を含有する組成物に配合することで、特にヒト皮膚に対する紫外線の有害作用を光安定的に防御するために有用である。

ジベンゾイルメタン誘導体の具体例としては、波長３２０〜４００ｎｍの紫外線を吸収するＵＶ−Ａ吸収性ジベンゾイルメタン誘導体、たとえば、２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’−ジイソプロピルベンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２，６−ジメチル−４’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’メトキシジベンゾイルメタンなどが挙げられる。中でも、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンが好ましい。

ジベンゾイルメタン誘導体は、単独でまたは組成物中に存在し得る他の紫外線防御剤と組み合わせて広域スペクトル紫外線を防御する有効量であって重大な副作用（例えば不当な毒性またはアレルギー反応等）を回避するために十分小さい量で配合され、皮膚外用剤や化粧料として使用する場合、好ましくは組成物全量に対して０．０１〜３０質量％、より好ましくは０．１〜６質量％のジベンゾイルメタン誘導体が配合される。ジベンゾイルメタン誘導体の配合量は、所望の日光防御ファクター、すなわち組成物のＳＰＦ並びに所望のＵＶ―Ａ防御レベル等によって適宜に調整される。

本発明のジベンゾイルメタン誘導体含有組成物に対するフラーレン類の配合量は、ジベンゾイルメタン誘導体の光分解を有効に抑制する点等から、ジベンゾイルメタン誘導体に対する質量比（フラーレン類／ジベンゾイルメタン誘導体）で好ましくは0.00001以上、より好ましくは0.001以上である。

本発明のジベンゾイルメタン誘導体含有組成物は、特に皮膚外用剤または化粧料において、紫外線の有害作用から適切に防御する。本発明の組成物は日焼け、皮膚の早すぎる老化等の紫外線の有害作用からヒト皮膚を守る日焼け止めとして適切に使用できる。

本発明のジベンゾイルメタン誘導体含有組成物は、皮膚を紫外線から守るために安全かつ有効量の組成物を皮膚に局所的に適用することで、皮膚外用剤として使用される。適用量は所望の紫外線防御の程度によっても変わるが、たとえば皮膚１ｃｍ²当たり組成物約０．５〜２５ｍｇが適用される。

本発明の組成物はジベンゾイルメタン誘導体、フラーレン類、および任意成分としての適切な担体を含有する。適切な担体は、当業者に既に知られているものを目的に応じて選択することができ、たとえば、皮膚、毛髪、爪、動物皮膚、毛皮、自動車、布、船舶に適切に使用できるもの、並びにプラスチックス、金属等に適切に挿入できるもの等が担体として使用される。

このような担体は、皮膚（たとえば日焼け止め、クリーム、乳液、ローション、マスク等）；毛髪および毛皮（たとえばシャンプー、ヘアセット、トリートメント等）；爪（たとえば爪みがき、トリートメント等）に適切に適用できるものが好ましい。

好ましい実施態様において、上記担体は皮膚に適切に適用できるものであり、すなわち上記担体およびその成分が皮膚、毛髪、毛皮、爪と接触しても、毒性、非相容性、不安定性、アレルギー反応等を起こさずに適切に使用できるものである。このような担体としては当業者に既に知られているものを使用することができ、皮膚、毛髪、毛皮および爪に適切に使用できる一種類以上の液体または固体フィラー希釈剤または賦形薬などが挙げられる。

担体の量は、ジベンゾイルメタン誘導体、フラーレン類、および担体とは異なる他の任意成分（たとえば他の活性成分）の濃度に依存するが、本発明の組成物は、組成物全量に対して好ましくは２０〜９９．８％、より好ましくは５０〜９９％の担体を含む。

本発明の組成物は、クリーム、ワックス、ペースト、ローション、乳液、ムース、ゲル、オイル、トニック、スプレー等の種々の製品型に処方される。これらの製品型はハンドおよびボディーローション、コールドクリーム、顔の保湿剤、にきび予防剤、局所鎮痛剤、そしてファンデーション、アイシャドウ、口紅等のメーキャップ化粧料等、並びにコーティング類（たとえばペイント、ワニス、つや出し、接着剤等）、家庭用品（たとえば洗剤、クレンザー、布コンディショナー等）、自動車および船舶類の手入れ用品（たとえばワックス等）、ヘアケアおよびスタイリング製品（たとえばシャンプー、コンディショナー、ゲル、ムース、スプレー等）、局所的動物ケア製品（たとえばシャンプー、コンディショナー、皮膚トリートメント等）など、多数の用途に用いられる。

本発明の組成物は、本発明の効果を損なわない範囲内において、一般的に用いられる種々のその他成分を含むことができる。このような成分の具体例としては、研磨剤、吸収剤、収斂剤、にきび予防剤、固化防止剤、消泡剤、抗菌剤、抗酸化剤、結合剤、生物学的添加物、緩衝剤、増量剤、キレート剤、化学的添加物、着色剤、化粧用殺生物剤、変性剤、外用鎮痛剤、ポリマー等のフィルム形成剤または形成材料、不透明化剤、ｐＨ調整剤、噴射剤、還元剤、金属イオン封鎖剤、皮膚漂白および美白剤、皮膚コンディショニング剤、皮膚鎮静および／または治療剤、皮膚治療剤、増粘剤、ビタミン類とその誘導体などが挙げられる。

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、下記において％表示は特に明示しない限り質量％を表す。
＜実施例１＞
フラーレンを配合した４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン含有組成物の紫外線照射試験を行った。フラーレン試料として、ＲａｄｉｃａｌＳｐｏｎｇｅ（ビタミンＣ６０バイオリサーチ（株）、登録商標）を使用した。Ｒａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅは、混合フラーレン（Ｃ_６０、Ｃ_７０）をＰＶＰにて包接した後、１，３−ブチレングリコールと水に溶解したものであり、組成はＰＶＰ１０％、１，３−ブチレングリコール７５％、水１５％、Ｃ_６０２００ｐｐｍ以上である。ＲａｄｉｃａｌＳｐｏｎｇｅ１％は、約２ｐｐｍのＣ_６０を含有している。

４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン（和光純薬 ０２０−１１２７１）の２％エタノール溶液を調整し、これにＲａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅ１％、５％を添加したものと、従来より４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの光分解抑制用安定化剤として使用されている２-シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸２−エチルヘキシル（東京化成 Ｃ０９６８、オクトクリレン）を２％添加したものを試験溶液として調製した。

各試験溶液をガラス板に塗布し乾燥した後ＵＶ照射試験を行った。２３０〜４００ｎｍの波長を含む紫外線照射光源（発光スペクトルを図３に示す）を使用し、紫外線強度：３６５ｎｍ、２３．６ｍＷ／ｃｍ^２の条件でＵＶ−Ａ照射を行った（照射時間：５、１０、３０分）。

紫外線照射後における４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの残存量は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により定量した。ＨＰＬＣ分析条件は次のとおりである。
ＨＰＬＣカラム Ｃｏｓｍｏｓｉｌ ５Ｃ１８ＭＳＩＩ（４．６ｍｍ×１５０ｍｍ）
展開溶媒 メタノール ９０％
流速 １ｍＬ／ｍｉｎ
検出 ＵＶ ３６０ｎｍ
ＵＶ照射試験の結果を図１に示す。図１の縦軸は、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）２％を１００とした場合の相対値（％）を示している。４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの紫外線照射に対してＲａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅ未添加（Ｃｏｎｔｒｏｌ）では４０％程度分解されたのに対して、Ｒａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅを５％添加することにより、分解量は１５％程度に抑制された。

また、通常日焼け止めに配合されている濃度（２％）のオクトクリレンよりも、Ｒａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅ５％（Ｃ_６０:約１０ｐｐｍ）は４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンへの優れた分解抑制効果を示した。この結果より、フラーレンは非常に微量でもオクトクリレンを凌ぐ４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの分解抑制剤として働くことが明らかになった。
＜実施例２＞
フラーレンを配合した４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン含有組成物の可視光照射試験を行った。

フラーレン試料としてＲａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅを使用した。４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの２％エタノール溶液を調整し、これにＲａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅ０．１％、１％を添加したものと、オクトクリレンを２％添加したものを試験溶液として調製した。

各試験溶液をガラス板に塗布し乾燥した後可視光照射試験を行った。可視光照射光源として蛍光灯（Ｎａｔｉｏｎａｌ、パルック ＦＬ１５ＥＸ−Ｎ、１５ワット:発光スペクトルを図４に示す。）を使用し、照射距離４０ｃｍから可視光照射を行った（照射時間：１、２、３日）。

可視光照射後における４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの残存量は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により定量した。ＨＰＬＣ分析条件は実施例１と同様である。

可視光照射試験の結果を図２に示す。４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン（アボベンゾン）への可視光照射に対して、Ｒａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅ未添加では３日で２０％程度分解されたのに対して、Ｒａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅ１％（Ｃ_６０:約１０ｐｐｍ）を添加することにより分解が抑制された。また、Ｒａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅの１％添加は、オクトクリレンの２％添加よりも高い分解抑制作用を示した。
＜実施例３＞
フラーレン濃度を変更した以外は実施例１と同様の条件にて紫外線照射試験を行った。４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの２％エタノール溶液を調整し、これにＲａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅ２％、３％、４％、７．５％、１０％を添加したものと、オクトクリレンを１０％添加したものを試験溶液として調製した。ＵＶ照射条件およびＨＰＬＣ分析条件は実施例１と同様である。

ＵＶ照射試験の結果を図５に示す。Ｒａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅの濃度に依存して、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの光分解抑制効果が高くなることが明らかとなった。また、オクトクリレンは通常、配合濃度１０％を上限としているが、Ｒａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅ１０％でこれとほぼ同等の結果を得られた。
＜参考例１＞
Ｒａｄｉｃａｌ ＳｐｏｎｇｅはＰＶＰと１，３−ブチレングリコールを含んでいるため、これらが４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの分解を抑制しているか調べた。Ｒａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅ１０％に相当するＰＶＰと１，３−ブチレングリコール（ＰＶＰ１％、１．３ブチレングリコール７．５％）を含有する溶液を添加したものを使用し、実施例１、３と同様の条件にて試験を行った。

ＵＶ照射試験の結果を図６に示す。Ｒａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅ１０％に相当するＰＶＰと１，３−ブチレングリコールを加えても４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの分解は抑制されなかった。

以上の実施例より、ＵＶ照射による４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの分解を５％または１％のＲａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅが抑制した。ＵＶ照射下において、５％のＲａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅは２％のオクトクリレンよりも優れた４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの分解抑制効果を示した。

また、可視光（４００〜７２０ｎｍ）照射下において、１％または０．１％のＲａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅは４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの分解を抑制し、２％のオクトクリレンより優れた分解抑制効果を示した。

また、１０％のオクトクリレンと１０％のＲａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅは同程度の４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンの分解抑制効果を示した。１０％Ｒａｄｉｃａｌ Ｓｐｏｎｇｅには約２０ｐｐｍのＣ_６０が含まれており、これが１０％のオクトクリレンと同等の性能を持つことから、より少量で４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンを保護する有効な成分であることが明らかになった。

実施例１のＵＶ照射試験の結果を示すグラフである。 実施例２の可視光照射試験の結果を示すグラフである。 紫外線照射光源の発光スペクトルである。 可視光照射光源の発光スペクトルである。 実施例３のＵＶ照射試験の結果を示すグラフである。 参考例１のＵＶ照射試験の結果を示すグラフである。

Claims (6)

1. フラーレン類を有効成分として含有することを特徴とするジベンゾイルメタン誘導体の光分解抑制用安定化剤。
2. ジベンゾイルメタン誘導体が４−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項１に記載のジベンゾイルメタン誘導体の光分解抑制用安定化剤。
3. 紫外線吸収剤としての有効量のジベンゾイルメタン誘導体と、請求項１または２に記載の光分解抑制用安定化剤とを含有することを特徴とするジベンゾイルメタン誘導体含有組成物。
4. 請求項３に記載のジベンゾイルメタン誘導体含有組成物からなることを特徴とする皮膚外用剤。
5. 請求項３に記載のジベンゾイルメタン誘導体含有組成物からなることを特徴とする化粧料。
6. ジベンゾイルメタン誘導体含有組成物を光に対して安定化する方法であって、当該組成物にフラーレン類を配合することを特徴とするジベンゾイルメタン誘導体含有組成物の安定化方法。