JP2009238294A

JP2009238294A - Method of manufacturing glass substrate for magnetic disk, glass substrate for magnetic disk and magnetic disk

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Publication number: JP2009238294A
Application number: JP2008082206A
Authority: JP
Inventors: Konchom Thitichaya; コンチョムティティチャヤー
Original assignee: Hoya Glass Disk Thailand Ltd
Current assignee: Hoya Glass Disk Thailand Ltd
Priority date: 2008-03-26
Filing date: 2008-03-26
Publication date: 2009-10-15

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a yield of a glass substrate by differentiating between a continuous defect and a discontinuous defect produced in manufacturing steps of the glass substrate. <P>SOLUTION: The method of manufacturing the glass substrate 100 for the magnetic disk includes: a step S200 of measuring the state of the substrate; a step S202 of drawing a map of the substrate; a step S204 of determining presence of the defects; a step S206 of determining presence of the continuous defect, in which the defect is determined to be a continuous single defect stretching over a plurality of regions in the case in which a defect exists in a region adjacent to a region where a defect is determined to exist; a step of counting the number and the size of defects (a first counting step S216 and a second counting step S220); and a step S222 of determining whether the substrate is a non-defective product or not based on the result of the step S206 to determine presence of the continuous defect and on the result of the counting step. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、コンピュータ等の記録媒体として用いられる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクに関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk used as a recording medium for a computer or the like, a glass substrate for a magnetic disk, and a magnetic disk.

近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるＨＤＤ（ハードディスクドライブ）等の磁気記録媒体用基板として、従来用いられていたアルミニウム基板と比して小型化、薄板化、および高密度記録化が達成でき、基板表面の平坦性および基板強度に優れたガラス基板が採用されている。 In recent years, with the advancement of information technology, information recording technology, particularly magnetic recording technology, has made remarkable progress. As a substrate for magnetic recording media such as HDD (Hard Disk Drive), which is one of magnetic recording media, it can achieve smaller size, thinner plate and higher density recording compared to the conventionally used aluminum substrate. A glass substrate excellent in flatness and substrate strength is employed.

また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）、大型磁気抵抗型ヘッド（ＧＭＲヘッド）へと推移してきており、磁気ヘッドの基板からの浮上量が８ｎｍから６ｎｍ程度にまで狭くなってきている。このような磁気抵抗効果型素子を搭載した磁気ヘッドは、固有の障害としてヘッドクラッシュやサーマルアスペリティ障害を引き起こす場合がある。 As the magnetic recording technology has been increased in density, the magnetic head has been changed from a thin film head to a magnetoresistive head (MR head) and a large magnetoresistive head (GMR head). The flying height from is narrowed to about 8 nm to 6 nm. A magnetic head equipped with such a magnetoresistive element may cause a head crash or a thermal asperity failure as an inherent failure.

サーマルアスペリティ障害とは、磁気ディスク面上の微小な凸形状あるいは凹形状上を磁気ヘッドが浮上飛行しながら通過するときに、空気の断熱圧縮または接触により磁気抵抗効果型素子が加熱されることにより、読み出しエラーを生じる障害である。したがって磁気抵抗型素子を搭載した磁気ヘッドに対しては、磁気ディスク表面は極めて高度な平滑度および平坦度が求められる。また塵埃や異物が付着したまま磁性層を形成すると凸欠陥が形成されてしまうため、ガラス基板には、凹凸をなくすことによる発塵の防止と、異物を除去する高度な洗浄とが求められている。 Thermal asperity failure means that the magnetoresistive element is heated by adiabatic compression or contact of air when the magnetic head passes over a minute convex or concave shape on the magnetic disk surface while flying. This is a failure that causes a read error. Therefore, for a magnetic head mounted with a magnetoresistive element, the magnetic disk surface is required to have extremely high smoothness and flatness. In addition, if a magnetic layer is formed with dust or foreign matter attached, convex defects will be formed, so the glass substrate is required to prevent dust generation by eliminating irregularities and to perform advanced cleaning to remove foreign matter. Yes.

上記のような状況において、従来からも、基板端面の平滑性についての重要性が認められていた。ガラス基板の平滑性の検査方法としては、表面欠陥検出装置（ＡＯＩ：Automatic Optical Inspection）やＯＳＡ（Optical Surface Analyzer）等の機器を用いて、ガラス基板の表面に光を照射して反射光の強度や変位等により付着物、凹欠陥、凸欠陥が存在するか否かを判定するという方法がある（例えば特許文献１）。
特開２００７−２５６１３３号公報 Under the circumstances as described above, the importance of the smoothness of the end face of the substrate has been recognized conventionally. As a method for inspecting the smoothness of a glass substrate, the surface of the glass substrate is irradiated with light using a device such as a surface defect detector (AOI: Automatic Optical Inspection) or OSA (Optical Surface Analyzer), and the intensity of reflected light. There is a method in which it is determined whether or not there is a deposit, a concave defect, or a convex defect based on a displacement or the like (for example, Patent Document 1).
JP 2007-256133 A

上述した特許文献１に記載のガラス基板の平滑性の検査方法では、反射光の強度や変位等によってのみ、欠陥の大きさを判定しているため、欠陥の形状を判定することはできない。 In the method for inspecting the smoothness of the glass substrate described in Patent Document 1 described above, the size of the defect is determined only by the intensity or displacement of the reflected light. Therefore, the shape of the defect cannot be determined.

しかし、磁気ディスクとして用いるガラス基板においては欠陥の形状が重要となってくる。すなわち同じ面積を有する欠陥であっても、細長いもの（スクラッチ）であれば、もはや磁気ディスクとして用いることはできないが、平面的なものであればある程度までは許容することができる。 However, the shape of the defect is important in a glass substrate used as a magnetic disk. That is, even a defect having the same area can no longer be used as a magnetic disk if it is elongated (scratch), but can be tolerated to some extent if it is planar.

したがって、従来のガラス基板の検査方法では、反射光の強度によって欠陥の大きさ（面積）のみを判定しているため、本来１つでも存在すれば不良品となる細長い欠陥（連続性を有する欠陥）と、平面的な欠陥（不連続の欠陥）との区別をすることができず不良品にもかかわらず良品として判定してしまうおそれがあった。 Therefore, in the conventional glass substrate inspection method, only the size (area) of the defect is determined based on the intensity of reflected light. Therefore, if there is at least one defect, it is a long and narrow defect (a defect having continuity). ) And planar defects (discontinuous defects) cannot be distinguished from each other, and there is a possibility that the product is determined as a good product despite the defective product.

そこで本発明は、ガラス基板の製造工程で生じる連続性を有する欠陥（スクラッチ）と不連続である欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させることが可能な、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクを提供することを目的としている。 Accordingly, the present invention provides a glass substrate for a magnetic disk capable of improving the yield of a glass substrate by distinguishing between a defect having a continuity (scratch) generated in the glass substrate manufacturing process and a defect having discontinuity. An object of the present invention is to provide a manufacturing method, a glass substrate for a magnetic disk, and a magnetic disk.

上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、中心に内孔を有する円板状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、基板に光を照射し当該基板から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定する基板状態測定工程と、測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方をマッピングし基板マップを作成する基板マップ作成工程と、作成した基板マップをマトリクス状の複数の領域に分割し、各領域ごとに測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方に基づいて欠陥があるか否かを判定する欠陥判定工程と、欠陥があると判定された領域に隣接する領域に欠陥がある場合に複数の領域にまたがって連続した１つの欠陥であると判定する連続欠陥判定工程と、欠陥の個数および大きさを計数する計数工程と、連続欠陥判定工程の結果および計数工程の結果に基づいて基板を良品であるか否かを判定する良品判定工程と、を含むことを特徴とする。 In order to solve the above problems, a typical configuration of a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is a method for manufacturing a disk-shaped glass substrate for a magnetic disk having an inner hole in the center. A substrate map is created by mapping the substrate state measurement process that measures one or both of the intensity and / or displacement of the light reflected from the substrate by irradiating light onto the substrate, and one or both of the measured intensity and / or displacement of the light Substrate map creation process, and the created substrate map is divided into a plurality of matrix areas, and whether or not there is a defect is determined based on one or both of the light intensity and / or displacement measured for each area A defect determination step to be performed, and a continuous determination that determines that there is a single defect extending across a plurality of areas when there is a defect in an area adjacent to the area determined to have a defect. A defect determination step, a counting step for counting the number and size of defects, and a non-defective product determination step for determining whether the substrate is non-defective based on a result of the continuous defect determination step and a result of the counting step. It is characterized by that.

かかる構成により、任意に分割した領域ごとに欠陥があるか否かを特定し、欠陥があると判定した領域に隣接する領域に欠陥があるか否かを判定することで当該欠陥が連続性を有するか否かを判断することができる。したがって、従来見逃されていた連続性を有する欠陥を検出することができ、誤判定を防止することができる。これにより、検査の信頼性を向上させることが可能となる。 With such a configuration, it is determined whether or not there is a defect for each arbitrarily divided area, and the defect is made continuous by determining whether or not there is a defect in an area adjacent to the area determined to be defective. It can be determined whether or not it has. Therefore, it is possible to detect defects having continuity that have been overlooked in the past, and prevent erroneous determination. As a result, the reliability of the inspection can be improved.

また従来は、マトリクス状に分割する領域の面積を変化させて様々な大きさの欠陥を測定していたが、連続欠陥判定工程を含むことにより領域の面積を変化させずとも欠陥の大きさを測定することができる。 Conventionally, defects of various sizes were measured by changing the area of the region to be divided into a matrix, but the defect size can be increased without changing the area of the region by including a continuous defect determination step. Can be measured.

上記複数に分割された領域の面積は０．１μｍ^２であってもよい。ガラス基板は用途によって、求められるものが異なるが、０．１μｍ^２以下の欠陥であれば、如何なる用途においても適応することができる。 The area of the plurality of divided regions may be 0.1 μm ² . Although what is calculated | required for a glass substrate changes with uses, if it is a defect of 0.1 micrometer < ² > or less, it can adapt in any use.

上記基板状態測定工程において基板から反射した光は、散乱光もしくは回折光のいずれか一方または両方であってもよい。 The light reflected from the substrate in the substrate state measurement step may be either one or both of scattered light and diffracted light.

散乱光もしくは回折光のいずれか一方または両方を測定することにより、０．１μｍ^２程度以上の欠陥を検出することができる。 By measuring either one or both of scattered light and diffracted light, a defect of about 0.1 μm ² or more can be detected.

上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスク用ガラス基板は、上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とする。 In order to solve the above problems, a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is manufactured by the above-described method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk.

上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気ディスクは、上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成したことを特徴とする。 In order to solve the above problems, a magnetic disk according to the present invention is characterized in that at least a magnetic layer is formed on the surface of a glass substrate obtained by the above-described method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk.

上述した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の技術的思想に基づく構成要素やその説明は、当該磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクにも適用可能である。 The components based on the technical idea of the above-described method for manufacturing a glass substrate for magnetic disk and the description thereof can also be applied to the glass substrate for magnetic disk and the magnetic disk.

本発明によれば、ガラス基板の製造工程で生じる連続性を有する欠陥と不連続である欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させることが可能となる。 According to the present invention, it is possible to improve the yield of glass substrates by distinguishing between defects having continuity generated in the manufacturing process of the glass substrate and defects having discontinuity.

以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。かかる実施形態に示す寸法、材料、その他具体的な数値などは、発明の理解を容易とするための例示にすぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能、構成を有する要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略し、また本発明に直接関係のない要素は図示を省略する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The dimensions, materials, and other specific numerical values shown in the embodiment are merely examples for facilitating understanding of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. In the present specification and drawings, elements having substantially the same function and configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted, and elements not directly related to the present invention are not illustrated. To do.

本発明にかかる発明者らは、従来行っていた磁気ディスク用ガラス基板の平滑性の検査方法で検出された欠陥を鋭意検討した結果、欠陥にも連続性を有する欠陥を不連続な欠陥として検出されていることを見出し、連続性を有する欠陥を正確に判定して良品・不良品検査をすることによって、歩留まりを向上できることを見出し、本発明を完成するに至った。 The inventors of the present invention have intensively studied defects detected by the conventional method for inspecting the smoothness of a glass substrate for magnetic disks, and as a result, detected defects having continuity even as defects as discontinuous defects. It has been found that the yield can be improved by accurately determining defects having continuity and inspecting non-defective products / defective products, thereby completing the present invention.

すなわち、従来からもガラス基板を出荷する前にガラス基板の主表面に光を照射して検査することによってガラス基板が良品であるか否かを判断していた。しかし光を照射した検査にて良品と判定されたガラス基板の欠陥を詳しく調べてみると、連続性を有する欠陥であるものもあり、不良品であるのに良品であると判定されていることが分かった。 That is, conventionally, before shipping a glass substrate, it was judged whether or not the glass substrate is a non-defective product by irradiating the main surface of the glass substrate with light. However, when examining in detail the defects of glass substrates that were determined to be non-defective in the light irradiation inspection, there are some defects that have continuity, and it is determined that they are non-defective even though they are defective. I understood.

そこで、本実施形態においては、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、光を照射した検査で欠陥とされたものが連続した欠陥であるか否かを判定する連続欠陥判定工程の結果に基づいてガラス基板が良品であるか否かを判定する良品判定工程と、を含むこととした。これについて以下に説明する。 Therefore, in the present embodiment, in the method for manufacturing a magnetic disk glass substrate, based on the result of the continuous defect determination step for determining whether or not a defect in the inspection irradiated with light is a continuous defect. And a non-defective product determination step for determining whether or not the glass substrate is a good product. This will be described below.

まず、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板について説明する。図１は、磁気ディスク用ガラス基板の主表面の欠陥について説明する説明図である。 First, the glass substrate for magnetic disks according to this embodiment will be described. FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining a defect on the main surface of a glass substrate for a magnetic disk.

上記磁気ディスク用ガラス基板は、円板形状をしており、その中心には内孔が形成されている。そして磁気ディスク用ガラス基板１００は、図１に示すように、情報の記録再生領域となる主表面１１０と、当該主表面１１０に対して直交している端面１２０と、当該主表面１１０と端面１２０との間に介在している面取面１３０とを備えている。なお、後述する端面研磨工程により端面１２０と面取面１３０との境界が不明瞭となる場合もあるため、本発明は端面１２０とその両側の面取面１３０があわせて１つの曲面を構成する場合も含むものとする。 The magnetic disk glass substrate has a disk shape, and an inner hole is formed at the center thereof. As shown in FIG. 1, the magnetic disk glass substrate 100 includes a main surface 110 serving as an information recording / reproducing area, an end surface 120 orthogonal to the main surface 110, and the main surface 110 and the end surface 120. And a chamfered surface 130 interposed therebetween. In addition, since the boundary between the end surface 120 and the chamfered surface 130 may become unclear due to an end surface polishing process described later, the present invention constitutes one curved surface by combining the end surface 120 and the chamfered surfaces 130 on both sides thereof. Including cases.

主表面１１０は、情報を記録再生するための領域であるため、記録ヘッドが浮上走行するために実質的に平滑になっている。しかし上記ガラス基板１００を製造する上で、主表面１１０に不連続な凸欠陥(異物系)１４０（図１（ａ））や不連続な凹欠陥（ダメージもしくはキズ系）１４２（図１（ｂ））もしくは連続した凸欠陥(異物系)１５０（図１（ｃ））や連続した凹欠陥（ダメージもしくはキズ系）１５２（図１（ｄ））が形成されることもある。また、ガラス基板１００の製造過程で付着物（パーティクル系）が磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面に付着してしまうこともある。 Since the main surface 110 is an area for recording and reproducing information, the main surface 110 is substantially smooth for the recording head to fly. However, in manufacturing the glass substrate 100, the main surface 110 has a discontinuous convex defect (foreign matter system) 140 (FIG. 1A) and a discontinuous concave defect (damage or scratch system) 142 (FIG. 1B). )) Or continuous convex defects (foreign matter system) 150 (FIG. 1C) and continuous concave defects (damage or scratch system) 152 (FIG. 1D) may be formed. Further, in the process of manufacturing the glass substrate 100, deposits (particle type) may adhere to the main surface of the magnetic disk glass substrate 100.

次に本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について説明する。 Next, the manufacturing method of the glass substrate for magnetic disks concerning this embodiment is demonstrated.

図２は、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の流れを説明するためのフローチャートである。 FIG. 2 is a flowchart for explaining the flow of the method for manufacturing the magnetic disk glass substrate according to the present embodiment.

まず、後述する第１ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第２ラッピング工程、第１および第２研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦で平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板１００に光を照射し磁気ディスク用ガラス基板１００から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定する（Ｓ２００：基板状態測定工程）。 First, a flat and smooth high-rigidity magnetic disk glass is obtained by performing a first lapping step, a cutting step, an end surface polishing step, a second lapping step, first and second polishing steps, and a chemical strengthening step, which will be described later. The substrate 100 is irradiated with light and either or both of the intensity and / or displacement of the light reflected from the magnetic disk glass substrate 100 is measured (S200: substrate state measuring step).

図３は、基板状態測定工程Ｓ２００における測定方式を説明するための説明図である。図３に示すように、本実施形態において基板状態測定工程Ｓ２００は、表面欠陥検出装置（ＡＯＩ）３００を用いて行う。表面欠陥検出装置３００は、２種類のレーザ３０２（３０２ａ、３０２ｂ）と、４種類の検出器３０４（３０４ａ、３０４ｂ、３０４ｃ、３０４ｄ）と、ハーフミラー（もしくはビームスプリッタ）３０６と、を含んで構成される。 FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining a measurement method in the substrate state measurement step S200. As shown in FIG. 3, in this embodiment, the substrate state measurement step S <b> 200 is performed using a surface defect detection apparatus (AOI) 300. The surface defect detection apparatus 300 includes two types of lasers 302 (302a, 302b), four types of detectors 304 (304a, 304b, 304c, 304d), and a half mirror (or beam splitter) 306. Is done.

レーザ３０２ａは、波長７８０±１５ｎｍ、ビーム径１２０μｍ×１５μｍの半導体レーザであり、レーザ３０２ｂは、波長６７０±１０ｎｍ、ビーム径２０００μｍ×７００５μｍの半導体レーザである。検出器３０４は、フォトディテクタで構成されている。 The laser 302a is a semiconductor laser having a wavelength of 780 ± 15 nm and a beam diameter of 120 μm × 15 μm, and the laser 302b is a semiconductor laser having a wavelength of 670 ± 10 nm and a beam diameter of 2000 μm × 7005 μm. The detector 304 is composed of a photo detector.

図４は、表面欠陥検出装置３００の検出器３０４が検出可能な欠陥について説明するための説明図である。 FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining defects that can be detected by the detector 304 of the surface defect detection apparatus 300.

レーザ３０２ａを用い検出器３０４ａで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面上に含まれる欠陥から反射される散乱光を検出する。これにより、検出器３０４ａでは、付着物や０．１μｍ^２程度の凹欠陥を検出することができる。レーザ３０２ａを用い検出器３０４ｂで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面上に含まれる欠陥から反射される指向性のある散乱回折光の光量変化を検出する。これにより、検出器３０４ｂでは、付着物、０．１μｍ^２程度の凹欠陥、内包物を検出することができる。レーザ３０２ａを用い検出器３０４ｃで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面上に含まれる欠陥からの正反射光量の増光もしくは減光を検出する。これより、検出器３０４ｃでは、散乱や回折が生じにくい凸欠陥、凹欠陥、１μｍ^２以上の凹欠陥、内包物を検出することができる。 When inspected by the detector 304a using the laser 302a, the scattered light reflected from the defect contained on the main surface of the magnetic disk glass substrate 100 is detected. Thereby, the detector 304a can detect a deposit or a concave defect of about 0.1 μm ² . When the detector 304b is inspected using the laser 302a, a change in the amount of scattered diffracted light having directivity reflected from a defect included on the main surface of the magnetic disk glass substrate 100 is detected. As a result, the detector 304b can detect deposits, concave defects of about 0.1 μm ² , and inclusions. When the inspection is performed by the detector 304c using the laser 302a, an increase or decrease in the amount of specular reflection light from a defect included on the main surface of the magnetic disk glass substrate 100 is detected. Accordingly, the detector 304c can detect convex defects, concave defects, concave defects of 1 μm ² or more, and inclusions that are unlikely to cause scattering or diffraction.

レーザ３０２ｂを用い検出器３０４ｄで検査した場合、磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面上に含まれる欠陥からの正反射光量の増光もしくは減光を検出する。これより、検出器３０４ｄでは、散乱や回折が生じにくいなだらかな凸欠陥やなだらかな凹欠陥を検出することができる。 When the detector 304d is inspected using the laser 302b, an increase or decrease in the amount of specular reflection light from a defect included on the main surface of the magnetic disk glass substrate 100 is detected. As a result, the detector 304d can detect a gentle convex defect or a gentle concave defect that hardly causes scattering or diffraction.

図５は、基板マップを説明するための説明図である。図５（ａ）に示すように、基板状態測定工程Ｓ２００において検出器３０４で検出された結果をマッピングし、基板マップ４００を作成する（Ｓ２０２：基板マップ作成工程）。作成した基板マップ４００を、マトリクス状の複数の領域に分割し、各領域ごとに欠陥があるか否かを判定する（Ｓ２０４：欠陥判定工程）。本実施形態において、基板マップ４００をマトリクス状に複数に分割する領域（ピクセル）の面積は、０．１μｍ^２である。さらに本実施形態では、１ピクセルにおける欠陥の占有面積が５０％未満であるものは欠陥でないと認識し、占有面積が５０％以上であるものを欠陥であると認識し、欠陥でないものを０値、欠陥を１値として２値化している。 FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining the substrate map. As shown in FIG. 5A, the result detected by the detector 304 in the substrate state measurement step S200 is mapped to create a substrate map 400 (S202: substrate map creation step). The created substrate map 400 is divided into a plurality of matrix areas, and it is determined whether or not each area has a defect (S204: defect determination step). In the present embodiment, the area of the region (pixel) that divides the substrate map 400 into a plurality of matrix shapes is 0.1 μm ² . Furthermore, in the present embodiment, a case where the occupied area of a defect in one pixel is less than 50% is recognized as a defect, a case where the occupied area is 50% or more is recognized as a defect, and a non-defect is 0 value. , The defect is binarized as one value.

次に、欠陥判定工程Ｓ２０４おいて欠陥があると判定されたピクセルに隣接するピクセルに欠陥がある場合に複数のピクセルにまたがって連続した１つの欠陥であると判定する（Ｓ２０６：連続欠陥判定工程）。 Next, when there is a defect in a pixel adjacent to the pixel determined to have a defect in the defect determination step S204, it is determined that the defect is a single continuous defect across a plurality of pixels (S206: continuous defect determination step). ).

図５（ｂ）は、不連続の欠陥を解析した結果であり、図５（ｃ）および（ｄ）は連続した欠陥を解析した結果である。図５（ｂ）に示すように、連続していない欠陥は、隣接するピクセル間を連続的にまたぐことがないため、隣接するピクセルには欠陥がないと判定される。これにより、不連続な欠陥であることを容易に判定することができる。 FIG. 5B shows the results of analyzing discontinuous defects, and FIGS. 5C and 5D show the results of analyzing continuous defects. As shown in FIG. 5B, since the non-contiguous defect does not continuously straddle between adjacent pixels, it is determined that the adjacent pixel has no defect. Thereby, it can be easily determined that the defect is discontinuous.

一方、」図５（ｃ）、（ｄ）に示すように０．１μｍ^２以上の欠陥であれば、連続した欠陥は、隣接するピクセル間を連続的にまたぐこととなるため、解析結果を２値化したものを判断すれば、様々な既存の判定方法を用いて、複数のピクセルにまたがった連続した１つの欠陥であるか否かを確実に判定することができる。 On the other hand, as shown in FIGS. 5 (c) and 5 (d), if the defect is 0.1 μm ² or more, the continuous defect continuously spans between adjacent pixels. By determining what has been converted into a value, it is possible to reliably determine whether or not the defect is one continuous defect extending over a plurality of pixels using various existing determination methods.

さらに連続欠陥判定工程Ｓ２０６において連続した欠陥であると判定された欠陥の形状および面積を、既存の解析方法を用いて解析する（Ｓ２０８：形状解析工程）。例えば図５（ｃ）に示すような形状の場合、１.４μｍ^２のスクラッチであり、図５（ｄ）に示すような形状の場合、０．９μｍ^２の欠陥であると解析される。 Furthermore, the shape and area of the defect determined to be a continuous defect in the continuous defect determination step S206 are analyzed using an existing analysis method (S208: shape analysis step). For example, in the case of the shape shown in FIG. 5 (c), a scratch of 1.4 [mu] m ^2, the case of the shape shown in FIG. 5 (d), it is analyzed to be defective in the 0.9 .mu.m ^2.

形状解析工程Ｓ２０８の結果に基づいて、連続した欠陥が特定形状であると判定された場合（Ｓ２１０：特定形状判定工程）、不良品であると判定する（Ｓ２１２：不良品決定工程）。 Based on the result of the shape analysis step S208, when it is determined that a continuous defect has a specific shape (S210: specific shape determination step), it is determined to be a defective product (S212: defective product determination step).

本実施形態において、特定形状はスクラッチとしているが、これに限定されず、ガラス基板の利用用途によって任意に変更することができる。 In the present embodiment, the specific shape is a scratch, but is not limited to this, and can be arbitrarily changed depending on the usage of the glass substrate.

次に、特定形状判定工程Ｓ２１０において、特定形状でないと判定された欠陥の面積が０．３μｍ^２を超えたか否かを判定する（Ｓ２１４：閾値判定工程）。閾値判定工程Ｓ２１４において、０．３μｍ^２を超えていないと判定された欠陥すなわち０．１μｍ^２を超え０．３μｍ^２を超えていない欠陥および連続欠陥判定工程Ｓ２０６にて連続していないと判定された欠陥（以下、小欠陥とする。）の個数を計数する（Ｓ２１６：第１計数工程）。閾値判定工程Ｓ２１４において、０．３μｍ^２を超えた欠陥（以下、大欠陥とする。）はさらに１μｍ^２を超えた欠陥であるか否かを判定し（Ｓ２１８：第２閾値判定工程）、１μｍ^２以下であれば個数を計数し（Ｓ２２０：第２計数工程）、１μｍ^２以上であれば不良品であると判定する（Ｓ２１２：不良品決定工程）。 Next, in the specific shape determination step S210, it is determined whether or not the area of the defect determined to be not the specific shape has exceeded 0.3 μm ² (S214: threshold determination step). In the threshold determination step S214, it is determined that not continuous at defects and continuous defect determination step S206 does not exceed the 0.3 [mu] m ² exceeds a defect i.e. 0.1 [mu] m ² determined not to exceed the 0.3 [mu] m ² The number of defects (hereinafter referred to as small defects) is counted (S216: first counting step). In the threshold determination step S214, it is determined whether or not a defect exceeding 0.3 μm ² (hereinafter referred to as a large defect) is a defect exceeding 1 μm ² (S218: second threshold determination step), 1 μm. If it is ² or less, the number is counted (S220: second counting step), and if it is 1 μm ² or more, it is determined as a defective product (S212: defective product determining step).

第１計数定工程Ｓ２１６の結果および第２計数工程Ｓ２２０の結果に基づいて基板を良品であるか否かを判定し（Ｓ２２２：良品判定工程）、小欠陥の個数および大欠陥の個数が所定値を満たしていれば、良品として判定され（良品決定工程Ｓ２２４）、所定値を満たしていなければ、不良品となる（Ｓ２１２：不良品決定工程）。良品判定工程Ｓ２２２において、所定値は、例えば、小欠陥の個数を５０個以下とし大欠陥の個数を１０個以下としてもよい。 Based on the result of the first counting step S216 and the result of the second counting step S220, it is determined whether or not the substrate is a non-defective product (S222: non-defective product determining step), and the number of small defects and the number of large defects are predetermined values. Is satisfied (non-defective product determination step S224), and if the predetermined value is not satisfied, the product is defective (S212: defective product determination step). In the non-defective product determination step S222, the predetermined value may be, for example, 50 or less small defects and 10 or less large defects.

上述した如く、本実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板１００の製造方法によれば、欠陥判定工程Ｓ２０２において欠陥を特定し、連続欠陥判定工程Ｓ２０４において特定した欠陥が連続性を有するか否かを判定することにより、従来見逃されていた連続性を有する欠陥を検出することができ、誤判定を防止することができる。これにより、検査の信頼性を向上させることが可能となる。 As described above, according to the method for manufacturing the magnetic disk glass substrate 100 according to the present embodiment, the defect is identified in the defect determination step S202, and whether or not the defect identified in the continuous defect determination step S204 has continuity. By making a determination, it is possible to detect a defect having continuity that has been overlooked in the past, and prevent erroneous determination. As a result, the reliability of the inspection can be improved.

（実施例）
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクについて実施例を説明する。この磁気ディスク用ガラス基板１００および磁気ディスクは、０．８インチ型ディスク（内径６ｍｍ、外径２１．６ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．０インチ型ディスク（内径７ｍｍ、外径２７．４ｍｍ、板厚０．３８１ｍｍ）、１．８インチ型磁気ディスク（内径１２ｍｍ、外径４８ｍｍ、板厚０．５０８ｍｍ）などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。また、２．５インチ型ディスクや３．５インチ型ディスクとして製造してもよい。 (Example)
Examples of the method for manufacturing a glass substrate for magnetic disk, the glass substrate for magnetic disk, and the magnetic disk to which the present invention is applied will be described below. The glass substrate 100 for magnetic disk and the magnetic disk are 0.8 inch type disk (inner diameter 6 mm, outer diameter 21.6 mm, plate thickness 0.381 mm), 1.0 inch type disk (inner diameter 7 mm, outer diameter 27.4 mm). , Plate thickness 0.381 mm), 1.8 inch type magnetic disk (inner diameter 12 mm, outer diameter 48 mm, plate thickness 0.508 mm) and the like. Further, it may be manufactured as a 2.5 inch type disc or a 3.5 inch type disc.

（１）形状加工工程および第１ラッピング工程
本実施形態においてガラス基板１００の材質としてはソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられるが、中でもアルミノシリケートガラスが好適である。アルミノシリケートガラスは、平滑かつ高剛性が得られるので、磁気的スペーシング、特に、磁気ヘッドの浮上量をより安定して低減できる。また、アルミノシリケートガラスは化学強化により、高い剛性強度を得ることができる。 (1) Shape processing step and first lapping step Examples of the material of the glass substrate 100 in the present embodiment include soda lime glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, and crystallized glass. Among these, aluminosilicate glass is preferable. is there. Since the aluminosilicate glass is smooth and has high rigidity, the magnetic spacing, particularly the flying height of the magnetic head, can be more stably reduced. Aluminosilicate glass can obtain high rigidity and strength by chemical strengthening.

まず、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、化学強化用のガラスを使用した。ダイレクトプレス以外に、ダウンドロー法やフロート法で形成したシートガラスから研削砥石で切り出して円板状の磁気ディスク用ガラス基板１００を得てもよい。なお、アルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ_２：５８〜７５重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：５〜２３重量％、Ｌｉ_２Ｏ：３〜１０重量％、Ｎａ_２Ｏ：４〜１３重量％を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。 First, the melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper mold, a lower mold, and a barrel mold to obtain an amorphous plate glass. In addition, the glass for chemical strengthening was used as aluminosilicate glass. In addition to direct pressing, a disk-shaped glass substrate 100 for a magnetic disk may be obtained by cutting a sheet glass formed by a downdraw method or a float method with a grinding wheel. As the aluminosilicate _glass, SiO 2: 58 to 75 _wt%, _Al 2 O 3: _5~23 _wt%, Li 2 O: 3 to 10 _wt%, Na 2 O: 4 to 13 principal component weight% The chemically strengthened glass contained as was used.

次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。 Next, both main surfaces of the plate glass were lapped to form a disk-shaped glass base material. This lapping process was performed using alumina free abrasive grains with a double-sided lapping apparatus using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen is pressed from above and below on both sides of the plate glass, a grinding liquid containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the plate glass, and these are moved relatively to perform lapping. went. By this lapping process, a glass base material having a flat main surface was obtained.

（２）切り出し工程（コアリング、フォーミング）
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円板状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板１００とした（コアリング）。そして内周端面および外周端面１２０をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した（フォーミング）。 (2) Cutting process (coring, forming)
Next, the glass base material was cut using a diamond cutter, and a disk-shaped glass substrate was cut out from the glass base material. Next, using a cylindrical diamond drill, an inner hole was formed in the central portion of the glass substrate to obtain an annular glass substrate 100 (coring). Then, the inner peripheral end face and the outer peripheral end face 120 were ground with a diamond grindstone and subjected to predetermined chamfering (forming).

（３）第２ラッピング工程
次に、得られたガラス基板１００の両主表面１１０について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行った。この第２ラッピング工程を行なうことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面１１０に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。 (3) Second Lapping Step Next, the second lapping process was performed on both main surfaces 110 of the obtained glass substrate 100 in the same manner as in the first lapping step. By performing this second lapping step, the fine irregularities formed on the main surface in the cutting step and end surface polishing step, which are the previous steps, can be removed in advance, and the subsequent polishing step for the main surface 110 can be performed. It can be completed in a short time.

（４）端面研磨工程
次に、ガラス基板１００の外周の端面研磨を行なう。まず端面１２０については、面取面１３０に先立ち、単独で研磨を行なう。研磨の方法は、例えば複数枚のガラス基板１００を同時にブラシにて研磨する方法でもよいが、取代が多くなってしまう。そこで、例えば枚葉式の研磨方法を用いてよい。 (4) End surface polishing step Next, end surface polishing of the outer periphery of the glass substrate 100 is performed. First, the end surface 120 is polished independently prior to the chamfered surface 130. The polishing method may be, for example, a method in which a plurality of glass substrates 100 are simultaneously polished with a brush, but the machining allowance increases. Therefore, for example, a single wafer polishing method may be used.

続いて面取面１３０については、鏡面研磨を行った。これにより、１枚のガラス基板１００の面取面１３０の、外周の全周における表面粗さの差は、０．００１μｍ以下の範囲になった。そして、端面研磨工程を終えたガラス基板１００を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板１００の端面１２０は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。 Subsequently, the chamfered surface 130 was mirror-polished. Thereby, the difference of the surface roughness in the perimeter of the outer periphery of the chamfered surface 130 of one glass substrate 100 became the range of 0.001 micrometer or less. And the glass substrate 100 which finished the end surface grinding | polishing process was washed with water. By this end face polishing step, the end face 120 of the glass substrate 100 was processed into a mirror state that can prevent the precipitation of sodium and potassium.

なお、本実施例では端部の研磨を行った後に面取面１３０の研磨を行なうよう説明した。しかしこの順序については任意であって、面取面１３０の研磨を先に行ってから端面１２０の研磨を行ってもよい。 In this embodiment, it has been described that the chamfered surface 130 is polished after the end portion is polished. However, this order is arbitrary, and the end face 120 may be polished after the chamfered surface 130 is polished first.

次に、内周端面については、多数枚積層したガラス基板ブロックを形成し、面取りした内周端部をブラシロールにて同時に研磨してよい。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いた。 Next, regarding the inner peripheral end surface, a glass substrate block in which a large number of sheets are laminated may be formed, and the chamfered inner peripheral end portion may be simultaneously polished with a brush roll. At this time, as the abrasive grains, a slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used.

（５）主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第１研磨工程を施した。この第１研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面１１０に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第１研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面１１０の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。 (5) Main surface polishing step As the main surface polishing step, first, a first polishing step was performed. The first polishing step is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface 110 in the lapping step described above. In the first polishing step, the main surface 110 was polished using a hard resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains were used.

この第１研磨工程を終えたガラス基板１００を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。 The glass substrate 100 which finished this 1st grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) sequentially, and was wash | cleaned.

次に、主表面研磨工程として、第２研磨工程を施した。この第２研磨工程は、主表面１１０を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第２研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面１１０の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。 Next, a second polishing step was performed as the main surface polishing step. The purpose of the second polishing step is to finish the main surface 110 in a mirror shape. In the second polishing step, mirror polishing of the main surface 110 was performed using a soft foam resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used.

この第２研磨工程を終えたガラス基板１００を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。 The glass substrate 100 which finished this 2nd grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) one by one, and was wash | cleaned. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

（６）化学強化工程
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板１００に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム（６０％）と硝酸ナトリウム（４０％）を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を４００℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板１００を３００℃に予熱し、化学強化溶液中に約３時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板１００の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板１００が端面１２０で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。 (6) Chemical strengthening process Next, the glass substrate 100 which finished the above-mentioned lapping process and polishing process was chemically strengthened. For chemical strengthening, a chemical strengthening solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and the chemically strengthened solution is heated to 400 ° C. and the cleaned glass substrate 100 is heated to 300 ° C. This was done by preheating and immersing in a chemical strengthening solution for about 3 hours. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass substrate 100, the plurality of glass substrates 100 were stored in a holder so that the glass substrate 100 was held by the end surface 120.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板１００の表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板１００が強化される。ガラス基板１００の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００μｍ乃至２００μｍであった。 Thus, by immersing in the chemical strengthening solution, the lithium ions and sodium ions in the surface layer of the glass substrate 100 are replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively, and the glass substrate 100 is strengthened. The thickness of the compressive stress layer formed on the surface layer of the glass substrate 100 was about 100 μm to 200 μm.

化学強化処理を終えたガラス基板１００を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板１００を、約４０℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板１００を純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。 The glass substrate 100 that had been subjected to the chemical strengthening treatment was immersed in a water bath at 20 ° C. for rapid cooling and maintained for about 10 minutes. And the glass substrate 100 which finished quenching was immersed in the concentrated sulfuric acid heated at about 40 degreeC, and was wash | cleaned. Furthermore, the glass substrate 100 that had been subjected to the sulfuric acid cleaning was sequentially immersed and cleaned in each cleaning tank of pure water and IPA (isopropyl alcohol). In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

上記の如く、第１ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第２ラッピング工程、第１および第２研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦で平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板１００を得た。 As described above, by applying the first lapping step, the cutting step, the end surface polishing step, the second lapping step, the first and second polishing steps, and the chemical strengthening step, a flat and smooth high-rigidity magnetic disk glass A substrate 100 was obtained.

（７）検査工程
得られた磁気ディスク用ガラス基板１００の主表面１１０について検査を行った。図２に示すように、検査工程は、磁気ディスク用ガラス基板１００に光を照射し磁気ディスク用ガラス基板１００から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定する基板状態測定工程Ｓ２００と、測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方をマッピングし基板マップ４００を作成する基板マップ作成工程Ｓ２０２と、作成した基板マップ４００をマトリクス状の複数の領域に分割し、各領域ごとに測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方に基づいて欠陥があるか否かを判定する欠陥判定工程Ｓ２０４と、欠陥があると判定された領域に隣接する領域に欠陥がある場合に複数の領域にまたがって連続した１つの欠陥であると判定する連続欠陥判定工程Ｓ２０６と、欠陥の個数および大きさを計数する計数工程（第１計数工程Ｓ２１６および第２計数工程Ｓ２２０）と、連続欠陥判定工程Ｓ２０６の結果および計数工程の結果に基づいて基板を良品であるか否かを判定する良品判定工程Ｓ２２２と、を含む。 (7) Inspection process The main surface 110 of the obtained magnetic disk glass substrate 100 was inspected. As shown in FIG. 2, in the inspection step, the substrate state measuring step S200 for irradiating the magnetic disk glass substrate 100 with light and measuring either or both of the intensity and / or displacement of the light reflected from the magnetic disk glass substrate 100. A substrate map creating step S202 for mapping one or both of the measured light intensity and / or displacement to create a substrate map 400, and dividing the created substrate map 400 into a plurality of regions in a matrix. A defect determination step S204 for determining whether or not there is a defect based on either or both of the light intensity and / or displacement measured in the case of the above, and when there is a defect in an area adjacent to the area determined to be defective Continuous defect determination step S206 for determining that the defect is continuous across a plurality of regions, and the number and size of defects. A counting step (first counting step S216 and second counting step S220) for counting, a non-defective product determining step S222 for determining whether the substrate is non-defective based on the result of the continuous defect determining step S206 and the result of the counting step; ,including.

図６は、従来のＡＯＩ検査における良品と、実施例にかかるＡＯＩ検査における良品とを、作業員が画像をビジュアル検査（表面画像を目視することによる検査）し、正当率を判断したものを説明するための説明図である。図６に示すように、従来のＡＯＩ検査で良品と判断されたもののうち約３％は連続傷などの原因により不良と判断すべきであり、正当率は約９７％であった。これに対し実施例にかかるＡＯＩ検査において良品と判断されたものは、ほぼ全てがビジュアル検査においても良品と判断された。このように、ガラス基板の製造工程で生じる連続性を有する欠陥と不連続である欠陥とを区別することで、ガラス基板の歩留まりを向上させて製造コストの低減を図ることができると共に、極めて高い確率で良品を出荷することができるため顧客満足度を飛躍的に向上させることができる。 FIG. 6 illustrates a case in which an operator visually inspects a non-defective product in the conventional AOI inspection and a non-defective product in the AOI inspection according to the embodiment, and judges the correctness rate by visual inspection of the image (inspection by visually observing the surface image). It is explanatory drawing for doing. As shown in FIG. 6, about 3% of those judged as non-defective products by the conventional AOI inspection should be judged as defective due to continuous flaws, and the correct rate was about 97%. On the other hand, almost all the products judged as good products in the AOI inspection according to the example were judged as good products in the visual inspection. Thus, by distinguishing between defects having continuity and defects that are discontinuous that occur in the manufacturing process of the glass substrate, it is possible to improve the yield of the glass substrate and reduce the manufacturing cost, and extremely high Since good products can be shipped with probability, customer satisfaction can be dramatically improved.

（８）磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られたガラス基板１００の両面に、ガラス基板１００の表面にＣｒ合金からなる付着層、ＣｏＴａＺｒ基合金からなる軟磁性層、Ｒｕからなる下地層、ＣｏＣｒＰｔ基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。 (8) Magnetic disk manufacturing process On both surfaces of the glass substrate 100 obtained through the above-described steps, an adhesion layer made of a Cr alloy on the surface of the glass substrate 100, a soft magnetic layer made of a CoTaZr-based alloy, an underlayer made of Ru, A perpendicular magnetic recording disk was manufactured by sequentially forming a perpendicular magnetic recording layer made of a CoCrPt-based alloy, a protective layer made of hydrogenated carbon, and a lubricating layer made of perfluoropolyether. Although this configuration is an example of a configuration of a perpendicular magnetic disk, a magnetic layer or the like may be configured as an in-plane magnetic disk.

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクとして利用することができる。 The present invention can be used as a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, a glass substrate for a magnetic disk, and a magnetic disk.

磁気ディスク用ガラス基板の主表面の欠陥について説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the defect of the main surface of the glass substrate for magnetic discs. 実施形態にかかる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の流れを説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the flow of the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs concerning embodiment. 基板状態測定工程における測定方式を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the measuring system in a board | substrate state measurement process. 表面欠陥検出装置の検出器が検出可能な欠陥について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the defect which the detector of a surface defect detection apparatus can detect. 基板マップを説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating a board | substrate map. 従来のＡＯＩ検査における良品と、実施例にかかるＡＯＩ検査における良品とを、作業員が画像をビジュアル検査し、正当率を判断したものを説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating what the quality factor in the conventional AOI test | inspection and the non-defective item in the AOI test | inspection concerning an Example judged by the visual inspection of the image of the worker.

符号の説明Explanation of symbols

１０ …欠陥
１００ …磁気ディスク用ガラス基板
１１０ …主表面
１２０ …端面
１３０ …面取面
１４０ …不連続な凸欠陥
１４２ …不連続な凹欠陥
１５０ …連続した凸欠陥
１５２ …連続した凹欠陥
３００ …表面欠陥検出装置（ＡＯＩ）
３０２ …レーザ
３０４ …検出器
４００ …基板マップ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Defect 100 ... Glass substrate 110 for magnetic discs ... Main surface 120 ... End surface 130 ... Chamfering surface 140 ... Discontinuous convex defect 142 ... Discontinuous concave defect 150 ... Continuous convex defect 152 ... Continuous concave defect 300 ... Surface defect detector (AOI)
302 ... Laser 304 ... Detector 400 ... Substrate map

Claims

中心に内孔を有する円板状の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記基板に光を照射し該基板から反射した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方を測定する基板状態測定工程と、
前記測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方をマッピングし基板マップを作成する基板マップ作成工程と、
前記作成した基板マップをマトリクス状の複数の領域に分割し、各領域ごとに前記測定した光の強度もしくは変位のいずれか一方または両方に基づいて欠陥があるか否かを判定する欠陥判定工程と、
前記欠陥があると判定された領域に隣接する領域に欠陥がある場合に複数の領域にまたがって連続した１つの欠陥であると判定する連続欠陥判定工程と、
欠陥の個数および大きさを計数する計数工程と、
前記連続欠陥判定工程の結果および前記計数工程の結果に基づいて前記基板を良品であるか否かを判定する良品判定工程と、
を含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 A method of manufacturing a disk-shaped magnetic disk glass substrate having an inner hole in the center,
A substrate state measuring step of irradiating the substrate with light and measuring either or both of the intensity or displacement of the light reflected from the substrate;
A substrate map creating step for mapping one or both of the measured light intensity and displacement and creating a substrate map;
A defect determination step of dividing the created substrate map into a plurality of regions in a matrix and determining whether or not there is a defect based on one or both of the measured light intensity and displacement for each region; ,
A continuous defect determination step for determining that there is one defect continuous across a plurality of areas when there is a defect in an area adjacent to the area determined to have the defect;
A counting process for counting the number and size of defects;
A non-defective product determining step for determining whether the substrate is non-defective based on the result of the continuous defect determining step and the result of the counting step;
The manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs characterized by the above-mentioned.

前記複数に分割された領域の面積は０．１μｍ^２であることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 ^{2. The} method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the area of the plurality of divided regions is 0.1 [mu] m < ² >.

前記基板状態測定工程において前記基板から反射した光は、散乱光もしくは回折光のいずれか一方または両方であることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 3. The method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1, wherein the light reflected from the substrate in the substrate state measuring step is one or both of scattered light and diffracted light.

請求項１から３のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。 A glass substrate for a magnetic disk manufactured by the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to any one of claims 1 to 3.

請求項１から４のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成したことを特徴とする磁気ディスク。 5. A magnetic disk comprising at least a magnetic layer formed on a surface of a glass substrate obtained by the method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1.