JP2009229181A - Underground-type electron beam irradiation equipment - Google Patents
Underground-type electron beam irradiation equipment Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009229181A JP2009229181A JP2008073474A JP2008073474A JP2009229181A JP 2009229181 A JP2009229181 A JP 2009229181A JP 2008073474 A JP2008073474 A JP 2008073474A JP 2008073474 A JP2008073474 A JP 2008073474A JP 2009229181 A JP2009229181 A JP 2009229181A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- irradiation
- electron beam
- beam irradiation
- chamber
- conveyor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Abstract
Description
本発明は、電子線照射装置を遮蔽体で遮蔽し、被照射物を遮蔽体内に搬送しながら電子線照射装置で照射するための地下式電子線照射設備に関するものである。 The present invention relates to an underground electron beam irradiation facility for shielding an electron beam irradiation apparatus with a shielding body and irradiating the irradiated object with the electron beam irradiation apparatus while transporting the irradiated object into the shielding body.
段ボールなどに梱包された状態の医療用器具や野菜などの殺菌や滅菌する手段として、電子線照射装置が使用されてきている。この殺菌乃至滅菌などの照射処理は、被照射物をコンベアなどで連続的に電子線照射装置に搬送して被照射物に電子線を照射するものである。 An electron beam irradiation apparatus has been used as a means for sterilizing and sterilizing medical instruments and vegetables packed in cardboard or the like. In the irradiation treatment such as sterilization or sterilization, the irradiated object is continuously conveyed to an electron beam irradiation device by a conveyor or the like and irradiated with the electron beam.
高エネルギー電子を発生する電子線照射装置では、照射部から透過力の高い制動X線が二次的に発生するため、漏洩X線を十分に遮断できる厚みを有したコンクリートや重金属などを用いた遮蔽体で電子線照射装置を遮蔽した照射設備を必要とする。 In the electron beam irradiation apparatus that generates high-energy electrons, braking X-rays having high penetrating power are secondarily generated from the irradiation unit, and therefore, concrete or heavy metal having a thickness capable of sufficiently blocking leakage X-rays is used. An irradiation facility in which the electron beam irradiation device is shielded by a shield is required.
電子線照射設備は、電子線照射装置を内蔵し、建屋としての機能も兼ね備えていることが多い。また、多くの場合、被照射物はコンベアなどで連続的に搬送されて効率的に照射する必要があることから、X線の漏洩を防ぐため、電子線照射設備の搬送経路は迷路構造となっている。
電子線照射装置の設置は、垂直置きと水平置きがある。垂直置きの場合、電子線照射装置の高さが高く、遮蔽建屋の高さがその部分だけ極端に高くなるが、漏洩放射線は下向きに最も強く放射されるため、水平置きに比べ横方向の遮蔽強化の程度は小さい。一方水平置きの場合は、建屋高さは低く施工できるが、部分的に横壁の遮蔽強化が必要となるため、垂直置きが採用されている。
In many cases, the electron beam irradiation equipment incorporates an electron beam irradiation device and also has a function as a building. In many cases, the object to be irradiated must be continuously transported by a conveyor or the like and efficiently irradiated. Therefore, in order to prevent X-ray leakage, the transport path of the electron beam irradiation equipment has a maze structure. ing.
There are two types of installation of the electron beam irradiation device, vertical and horizontal. In the case of vertical installation, the height of the electron beam irradiation device is high and the height of the shielding building is extremely high only in that part, but since the leaked radiation is emitted most strongly downward, the horizontal shielding is higher than horizontal installation. The degree of reinforcement is small. On the other hand, in the case of horizontal placement, the height of the building can be reduced, but vertical placement is adopted because it is necessary to partially enhance the shielding of the side walls.
図4〜図6は、垂直置きの電子線照射設備を示したもので、図4は平断面図、図5は図4のC−C線断面図、図6は図4のD−D線断面図である。 4 to 6 show a vertically placed electron beam irradiation facility. FIG. 4 is a plan sectional view, FIG. 5 is a sectional view taken along the line CC in FIG. 4, and FIG. It is sectional drawing.
この電子線照射設備40は、コンクリート床版41上に設けられ、被照射物Sを搬送する搬送装置42と、搬送装置42で搬送される被照射物に電子線を照射する電子線照射装置43と、搬送装置42と電子線照射装置43を覆うコンクリート躯体で形成された建屋44とで構成される。
The electron
建屋44は、被照射物Sを搬出入する搬出入室45,46と、電子線照射装置43を収容する細長な照射室47と、電子線照射装置43に高電圧や高周波を供給する電源装置48が収容される電源室49に区画形成されている。
The
照射室47と電源室49とは、発生した制動X線が漏洩しないように厚さの十分厚いコンクリート壁で形成され、照射室47の前面が厚さ3mの前壁50で形成され、照射室47と電源室49とは厚さ1mの中間壁51で区画され、電源室49の後面が厚さ2mの後壁52で形成され、照射室47の左右が厚さ2.7mの横壁53,54で形成され、天井が厚さ2mの天井壁55で形成される。この横壁53,54間の距離は25mに形成される。
The
照射室47の天井壁55の高さは、約4mにされるが、中央部は、電子線照射装置43の高さが約4.5mであるため、電子線照射装置43の覆うように天井部55aの高さが7.7mとなるような凸形状に形成される。
Although the height of the
搬出入室45,46は、前壁50から前方に延出される天井壁56と、横壁53,54から延出され天井壁56を支持すべく断面鉤状に形成された側壁57,58とで形成される。搬入室45と搬出室46は、仕切壁59で仕切られ、その側壁57,58間の前面に出入口60,61が形成される。また照射室47の前壁50の両側には、搬出入室45,46と連通する連通路62,63が形成される。
The carry-in / out
搬送装置42は、搬入室45の入口60と入口側連通路62を結んで鉤状に形成された搬入用コンベア42iと、照射室47を通る直線状の照射用コンベア42rと、搬出室46の出口側連通路63と出口61を結んで鉤状に形成された搬出用コンベア42oとから形成される。
The
被照射物Sは、搬送装置42の搬入用コンベア42iから搬入室45に搬入され、入口側連通路62を通して照射室47に入り、照射用コンベア42rで電子線照射装置43に搬送され、そこで電子線が照射されて、滅菌などの処理がなされた後、出口側連通路63を通して、搬出室46の搬出用コンベア42oに移送され、搬出室46から建屋44外に排出される。
The irradiated object S is carried into the carry-in
電子線照射装置43では、電子線の照射によりX線等が発生するが、この発生源の周りは、分厚いコンクリート壁で囲われ、また出入口側連通路62,63も照射源から十分に離れた位置に形成されると共に搬出入室45,46の出入口60,61も連通路62,63から離れるように形成されて、全体に迷路状に形成されているため外部に放射線が漏洩することはない。
In the electron
しかしながら、垂直置きの場合も水平置きの場合も、照射部がグランドレベルから上にあるので、漏洩放射線を遮蔽するために、広範囲に渡って、コンクリートの壁厚を厚くする必要がある。それにより、建屋は巨大化し、建設コストが嵩む問題がある。 However, in both the vertical placement and the horizontal placement, the irradiating part is above the ground level, and therefore, it is necessary to increase the wall thickness of the concrete over a wide range in order to shield the leakage radiation. As a result, there is a problem that the building becomes huge and the construction cost increases.
この場合、照射部を地下に設置すれば、漏洩放射線はそのまま地下に漏洩し、建屋自体も低くできるが、照射部まで被照射物を搬送するためには、エレベータ等の昇降装置が必要となり、建屋の建設コストは低くできるものの、搬送設備のコストが増大する問題がある。 In this case, if the irradiation unit is installed in the basement, the leaked radiation leaks into the basement as it is, and the building itself can be lowered, but in order to transport the irradiated object to the irradiation unit, an elevator or the like is required, Although the construction cost of the building can be reduced, there is a problem that the cost of the transportation equipment increases.
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、照射部での漏洩放射線を極力地下に漏洩させることができる地下式電子線照射設備を提供することにある。 Then, the objective of this invention is providing the underground type | formula electron beam irradiation equipment which can solve the said subject and can leak the leakage radiation in an irradiation part to the underground as much as possible.
上記目的を達成するために請求項1の発明は、コンクリート壁で遮蔽した細長の照射室の中央部に、垂直置きの電子線照射装置を設置し、被照射物を搬送する照射用コンベアを照射室に沿って設けた電子線照射設備において、電子線照射装置が設置される照射室の中央の底面を、グランドレベルより十分低くなるように形成すると共に被照射物を搬送する照射用コンベアの中央部がグランドレベルより低くなるよう、コンベアの中央部両側を傾斜させて形成したことを特徴とする地下式電子線照射設備である。
In order to achieve the above object, the invention of
請求項2の発明は、照射位置の照射用コンベア面がグランドレベルに対して1m前後低くなるように形成される請求項1記載の地下式電子線照射設備である。
The invention according to claim 2 is the underground electron beam irradiation facility according to
請求項3の発明は、照射室の両側の底面を、グランドレベルから、中央部がグランドレベルに対して1.5〜2m低くなるように逆台形状に形成し、その逆台形状の底面に沿って照射用コンベアを設けた請求項1又は2記載の地下式電子線照射設備である。
In the invention of claim 3, the bottom surfaces on both sides of the irradiation chamber are formed in an inverted trapezoidal shape so that the central portion is 1.5 to 2 m lower than the ground level from the ground level. 3. The underground electron beam irradiation facility according to
請求項4の発明は、照射室の前後のコンクリート壁をグランドレベルに設けた底版上に立設し、その間を逆台形状溝として照射室の底面を形成した請求項1〜3のいずれかに記載の地下式電子線照射設備である。
The invention according to
請求項5の発明は、照射用コンベアの傾斜角度が20度前後となるようにした請求項1〜4のいずれかに記載の地下式電子線照射設備である。
The invention according to claim 5 is the underground electron beam irradiation facility according to any one of
本発明によれば、照射部が、グランドレベルより低い位置に形成されるため横壁方向の漏洩放射線レベルが低減できると共にその壁厚を薄くできると共に、建屋の高さを低くでき建設コストを低減できるという優れた効果を発揮するものである。 According to the present invention, since the irradiation part is formed at a position lower than the ground level, the leakage radiation level in the lateral wall direction can be reduced and the wall thickness can be reduced, and the height of the building can be reduced and the construction cost can be reduced. This is an excellent effect.
以下、本発明の好適な一実施の形態を添付図面に基づいて詳述する。 A preferred embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
図1〜図3は、本発明の垂直置きの電子線照射設備を示したもので、図1は平断面図、図2は図1のA−A線断面図、図3は図1のB−B線断面図である。 1 to 3 show a vertically placed electron beam irradiation facility according to the present invention. FIG. 1 is a plan sectional view, FIG. 2 is a sectional view taken along line AA in FIG. 1, and FIG. FIG.
この電子線照射設備10は、コンクリート床版11上に設けられ、被照射物Sを搬送する搬送装置12と、搬送装置12で搬送される被照射物Sに電子線を照射する電子線照射装置13と、搬送装置12と電子線照射装置13を覆うコンクリート躯体で形成された建屋14とで構成される。
This electron
建屋14は、被照射物Sを搬出入する搬出入室15,16と、電子線照射装置13を収容する細長な照射室17と、電子線照射装置13に高電圧や高周波を供給する電源装置18が収容される電源室19に区画形成されている。
The
照射室17は、前壁20と横壁23,24と電源室19を仕切る中間壁21で形成され、また電源室19の後面が後壁22で形成される。
The
さて、本発明においては、搬出入室15,16と電源室19は、グランドレベルGLのコンクリート床版11上に形成され、照射室17の底面中央部17aをグランドレベルGLより1.5〜2m程度低くなるように形成され、その左右底面17bが傾斜面で形成されて、照射室17の底面が逆台形状の溝になるように形成される。
In the present invention, the loading /
この照射室17の底面中央部17aには、垂直置きの電子線照射装置13が設置される。電子線照射装置13は、電子銃と加速器とスキャンホーンとで構成され、10MeVの電子線を被照射物Sに照射するようになっており、また被照射物Sの大きさに合わせて電子線の走査幅が変えられるようになっている。
A vertically placed electron beam irradiation device 13 is installed at the bottom center portion 17 a of the
搬送装置12は、搬出入室15、16に設けられる搬出入用コンベア12i,12oと照射室17に設けられる照射用コンベア12rで形成される。
The
搬出入用コンベア12i,12oは、搬出入室15,16でグランドレベルGLの床版11上に設置され、照射用コンベア12rは、照射室17の底面形状に沿って中央部の搬送面がグランドレベルGLより低く、その両側が20度前後傾斜するように形成される。
The carry-in / out conveyors 12i and 12o are installed on the floor slab 11 at the ground level GL in the carry-in / out
照射室17と電源室19とは、発生した制動X線が漏洩しないように厚さの十分厚いコンクリート壁で形成される。
The
この場合、照射室17の照射用コンベア12rの照射部Iとなる中央部の高さが、グランドレベルGLより低い位置にあるため、前壁20は、2.9m、また横壁23,24は、2.65m、後壁22は、1.8mと薄くできる。
In this case, since the height of the central portion serving as the irradiation section I of the
また天井壁25の高さは、全体に約4mにされ、電子線照射装置13を覆う天井部25aの高さは6.05mに形成される。
The height of the
なお、搬出入室15,16は、前壁20から前方に延出される天井壁26と横壁23,24から前方に延びる側壁27,28で形成されると共に、仕切壁29で搬入室15と搬出室16に仕切られて、前部に出入口30,31が形成される。また前壁20の両側には、搬出入室15,16と連通する連通路32,33が形成される。
The carry-in / out
搬送装置12は、搬入室25の入口30と入口側連通路32を結んで鉤状に形成された搬入用コンベア12iと、照射室17を通る直線状の照射用コンベア12rと、搬出室16の出口側連通路33と出口31を結んで鉤状に形成された搬出用コンベア12oから形成される。
The
次ぎに本発明の作用を説明する。 Next, the operation of the present invention will be described.
被照射物Sは、搬送装置12の搬入用コンベア12iから搬入室15に搬入され、入口側連通路32を通して照射室17に入り、照射用コンベア12rで電子線照射装置13に搬送され、そこで電子線が照射されて、滅菌などの処理がなされた後、出口側連通路33を通して搬出室16の搬出用コンベア12oに搬送され、搬出室16から建屋10外に排出される。
The irradiated object S is carried into the carry-in chamber 15 from the carry-in conveyor 12i of the
電子線照射装置13では、電子線の照射によりX線等が発生するが、この電子線照射装置13の照射用コンベア12rの中央部のコンベア面となる照射部Iは、グランドレベルGLより低い位置に形成されるため、大部分が照射室17の底面に放射される。また、横方向に拡散する放射線のうち、照射室17に沿った放射線Rは、図2に図示の点線で示したように斜め上方に放射して横壁23,24で、その漏洩が防止され、また前後方向の放射線Rは、図3に点線で示したように放射されるが、コンクリート底版11と前後の壁20,22で、その漏洩が防止されるため、これらコンクリート壁の厚さを図4〜図6で説明したコンクリート壁より薄くすることが可能となると共に、天井壁25の天井部25aの高さを低くでき、これにより建設コストを低く抑えることが可能となる。
In the electron beam irradiation device 13, X-rays and the like are generated by the electron beam irradiation, but the irradiation unit I serving as the conveyor surface at the center of the
また、照射用コンベア12rは、中央部に向けて20度前後傾斜させることで、中央部の照射部IをグランドレベルGLより低い位置にすることができると共に、20度前後傾斜させても被照射物Sが照射用コンベア12rのベルトなどの搬送面を滑ることがなく、被照射物Sを支障なく連続搬送することができる。
In addition, the
このように本発明は、電子線照射装置13の照射部IをグランドレベルGLより低い位置に設置することにより、地下方向の漏洩線量レベルを低減できると共に、照射室17を遮蔽するコンクリート壁の厚さを薄くできる。また電子線照射装置13もグランドレベルGLより低い位置に設置できるため建屋14を低くすることが可能となり建設コストを低減できる。
As described above, the present invention can reduce the leakage dose level in the underground direction by installing the irradiation unit I of the electron beam irradiation device 13 at a position lower than the ground level GL, and can reduce the thickness of the concrete wall that shields the
なお上述の実施の形態では、被照射物Sを電子線照射で滅菌乃至殺菌する例で説明したが、この他に、半導体ウェハや各種の物質を電子線照射で改質する場合にも適用できる。 In the above-described embodiment, the example in which the irradiation object S is sterilized or sterilized by electron beam irradiation has been described. However, the present invention can also be applied to the case where a semiconductor wafer or various substances are modified by electron beam irradiation. .
12 搬送装置
12r 照射用コンベア
13 電子線照射装置
17 照射室
17a 底面中央部
S 被照射物
DESCRIPTION OF
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008073474A JP4697250B2 (en) | 2008-03-21 | 2008-03-21 | Underground electron beam irradiation equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008073474A JP4697250B2 (en) | 2008-03-21 | 2008-03-21 | Underground electron beam irradiation equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009229181A true JP2009229181A (en) | 2009-10-08 |
JP4697250B2 JP4697250B2 (en) | 2011-06-08 |
Family
ID=41244762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008073474A Expired - Fee Related JP4697250B2 (en) | 2008-03-21 | 2008-03-21 | Underground electron beam irradiation equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4697250B2 (en) |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4883300A (en) * | 1972-02-09 | 1973-11-06 | ||
JPS504499A (en) * | 1973-03-13 | 1975-01-17 | ||
JPS5317899A (en) * | 1976-08-02 | 1978-02-18 | Ebara Corp | Radioactive ray irradiating method by irradiating chamber in underground |
JPH0452598A (en) * | 1990-06-20 | 1992-02-20 | Nec Corp | Medical radiation shielding chamber |
JPH08136694A (en) * | 1994-11-11 | 1996-05-31 | Mitsubishi Electric Corp | Radiation shield structure |
JP2001305299A (en) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Hitachi Ltd | Neutron generator |
JP2002372600A (en) * | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Nissin High Voltage Co Ltd | Electron beam irradiation device |
JP2003121597A (en) * | 2001-10-17 | 2003-04-23 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Electron beam irradiation apparatus |
WO2005086176A1 (en) * | 2004-03-09 | 2005-09-15 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Electron beam irradiation device |
JP2006038468A (en) * | 2004-07-22 | 2006-02-09 | Kumagai Gumi Co Ltd | Shielding concrete considering radiation and construction method thereof |
JP2008056282A (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machinery Co Ltd | Sterilizing apparatus |
JP2008056269A (en) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machinery Co Ltd | Sterilizing apparatus |
-
2008
- 2008-03-21 JP JP2008073474A patent/JP4697250B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4883300A (en) * | 1972-02-09 | 1973-11-06 | ||
JPS504499A (en) * | 1973-03-13 | 1975-01-17 | ||
JPS5317899A (en) * | 1976-08-02 | 1978-02-18 | Ebara Corp | Radioactive ray irradiating method by irradiating chamber in underground |
JPH0452598A (en) * | 1990-06-20 | 1992-02-20 | Nec Corp | Medical radiation shielding chamber |
JPH08136694A (en) * | 1994-11-11 | 1996-05-31 | Mitsubishi Electric Corp | Radiation shield structure |
JP2001305299A (en) * | 2000-04-19 | 2001-10-31 | Hitachi Ltd | Neutron generator |
JP2002372600A (en) * | 2001-06-15 | 2002-12-26 | Nissin High Voltage Co Ltd | Electron beam irradiation device |
JP2003121597A (en) * | 2001-10-17 | 2003-04-23 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Electron beam irradiation apparatus |
WO2005086176A1 (en) * | 2004-03-09 | 2005-09-15 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Electron beam irradiation device |
JP2006038468A (en) * | 2004-07-22 | 2006-02-09 | Kumagai Gumi Co Ltd | Shielding concrete considering radiation and construction method thereof |
JP2008056269A (en) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machinery Co Ltd | Sterilizing apparatus |
JP2008056282A (en) * | 2006-08-31 | 2008-03-13 | Mitsubishi Heavy Industries Food & Packaging Machinery Co Ltd | Sterilizing apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4697250B2 (en) | 2011-06-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4815114B2 (en) | Article irradiation apparatus and method having intermediate wall made of radiation shielding material in loop of conveyor apparatus for conveying article | |
US6777689B2 (en) | Article irradiation system shielding | |
CA2287207C (en) | Article irradiation system with an article transporting conveyor | |
KR100550815B1 (en) | Article irradiation system in which article transporting conveyor is closely encompassed by shielding material | |
RU2400977C2 (en) | Method and device for radiation of logs with electron beams for phytosanitary treatment | |
CA2370874C (en) | Article irradiation system having intermediate wall of radiation shielding material within loop of a conveyor system that transports the articles | |
WO2013108534A1 (en) | Charged particle beam illumination system | |
JP4697250B2 (en) | Underground electron beam irradiation equipment | |
US6459089B1 (en) | Single accelerator/two-treatment vault system | |
JP2012078254A (en) | X-ray inspection device | |
JP2584921Y2 (en) | Electron beam irradiation device | |
JP2007178313A (en) | Electronic beam source | |
JP2003121597A (en) | Electron beam irradiation apparatus | |
WO2022210278A1 (en) | Neutron generation apparatus and neutron therapy facility | |
TWI623336B (en) | Particle line therapy facility | |
JP2023086228A (en) | X-ray inspection device | |
JP2004191307A (en) | Electron beam irradiator | |
JP2012078257A (en) | X-ray inspection device | |
JP2003215300A (en) | Electron beam irradiator | |
JP2012078255A (en) | X-ray inspection device | |
JP2022089464A (en) | Radiation shield structure for piping | |
KR20160040342A (en) | Self-shield type electron accelerator | |
JP2019007859A (en) | X-ray inspection device | |
JP2016522050A (en) | Apparatus for processing articles by electron impact | |
KR20120050033A (en) | Apparatus for uniformly irradiating e-beam and method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101027 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101116 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110117 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110201 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110214 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |