JP2009231558A

JP2009231558A - Plasma processing device, gas supply member, and its production process

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Publication number: JP2009231558A
Application number: JP2008075553A
Authority: JP
Inventors: Shinya Nishimoto; 伸也西本
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2008-03-24
Filing date: 2008-03-24
Publication date: 2009-10-08

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a high quality gas supply member by bonding a plurality of metal blocks tightly while preventing solder material from overflowing into a channel formed between the metal blocks. <P>SOLUTION: On the bonding surface of a plurality of metal blocks 60-62, solder paste 75 is applied to a region separated inward from the outer edge of the bonding surface, the plurality of metal blocks 60-62 are then brought into pressure contact with each other and heated to solder the plurality of metal blocks 60-62 and produce a gas supply member 40. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、処理容器内にプラズマを生成して基板を処理するプラズマ処理装置に配置されるガス供給部材に関する。 The present invention relates to a gas supply member disposed in a plasma processing apparatus for processing a substrate by generating plasma in a processing container.

従来から、例えば成膜処理やエッチング処理においては、例えばマイクロ波を用いたプラズマ処理装置が使用されている。さらにマイクロ波を用いたプラズマ処理装置においては、処理容器内に水平に配置された、シャワープレートと呼ばれるガス供給部材が用いられている。このシャワープレートの内部には、処理ガスの流路が形成されており、シャワープレートの下面には、処理容器内に処理ガスを供給するためのガス供給孔が多数形成されている。 Conventionally, for example, in a film forming process or an etching process, for example, a plasma processing apparatus using a microwave is used. Further, in a plasma processing apparatus using a microwave, a gas supply member called a shower plate, which is disposed horizontally in a processing container, is used. A flow path for processing gas is formed inside the shower plate, and a number of gas supply holes for supplying processing gas into the processing container are formed on the lower surface of the shower plate.

ところで、このように処理容器の内部にシャワープレートを有するプラズマ処理装置を用いて、例えばプラズマＣＶＤ処理を行う場合、シャワープレートがプラズマの熱で加熱されて変形するのを防止したり、シャワープレートに反応生成物が付着するのを防止するため、シャワープレート自体の温度を一定温度にコントロールすることが望ましい。また、シャワープレートの温度が一定でないと、シャワープレートの下方に配置されている基板の温度が変わり、安定した均一な処理ができなくなる恐れがある。そこで従来より、処理ガスの流路とは別に、ガスや液体などの冷媒を流通させる流路をシャワープレートの内部に設け、シャワープレート内に冷媒を循環させることによって冷却することが行われている。 By the way, when performing a plasma CVD process, for example, using a plasma processing apparatus having a shower plate inside the processing container as described above, the shower plate is prevented from being deformed by being heated by the heat of the plasma. In order to prevent the reaction product from adhering, it is desirable to control the temperature of the shower plate itself to a constant temperature. Further, if the temperature of the shower plate is not constant, the temperature of the substrate disposed below the shower plate may change, and stable and uniform processing may not be performed. Therefore, conventionally, in addition to the flow path of the processing gas, a flow path for circulating a refrigerant such as gas or liquid is provided inside the shower plate, and cooling is performed by circulating the coolant in the shower plate. .

このように、シャワープレートの内部には、処理ガスの流路や冷媒の流路が別々に設けられており、しかも、シャワープレートの全体に処理ガスや冷媒を流通させるために、各流路は複雑な形状を有している。このため、特許文献１に示されるように、複数の板状の金属ブロックを上下に重ね合わせて、シャワープレートを製造することが行われている。この方法によれば、金属ブロック同士の間に、複雑な形状の流路を容易に形成させることができる。 As described above, the processing gas flow path and the refrigerant flow path are separately provided in the shower plate, and in order to distribute the processing gas and the refrigerant throughout the shower plate, It has a complicated shape. For this reason, as shown in Patent Document 1, a shower plate is manufactured by stacking a plurality of plate-like metal blocks on top and bottom. According to this method, a complicated-shaped channel can be easily formed between metal blocks.

特開２００３−２４７０７３号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2003-247073

上述のようにシャワープレートの内部には、処理ガスの流路や冷媒の流路といった複数の流路が設けられるが、各流路はシャワープレートの内部においてそれぞれ密閉させることが必要であり、各流路同士は互いに連通しないようにしなければならない。例えば冷媒の流路には、約０．６ＭＰａの状態で冷媒が循環供給されるが、冷媒の流路が密閉されていないと、処理時に真空にされる処理容器の内部に冷媒が漏れ出てしまう。そのため、複数の板状の金属ブロックを接合してシャワープレートを製造する場合、各金属ブロック同士を気密に密着させた状態で接合させることが必要になる。 As described above, a plurality of flow paths such as a process gas flow path and a refrigerant flow path are provided inside the shower plate, but each flow path needs to be sealed inside the shower plate. The flow paths must not communicate with each other. For example, the refrigerant is circulated and supplied to the refrigerant flow path at a state of about 0.6 MPa. However, if the refrigerant flow path is not sealed, the refrigerant leaks into the processing container that is evacuated during processing. End up. Therefore, when a shower plate is manufactured by joining a plurality of plate-like metal blocks, it is necessary to join the metal blocks in a state in which the metal blocks are tightly adhered to each other.

そこで、上記特許文献１には、複数の金属ブロック同士をボルトで仮止めし、更に金属拡散接合によって各金属ブロック同士を密着させる技術が開示されている。しかしながら、金属拡散接合によって金属ブロック同士を密着させて真空シールすることは相当に困難である。 Therefore, Patent Document 1 discloses a technique in which a plurality of metal blocks are temporarily fixed with bolts, and the metal blocks are brought into close contact with each other by metal diffusion bonding. However, it is considerably difficult to seal the metal blocks closely by metal diffusion bonding.

一方、金属ブロック同士を密着させるために、金属ブロック同士の接合面をろう箔やろうペーストによって隙間なくろう付けさせることも考えられる。しかしながら、従来のろう付けでは、金属ブロック同士の間に形成される流路に、ろう箔やろうペーストといったろう材がはみ出てしまう問題があった。例えば、処理ガスの流路にろう材がはみ出ると、流路内においてろう材が壁面から剥離して、パーティクルの原因となる恐れがある。 On the other hand, in order to make the metal blocks adhere to each other, it is conceivable that the joint surfaces of the metal blocks are brazed with a wax foil or a solder paste without a gap. However, the conventional brazing has a problem that brazing material such as brazing foil and brazing paste protrudes into the flow path formed between the metal blocks. For example, if the brazing material protrudes into the flow path of the processing gas, the brazing material may peel from the wall surface in the flow path, which may cause particles.

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、金属ブロック同士の間に形成される流路にろう材をはみ出させずに、複数の金属ブロックを密着させて接合させることにより、高品質のガス供給部材を製造することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above points, and without causing the brazing material to protrude into the flow path formed between the metal blocks, a plurality of metal blocks are brought into close contact with each other, thereby allowing high quality. The object is to produce a gas supply member.

前記目的を達成するため、本発明によれば、処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置の処理容器内に配置される、内部に処理ガスの流路が形成されたガス供給部材であって、複数の金属ブロックが、ろうペーストを用いてろう付けされており、ろうペーストの塗布位置が、複数の金属ブロック同士の接合面において、前記接合面の外縁よりも内側に離れた領域であることを特徴とする、プラズマ処理装置のガス供給部材が提供される。 In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided a gas supply member that is disposed in a processing vessel of a plasma processing apparatus that processes a substrate by converting the processing gas into plasma, and in which a processing gas flow path is formed. The plurality of metal blocks are brazed using a brazing paste, and the application position of the brazing paste is in a region separated from the outer edge of the joint surface at the joint surface between the plurality of metal blocks. There is provided a gas supply member of a plasma processing apparatus.

このガス供給部材において、例えば、前記複数の金属ブロックは板状であり、上下に重ね合わせた状態でろう付けされている。前記接合面の外縁近傍に、外縁に沿って１または２以上の溝が設けられていても良い。また、前記接合面において、下方に配置される金属ブロックの壁面上部に、外側に広がるテーパ面部が設けられていても良い。また、ガス供給部材の内部に、熱媒の流路が形成されていても良い。 In this gas supply member, for example, the plurality of metal blocks are plate-like and are brazed in a state where they are stacked one above the other. One or two or more grooves may be provided in the vicinity of the outer edge of the joint surface along the outer edge. Moreover, the taper surface part which spreads outside may be provided in the wall surface upper part of the metal block arrange | positioned below in the said joint surface. Further, a heat medium flow path may be formed inside the gas supply member.

また、本発明によれば、処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置の処理容器内に配置される、内部に処理ガスの供給流路が形成されたガス供給部材を製造する方法であって、複数の金属ブロック同士の接合面において、前記接合面の外縁よりも内側に離れた領域にろうペーストを塗布し、前記複数の金属ブロック同士を圧接させ、加熱することにより、前記複数の金属ブロック同士をろう付けさせて前記ガス供給部材を製造することを特徴とする、ガス供給部材の製造方法が提供される。 According to the present invention, there is provided a method for producing a gas supply member having a processing gas supply channel formed therein, which is disposed in a processing container of a plasma processing apparatus for processing a substrate by converting the processing gas into plasma. In the bonding surface between the plurality of metal blocks, a solder paste is applied to a region separated from the outer edge of the bonding surface to the inside, and the plurality of metal blocks are pressed and heated, thereby heating the plurality of the metal blocks. A method of manufacturing a gas supply member is provided, wherein the gas supply member is manufactured by brazing metal blocks.

また、本発明によれば、処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置であって、基板を収納する処理容器を備え、前記処理容器内に配置された、基板を載置させる載置台と、前述のガス供給部材を備えることを特徴とする、プラズマ処理装置が提供される。 According to the present invention, there is also provided a plasma processing apparatus for processing a substrate by converting a processing gas into a plasma, comprising a processing container for storing the substrate, and the mounting table placed on the processing container for mounting the substrate. And a plasma processing apparatus comprising the aforementioned gas supply member.

本発明によれば、金属ブロック同士の接合面において、接合面の外縁よりも内側に離れた領域にろうペーストを塗布しているので、金属ブロック同士の間に形成される処理ガスや冷媒の流路にろう材をはみ出さずに、金属ブロックを密着させて接合させることができる。本発明によれば、ろう付けにより、金属ブロック同士を気密に接合させた高品質のガス供給部材を容易に製造できるようになる。 According to the present invention, since the brazing paste is applied to the region separated from the outer edge of the joint surface at the joint surface between the metal blocks, the flow of the processing gas and the refrigerant formed between the metal blocks. The metal block can be brought into close contact and bonded without protruding the brazing material on the road. According to the present invention, it is possible to easily manufacture a high-quality gas supply member in which metal blocks are hermetically joined by brazing.

以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は、本実施の形態にかかるガス供給部材としてのシャワープレート４０を備えたプラズマ処理装置１の概略的な構成を示す縦断面図である。図２は、このプラズマ装置１が備えるシャワープレート４０の上面図、図３は、シャワープレート４０の下面図である。図４は、図２中のＸ−Ｘ断面における拡大断面図である。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a plasma processing apparatus 1 including a shower plate 40 as a gas supply member according to the present embodiment. FIG. 2 is a top view of the shower plate 40 provided in the plasma apparatus 1, and FIG. 3 is a bottom view of the shower plate 40. 4 is an enlarged cross-sectional view taken along the line XX in FIG. In addition, in this specification and drawing, about the component which has the substantially same function structure, duplication description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.

図１に示すように、このプラズマ処理装置１は例えばアルミニウムからなる、上部が開口した有底円筒状の処理容器１０を備えている。処理容器１０の内壁面には、例えばアルミナなどの保護膜が被覆されている。処理容器１０は電気的に接地されている。 As shown in FIG. 1, the plasma processing apparatus 1 includes a bottomed cylindrical processing container 10 made of, for example, aluminum and having an open top. The inner wall surface of the processing container 10 is covered with a protective film such as alumina. The processing container 10 is electrically grounded.

処理容器１０内の底部には、基板として例えば半導体ウェハ（以下ウェハという）Ｗを載置するための載置台としてのサセプタ１１が設けられている。このサセプタ１１は例えばアルミニウムからなり、その内部には、外部電源１２からの電力の供給によって発熱するヒータ１３が設けられている。これによって、サセプタ１１上のウェハＷを所定温度に加熱することが可能である。 A susceptor 11 as a mounting table for mounting, for example, a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) W as a substrate is provided at the bottom of the processing container 10. The susceptor 11 is made of, for example, aluminum, and a heater 13 that generates heat when power is supplied from an external power source 12 is provided therein. Thereby, the wafer W on the susceptor 11 can be heated to a predetermined temperature.

処理容器１０の底部には、真空ポンプなどの排気装置１５によって処理容器１０内の雰囲気を排気するための排気管１６が設けられている。 An exhaust pipe 16 is provided at the bottom of the processing container 10 for exhausting the atmosphere in the processing container 10 by an exhaust device 15 such as a vacuum pump.

処理容器１０の上部開口には、気密性を確保するためのＯリングなどのシール材２０を介して、たとえば誘電体の石英部材からなる透過窓２１が設けられている。透過窓２１は略円盤形状である。石英部材に代えて、他の誘電体材料、たとえばＡｌ_２Ｏ_３、ＡｌＮ等のセラミックスを使用してもよい。 In the upper opening of the processing container 10, a transmission window 21 made of, for example, a dielectric quartz member is provided via a sealing material 20 such as an O-ring for ensuring airtightness. The transmission window 21 has a substantially disk shape. Instead of the quartz member, other dielectric materials, for example, ceramics such as Al ₂ O ₃ and AlN may be used.

透過窓２１の上方には、平面状のアンテナ部材、例えば円板状のラジアルラインスロットアンテナ２２が設けられている。ラジアルラインスロットアンテナ２２は、導電性を有する材質、たとえばＡｇ、Ａｕ等でメッキやコーティングされた銅の薄い円板からなり、多数のスリット２３が、例えば渦巻状や同心円状に整列して形成されている。 A planar antenna member, for example, a disk-shaped radial line slot antenna 22 is provided above the transmission window 21. The radial line slot antenna 22 is made of a thin copper plate plated or coated with a conductive material, such as Ag or Au, and a large number of slits 23 are formed in a spiral or concentric pattern, for example. ing.

ラジアルラインスロットアンテナ２２の上面には、マイクロ波の波長を短縮するための遅波板２５が配置されている。遅波板２５は導電性のカバー２６によって覆われている。カバー２６には円環状の熱媒流路２７が設けられ、この熱媒流路２７を流れる熱媒によって、カバー２６と透過窓２２を所定温度に維持するようになっている。 A slow wave plate 25 for shortening the wavelength of the microwave is disposed on the upper surface of the radial line slot antenna 22. The slow wave plate 25 is covered with a conductive cover 26. An annular heat medium flow path 27 is provided in the cover 26, and the cover 26 and the transmission window 22 are maintained at a predetermined temperature by the heat medium flowing through the heat medium flow path 27.

カバー２６の中央には同軸導波管３０が接続されており、この同軸導波管３０は、内側導体３１と外管３２とによって構成されている。内側導体３１は、上述のラジアルラインスロットアンテナ２２と接続されている。内側導体３１のラジアルラインスロットアンテナ２２側は円錐形に形成されて、ラジアルラインスロットアンテナ２２に対してマイクロ波を効率よく伝播するようになっている。 A coaxial waveguide 30 is connected to the center of the cover 26, and the coaxial waveguide 30 includes an inner conductor 31 and an outer tube 32. The inner conductor 31 is connected to the radial line slot antenna 22 described above. The radial line slot antenna 22 side of the inner conductor 31 is formed in a conical shape so that microwaves can be efficiently propagated to the radial line slot antenna 22.

マイクロ波供給装置３５で発生させた、たとえば２．４５ＧＨｚのマイクロ波が、矩形導波管３６、モード変換器３７、同軸導波管３０、遅波板２５、ラジアルラインスロットアンテナ２２を介して、透過窓２１に放射される。そして、その際のマイクロ波エネルギーによって透過窓２１の下面に電界が形成され、処理容器１０内の処理ガスがプラズマ化される。 For example, a microwave of 2.45 GHz generated by the microwave supply device 35 passes through the rectangular waveguide 36, the mode converter 37, the coaxial waveguide 30, the slow wave plate 25, and the radial line slot antenna 22. Radiated to the transmission window 21. Then, an electric field is formed on the lower surface of the transmission window 21 by the microwave energy at that time, and the processing gas in the processing container 10 is turned into plasma.

処理容器１０内には、ガス供給部材としてのシャワープレート４０が、処理容器１０内を上下に区分するように水平に配置されている。図２、３に示すように、このシャワープレート４０は、複数の縦桟４０ａと複数の横桟４０ｂとが格子状に配置された構成を有している。これら格子状に配置された縦桟４０ａと横桟４０ｂとの間には、複数の四角形の開口４１が上下に貫通して形成されており、これら複数の開口４１を通じて、処理容器１０内は上下に流通した状態になっている。 A shower plate 40 as a gas supply member is horizontally disposed in the processing container 10 so as to divide the processing container 10 into upper and lower parts. As shown in FIGS. 2 and 3, the shower plate 40 has a configuration in which a plurality of vertical bars 40a and a plurality of horizontal bars 40b are arranged in a lattice pattern. A plurality of rectangular openings 41 are vertically formed between the vertical bars 40a and the horizontal bars 40b arranged in a lattice shape, and the inside of the processing container 10 is vertically moved through the plurality of openings 41. It is in a state of being distributed to.

この実施の形態では、複数の横桟４０ｂのうち、３本の横桟４０ｂの内部には、熱媒を流通させる熱媒流路４５と処理ガスを流通させる処理ガス流路４６が設けられている。図４に示すように、これら熱媒流路４５と処理ガス流路４６は、横桟４０ｂの内部において上下に重なるように配置されている。 In this embodiment, among the plurality of horizontal rails 40b, the three horizontal rails 40b are provided with a heat medium channel 45 through which the heat medium flows and a processing gas channel 46 through which the processing gas flows. Yes. As shown in FIG. 4, the heat medium flow path 45 and the processing gas flow path 46 are arranged so as to overlap vertically in the horizontal rail 40 b.

図２に示す熱媒供給機構５０から供給された熱媒が、往配管５１および復配管５２を通じて、シャワープレート４０内の熱媒流路４５に循環させられる。この場合、熱媒には、例えば、シャワープレート４０を冷却するための冷媒として、ガス中に粒子状の液体を分散させたミスト状流体、空気、Ｎ_２などのガス（気体）、水など液体が用いられる。このように、シャワープレート４０内の熱媒流路４５に熱媒が循環させられることによって、シャワープレート４０の温度が所望の温度に維持される。 The heat medium supplied from the heat medium supply mechanism 50 shown in FIG. 2 is circulated through the forward pipe 51 and the return pipe 52 to the heat medium flow path 45 in the shower plate 40. In this case, the heating medium, for example, as a refrigerant for cooling the shower plate 40, a mist-like fluid containing dispersed particulate fluid in the gas, air, gases such as N ₂ (gas), water, liquid Is used. Thus, the temperature of the shower plate 40 is maintained at a desired temperature by circulating the heat medium through the heat medium flow path 45 in the shower plate 40.

図３に示すように、シャワープレート４０の下面には、多数の処理ガス吐出孔５５が開口している。各処理ガス吐出孔５５は、シャワープレート４０内に形成された処理ガス流路４６に連通している。シャワープレート４０内の処理ガス流路４６には、プラズマ処理用のガスを供給する処理ガス供給機構５６が、配管５７を通じて接続されている。処理ガス供給源５６には、プラズマ処理用のガスとして例えばフッ素ガス、酸素ガスなどが貯留されている。これにより、処理ガス供給機構５６からシャワープレート４０内に導入されたプラズマ処理用のガスが、複数の処理ガス吐出孔５５を通じて処理容器１０内に供給される。 As shown in FIG. 3, a large number of process gas discharge holes 55 are opened on the lower surface of the shower plate 40. Each processing gas discharge hole 55 communicates with a processing gas flow path 46 formed in the shower plate 40. A processing gas supply mechanism 56 that supplies a plasma processing gas is connected to the processing gas flow path 46 in the shower plate 40 through a pipe 57. In the processing gas supply source 56, for example, fluorine gas, oxygen gas, or the like is stored as a plasma processing gas. Thereby, the plasma processing gas introduced into the shower plate 40 from the processing gas supply mechanism 56 is supplied into the processing container 10 through the plurality of processing gas discharge holes 55.

シャワープレート４０は、いずれもアルミニウムからなる３枚の板状の金属ブロック６０、６１、６２を上下に重ね合わせ、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面をろう付けし、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面をろう付けした構成になっている。 In the shower plate 40, three plate-like metal blocks 60, 61, 62 made of aluminum are stacked one above the other so that the lower surface of the uppermost metal block 60 and the upper surface of the second metal block 61 from the top are arranged. The lower metal block 61 is brazed and the lower metal block 62 is brazed on the upper surface.

図５（ａ）は、シャワープレート４０を構成する一番上の金属ブロック６０の平面図、図５（ｂ）は、一番上の金属ブロック６０の底面図、図５（ｃ）は、一番上の金属ブロック６０の側面図である。 5A is a plan view of the uppermost metal block 60 constituting the shower plate 40, FIG. 5B is a bottom view of the uppermost metal block 60, and FIG. It is a side view of the upper metal block.

一番上の金属ブロック６０は、シャワープレート４０の縦桟４０ａと横桟４０ｂに対応するように、縦桟６０ａと横桟６０ｂが格子状に配置された構成を有している。一番上の金属ブロック６０にも、処理容器１０内を上下に流通させるための複数の四角形の開口６５が上下に貫通して形成されている。一番上の金属ブロック６０は、上面および下面のいずれも平坦な形状（平面形状）になっている。 The uppermost metal block 60 has a configuration in which the vertical bars 60a and the horizontal bars 60b are arranged in a grid so as to correspond to the vertical bars 40a and the horizontal bars 40b of the shower plate 40. The uppermost metal block 60 is also formed with a plurality of rectangular openings 65 penetrating vertically in the processing container 10 so as to circulate vertically. The uppermost metal block 60 has a flat shape (planar shape) on both the upper surface and the lower surface.

図６（ａ）は、シャワープレート４０を構成する上から二番目の金属ブロック６１の平面図、図６（ｂ）は、上から二番目の金属ブロック６１の底面図、図６（ｃ）は、図６（ａ）中のＹ−Ｙ断面における拡大断面図である。 6A is a plan view of the second metal block 61 from the top constituting the shower plate 40, FIG. 6B is a bottom view of the second metal block 61 from the top, and FIG. FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view of the YY cross section in FIG.

上から二番目の金属ブロック６１も同様に、シャワープレート４０の縦桟４０ａと横桟４０ｂに対応するように、縦桟６１ａと横桟６１ｂが格子状に配置された構成を有している。上から二番目の金属ブロック６１にも、処理容器１０内を上下に流通させるための複数の四角形の開口６６が上下に貫通して形成されている。上から二番目の金属ブロック６１の上面には、熱媒流路４５を形成させるための溝６７が設けられている。上から二番目の金属ブロック６１の下面は、平坦な形状（平面形状）になっている。 Similarly, the second metal block 61 from the top has a configuration in which the vertical bars 61a and the horizontal bars 61b are arranged in a grid so as to correspond to the vertical bars 40a and 40b of the shower plate 40. The second metal block 61 from the top is also formed with a plurality of rectangular openings 66 penetrating vertically in the processing container 10 so as to circulate vertically. On the upper surface of the second metal block 61 from the top, a groove 67 for forming the heat medium passage 45 is provided. The lower surface of the second metal block 61 from the top has a flat shape (planar shape).

図７（ａ）は、シャワープレート４０を構成する一番下の金属ブロック６２の平面図、図７（ｂ）は、一番下の金属ブロック６２の底面図、図７（ｃ）は、図７（ａ）中のＺ−Ｚ断面における拡大断面図である。 7A is a plan view of the lowermost metal block 62 constituting the shower plate 40, FIG. 7B is a bottom view of the lowermost metal block 62, and FIG. 7C is a diagram. It is an expanded sectional view in the ZZ section in 7 (a).

一番下の金属ブロック６２も同様に、シャワープレート４０の縦桟４０ａと横桟４０ｂに対応するように、縦桟６２ａと横桟６２ｂが格子状に配置された構成を有している。一番下の金属ブロック６２にも、処理容器１０内を上下に流通させるための複数の四角形の開口７０が上下に貫通して形成されている。一番下の金属ブロック６２の上面には、処理ガス流路４６を形成させるための溝７１が設けられている。一番下の金属ブロック６２の下面には、溝７１に連通する多数の処理ガス吐出孔５５が開口している。 Similarly, the lowermost metal block 62 has a configuration in which the vertical bars 62a and the horizontal bars 62b are arranged in a grid so as to correspond to the vertical bars 40a and 40b of the shower plate 40. The lowermost metal block 62 is also formed with a plurality of rectangular openings 70 penetrating vertically in order to circulate in the processing container 10 up and down. On the upper surface of the lowermost metal block 62, a groove 71 for forming the processing gas channel 46 is provided. A large number of process gas discharge holes 55 communicating with the grooves 71 are opened on the lower surface of the lowermost metal block 62.

以上のような３枚の金属ブロック６０、６１、６２を上下に重ね合わせ、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面を、ろうペーストを用いてろう付けすることにより、シャワープレート４０が作成される。こうして作成されたシャワープレート４０の内部には、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間において、溝６７が密閉されて熱媒流路４５が形成され、同様に、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間において、溝７１が密閉されて処理ガス流路４６が形成される。 The three metal blocks 60, 61, 62 as described above are stacked one above the other, and the lower surface of the uppermost metal block 60, the upper surface of the second metal block 61 from the top, and the second metal block 61 The shower plate 40 is created by brazing the lower surface and the upper surface of the lowermost metal block 62 with a brazing paste. Inside the shower plate 40 thus created, a groove 67 is sealed between the lower surface of the uppermost metal block 60 and the upper surface of the second metal block 61 from above to form the heat medium passage 45. Similarly, the groove 71 is sealed between the lower surface of the second metal block 61 and the upper surface of the lowermost metal block 62 to form the processing gas flow path 46.

このようにロウ付けによってシャワープレート４０が作成される際、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の接合面（上から二番目の金属ブロック６１の上面および／または一番上の金属ブロック６０の下面）と、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の接合面（一番下の金属ブロック６２の上面および／または二番目の金属ブロック６１の下面）には、ろうペースト７５が塗布される。この場合、ろうペースト７５には、シャワープレート４０の材料と同じアルミニウムからなる粉末と溶剤、バインダーの混合物が用いられる。 When the shower plate 40 is produced by brazing in this way, the joint surface between the lower surface of the uppermost metal block 60 and the second metal block 61 from the top (the upper surface of the second metal block 61 from the top and / or The lower surface of the uppermost metal block 60), the lower surface of the second metal block 61, and the joint surface of the lowermost metal block 62 (the upper surface of the lowermost metal block 62 and / or the second metal block 61). The brazing paste 75 is applied to the lower surface of the substrate. In this case, the brazing paste 75 is a mixture of a powder made of aluminum, the same as the material of the shower plate 40, a solvent, and a binder.

この場合、ろうペースト７５の塗布位置は、各接合面において、接合面の外縁よりも内側に離れた領域とされる。即ち、図８に示すように、例えば上から二番目の金属ブロック６１の上面にろうペースト７５が塗布される場合、縦桟６１ａの上面においては、縦桟６１ａの外縁までは達しないように縦桟６１ａの上面中央部にろうペースト７５が塗布される。また、横桟６１ｂの上面においては、横桟６１ｂの外縁と溝６７の外縁の間の領域において、横桟６１ｂの外縁と溝６７の外縁までは達しないように、横桟６１ｂの外縁と溝６７の外縁の間の中央部にろうペースト７５が塗布される。同様に、例えば一番下の金属ブロック６２の上面にろうペースト７５が塗布される場合、縦桟６２ａの上面においては、縦桟６２ａの外縁までは達しないように縦桟６２ａの上面中央部にろうペースト７５が塗布される。また、横桟６２ｂの上面においては、横桟６２ｂの外縁と溝７１の外縁の間の領域において、横桟６２ｂの外縁と溝７１の外縁までは達しないように、横桟６２ｂの外縁と溝６７の外縁の間の中央部にろうペースト７５が塗布される。 In this case, the application position of the brazing paste 75 is a region that is distant from the outer edge of the joint surface on each joint surface. That is, as shown in FIG. 8, for example, when the brazing paste 75 is applied to the upper surface of the second metal block 61 from the top, the upper surface of the vertical beam 61a is vertically extended so as not to reach the outer edge of the vertical beam 61a. A wax paste 75 is applied to the center of the upper surface of the crosspiece 61a. In addition, on the upper surface of the horizontal rail 61 b, the outer edge and the groove of the horizontal rail 61 b do not reach the outer edge of the horizontal rail 61 b and the groove 67 in the region between the outer edge of the horizontal rail 61 b and the outer edge of the groove 67. A wax paste 75 is applied to the center between the outer edges of 67. Similarly, for example, when the wax paste 75 is applied to the upper surface of the lowermost metal block 62, the upper surface of the vertical beam 62a is not centered on the upper surface of the vertical beam 62a so as to reach the outer edge of the vertical beam 62a. A wax paste 75 is applied. Further, on the upper surface of the horizontal beam 62b, the outer edge and the groove of the horizontal beam 62b are not reached in the region between the outer edge of the horizontal beam 62b and the outer edge of the groove 71 so as to reach the outer edge of the horizontal beam 62b and the outer edge of the groove 71. A wax paste 75 is applied to the center between the outer edges of 67.

そして、このように一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間に、それぞれろうペースト７５を介在させ、各金属ブロック６０〜６２を適当な圧力で互いに圧接させ、例えば５４０〜５５０℃に加熱することにより、各金属ブロック６０〜６２同士がろう付けされ、シャワープレート４０が製造される。なお、ろうペースト７５を用いたろう付けを行うことにより、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間の接合面、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間の接合面をいずれも気密に密着させた状態で、シャワープレート４０が製造される。 Thus, between the lower surface of the uppermost metal block 60 and the upper surface of the second metal block 61 from above, and the lower surface of the second metal block 61 and the upper surface of the lowermost metal block 62 The metal blocks 60 to 62 are brazed to each other by interposing the brazing paste 75 between them, bringing the metal blocks 60 to 62 into pressure contact with each other at an appropriate pressure, for example, by heating to 540 to 550 ° C., The shower plate 40 is manufactured. In addition, by performing brazing using the brazing paste 75, the joint surface between the lower surface of the uppermost metal block 60 and the upper surface of the second metal block 61 from above, and the second metal block 61 The shower plate 40 is manufactured in a state in which all of the joint surfaces between the lower surface and the upper surface of the lowermost metal block 62 are tightly adhered.

こうして製造されたシャワープレート４０にあっては、上述のように一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間に形成された接合面、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間に形成された接合面において、ろうペースト７５の塗布位置が、各接合面において接合面の外縁よりも内側に離れた領域となっているので、ロウ付けされた後の状態では、図９に示すように、ろうペースト７５が、各接合面の内部に閉じ込められた状態となっている。このため、シャワープレート４０内に形成されている熱媒流路４５や処理ガス流路４６、開口４１の側面などにろうペースト７５がはみ出ない。 In the shower plate 40 manufactured in this way, as described above, the joint surface formed between the lower surface of the uppermost metal block 60 and the upper surface of the second metal block 61 from above, and the second In the joint surface formed between the lower surface of the metal block 61 and the upper surface of the lowermost metal block 62, the application position of the brazing paste 75 is a region that is separated from the outer edge of the joint surface at each joint surface. Therefore, in the state after brazing, as shown in FIG. 9, the brazing paste 75 is confined inside each joint surface. For this reason, the wax paste 75 does not protrude from the heat medium passage 45, the processing gas passage 46, the side surface of the opening 41, and the like formed in the shower plate 40.

次に、以上のように構成されたシャワープレート４０を備えるプラズマ処理装置１の作用について説明する。 Next, the operation of the plasma processing apparatus 1 including the shower plate 40 configured as described above will be described.

プラズマ処理装置１において例えばプラズマ成膜処理を行う際には、図１に示すように先ずウェハＷが処理容器１０内に搬入され、サセプタ１１上に載置される。そして、排気管１６から排気が行われて処理容器１０内が減圧される。更に、シャワープレート４０の処理ガス吐出孔５５からは処理ガス供給源５６から供給されたプラズマ成膜用の処理ガスが処理容器１０内に供給される。そして、マイクロ波供給装置３５の作動により、透過窓２１の下面に電界が発生し、前記処理ガスがプラズマ化され、その際に発生した活性種によって、ウェハＷ上に成膜処理がなされる。 When performing a plasma film forming process in the plasma processing apparatus 1, for example, a wafer W is first loaded into the processing container 10 and placed on the susceptor 11 as shown in FIG. Then, exhaust is performed from the exhaust pipe 16 and the inside of the processing container 10 is decompressed. Further, the processing gas for plasma film formation supplied from the processing gas supply source 56 is supplied from the processing gas discharge hole 55 of the shower plate 40 into the processing container 10. Then, by the operation of the microwave supply device 35, an electric field is generated on the lower surface of the transmission window 21, the processing gas is turned into plasma, and a film forming process is performed on the wafer W by the active species generated at that time.

そして、所定時間成膜処理が行われた後、マイクロ波供給装置３５の作動と、処理容器１０内への処理ガスの供給が停止され、ウェハＷが処理容器１０内から搬出されて、一連のプラズマ成膜処理が終了する。 Then, after the film forming process is performed for a predetermined time, the operation of the microwave supply device 35 and the supply of the processing gas into the processing container 10 are stopped, and the wafer W is unloaded from the processing container 10 and a series of The plasma film forming process ends.

プラズマ成膜処理中、プラズマ発生に伴う熱によって、シャワープレート４０における特に中心領域の温度が上昇する。しかしながらこのプラズマ処理装置１においては、シャワープレート４０を構成する横桟４２の内部に熱媒流路４５が設けられており、熱媒供給機構５０によって、この熱媒流路４５に熱媒（冷媒）を流通させ、シャワープレート４０全体を冷却することができる。このため、シャワープレート４０の温度を所望の温度に維持すると共に面内温度の均一性を向上させ、処理の際のシャワープレート４０の変形、歪みの発生を抑えることができる。 During the plasma film forming process, the temperature associated with the generation of plasma increases the temperature of the shower plate 40, particularly in the central region. However, in the plasma processing apparatus 1, the heat medium flow path 45 is provided inside the horizontal rail 42 constituting the shower plate 40, and a heat medium (refrigerant) is added to the heat medium flow path 45 by the heat medium supply mechanism 50. ) And the entire shower plate 40 can be cooled. For this reason, the temperature of the shower plate 40 can be maintained at a desired temperature, the uniformity of the in-plane temperature can be improved, and the deformation and distortion of the shower plate 40 during processing can be suppressed.

また、このプラズマ処理装置１のシャワープレート４０にあっては、上述したように、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間に形成された接合面、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間に形成された接合面において、ろうペースト７５が、各接合面の内部に閉じ込められた状態となっている。このため、熱媒流路４５や処理ガス流路４６内において、ろう材が壁面から剥離してパーティクルを発生させるといった問題を回避できるようになる。また、ろうペースト７５を用いたろう付けによってシャワープレート４０が製造されているので、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の上面との間の接合面、および、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の上面との間の接合面は、いずれも気密に密着された状態となっている。このため、例えば熱媒流路４５を流通する熱媒が処理容器１０内に漏れ出ることがない。このため、処理容器１０内は適切な圧力に維持されることになる。 In the shower plate 40 of the plasma processing apparatus 1, as described above, the joint surface formed between the lower surface of the uppermost metal block 60 and the upper surface of the second metal block 61 from the top. In the bonding surface formed between the lower surface of the second metal block 61 and the upper surface of the lowermost metal block 62, the brazing paste 75 is confined inside each bonding surface. Yes. For this reason, the problem that the brazing material is separated from the wall surface to generate particles in the heat medium passage 45 and the processing gas passage 46 can be avoided. In addition, since the shower plate 40 is manufactured by brazing using the brazing paste 75, the joint surface between the lower surface of the uppermost metal block 60 and the upper surface of the second metal block 61 from the top, and two The joint surfaces between the lower surface of the second metal block 61 and the upper surface of the lowermost metal block 62 are both in an airtight state. For this reason, for example, the heat medium flowing through the heat medium flow path 45 does not leak into the processing container 10. For this reason, the inside of the processing container 10 is maintained at an appropriate pressure.

以上、本発明の好ましい実施の形態の一例を説明したが、本発明はここに例示した形態に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に相到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。 As mentioned above, although an example of preferable embodiment of this invention was demonstrated, this invention is not limited to the form illustrated here. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the ideas described in the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. It is understood that it belongs.

図１０に示すように、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の接合面と、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の接合面において、接合面の外縁近傍に、外縁に沿って１または２以上の溝８０が設けられていても良い。このように、接合面の外縁近傍に溝８０が設けられていれば、ロウ付けされる際に、各接合面の中央部に塗布されたろうペースト７５が溝８０の位置から外側に流れ出にくくなり、熱媒流路４５や処理ガス流路４６、開口４１の側面などにろうペースト７５がより確実にはみ出なくなる。 As shown in FIG. 10, the lower surface of the uppermost metal block 60 and the joint surface of the second metal block 61 from the top, and the lower surface of the second metal block 61 and the joint surface of the lowermost metal block 62. In the vicinity of the outer edge of the joint surface, one or more grooves 80 may be provided along the outer edge. Thus, if the groove 80 is provided in the vicinity of the outer edge of the joint surface, the brazing paste 75 applied to the central portion of each joint surface is less likely to flow outward from the position of the groove 80 when brazed. The wax paste 75 does not protrude more reliably from the heat medium passage 45, the processing gas passage 46, the side surface of the opening 41, and the like.

また、図１１に示すように、一番上の金属ブロック６０の下面と上から二番目の金属ブロック６１の接合面と、二番目の金属ブロック６１の下面と一番下の金属ブロック６２の接合面において、下方に配置される金属ブロック６１（６２）の壁面上部（熱媒流路４５や処理ガス流路４６を構成する溝６７，７１の側壁面上部）に、外側に広がるテーパ面部８１が設けられていても良い。このようなテーパ面部８１が設けられていれば、ロウ付けされる際に、各接合面の間からろうペースト７５がはみ出たとしても、接合面の外縁でろうペースト７５が止まり、接合面の外縁を超えて熱媒流路４５や処理ガス流路４６内にろうペースト７５が流れ込まなくなる。 Further, as shown in FIG. 11, the lower surface of the uppermost metal block 60 and the joint surface of the second metal block 61 from the top, and the lower surface of the second metal block 61 and the lowermost metal block 62 are joined. On the surface, a taper surface portion 81 that spreads outward is formed on the upper wall surface of the metal block 61 (62) disposed below (upper side walls of the grooves 67 and 71 constituting the heat medium passage 45 and the processing gas passage 46). It may be provided. If such a taper surface portion 81 is provided, even when the brazing paste 75 protrudes from between the joining surfaces when brazed, the brazing paste 75 stops at the outer edge of the joining surface, and the outer edge of the joining surface. The wax paste 75 does not flow into the heat medium flow path 45 or the processing gas flow path 46 beyond this.

また、例えば、シャワープレート４０の横桟４０ａのうち、中央に配置された３本の横桟４０ｂの内部に熱媒流路４５と処理ガス流路４６を設けた形態を説明したが、複数の横桟４０ｂのうち一部または全部の内部に熱媒流路４５や処理ガス流路４６を設けて良い。また、熱媒流路４５や処理ガス流路４６を縦桟４０ａの内部に設けても良いし、縦桟４０ａと横桟４０ｂの両方の内部に熱媒流路４５や処理ガス流路４６を設けても良い。また、熱媒流路４５を省略しても良い。 In addition, for example, the embodiment has been described in which the heat medium flow path 45 and the processing gas flow path 46 are provided inside the three horizontal bars 40b arranged in the center of the horizontal bars 40a of the shower plate 40. You may provide the heat-medium flow path 45 and the process gas flow path 46 in a part or all inside horizontal rail 40b. Further, the heat medium channel 45 and the processing gas channel 46 may be provided inside the vertical beam 40a, or the heat medium channel 45 and the processing gas channel 46 are provided inside both the vertical beam 40a and the horizontal beam 40b. It may be provided. Further, the heat medium passage 45 may be omitted.

また、以上の実施の形態では、ガス供給部材としてのシャワープレート４０が、処理容器１０内を上下に区分するように配置されている例を説明したが、シャワープレート４０は、処理容器１０の上面に配置されても良い。また、シャワープレート４０が３枚の金属ブロック６０〜６２で構成される例を示したが、シャワープレート４０を構成する金属ブロックの形状、数は任意である。 Moreover, although the above embodiment demonstrated the example in which the shower plate 40 as a gas supply member is arrange | positioned so that the inside of the processing container 10 may be divided up and down, the shower plate 40 is the upper surface of the processing container 10. May be arranged. Moreover, although the example in which the shower plate 40 is comprised by the three metal blocks 60-62 was shown, the shape and number of the metal blocks which comprise the shower plate 40 are arbitrary.

また、以上説明した実施の形態では、マイクロ波を用いたプラズマ処理装置を例にとって説明したが、これに限定されず、高周波電圧を用いたプラズマ処理装置についても本発明を適用できるのは勿論である。また、本発明は、成膜処理以外の基板処理、例えばエッチング処理を行うプラズマ処理装置にも適用できる。また、本発明のプラズマ処理装置で処理される基板は、半導体ウェハ、有機ＥＬ基板、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用の基板等のいずれのものであってもよい。 In the embodiment described above, the plasma processing apparatus using microwaves has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to a plasma processing apparatus using high-frequency voltages. is there. The present invention is also applicable to a plasma processing apparatus that performs substrate processing other than film formation processing, for example, etching processing. Further, the substrate processed by the plasma processing apparatus of the present invention may be any of a semiconductor wafer, an organic EL substrate, a substrate for FPD (flat panel display), and the like.

なお、シャワープレート４０を製造するに際し、各金属ブロック６０、６１，６２を、ろう材を用いずに接合する表面処理法（表面改質法）によって接合することも考えられる。表面処理法は、製品形状の影響を受けにくく、細かい形状（流路）への対応が可能である。また、表面処理法によれば、真空炉のみで接合が可能であり、ろう材の流れ出しも無いため、流路部分の表面粗さの変化が無く、かつ、流路断面積も変化しない。 In addition, when manufacturing the shower plate 40, joining each metal block 60, 61, 62 by the surface treatment method (surface modification method) joined without using a brazing material is also considered. The surface treatment method is not easily affected by the product shape and can cope with a fine shape (flow path). Further, according to the surface treatment method, joining is possible only with a vacuum furnace, and no brazing material flows out, so that there is no change in the surface roughness of the flow path portion, and the flow path cross-sectional area does not change.

本発明は、処理容器内にプラズマを生成して基板を処理するプラズマ処理に適用できる。 The present invention can be applied to plasma processing in which plasma is generated in a processing container to process a substrate.

本実施の形態にかかるプラズマ処理装置の構成の概略を示す縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view which shows the outline of a structure of the plasma processing apparatus concerning this Embodiment. シャワープレートの上面図である。It is a top view of a shower plate. シャワープレートの下面図である。It is a bottom view of a shower plate. 図２中のＸ−Ｘ断面における拡大断面図である。It is an expanded sectional view in the XX cross section in FIG. （ａ）は、シャワープレートを構成する一番上の金属ブロックの平面図、（ｂ）は、一番上の金属ブロックの底面図、（ｃ）は、一番上の金属ブロックの側面図である。(A) is a plan view of the uppermost metal block constituting the shower plate, (b) is a bottom view of the uppermost metal block, and (c) is a side view of the uppermost metal block. is there. （ａ）は、シャワープレートを構成する上から二番目の金属ブロックの平面図、（ｂ）は、上から二番目の金属ブロックの底面図、（ｃ）は、図６（ａ）中のＹ−Ｙ断面における拡大断面図である。(A) is a plan view of the second metal block from the top constituting the shower plate, (b) is a bottom view of the second metal block from the top, and (c) is Y in FIG. 6 (a). It is an expanded sectional view in a -Y section. （ａ）は、シャワープレートを構成する一番下の金属ブロックの平面図、（ｂ）は、一番下の金属ブロックの底面図、（ｃ）は、図７（ａ）中のＺ−Ｚ断面における拡大断面図である。(A) is a plan view of the lowermost metal block constituting the shower plate, (b) is a bottom view of the lowermost metal block, and (c) is ZZ in FIG. 7 (a). It is an expanded sectional view in a section. ろうペーストの塗布位置の説明図である。It is explanatory drawing of the application | coating position of a wax paste. 図２と同様の拡大断面図であり、ろうペーストが接合面の内部に閉じ込められた状態を示している。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view similar to FIG. 2, showing a state where brazing paste is confined inside the joint surface. 各金属ブロック同士の接合面の外縁近傍に、外縁に沿って溝８０を設けた実施の形態の説明図である。It is explanatory drawing of embodiment which provided the groove | channel 80 along the outer edge near the outer edge of the joint surface of each metal block. 各金属ブロック同士の接合面において、下方に配置される金属ブロックの壁面上部に、外側に広がるテーパ面部を設けた実施の形態の説明図である。It is explanatory drawing of embodiment which provided the taper surface part extended outside on the wall surface upper part of the metal block arrange | positioned below in the joint surface of each metal block.

符号の説明Explanation of symbols

Ｗウェハ
１プラズマ処理装置
１０処理容器
１１サセプタ（載置台）
１５排気装置
２１透過窓
３０同軸導波管
３５マイクロ波供給装置
４０シャワープレート（ガス供給部材）
４５熱媒流路
４６処理ガス流路
５０熱媒供給機構
５５処理ガス吐出孔
５６処理ガス供給機構
６０、６１、６２金属ブロック
６７、７１溝 W Wafer 1 Plasma processing apparatus 10 Processing vessel 11 Susceptor (mounting table)
15 Exhaust device 21 Transmission window 30 Coaxial waveguide 35 Microwave supply device 40 Shower plate (gas supply member)
45 Heat medium flow path 46 Process gas flow path 50 Heat medium supply mechanism 55 Process gas discharge hole 56 Process gas supply mechanism 60, 61, 62 Metal block 67, 71 Groove

Claims

処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置の処理容器内に配置される、内部に処理ガスの流路が形成されたガス供給部材であって、
複数の金属ブロックが、ろうペーストを用いてろう付けされており、ろうペーストの塗布位置が、複数の金属ブロック同士の接合面において、前記接合面の外縁よりも内側に離れた領域であることを特徴とする、プラズマ処理装置のガス供給部材。 A gas supply member that is disposed in a processing container of a plasma processing apparatus that processes a substrate by converting the processing gas into plasma, and has a processing gas flow path formed therein,
The plurality of metal blocks are brazed using brazing paste, and the application position of the brazing paste is a region separated from the outer edge of the joint surface at the joint surface between the plurality of metal blocks. A gas supply member for a plasma processing apparatus.

前記複数の金属ブロックは板状であり、上下に重ね合わせた状態でろう付けされていることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマ処理装置のガス供給部材。 The gas supply member of the plasma processing apparatus according to claim 1, wherein the plurality of metal blocks are plate-shaped and are brazed in a state where they are stacked one above the other.

前記接合面の外縁近傍に、外縁に沿って１または２以上の溝が設けられていることを特徴とする、請求項１または２に記載のガス供給部材。 The gas supply member according to claim 1 or 2, wherein one or two or more grooves are provided in the vicinity of the outer edge of the joint surface along the outer edge.

前記接合面において、下方に配置される金属ブロックの壁面上部に、外側に広がるテーパ面部が設けられていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のガス供給部材。 The gas supply member according to any one of claims 1 to 3, wherein a taper surface portion extending outward is provided at an upper portion of a wall surface of a metal block disposed below the joint surface.

内部に、熱媒の流路が形成されていることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載のガス供給部材。 The gas supply member according to any one of claims 1 to 4, wherein a flow path of a heat medium is formed therein.

処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置の処理容器内に配置される、内部に処理ガスの供給流路が形成されたガス供給部材を製造する方法であって、
複数の金属ブロック同士の接合面において、前記接合面の外縁よりも内側に離れた領域にろうペーストを塗布し、
前記複数の金属ブロック同士を圧接させ、加熱することにより、前記複数の金属ブロック同士をろう付けさせて前記ガス供給部材を製造することを特徴とする、ガス供給部材の製造方法。 A method for manufacturing a gas supply member having a processing gas supply channel formed therein, which is disposed in a processing container of a plasma processing apparatus for converting a processing gas into plasma and processing a substrate,
In the joint surface between a plurality of metal blocks, a wax paste is applied to a region away from the outer edge of the joint surface,
The method for producing a gas supply member, wherein the plurality of metal blocks are brazed together and heated by pressing the plurality of metal blocks together and heated.

前記複数の金属ブロックは板状であり、上下に重ね合わせた状態でろう付けされることを特徴とする、請求項６に記載のガス供給部材の製造方法。 The method of manufacturing a gas supply member according to claim 6, wherein the plurality of metal blocks are plate-shaped and are brazed in a state where they are stacked one above the other.

前記ガス供給部材の内部に、熱媒の流路が形成されていることを特徴とする、請求項６または７に記載のガス供給部材の製造方法。 The method for manufacturing a gas supply member according to claim 6 or 7, wherein a flow path of a heat medium is formed inside the gas supply member.

処理ガスをプラズマ化して基板を処理するプラズマ処理装置であって、
基板を収納する処理容器を備え、
前記処理容器内に配置された、基板を載置させる載置台と、請求項１〜５のいずれかに記載のガス供給部材を備えることを特徴とする、プラズマ処理装置。 A plasma processing apparatus for processing a substrate by converting a processing gas into plasma,
A processing container for storing the substrate;
A plasma processing apparatus, comprising: a mounting table on which a substrate is placed, and the gas supply member according to claim 1.