JP2009240997A - 塗布方法及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】一次側に液溜り部が設けられている塗布装置を用いた塗布方法において、気液界面の乱れにより塗布スジが発生するのを防止することができる塗布方法及び光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】バー16に接触して走行するウエブ12の接触部直前に形成される液溜り部30に塗布液を供給するスリット24と、液溜り部30の塗布液がオーバーフローする堰26とを少なくとも備えた塗布装置を用いて、ウエブ12に塗布液を塗布する塗布方法において、スリット12から送液される塗布液の送液量をQ(kg/min)、ウエブ12の走行速度をV(m/min)、スリット12のウエブ幅方向のスリット幅をL(m)、塗布液の密度をρ(kg/cc)、ウエブに対して塗布液を塗布する塗布量をq(cc/m2 )としたとき、 Q/(L・V・ρ・q)で算出される数値が10以上30以下である条件で塗布する。
【選択図】 図1
【解決手段】バー16に接触して走行するウエブ12の接触部直前に形成される液溜り部30に塗布液を供給するスリット24と、液溜り部30の塗布液がオーバーフローする堰26とを少なくとも備えた塗布装置を用いて、ウエブ12に塗布液を塗布する塗布方法において、スリット12から送液される塗布液の送液量をQ(kg/min)、ウエブ12の走行速度をV(m/min)、スリット12のウエブ幅方向のスリット幅をL(m)、塗布液の密度をρ(kg/cc)、ウエブに対して塗布液を塗布する塗布量をq(cc/m2 )としたとき、 Q/(L・V・ρ・q)で算出される数値が10以上30以下である条件で塗布する。
【選択図】 図1
Description
本発明は、塗布方法及び光学フィルムの製造方法に係り、特に液晶表示装置に好適な品質を有する光学フィルムを製造するための塗布技術に関する。
光学補償フィルム等の光学性機能フィルムの製造における塗布では、塗布液を均一且つ薄層に塗布することが要求される。しかしながら、このような薄層塗布では、縦スジやストリーク故障を生じることが多く、従来から各種対策が検討されている。
たとえば、塗布装置の一次側(ポリマーフィルム走行方向の上流側)液溜めに不規則な渦が発生するのを抑制するため、液溜めにおけるウエブの走行方向の長さを10mm以上50mm以下とすることが提案されている(特許文献1)。
バー塗布装置においては、バー断面の最大半径とバー受け部断面の円弧の曲率半径との関係、バーホールド角等を規定することで、バー振動による段状塗布ムラや、バーとバー支持部材との間に発生する泡による塗布スジ故障を防止することが提案されている(特許文献2)。
また、ポリマーフィルム(ウエブともいう。)とバーのラップ角度を2.5〜30°にすると共に、バー断面の最大径をRbとし、バー支持部材のバー受け部断面の円弧の曲率半径をRhとしたときに、Rb/Rhが0.9〜1.0の範囲とし、バー支持部材のバーホールド角を90°以上180°以下にするバー塗布方法が提案されている(特許文献3)。
ブレードコーターにおいて、ファウンテンノズルから塗布液を吹き出す前に、塗布液にせん断力を付与して低粘度化する方法(特許文献4)、ロッドコーターにおいて、ロッドのワイヤー間の溝に引っかかる異物や凝集物を除去するための異物除去ブラシ等をロッドバーホルダに設ける方法(特許文献5)等が提案されている。また、ウエブ上に塗布膜を形成した後、掻き取りローラにより余剰液を掻き取り必要膜厚を得る塗布方法において、掻き取りローラ表面の乾きに起因する塗布故障を抑制するために、掻き取りローラ表面に塗布液又は溶剤を供給する方法が提案されている(特許文献6)。
特開2003−33702号公報
特開2006−82059号公報
特開平9−201563号公報
特開平7−189169号公報
特開平7−246358号公報
特開平9−294956号公報
ところで、ウエブに塗布液を塗布する方法として、バーなどの計量手段(円柱体)に接触して走行するポリマーフィルムの接触部直前に形成される液溜り部に塗布液を供給するスリットと、液溜り部の塗布液がオーバーフローする堰とを備えた塗布装置が一般的に用いられている。この一次側の気液界面が乱れると、液溜り部の塗布液の流動に乱れが生じ、液溜り部での内圧力の変動が生じてしまう。特に、塗布速度の速い系では、一次側の気液界面が乱れてしまい塗布スジが発生するという問題があった。
これに対して、特許文献1〜6に記載された塗布方法では、いずれも一次側の気液界面の乱れに起因する塗布スジを解決するものではなかった。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、一次側に液溜り部が設けられている塗布装置を用いた塗布方法において、気液界面の乱れにより塗布スジが発生するのを防止することができる塗布方法及び光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
請求項1に記載の発明は、前記目的を達成するために、円柱体に接触して走行するポリマーフィルムの接触部直前に形成される液溜り部に塗布液を供給するスリットと、前記液溜り部の塗布液がオーバーフローする堰とを少なくとも備えた塗布装置を用いて、塗布液を前記ポリマーフィルムに塗布する塗布方法において、前記スリットから送液される塗布液の送液量をQ(kg/min)、前記ポリマーフィルムの走行速度をV(m/min)、前記スリットの前記ポリマーフィルム幅方向のスリット幅をL(m)、前記塗布液の密度をρ(kg/cc)、前記ポリマーフィルムに対して前記塗布液を塗布する塗布量をq(cc/m2 )としたとき、Q/(L・V・ρ・q)で算出される数値が10以上30以下である条件で塗布することを特徴とする。
本願発明者は、塗布装置一次側の気液界面の乱れにより塗布スジが発生するのを防止する原因について鋭意研究した結果、無次元化された数値 Q/(L・V・ρ・q)が10以上30以下である条件で塗布することで塗布スジが発生するのを防止できるという知見を得た。即ち、液溜り部から塗布液がオーバーフローするが、塗布装置一次側の気液界面を安定にするためには、そのオーバーフローする塗布液の流量に適正範囲があり、ポリマーフィルムの走行速度Vとスリット幅Lに対して適正な送液量Qにすることが必要であることを見出した。また、オーバーフローする塗布液の流量は、塗布量qにも依存し、塗布液の密度ρにも関係する。
尚、オーバーフローする塗布液の流量が少ないと、オーバーフローする塗布液が形成する気液界面が液溜り部側に動き、液溜まり内の圧力変動が起きる。また、オーバーフローする塗布液の流量が多いと、気液界面が液溜り部から外側に動いてしまい、塗布幅方向に均一な面状の気液界面を得ることができない。
請求項1の発明によれば、無次元化された数値 Q/(L・V・ρ・q)が10以上30以下であることで、塗布装置一次側の気液界面は、乱れが小さくなり、塗布幅方向に対して均一になるので、気液界面の乱れにより塗布スジが発生するのを防止することができる。
請求項2の発明は、請求項1において、前記数値が12以上28以下であることを特徴とする。また、請求項3の発明は、請求項1において、前記数値が15以上27以下であることを特徴とする。
請求項2と請求項3は、無次元化された数値 Q/(L・V・ρ・q)の好ましい範囲、又は、より好ましい範囲を示したものである。
請求項4の発明は、前記目的を達成するために、帯状体に形成された配向膜にラビング処理する工程と、前記ラビング処理された配向膜上に前記塗布方法で液晶ディスコティック化合物を含有する塗布液を塗布する工程と、塗布された前記塗布液を乾燥し硬化することにより光学異方性層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。
本発明の光学フィルムの製造方法によれば、塗布スジが生じることなく、良好な品質の光学フィルムを得ることができる。
本発明によれば、塗布装置の一次側での気液界面の乱れに起因する塗布スジが生じることがなく、均質な塗布を行うことができる。
以下添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について説明する。本発明は以下の好ましい実施の形態により説明されるが、本発明の範囲を逸脱すること無く、多くの手法により変更を行うことができ、本実施の形態以外の他の実施の形態を利用することができる。従って、本発明の範囲内における全ての変更が特許請求の範囲に含まれる。また、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を含む範囲を意味する。
図1は本発明の塗布方法が適用される実施形態の塗布装置の構成を模式的に示す断面図である。塗布装置10は、走行方向に沿って連続走行するウエブ(ポリマーフィルム)12に塗布液を塗布する塗布装置であり、バー16を有する塗布ヘッド14と、バー16が接触するようにウエブ12を塗布面と反対側から支持するバックアップローラ18を備えている。
塗布ヘッド14のバー16は、円柱状に形成されており、円周方向に一定間隔で溝が形成されているもの、ワイヤーが密に巻回されているもの、あるいは表面が平滑であるものの何れでもよい。また、バー16は、不図示の回転駆動手段に連結されており、ウエブ12の走行方向と同方向に、且つウエブ12の走行速度と略同じ速度で回転される。
また、バー16は、ウエブ12の走行方向と反対方向に回転させてもよく、さらにはバー16の周速がウエブ12の走行速度と異なるように回転させてもよい。
バー16は、支持部材20によって支持される。支持部材20の上部には、円弧状の溝が形成されており、この溝にバー16が回動自在に支持される。
バー16に対してウエブ12の走行方向の上流側(すなわち、ウエブ12の進入側)に、第1ブロック22が支持部材20に対して所定の間隔で平行に設けられる。第1ブロック22と支持部材20との間にスリット24が形成される。第1ブロック22は走行方向の上流側に堰26を備えている。液溜り部30が支持部材20とバー16、及び堰26により構成される。
スリット24には、塗布液の供給ライン(不図示)が接続される。供給ラインから供給された塗布液が、スリット24を介して液溜り部30に供給される。液溜り部30の塗布液が回転するバー16にピックアップされ、バー16にラップして連続走行するウエブ12に塗布される。なお、過剰に供給された塗布液は堰26をオーバーフローし、堰26の上流側の面26Aを流下して、回収部(不図示)により回収される。
バー16に対してウエブ12の走行方向の下流側には、第2ブロック32が支持部材20に対して所定の間隔で平行に設けられる。第2ブロック32と支持部材20との間にはスリット34が形成される。スリット34には、塗布液の供給ライン(不図示)が接続される。供給ラインから供給された塗布液が、バー16の乾きによる塗布故障を防止するために、バー16の下流側に供給され、バー16表面との間に塗布液ビードが形成される。塗布液の一部は塗布残液として第2ブロック32をオーバーフローして、傾斜面32Aを流下する。
しかしながら、このように構成された塗布装置10で塗布すると、一次側の気液界面が乱れてしまい、塗布スジが発生することがあるという問題があった。
オーバーフローする塗布液の流量が少ないと、オーバーフローする塗布液が形成する気液界面40が液溜り部30側(図1では左側)に動き、液溜まり内の圧力変動が起きる。また、オーバーフローする塗布液の流量が多いと、気液界面40が液溜り部30から外側(図1では右側)に動いてしまい、塗布幅方向に均一な面状の気液界面を得ることができない。この気液界面の乱れが塗布スジの原因となる。
そこで、本発明では、スリット24から送液される塗布液の送液量をQ(kg/min)、ウエブ12の走行速度をV(m/min)、スリット24のウエブ幅方向のスリット幅をL(m)、塗布液の密度をρ(kg/cc)、ウエブ12に塗布液が塗布される塗布量をq(cc/m2 )としたとき、 Q/(L・V・ρ・q)で算出される数値が10以上30以下である条件で塗布するようにした。尚、Q/(L・V・ρ・q)の範囲は、好ましくは12以上〜28以下である。
本願発明者は、塗布装置一次側の気液界面の乱れにより塗布スジが発生するのを防止する原因について鋭意研究した結果、無次元化された数値 Q/(L・V・ρ・q)が10以上30以下である条件で塗布することで塗布スジが発生するのを防止できるという知見を得た。即ち、液溜り部から塗布液がオーバーフローするが、塗布装置一次側の気液界面を安定にするためには、そのオーバーフローする塗布液の流量に適正範囲があり、ポリマーフィルムの走行速度Vとスリット幅Lに対して適正な送液量Qにすることで必要であることを見出した。また、オーバーフローする塗布液の流量は、塗布量qにも依存し、塗布液の密度ρにも関係する。
このように無次元化された数値 Q/(L・V・ρ・q)が10以上30以下の範囲であることで、塗布装置一次側の気液界面は、乱れが小さくなり、塗布幅方向に対して均一になるので、気液界面の乱れにより塗布スジが発生するのを防止することができる。
次に、本発明の塗布方法に係る塗布装置10の適用例について説明する。図2は、塗布装置10を組み込んだ光学フィルム(以下、光学補償フィルムという。)の製造ライン80である。
光学補償フィルムの製造ライン80は、図2に示されるように、送出機82から予め配向膜形成用のポリマー層が形成された透明支持体であるウエブ12が送り出される。
次に、ウエブ12はガイドローラ84によってガイドされてラビング処理装置86に送りこまれる。そして、ウエブ12のポリマー層には、ラビングローラ88によりラビング処理が施される。ラビングローラ88の下流には除塵機90が設けられており、ウエブ12の表面に付着した塵を取り除く。
除塵機90の下流には本発明の塗布方法に係る塗布ヘッド14が設けられている。塗布ヘッド14に対し、ウエブ12の走行方向の上流及び下流側に、ウエブ12をバーにラップさせるためのガイドローラ84が設けられている。また、塗布ヘッド14の上方向で、堰26の近傍にバックアップローラ18が設けられている。これにより、塗布ヘッド14の一次側での乱れが抑制され、二次側でのスジ等の塗布ムラが抑制される。塗布ヘッド14によりディスコネマティック液晶を含む塗布液がウエブ12に塗布される。塗布ヘッド14の下流には、乾燥ゾーン92、加熱ゾーン94が順次設けられており、ウエブ12上の塗布液が乾燥・加熱されて液晶層が形成される。更に、この下流には紫外線ランプ96が設けられており、紫外線照射により、液晶を架橋させ、所望のポリマーが形成される。これにより、光学補償フィルムが製造され、製造された光学補償フィルムは巻取機98に巻き取られる。
このように、本発明の塗布方法に係る塗布装置10を、光学補償フィルムの液晶層の塗布(ディスコネマティック液晶を含む塗布液の塗布)に用いるので、縦スジ等のムラのない良好な面質のフィルムを製造できる。
本発明に使用されるウエブ12としては、紙、プラスチックフィルム、レジンコーティッド紙、合成紙等が包含される。プラスチックフィルムの材質は、たとえば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のビニル重合体、6,6−ナイロン、6−ナイロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ヘルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロースアセテート等が使用される。またレジンコーティッド紙に用いられる樹脂としては、ポリエチレンをはじめとするポリオレフィンが代表的であるが、必ずしもこれに限定されない。ウエブの厚さも特に限定されないが、0.01mm〜1.0mm程度のものが取扱い、汎用性の見地から有利である。
本発明に用いられる塗布液は特に限定は無く、高分子化合物の水又は有機溶媒液、顔料分散液、コロイド溶液等が適用できる。特に、薄層塗布を均一且つ高精度に行うことが求められる各種光学フィルムの塗布液、例えば、液晶性ディスコティック塗布液等が好適である。また、塗布液の粘度が高い場合、塗布膜厚や塗布速度、塗布後の乾燥速度等にもよるが、ワイヤー目或いは溝の目が消えずにバー筋故障となるため、0.5Pa・s以下が望ましい。
以上、本発明に係る塗布方法の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
以下、実施例を挙げて本発明の特徴を具体的に説明するが、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。本発明に係る塗布装置及び従来の塗布装置を組み込んだ図2の光学補償フィルムの製造ライン80において、塗布直後のスジ故障の影響を評価した。
ウエブ12は、厚さ40〜120μmのトリアセチルセルロース(フジタック、富士フィルム(株)製)の表面に長鎖アルキル変性ポバールの2重量%溶液をフィルム1m2当たり25mlになるように塗布後、60℃で1分間乾燥させて配向膜用樹脂層を形成したものを使用した。このウエブ12を、送出機82から送り出すと共に10〜50m/分で搬送しながらラビング処理装置86によって配向膜用樹脂層表面にラビング処理を行って配向膜を形成した。ラビング処理におけるラビングローラ88の押し付け圧力を、配向膜樹脂層の1cm2あたり10kgf/cm2にすると共に、回転周速を5.0m/秒とした。
そして、配向膜用樹脂層をラビング処理して得られた配向膜上に、図1に示す塗布装置10を使用して塗布液を塗布した。塗布液は、下記に示すディスコティック化合物TE−8のR(1)とR(2)の重量比で4:1の混合物に対し、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート(V♯360、大阪有機科学(株)製)を10重量%、セルロースアセテートブチレート(CAB531−1、イーストマンケミカル社製)を0.6重量%、光重合開始剤(イルガキュア907、日本チバガイギー(株)製)を3重量%、増感剤(カヤキュアーDET−X、日本化薬(株)製)を1重量%、添加し、最終的にその混合物の32重量%メチルエチルケトン溶液とした。その液晶性化合物を含む液に、さらにフッ素系界面活性剤(フルオロ脂肪族基含有共重合体、メガファックF780、大日本インキ(株)製)を0.3重量%添加し、塗布液として使用した。
そして、図1に示す実施形態に係る塗布装置10において、支持部材20により、バー径6mm、線径80μmのワイヤーのバー16を支持し、ウエブ12を走行速度10〜50m/分で走行させながらバー16も同速で順回転させ、塗布ヘッド14から塗布液を配向膜上に塗布した。
ここで、スリットから送液される塗布液の送液量Q(kg/min)、ウエブの走行速度V(m/min)、スリットのウエブ幅方向のスリット幅L(m)、塗布液の密度ρ(kg/cc)、ウエブに対して塗布液を塗布する塗布量q(cc/m2 )を下記の表1に示す実験No.1〜15の条件で行った。
(評価方法)
評価項目は、バーの塗布直後において下流側のウエブの塗布面に発生する塗布スジを目視により評価した。
評価項目は、バーの塗布直後において下流側のウエブの塗布面に発生する塗布スジを目視により評価した。
評価レベルは、光学補償フィルムにおいて塗布スシ゛の単位m2当りの発生数に基づく評価であり、塗布スジの発生がないレベルを◎、塗布スジの品質許容限度レベルの1/3以下のレベルを○、塗布スジの品質許容限度レベルの2/3以下のレベルを△、塗布スジの品質許容限度レベル以上のレベルを×とした4段階評価を行った。
実験結果を表1に示す。
表1から分かるように、Q/(L・V・ρ・q)が10以上30以下である本発明の条件で塗布液を塗布したものは、評価が△以上となった。
更に、表1の実験結果をグラフにした。縦軸は塗布スジの単位m2当りの発生数に基づく評価である。そのグラフを図3に示す。
図3と上記表1との実験結果から分かるように、Q/(L・V・ρ・q)は、概ね10〜30の範囲であることが必要であり、12〜28の範囲であることが好ましく、15〜27の範囲であることが更に好ましい。
10・・・バー塗布装置、12・・・ウエブ、14・・・塗布ヘッド、16・・・バー、18・・・バックアップローラ、20・・・支持部材、22・・・第1ブロック、24・・・第1スリット、26・・・堰、26A・・・面、30・・・液溜り部、32・・・第2ブロック、32A・・・傾斜面、34・・・第1スリット
Claims (4)
- 円柱体に接触して走行するポリマーフィルムの接触部直前に形成される液溜り部に塗布液を供給するスリットと、前記液溜り部の塗布液がオーバーフローする堰とを少なくとも備えた塗布装置を用いて、塗布液を前記ポリマーフィルムに塗布する塗布方法において、
前記スリットから送液される塗布液の送液量をQ(kg/min)、前記ポリマーフィルムの走行速度をV(m/min)、前記スリットの前記ポリマーフィルム幅方向のスリット幅をL(m)、前記塗布液の密度をρ(kg/cc)、前記ポリマーフィルムに対して前記塗布液を塗布する塗布量をq(cc/m2 )としたとき、Q/(L・V・ρ・q)で算出される数値が10以上30以下である条件で塗布することを特徴とする塗布方法。 - 前記数値が12以上28以下であることを特徴とする請求項1に記載の塗布方法。
- 前記数値が15以上27以下であることを特徴とする請求項1に記載の塗布方法。
- ポリマーフィルムに形成された配向膜にラビング処理する工程と、
前記ラビング処理された配向膜上に請求項1〜3の何れかの塗布方法で液晶ディスコティック化合物を含有する塗布液を塗布する工程と、
前記塗布された塗布液を乾燥し硬化することにより光学異方性層を形成する工程と、を備えたことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
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